KR20120035744A - Touch screen panel of electric capacity type having via hole and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR20120035744A
KR20120035744A KR1020100097452A KR20100097452A KR20120035744A KR 20120035744 A KR20120035744 A KR 20120035744A KR 1020100097452 A KR1020100097452 A KR 1020100097452A KR 20100097452 A KR20100097452 A KR 20100097452A KR 20120035744 A KR20120035744 A KR 20120035744A
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김성호
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주식회사 트레이스
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Abstract

PURPOSE: A TSP(Touch Screen Panel) of an electric capacity type and a manufacturing method thereof are provided to minimize the size of a product by minimizing a non-active area based on a via-hole. CONSTITUTION: A transparent conducting layer(200) is coated on the upper side of a transparent film type substrate. A first insulating layer(300), a protecting layer(400), a second insulating layer(500), and a transparent electrode pattern layer(600) are formed on the transparent conducting layer. A via-hole(900) having ITO(Indium Tin Oxide) is formed on the transparent pattern layer.

Description

비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 제조방법{Touch screen panel of electric capacity type having via hole and method of manufacturing the same}Touch screen panel of electric capacity type having via hole and method of manufacturing the same}

본 발명은 터치스크린 패널에 관한 것으로서, 특히 정전용량방식의 터치 스크린에서 비아홀(Via Hole)을 이용하여 가장자리(Edge)부분인 베젤(Bezel)의 면적을 최소화하여 대면적의 터치 스크린의 구현을 가능하게 하고, 터치가 감지되는 전극 패턴층의 자체 저항을 감소시켜 터치 된 지점에서 발생 된 감지신호의 손실을 방지할 수 있는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch screen panel, and in particular, a large area touch screen can be realized by minimizing an area of a bezel, which is an edge portion, using a via hole in a capacitive touch screen. The present invention relates to a capacitive touch screen panel and a manufacturing method having a via hole capable of preventing a loss of a detection signal generated at a touched point by reducing a self resistance of an electrode pattern layer in which a touch is sensed.

일반적으로 터치스크린은 디스플레이 화면에 표시된 지시 내용을 사람의 손 또는 물체 등을 이용하여 접촉하여 사용자의 명령을 입력하는 입력장치를 일컫는다.In general, a touch screen refers to an input device that inputs a user's command by touching instructions displayed on a display screen using a human hand or an object.

이를 위해 터치 스크린은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 있는 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen converts a contact position directly contacting a human hand or an object provided on the front face of the image display device into an electrical signal. Accordingly, the instruction content selected at the contact position is received as an input signal.

이와 같은 터치 스크린은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen may be replaced with a separate input device that is connected to an image display device such as a keyboard and a mouse, and thus its use range is gradually expanding.

터치스크린을 구현하는 방식으로는 저항막방식, 광감지방식 및 정전용량방식 등이 알려져 있다.As a method of implementing a touch screen, a resistive film method, a light sensing method, and a capacitive method are known.

이 중 정전용량방식의 터치 스크린은 사람의 손 또는 물체가 접촉하였을 때, 도전성 감지패턴이 주변의 다른 감지패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.
The capacitive touch screen converts a contact position into an electrical signal by detecting a change in capacitance formed by a conductive sensing pattern around another sensing pattern or a ground electrode when a human hand or an object touches the touch screen.

도 1은 종래 정전용량방식의 터치스크린을 개략적으로 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, 종래의 정전용량방식의 터치 스크린은 일반적으로 다이아몬드 형태의 ITO(투명 전도성 물질) 패턴으로 이루어진 복수의 X축 센서 채널(X axis sensor channel)(10)과 Y축 센서 채널(Y axis sensor channel)(20)이 격자 형태로 글라스(Glass) 표면에 배치되고, 상기 X축 센서 채널과 Y축 센서 채널은 일반적인 메탈(Metal) 소재의 전극(30)을 통해 컨트롤러(40)에 연결된다.1 is a view schematically showing a conventional capacitive touch screen. Referring to FIG. 1, a conventional capacitive touch screen has a plurality of X-axis sensor channels 10 and Y-axis sensor channels 10 generally formed of a diamond-shaped transparent conductive material (ITO) pattern. A Y axis sensor channel 20 is disposed on a glass surface in a lattice form, and the X axis sensor channel and the Y axis sensor channel are connected to the controller 40 through an electrode 30 made of a general metal material. Connected.

이때, 터치 되는 지점을 감지하는 상기 X축 센서 채널과 Y축 센서 채널이 형성된 부분을 활성영역(View Area)이라 하고, 상기 전극이 형성된 부분을 비활성영역(Bezel)이라 지칭한다.In this case, a portion where the X-axis sensor channel and a Y-axis sensor channel for detecting a touched point are formed is called an active area, and a portion where the electrode is formed is called a bezel.

상기 일정한 간격으로 복수 배치된 X축 센서 채널을 살펴보면, 크게 터치되는 위치를 감지하는 다이아몬드형태의 센서 어레이(Sensor array)와 상기 센서 어레이를 연결하는 브리지 전극(Bridge electrode)으로 구성되는데, 정전용량방식에서 상기 센서 어레이에서 터치 되어 발생 된 전기적 신호는 매우 미세한 신호로써 상기 센서 채널 자체의 저항값이 크면 클수록 감지 신호가 컨트롤러에 입력되지 않을 수 있다.Looking at the X-axis sensor channels arranged in plurality at regular intervals, it consists of a diamond-shaped sensor array (Sensor array) for detecting a large touch position and a bridge electrode connecting the sensor array, capacitive type The electrical signal generated by being touched by the sensor array is a very fine signal. As the resistance value of the sensor channel itself is larger, the sensing signal may not be input to the controller.

특히, 센서 채널 자체가 저항이 큰 ITO(Indium Tin Oxide)일 경우, 센서 채널 자체의 높은 저항으로 인해 대면적의 터치 스크린의 구현이 불가능할 수밖에 없다.In particular, when the sensor channel itself is an indium tin oxide (ITO) having a large resistance, the high resistance of the sensor channel itself makes it impossible to implement a large area touch screen.

이때, 센서 채널의 자체 저항을 상승시키는 부분이 다이아몬드 패턴의 상기 어레이 간을 연결하는 매우 얇은 폭의 브리지 전극인데, 센서 채널의 저항을 작게 하기 위해 상기 브리지 전극의 폭을 넓게 할 경우, 다른 센서 채널과의 간섭으로 인해 정확한 터치 값을 인식할 수 없게 되는 문제점이 발생한다.At this time, the portion of the sensor channel to increase its resistance is a very thin bridge electrode connecting the array of diamond pattern, when the width of the bridge electrode is widened to reduce the resistance of the sensor channel, the other sensor channel There is a problem that can not recognize the correct touch value due to interference with the.

한편, 일반적으로 스마트폰에 적용되는 3.5인치 내지 4인치 정도의 터치 스크린은 가로축인 Y축 센서 채널이 약 10 내지 14개 정도이고, 세로축인 X축 센서 채널이 약 6 내지 10개 적용된다.On the other hand, in general, a touch screen of about 3.5 inches to 4 inches applied to a smartphone has about 10 to 14 Y-axis sensor channels on the horizontal axis, and about 6 to 10 X-axis sensor channels on the vertical axis are applied.

이때, 고해상도의 좌표를 추출하기 위한 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위해서는 가로세로 채널 수를 증가시켜야 하는데, 채널의 수가 증가 되면 각각의 센서 채널에 연결된 전극의 수 또한 증가 된다. 이렇게 전극의 수가 증가 되면 상기 전극이 형성된 부분인 비활성영역(Bezel)의 폭이 넓어질 수밖에 없기 때문에 불필요한 비활성영역의 증가로 최종 완성 제품의 소형화가 불가능한 단점이 있다.At this time, in order to implement a large-area touch screen for extracting high-resolution coordinates, the number of channels must be increased vertically and horizontally. As the number of channels increases, the number of electrodes connected to each sensor channel also increases. When the number of electrodes is increased, the width of the inactive region (Bezel), which is the portion where the electrode is formed, must be widened, which makes it impossible to miniaturize the final finished product due to the increase of unnecessary inactive regions.

상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 과제는, 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위해 센서 채널이 추가 배치되더라도 센서 채널에 연결된 전극이 형성된 부분인 비활성영역(Bezel)의 폭이 증가하지 않고, 반대로 비아홀을 이용하여 비활성영역(Bezel)을 최소화할 수 있는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 제조방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention devised to solve the above-described problems, even if the sensor channel is additionally arranged to implement a large-area touch screen, the width of the inactive area (Bezel) that is the portion where the electrode connected to the sensor channel is formed does not increase On the contrary, the present invention provides a capacitive touch screen panel and a manufacturing method including a via hole capable of minimizing an inactive area by using a via hole.

또한, 본 발명의 부수적인 과제는 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위한 센서 채널의 추가 배치 및 센서 채널의 길이의 연장으로 인해 발생하는 센서 채널 자체의 저항 증가를 방지할 수 있는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 제조방법을 제공하는 데 있다.In addition, an additional problem of the present invention is a power failure having a via hole capable of preventing an increase in resistance of the sensor channel itself caused by the additional arrangement of the sensor channel and the extension of the length of the sensor channel for implementing a large area touch screen. It is to provide a capacitive touch screen panel and a manufacturing method.

상기 과제를 달성하기 위해 안출된 본 발명은, 글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태의 기판, 상기 기판의 상면에 코팅된 투명 전도층, 상기 투명 전도층 상면에 형성된 제1절연층, 상기 제1절연층 상면에 형성된 보호층, 상기 보호층 상면에 형성된 제2절연층 및 상기 제2절연층 상면에 코팅된 투명 전극 패턴층을 포함하되, 상기 투명 전극 패턴층에서 상기 투명 전도층까지 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워진 비아홀(Via Hole)이 형성되어 상기 투명 전극 패턴층에서 발생 된 전기적 터치 신호가 상기 투명 전도층으로 전달되는 것을 특징으로 한다.The present invention devised to achieve the above object is, a transparent film-type substrate made of any one of glass, glass, polymethylmethacrylate (PMMA) and acrylic (acryl), a transparent conductive layer coated on the upper surface of the substrate, A first insulating layer formed on the transparent conductive layer, a protective layer formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the protective layer, and a transparent electrode pattern layer coated on the second insulating layer. A via hole filled with indium tin oxide (ITO) is formed from the transparent electrode pattern layer to the transparent conductive layer to transmit an electrical touch signal generated from the transparent electrode pattern layer to the transparent conductive layer. It features.

상기 제1절연층 및 상기 제2절연층의 재질은 이산화규소(Sio²)인 것을 특징으로 한다.The material of the first insulating layer and the second insulating layer is characterized in that the silicon dioxide (Sio²).

상기 투명 전도층, 상기 보호층 및 상기 투명 전극 패턴층은 ITO(Indium Tin Oxide)인 것을 특징으로 한다.The transparent conductive layer, the protective layer and the transparent electrode pattern layer is characterized in that the indium tin oxide (ITO).

상기 투명 전극 패턴층은 상기 ITO(Indium Tin Oxide)의 코팅을 통해 형성된 전도층에 소정의 에칭수단에 의한 소정의 에칭공정을 통한 절연 에칭선에 의하여 X축 센서 채널(X axis sensor channel)과 Y축 센서 채널(Y axis sensor channel)이 격자형태로 배치되며, 상기 X축 및 Y축 센서 채널은 일정한 간격으로 배치된 다각형의 복수의 센서 어레이(Sensor array)와 상기 각각의 센서 어레이를 연결하는 브리지 전극(Bridge electrode)을 구비하고, 상기 브리지 전극 사이에는 절연코팅층이 형성된 것을 특징으로 한다.The transparent electrode pattern layer is formed on the conductive layer formed through the coating of the indium tin oxide (ITO) and the X axis sensor channel and the Y axis by an insulating etching line through a predetermined etching process by a predetermined etching means. Y axis sensor channels are arranged in a lattice shape, and the X and Y axis sensor channels are a plurality of polygonal sensor arrays arranged at regular intervals and a bridge connecting the respective sensor arrays. A electrode is provided, and an insulating coating layer is formed between the bridge electrodes.

글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태의 기판 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 투명 전도층이 코팅되어 상기 기판 상부에 적층되는 단계, 상기 투명 전도층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제1절연층이 적층되는 단계, 상기 제1절연층의 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 보호층이 적층되는 단계, 상기 보호층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제2절연층이 적층되는 단계, 상기 제1절연층, 상기 보호층 및 상기 제2절연층을 관통하는 비아홀(Via Hole)이 형성되는 단계, 하기 투명 전극 패턴층에서 발생 된 전기적 터치 신호가 상기 투명 전도층으로 통전되는 것을 가능하게 상기 비아홀(Via Hole)의 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워지는 단계 및 상기 제2절연층 상면에 ITO(Indium Tin Oxide)투명 전극 패턴층이 코팅되어 상기 제2절연층 상부에 적층되는 단계를 포함한다.Indium Tin Oxide (ITO) transparent conductive layer is coated on the upper surface of a transparent film type substrate made of any one of glass, polymethylmethacrylate (PMMA), and acrylic, and laminated on the substrate. Laminating a first insulating layer of silicon dioxide (Sio²) material on the upper surface of the conductive layer, ITO (Indium Tin Oxide) protective layer is laminated on the upper surface of the first insulating layer, Silicon dioxide on the upper surface of the protective layer Stacking a second insulating layer made of (Sio²) material, forming a via hole penetrating the first insulating layer, the protective layer, and the second insulating layer; Indium Tin Oxide (ITO) is filled in the via hole to enable an electrical touch signal to flow through the transparent conductive layer, and an Indium Tin Oxide (ITO) transparent electrode pattern on the upper surface of the second insulating layer. The layer is coated and Stacking on the second insulating layer.

본 발명은 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위해 센서 채널이 추가 배치되더라도 센서 채널에 연결된 전극이 형성된 부분인 비활성영역(Bezel)의 폭이 증가하지 않고, 반대로 비아홀을 이용하여 비활성영역(Bezel)을 최소화할 수 있기 때문에 완성 제품의 전체 크기를 소형화하면서도 기존의 화면보다 넓은 대면적의 화면을 제공하는 효과가 있다.According to the present invention, even if the sensor channel is additionally arranged to realize a large-area touch screen, the width of the inactive region Bezel, which is the portion where the electrode connected to the sensor channel is formed, does not increase. Because it can be minimized, the overall size of the finished product can be miniaturized while providing a larger screen area than the existing screen.

또한, 본 발명은 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위한 센서 채널의 추가 배치 및 센서 채널의 길이의 연장으로 인해 발생하는 센서 채널 자체의 저항 증가를 방지하면서 적은 비용으로 대면적의 터치 스크린이 구현되는 효과가 있다.In addition, the present invention provides a large-area touch screen at a low cost while preventing the increase in resistance of the sensor channel itself caused by the additional arrangement of the sensor channel and the extension of the length of the sensor channel to implement the large-area touch screen. It works.

본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어서 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 종래 정전용량방식의 터치스크린을 개략적으로 도시한 도면,
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 나타낸 평면도,
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 종래와 비교한 예시도,
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법을 나타낸 순서도 이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate preferred embodiments of the invention and, together with the description, serve to further the understanding of the technical idea of the invention, And shall not be construed as interpretation.
1 is a view schematically showing a conventional capacitive touch screen,
2 is a plan view illustrating a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view showing a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention;
4 is an exemplary view comparing a conventional touch screen panel with a via hole according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 제조방법의 바람직한 실시예에 대해 상세하게 설명한다.
Hereinafter, a preferred embodiment of a capacitive touch screen panel having a via hole and a manufacturing method according to the present invention will be described in detail.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 나타낸 평면도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 나타낸 단면도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 종래와 비교한 예시도이다. 도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 발명에 바람직한 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널은 먼저 일반적으로 정전용량방식의 터치스크린은 투명 전도성 물질을 코팅하여 형성된 전도층에 에칭수단에 의한 에칭공정을 통한 절연 에칭선에 의하여 X축 센서 채널(X axis sensor channel)과 Y축 센서 채널(Y axis sensor channel)이 격자형태로 배치된다.2 is a plan view illustrating a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention. 4 is an exemplary view comparing a conventional touch screen panel with a via hole according to an embodiment of the present invention. 2 to 4, a capacitive touch screen panel having a via hole according to a preferred embodiment of the present invention is first etched on a conductive layer formed by coating a transparent conductive material. The X axis sensor channel and the Y axis sensor channel are arranged in a lattice form by the insulating etching line through the etching process by means.

이때, 상기 X축 및 Y축 센서 채널은 직접적으로 터치가 감지되는 부위인 센서 어레이와 상기 센서 어레이를 전기적으로 연결하는 브리지 전극으로 구성되는데, 즉 일정한 간격으로 배치된 다각형의 복수의 센서 어레이와 상기 각각의 센서 어레이를 연결하는 브리지 전극으로 이루어진다. 이때, 상기 센서 어레이의 패턴은 다이아몬드 형태이다.
In this case, the X-axis and Y-axis sensor channels are composed of a sensor array which is a portion where a touch is directly detected and a bridge electrode electrically connecting the sensor array, that is, a plurality of polygonal sensor arrays arranged at regular intervals and the It consists of a bridge electrode connecting each sensor array. At this time, the pattern of the sensor array is diamond shape.

본 발명에서의 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널은 기판(100), 투명 전도층(200), 제1절연층(300), 보호층(400), 제2절연층(500) 및 투명 전극 패턴층(600)을 포함하는 구성요소로 이루어지며, 이를 상세히 설명하면 다음과 같다.In the present invention, the capacitive touch screen panel having a via hole includes a substrate 100, a transparent conductive layer 200, a first insulating layer 300, a protective layer 400, a second insulating layer 500, and It is made of a component including a transparent electrode pattern layer 600, which will be described in detail as follows.

상기 기판(100)은 글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태이다.The substrate 100 is in the form of a transparent film made of any one of glass, polymethylmethacrylate (PMMA), and acrylic (acryl).

그리고, 상기 투명 전도층(200)은 상기 기판(100)의 상면에 코팅되어 적층된다. 이때, 상기 투명 전도층(200)은 ITO(Indium Tin Oxide)이며, 이는 기존의 센서 채널에 연결된 전극 역할을 하는 것으로써, 상기 전극이 형성된 비활성영역인 베젤(Bezel)에 형성되어 지지 않고, 본 발명에서는 상기 기판(100)의 상면에 전체적으로 코팅되어 형성된다.In addition, the transparent conductive layer 200 is coated and laminated on the upper surface of the substrate 100. In this case, the transparent conductive layer 200 is indium tin oxide (ITO), which serves as an electrode connected to an existing sensor channel, and is not formed in a bezel, which is an inactive region in which the electrode is formed. In the present invention, the entire surface of the substrate 100 is coated and formed.

상기 제1절연층(300)은 상기 투명 전도층(200) 상면에 형성되어 적층되는데, 그 재질은 이산화규소(Sio²)로 이루어져 상기 투명 전도층(200)과 하기 보호층(400) 사이에서 차폐역할을 한다.The first insulating layer 300 is formed and stacked on the upper surface of the transparent conductive layer 200. The material is made of silicon dioxide (Sio²) to shield between the transparent conductive layer 200 and the protective layer 400 below. Play a role.

그리고, 상기 보호층(400)은 상기 제1절연층(300) 상면에 형성되어 적층된다. 이때, 상기 보호층(400)은 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어지며, 투명 전극 패턴층(600)에서 감지되는 신호를 방해하는 상기 기판(100)의 하부에 위치한 LCD(미도시)에서 발생하는 노이즈를 차폐하는 역할을 한다.The protective layer 400 is formed on the first insulating layer 300 and laminated. In this case, the protective layer 400 is made of indium tin oxide (ITO), and is generated from an LCD (not shown) positioned below the substrate 100 that interferes with a signal detected by the transparent electrode pattern layer 600. It serves to shield noise.

또한, 상기 보호층(400)으로 인해 상기 투명 전도층(200)과 후술하는 투명 전극 패턴층(600)과의 전기적 간섭을 방지하는 역할을 한다.In addition, the protective layer 400 serves to prevent electrical interference between the transparent conductive layer 200 and the transparent electrode pattern layer 600 to be described later.

그리고 상기 제2절연층(500)은 상기 보호층(400)의 상면에 형성되어 적층되는데, 상기 제1절연층(300)과 마찬가지로 이산화규소(Sio²)로 이루어지며, 상기 보호층(400)과 하기 투명 전극 패턴층(600) 사이에서 차폐역할을 한다.The second insulating layer 500 is formed and stacked on the upper surface of the protective layer 400. The second insulating layer 500 is made of silicon dioxide (Sio²) similarly to the first insulating layer 300, and is formed of the protective layer 400. The transparent electrode pattern layer 600 serves as a shielding role.

상기 투명 전극 패턴층(600)은 상기 제2절연층(500) 상면에 코팅되어 적층된다. 여기서 투명 전극 패턴층(600)은 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어지며, 상기 ITO의 코팅을 통해 형성된 전도층에 소정의 에칭수단에 의한 소정의 에칭공정을 통한 절연 에칭선에 의하여 X축 센서 채널(X axis sensor channel)과 Y축 센서 채널(Y axis sensor channel)이 격자형태로 배치된다.The transparent electrode pattern layer 600 is coated and stacked on an upper surface of the second insulating layer 500. The transparent electrode pattern layer 600 is made of indium tin oxide (ITO), and the X-axis sensor channel is formed on the conductive layer formed through the coating of the ITO by an insulated etching line through a predetermined etching process by a predetermined etching means. (X axis sensor channel) and Y axis sensor channel (Y axis sensor channel) are arranged in a grid form.

이때, 상기 X축 및 Y축 센서 채널은 일정한 간격으로 배치된 다각형의 복수의 센서 어레이(Sensor array)와 상기 각각의 센서 어레이를 연결하는 브리지 전극(Bridge electrode)(800)을 구비한다. 여기서 상기 브리지 전극(800) 사이에는 절연코팅층(700)이 형성될 수 있다.In this case, the X-axis and Y-axis sensor channels include a plurality of polygonal sensor arrays arranged at regular intervals and a bridge electrode 800 connecting the respective sensor arrays. Here, an insulating coating layer 700 may be formed between the bridge electrodes 800.

상기 투명 전도층(200)에서 상기 투명 전극 패턴층(600)까지 비아홀(Via Hole)(900)이 관통되어 형성되는데, 상기 비아홀(900)은 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워진다.A via hole 900 penetrates through the transparent conductive layer 200 to the transparent electrode pattern layer 600. The via hole 900 is filled with indium tin oxide (ITO) therein.

즉, 도전성 물질인 상기 ITO에 의해 상기 투명 전극 패턴층(600)에서 발생된 감지(터치)신호가 비아홀(900)을 통해 상기 투명 전극 패턴층(600)의 하부와 상기 기판(100)상면에 형성된 투명 전도층(200)으로 전달되어, 기존의 터치스크린의 가장자리(Edge) 비활성영역(Bezel)에 위치한 전극의 역할을 대신하여 비활성영역(Bezel)을 최소화할 수 있기 때문에 완성 제품의 전체 크기를 소형화하면서도 기존의 화면보다 넓은 대면적의 화면을 제공하는 것이다.That is, the sensing (touch) signal generated in the transparent electrode pattern layer 600 by the ITO, which is a conductive material, is disposed on the lower surface of the transparent electrode pattern layer 600 and the upper surface of the substrate 100 through the via hole 900. The transparent conductive layer 200 is transferred to the formed transparent conductive layer 200 so that the bezel can be minimized in place of the electrode located at the edge of the existing touch screen. It is to provide a screen with a larger size than the existing screen while miniaturizing.

이때, 상기 투명 전극 패턴층(600)에서 발생 된 감지(터치)가 비아홀(900)을 통해 투명 전도층(200)에 전기적으로 전달될 때, 상기 보호층(400)에 의해 그 전기적 신호가 합선(Short)되는 것을 방지하기 위해 상기 비아홀(900)과 상기 보호층(400)은 서로 접촉되지 않는 형태로 이루어지는 것이 바람직하다.At this time, when the sensing (touch) generated in the transparent electrode pattern layer 600 is electrically transmitted to the transparent conductive layer 200 through the via hole 900, the electrical signal is short-circuited by the protective layer 400. In order to prevent shorting, the via hole 900 and the protective layer 400 may be formed in a form not in contact with each other.

아울러, ITO의 두께를 기존 보다 두껍게 함으로써, 대면적의 터치 스크린을 구현하기 위한 센서 채널의 추가 배치 및 센서 채널의 길이의 연장으로 인해 발생하는 센서 채널 자체의 저항 증가를 방지할 수 있는 것이다.
In addition, by increasing the thickness of the ITO than the conventional, it is possible to prevent the increase in the resistance of the sensor channel itself caused by the additional arrangement of the sensor channel and the extension of the length of the sensor channel to implement a large area touch screen.

도 5는 본 발명의 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법을 나타낸 순서도 이다. 도 5를 참조하면, 본 발명에 바람직한 실시예에 의한 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법은 먼저, 글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태의 기판 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 투명 전도층이 코팅되어 상기 기판 상부에 적층(단계S100) 된다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a capacitive touch screen panel having a via hole according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, a method of manufacturing a capacitive touch screen panel having a via hole according to an exemplary embodiment of the present invention may include first of any one of glass, polymethylmethacrylate (PMMA), and acrylic (acryl). An indium tin oxide (ITO) transparent conductive layer is coated on the upper surface of the transparent film form substrate, and laminated on the substrate (step S100).

그 다음, 상기 투명 전도층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제1절연층이 적층(단계S200) 된다.Next, a first insulating layer of silicon dioxide (Sio²) is stacked on the upper surface of the transparent conductive layer (step S200).

그 다음, 상기 제1절연층의 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 보호층이 적층(단계S300) 된다.Next, an indium tin oxide (ITO) protective layer is stacked on the upper surface of the first insulating layer (step S300).

그 다음, 상기 보호층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제2절연층이 적층(단계S400) 된다.Next, a second insulating layer of silicon dioxide (Sio²) is stacked on the upper surface of the protective layer (step S400).

그 다음, 상기 제1절연층, 상기 보호층 및 상기 제2절연층을 관통하는 비아홀(Via Hole)이 형성(단계S500) 된다.Next, a via hole penetrating the first insulating layer, the protective layer, and the second insulating layer is formed (step S500).

그 다음, 하기 투명 전극 패턴층에서 발생 된 전기적 터치 신호가 상기 투명 전도층으로 통전되는 것을 가능하게 상기 비아홀(Via Hole)의 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워(단계S600) 진다.Next, indium tin oxide (ITO) is filled in the via hole to enable the electrical touch signal generated in the transparent electrode pattern layer to be energized to the transparent conductive layer (step S600).

마지막으로, 상기 제2절연층 상면에 ITO(Indium Tin Oxide)투명 전극 패턴층이 코팅되어 상기 제2절연층 상부에 적층(단계S700) 된다.
Finally, an Indium Tin Oxide (ITO) transparent electrode pattern layer is coated on the second insulating layer and stacked on the second insulating layer (step S700).

이상에서는 본 발명을 바람직한 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 아니하고 청구항에 기재된 범위 내에서 변형이나 변경 실시가 가능함은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 첨부된 특허청구범위에 속한다 할 것이다.In the above, the present invention has been described based on the preferred embodiments, but the technical idea of the present invention is not limited thereto, and modifications or changes can be made within the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art, and such modifications and variations will belong to the appended claims.

100: 기판 200: 투명 전도층
300: 제1절연층 400: 보호층
500: 제2절연층 600: 투명 전극 패턴층
700: 절연코팅층 800: 브리지 전극
900: 비아홀(Via Hole)100: substrate 200: transparent conductive layer
300: first insulating layer 400: protective layer
500: second insulating layer 600: transparent electrode pattern layer
700: insulating coating layer 800: bridge electrode
900: Via Hole

Claims (5)

글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태의 기판;
상기 기판의 상면에 코팅된 투명 전도층;
상기 투명 전도층 상면에 형성된 제1절연층;
상기 제1절연층 상면에 형성된 보호층;
상기 보호층 상면에 형성된 제2절연층; 및
상기 제2절연층 상면에 코팅된 투명 전극 패턴층을 포함하되,
상기 투명 전극 패턴층에서 상기 투명 전도층까지 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워진 비아홀(Via Hole)이 형성되어 상기 투명 전극 패턴층에서 발생 된 전기적 터치 신호가 상기 투명 전도층으로 전달되는 것을 특징으로 하는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널.A transparent film type substrate made of any one of glass, polymethylmethacrylate (PMMA), and acryl;
A transparent conductive layer coated on the upper surface of the substrate;
A first insulating layer formed on an upper surface of the transparent conductive layer;
A protective layer formed on an upper surface of the first insulating layer;
A second insulating layer formed on an upper surface of the protective layer; And
Including a transparent electrode pattern layer coated on the upper surface of the second insulating layer,
Via holes filled with ITO (Indium Tin Oxide) are formed from the transparent electrode pattern layer to the transparent conductive layer to transmit an electric touch signal generated from the transparent electrode pattern layer to the transparent conductive layer. A capacitive touch screen panel having a via hole. 제1항에 있어서,
상기 제1절연층 및 상기 제2절연층의 재질은 이산화규소(Sio²)인 것을 특징으로 하는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널.The method of claim 1,
The first insulating layer and the second insulating layer of the material is silicon dioxide (Sio²) capacitive touch screen panel having a via hole, characterized in that. 제1항에 있어서,
상기 투명 전도층, 상기 보호층 및 상기 투명 전극 패턴층은 ITO(Indium Tin Oxide)인 것을 특징으로 하는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널.The method of claim 1,
The transparent conductive layer, the protective layer and the transparent electrode pattern layer is a capacitive touch screen panel having a via hole, characterized in that ITO (Indium Tin Oxide). 제3항에 있어서,
상기 투명 전극 패턴층은 상기 ITO(Indium Tin Oxide)의 코팅을 통해 형성된 전도층에 소정의 에칭수단에 의한 소정의 에칭공정을 통한 절연 에칭선에 의하여 X축 센서 채널(X axis sensor channel)과 Y축 센서 채널(Y axis sensor channel)이 격자형태로 배치되며, 상기 X축 및 Y축 센서 채널은 일정한 간격으로 배치된 다각형의 복수의 센서 어레이(Sensor array)와 상기 각각의 센서 어레이를 연결하는 브리지 전극(Bridge electrode)을 구비하고, 상기 브리지 전극 사이에는 절연코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널.The method of claim 3,
The transparent electrode pattern layer is formed on the conductive layer formed through the coating of the indium tin oxide (ITO) and the X axis sensor channel and the Y axis by an insulating etching line through a predetermined etching process by a predetermined etching means. Y axis sensor channels are arranged in a lattice shape, and the X and Y axis sensor channels are a plurality of polygonal sensor arrays arranged at regular intervals and a bridge connecting the respective sensor arrays. A capacitive touch screen panel having a via hole, the electrode comprising a bridge electrode and an insulating coating layer formed between the bridge electrodes. a) 글라스(Glass), PMMA(Polymethylmethacrylate) 및 아크릴(Acryl) 중 어느 하나의 재질로 이루어진 투명필름형태의 기판 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 투명 전도층이 코팅되어 상기 기판 상부에 적층되는 단계;
b) 상기 투명 전도층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제1절연층이 적층되는 단계;
c) 상기 제1절연층의 상면에 ITO(Indium Tin Oxide) 보호층이 적층되는 단계;
d) 상기 보호층의 상면에 이산화규소(Sio²) 재질의 제2절연층이 적층되는 단계;
e) 상기 제1절연층, 상기 보호층 및 상기 제2절연층을 관통하는 비아홀(Via Hole)이 형성되는 단계;
f) 하기 투명 전극 패턴층에서 발생 된 전기적 터치 신호가 상기 투명 전도층으로 통전되는 것을 가능하게 상기 비아홀(Via Hole)의 내부에 ITO(Indium Tin Oxide)가 채워지는 단계; 및
g) 상기 제2절연층 상면에 ITO(Indium Tin Oxide)투명 전극 패턴층이 코팅되어 상기 제2절연층 상부에 적층되는 단계를 포함하는 비아홀을 구비한 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법.a) an indium tin oxide (ITO) transparent conductive layer is coated on an upper surface of a transparent film type substrate made of any one of glass, polymethylmethacrylate (PMMA), and acrylic (acryl) and laminated on the substrate;
b) stacking a first insulating layer of silicon dioxide (Sio²) on an upper surface of the transparent conductive layer;
c) stacking an indium tin oxide (ITO) protective layer on an upper surface of the first insulating layer;
d) stacking a second insulating layer of silicon dioxide (Sio²) on an upper surface of the protective layer;
e) forming a via hole penetrating the first insulating layer, the protective layer, and the second insulating layer;
f) filling indium tin oxide (ITO) inside the via hole to enable an electrical touch signal generated from the transparent electrode pattern layer to be energized to the transparent conductive layer; And
g) A method of manufacturing a capacitive touch screen panel having a via hole, comprising: coating an indium tin oxide (ITO) transparent electrode pattern layer on an upper surface of the second insulating layer and stacking the upper portion of the second insulating layer.
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