KR101152165B1 - 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 및 이의 컬러 균일성을 개선하는 방법 - Google Patents

반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 및 이의 컬러 균일성을 개선하는 방법 Download PDF

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Abstract

반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 (A)는 기지 (1); 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3); 및, 식각 및 비-식각 영역들 (42, 41)에 의하여 형성되어지는 패턴을 가지며, 상기 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 형성되는 투명 전도성 필름 (4)을 포함한다. 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께는 상기 식각 및 비-식각 영역들 (42, 41)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값들 사이의 차이를 줄이도록 제어되어진다. 상기 CIE b* 컬러 값들은 1.15보다 작고, 이들 사이의 상기 차이값은 0.35보다 작아서, 상기 투명 전도성 필름 (4)의 패턴이 흐려지거나 숨겨지고, 이에 의하여 컬러 균일성을 향상하도록 한다. 상기 적층체 (A)의 컬러 균일성을 개선하는 방법도 또한 개시되어진다.

Description

반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 및 이의 컬러 균일성을 개선하는 방법 { TRANSPARENT CONDUCTIVE LAMINATE FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF IMPROVING COLOR HOMOGENEITY OF THE SAME }
본 발명은 2009년 8월 18일에 출원한 대만특허출원번호 098127709호의 우선권을 주장한다. 본 발명은 디스플레이 장치와 같은 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 및 상기 투명 전도성 적층체의 컬러 균일성을 향상하는 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 터치 패널에 대한 상부 투명 전도성 적층체 및 상기 투명 전도성 적층체의 컬러 균일성을 향상하는 방법에 관한 것이다.
터치 패널은 액정 디스플레이 또는 음극선관 (CRT)과 같은 다양한 디스플레이 장치의 디스플레이 표면상에 제공되는 장치이고, 상기 터치 패널의 스크린을 접촉함에 의하여 정보의 입력이 가능하게 한다. 저항방식 터치패널은 상부 및 하부 투명 전도성 적층체를 포함하고, 이들은 상기 두 개의 적층체 상에 제공되는 각각의 투명 전도성 필름들이 이들 사이에 미리 정해진 간격을 가지고 서로에 대하여 마주보게 배치되어지도록 정렬되어진다. 사용자가 상기 스크린 상에 어떤 물체를 터치하면, 상기 투명 전도성 필름들이 서로 접촉하도록 가져가져 신호를 발생하게 된다.
이러한 타입의 상기 터치 패널의 상기 통상의 투명 전도성 적층체는 가시광선의 낮은 파장대역에 대하여 상대적으로 더 낮은 투과도를 가지기 때문에, 상기 투명 전도성 적층체는 투명하지만 노랑계열의 톤 (tone)을 가진다.
가시광선의 모든 파장 대역에서 더 높은 투과도를 가지는 상부 및 하부 투명 전도성 적층체를 얻기 위하여, 상기 투명 전도성 적층체의 CIE L*a*b* 컬러 공간에서의 b* 컬러 값을 줄이기 위하여 다양한 방법들이 제안되어져 왔다. 이와 관련된 문헌의 예들로는 일본공개번호 JP 2003-171147, JP 2007-299534, JP 2006-346878(즉 TW 2007-30933), JP 2004-184579, JP 2007-276322, JP 2008-49518 등이 포함된다.
그러나 상기 투명 전도성 적층체에서 상기 투명 전도성 필름이 터치 패널에서 회로 또는 전기적 커패시터들의 패턴을 형성하기 위하여 식각되어지는 때에, 상기 투명 전도성 필름의 상기 식각된 영역들과 상기 비-식각 영역들 사이에는 컬러 차이가 존재한다. 결과적으로, 상기 투명 전도성 필름들의 패턴들, 특히 상기 상부 투명 전도성 필름의 패턴들은 상기 터치 패널로부터 보일 수 있다. 그러므로 가시광선의 모든 파장 대역에서 상기 투명 전도성 적층체의 투과도가 상기 선행기술들의 방법을 통하여 향상되어지더라도, 상기 통상의 투명 전도성 적층체는 아직까지 그 안에 있는 상기 보이는 패턴으로 인하여 컬러 균일성이 떨어지는 문제점이 있다.
따라서 본 발명의 목적은, 상기 선행 기술에 의하여 야기되어지는 노란색 톤의 제품 및 낮은 컬러 균일성의 두 문제를 함께 극복할 수 있는, 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 및 이의 컬러 균일성을 향상하는 방법을 제공하는 것이다. 다시 말하면, 본 발명에 의하여, 상기 투명 전도성 필름의 패턴들이 보이지 않아, 본 발명의 상기 투명 전도성 적층체를 이용하는 상기 디스플레이가 노란색 톤을 가지지 않고 더욱 균일한 컬러를 가지도록 제공될 수 있다.
따라서 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면,
서로의 반대편에 첫 번째 및 두 번째 표면을 가지는 기지;
상기 기지의 상기 첫 번째 표면 위에 형성되는 첫 번째 굴절 필름;
상기 첫 번째 굴절 필름의 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지고, 상기 첫 번째 굴절 필름 위에 형성되는 두 번째 굴절 필름; 및,
식각 영역들과 비-식각 영역들에 의하여 형성되어지는 패턴을 가지고, 상기 두 번째 굴절 필름 상에 형성되는 투명 전도성 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체가 제공된다.
상기 식각 및 비-식각 영역들 (42, 41)은 아래의 관계들을 만족하는 컬러들을 생성하여 이루어지고, 상기 식각 영역들(42)의 CIE b* 컬러 값 및 상기 비-식각 영역들 (42, 41)의 CIE b* 컬러 값 사이의 차이값에 따라 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께를 제어한다.
삭제
상기 식각 영역들과 비-식각 영역들은 아래의 관계들을 만족하는 컬러들을 생성한다.:
b1* < 1.15 .....(1)
b2* < 1.15 .....(2)
Δb* = |b1* - b2*| < 0.35 .....(3)
여기서 b1*는 상기 두 번째 굴절 필름 상에 상기 투명 전도성 필름이 형성되기 전에 상기 투명 전도성 적층체에 행하여진 측정에 의하여 얻어진 첫 번째 CIE b* 컬러 값으로서, 상기 식각 영역들에서 생성되는 CIE b* 컬러 값에 대응하고,
b2*는 상기 투명 전도성 필름이 형성된 후, 그러나 상기 패턴이 형성되기 전에, 상기 투명 전도성 적층체에 행하여진 측정에 의하여 얻어진 두 번째 CIE b* 컬러 값으로서, 상기 비-식각 영역들에서 생성되는 CIE b* 컬러 값에 대응한다.
본 발명의 또 다른 측면으로는, 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체의 컬러 균일성을 향상하는 방법을 제공하는 바, 상기 투명 전도성 적층체는 기지 위에 형성되는 첫 번째 굴절 필름, 상기 첫 번째 굴절 필름의 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지며, 상기 첫 번째 굴절 필름 위에 형성되는 두 번째 굴절 필름 및, 식각 영역들과 비-식각 영역들에 의하여 형성되어지는 패턴을 가지고, 상기 두 번째 굴절 필름 상에 형성되는 투명 전도성 필름을 포함한다.
상기 방법은 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성되기 전에 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정을 통하여 첫 번째 CIE b* 컬러 값 (b1*)을 결정하는 단계로서, 상기 첫 번째 CIE b* 컬러 값 (b1*)은 상기 식각 영역 (42)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값을 나타내는 단계; 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성된 후, 그러나 상기 패턴이 형성되기 전에, 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정을 통하여 두 번째 CIE b* 컬러 값 (b2*)을 결정하는 단계로서, 상기 두 번째 CIE b* 컬러 값 (b2*)은 상기 비-식각 영역 (41)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값을 나타내는 단계; 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*) 사이의 차이값 (Δb*)을 결정하는 단계; 및 상기 차이값 (Δb*)을 줄이기 위하여 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께를 제어하여, 이에 의하여 상기 투명 전도성 필름 (4)의 패턴을 보이지 않게 함으로써 컬러 균일성을 향상하는 단계를 포함한다.
삭제
바람직하게는, 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들의 상기 광학적 두께는, 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 1.15보다 작고, 상기 차이값 (Δb*)이 0.35보다 작도록 제어되어진다.
본 명세서에서의 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)은 CIE L*a*b* 컬러 공간에서의 b* 컬러 값을 의미한다. 상기 CIE b* 컬러 값이 더 커지면 커질수록, 상기 투명 전도성 적층체의 컬러가 더 노랑 쪽으로 가까워진다. 예를 들어, 상기 투명 전도성 적층체에 있어서, 상기 CIE b* 컬러 값이 4와 2 사이에 있으면, 상기 투명 전도성 적층체의 색깔은 노란색 톤이 된다. 상기 투명 전도성 적층체의 상기 CIE b* 컬러 값이 1.15보다 낮으면, 상기 투명 전도성 적층체는 노란색 톤을 가지지 않는다.
반면에 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*) 사이의 상기 차이값 (Δb*)이 0.35보다 작으면, 상기 식각 및 비-식각 영역들의 컬러들 사이의 차이가 감소되어질 수 있고, 상기 패턴은 흐려지거나 심지어 숨겨질 수 있다.
게다가, 본 명세서에서의 상기 첫 번째 또는 두 번째 굴절 필름의 상기 광학적 두께는 상기 굴절 필름의 물리적 두께와 상기 굴절 필름의 굴절률의 곱을 의미한다.
노란색 톤의 제품 및 낮은 컬러 균일성의 두 문제를 함께 극복할 수 있어서, 상기 투명 전도성 필름의 패턴들이 보이지 않아, 본 발명의 상기 투명 전도성 적층체를 이용하는 상기 디스플레이가 노란색 톤을 가지지 않고 더욱 균일한 컬러를 가지도록 한다.
본 발명의 이러한 특징 및 다른 특징과 장점은 아래의 첨부의 도면을 참고한 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명에서 명확해 질 것이다.
도 1은 본 발명의 첫 번째 바람직한 실시예에 따른 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체의 단면 도면으로서, 개질 필름이 기지와 이의 첫 번째 굴절 레이어 사이에 형성되어진다.
도 2는 실험 1에서의 실시예 1 내지 3과 비교예 1 내지 4의 상기 차이값 (Δb*)들을 보여주는 그래프이다.
도 3은 실험 2에서의 실시예 5 내지 6과 비교예 5 내지 6의 상기 차이값 (Δb*)들을 보여주는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 두 번째 바람직한 실시예에 따른 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체의 단면 도면이다.
도 5는 본 발명의 세 번째 바람직한 실시예에 따른 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체의 단면 도면이다.
도 6은 실험 3에서의 실시예 7 내지 9와 비교예 7 내지 8의 상기 차이값 (Δb*)들을 보여주는 그래프이다.
본 발명에 대하여 상기 수반되는 바람직한 실시예를 참고로 하여 보다 상세하게 설명하기 전에, 하기 설명에서 유사한 요소들은 명세서 전체를 통하여 동일한 인용번호로 지정되어 표시되어짐을 명확히 하는 바이다.
본 발명에서의 투명 전도성 적층체의 컬러 균일성을 개선하는 방법은 노란색 톤의 상기 문제를 해결하기 위한 통상의 투명 전도성 적층체의 투과도 개선 방법과는 다르다. 본 발명에서는, 도 1에 도시한 바와 같이 기지 (1)와 투명 전도성 필름 (4) 사이에 위치되어지는 두 개의 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께를 제어함에 의하여 상기 투명 전도성 적층체의 투과도가 개선되어지고, 또한 이의 컬러 균일성이 향상되어진다.
이후로, 본 발명의 세 가지 실시예를 통하여 상세하게 설명한다.
도 1은 첫 번째 실시예에 따른 터치 패널에 대한 투명 전도성 적층체 (A)를 도시한다. 상기 투명 전도성 적층체 (A)는 기지 (1), 첫 번째 굴절 필름 (2), 두 번째 굴절 필름 (3), 투명 전도성 필름 (4) 및 개질 필름 (5)을 포함한다.
상기 기지 (1)는 서로의 반대편에 첫 번째 및 두 번째 표면 (11, 12)을 가지고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리카보네이트 (PC), 폴리에틸렌 (PE) 등으로 만들어질 수 있다. 상기 기지 (1)는 바람직하게는 PET로 만들어진다.
상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 상기 기지 (1)의 상기 첫 번째 표면 (11) 상에 형성되어지고, TiO2, Nb2O5, NbO, CeO, 인듐주석산화물 (ITO) 등으로 만들어질 수 있다. 바람직하게는 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 Nb2O5로 만들어지고, 11 nm 내지 16 nm 범위의 광학적 두께를 가진다. 보다 바람직하게는, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 상기 광학적 두께는 12 nm 내지 15 nm 범위를 가진다.
상기 두 번째 굴절 필름 (3)은 상기 첫 번째 굴절 필름 (2) 상에 형성되어지고, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 굴절률보다 작은 굴절률을 가지며, SiO2, Si3N4, MgF2 등으로 만들어질 수 있다. 바람직하게는 상기 두 번째 굴절 필름 (3)은 SiO2로 만들어지고, 60 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께를 가진다. 보다 바람직하게는, 상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 상기 광학적 두께는 60 nm 내지 80 nm 범위를 가진다.
상기 투명 전도성 필름 (4)은 상기 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 형성되어지고, 바람직하게는 인듐주석산화물 (ITO)로 만들어진다. 도 1에 도시한 바와 같이, 상기 투명 전도성 필름 (4)은 다수의 비-식각 영역들 (41) 및 다수의 식각 영역들 (42)에 의하여 형성되는 패턴을 가지도록 식각되어진다. 상기 투명 전도성 필름 (4)의 상기 비-식각 영역들 (41)의 위치들은 상기 터치 패널의 상기 투명 전도성 적층체 (A)의 회로 또는 전기적 커패시터들의 설계에 의하여 결정되어진다.
상기 개질 필름 (modifying film) (5)은 상기 기지 (1)의 상기 두 번째 표면 (12) 상에 형성되어지고, 기능성 입자들을 가지는 반응성 경화 레진, 반사를 줄이고 투과도를 향상시키는 기능을 가지는 필름, 또는 빛을 균일하게 확산시키는 기능을 가지는 기능적 필름으로 만들어지는 경성 코팅 필름 (hard coat film)일 수 있다. 상기 개질 필름 (5)은 상기 반도체 장비의 요구조건을 만족하는 어떠한 종류의 필름도 될 수 있다. 본 실시예에서, 상기 개질 필름 (5)은 상기 경성 코팅 필름이다. 상기 경성 코팅 필름에 의한 보호를 통하여 상기 터치 패널은 스크래치로부터 보호되어질 수 있다.
가시광선의 모든 파장대역에서 상기 투명 전도성 적층체 (A)의 투과도는, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지는 상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 공급에 의하여 개선되어진다. 상기 투명 전도성 적층체 (A)에서의 패턴들 (상기 비-식각 영역들 (41))은 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 상기 광학적 두께의 제어에 의하여 흐려진다.
도 4는 두 번째 실시예에 따른 터치 패널에 대한 투명 전도성 적층체 (A)를 도시한다. 상기 두 번째 실시예는, 상기 기지 (1)의 상기 첫 번째 표면 (11)과 상기 첫 번째 굴절 필름 (2) 사이에 상기 개질 필름 (5)이 형성된다는 점에서만 상기 첫 번째 실시예와 다르다.
도 5는 세 번째 실시예에 따른 터치 패널에 대한 투명 전도성 적층체 (A)를 도시한다. 상기 세 번째 실시예는, 상기 개질 필름 (5)이 제공되지 않으며, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 상기 광학적 두께가 다르다는 점에서만 상기 두 번째 실시예와 다르다.
본 실시예에서, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 상기 제어된 광학적 두께는 20 nm 내지 29 nm 범위인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 22 nm 내지 28 nm의 범위이다.
본 발명의 방법에 따르면, 상기 투명 전도성 적층체 (A)의 컬러 균일성은, 상기 비-식각 및 식각 영역들 (41 및 42)에서 형성되어지는 CIE b* 컬러 값에 영향을 줄 수 있는 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2 및 3)의 상기 광학적 두께를 제어함에 의하여 개선되어진다. 상기 비-식각 영역들 (41)의 상기 CIE b* 컬러 값은, 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성되기 전에 상기 투명 전도성 적층체 (A) 상에 수행되어진 측정을 통하여 얻어진 상기 첫 번째 CIE b* 컬러 값 (b1*)의 관점에서 결정되어진다. 상기 식각 영역들 (42)의 상기 CIE b* 컬러 값은, 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성된 후이지만, 상기 패턴을 형성하기 전에, 상기 투명 전도성 적층체 (A) 상에 수행되어진 측정을 통하여 얻어진 상기 두 번째 CIE b* 컬러 값 (b2*)의 관점에서 결정되어진다. 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2 및 3)의 상기 광학적 두께를 제어함에 의하여, b1* 및 b2* 사이의 상기 차이값 (Δb*) (즉, Δb* = |b1* - b2*| )은 감소되어질 수 있다. 결과적으로, 상기 비-식각 및 식각 영역들 (41 및 42)의 컬러 값들 사이의 차이는 감소되어질 수 있고, 따라서 상기 투명 전도성 필름 (4)의 상기 패턴은 흐려지거나 숨겨질 수 있고, 이에 의하여 컬러 균일성을 향상하게 된다.
실험
다른 광학적 두께에 대한 b1*, b2* 및 (Δb*)의 조사
실험 1
실험 1에서, 반응성 경화 레진으로 만들어진 개질 필름을 가지는 기지를 포함하는 통상적인 제품인 상품명: FE-RHPC56N이, 도 1에 도시한 바와 같은 구조를 가지는 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 4를 준비하기 위하여 사용된다. 상기 기지 (1)의 두께는 125 ㎛이고, 상기 개질 필름 (5)의 두께는 약 5 ㎛이다.
상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 Nb2O5로 만들어진다. 상기 두 번째 굴절 필름 (3)은 SiO2로 만들어진다. 상기 투명 전도성 필름 (4)은 인듐주석산화물 (ITO)로 만들어지고 320 Ω/㎟의 저항을 가진다.
본 실험에서, 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1 ~ 4는 표 1에 나타낸 바와 같이 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들의 광학적 두께가 서로 다르게 제공된다. 상기 투과도 및 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)은 상기 차이값 (Δb*)을 결정하기 위하여 분광 광도계 (spectrophotometer) (코니카 미놀타, 모델: CM-3600d)를 이용하여 측정되어진다. 이러한 결과들은 표 및 도 2에 모두 나타낸 바와 같다.
첫 번째 굴절 레이어
(nm)		 두 번째 굴절 레이어
(nm)		 투명 전도성 필름이 형성되기 전 투명 전도성 필름이 형성된 후 Δb*
투과도(%) b1* 투과도(%) b2*
실시예 1 14 80 88.2 0.82 88.02 0.65 0.17
실시예 2 13 80 88.5 0.80 87.90 0.72 0.08
실시예 3 11 80 88.5 0.80 88.07 1.14 0.34
실시예 4 13 90 88.7 0.80 88.05 0.75 0.05
비교예 1 20 80 86.7 0.89 88.16 0.18 0.71
비교예 2 17 80 87.4 0.88 88.01 0.25 0.63
비교예 3 9 80 88.9 0.78 88.21 1.28 0.50
비교예 4 7 80 89.1 0.78 88.30 1.41 0.63
표 1에 나타낸 바와 같이, 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b2*)이 모두 1.15보다 큰 값을 가지는 비교예 3 및 4의 상기 투명 전도성 적층체는 투명하지만 그러나 노란색 톤을 가진다. 게다가 비교예 1 내지 2에서는 상기 첫 번째 굴절 필름의 광학적 두께는 16 nm보다 크고, 비교예 1 내지 2에서는 11 nm보다 작다. 비교예 1 내지 4의 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 크다. 따라서 비교예 1 내지 4의 상기 투명 전도성 적층체들에서 패턴들은 명확하게 관찰되어질 수 있다. 그러므로 비교예 1 내지 4의 모든 경우들은 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제를 가진다.
반면에, 실시예 1 내지 4에 있어서는, 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 모두 1.15보다 작고, 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 작다. 그러므로 실시예 1 내지 4의 모든 경우에 있어서, 상기 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제를 모두 극복할 수 있다.
실험 2
본 실험에서의 실시예 5 및 6과 비교예 5 및 6은 상기 통상적인 제품 (FE-RHPC56N)의 자리에 KIMOTO 사의 통상적인 제품 (상품명: KIMOTO-GSAB)이 사용되어지는 것을 제외하고 실시예 1 내지 4와 동일한 구조 및 재료를 가진다. 상기 투명 전도성 필름 (4)은 312 Ω/㎟의 저항을 가진다.
본 실험은 실시예 1에서의 그것들과 동일한 항목을 측정하기 위하여 수행되어진다. 이에 따른 결과는 표 2 및 도 3에 모두 나타내어진다.
첫 번째 굴절 레이어
(nm)		 두 번째 굴절 레이어
(nm)		 투명 전도성 필름이 형성되기 전 투명 전도성 필름이 형성된 후 Δb*
투과도(%) b1* 투과도(%) b2*
실시예 5 13.0 80 89.22 0.8 88.22 0.91 0.11
실시예 6 15.5 80 88.51 0.85 88.41 0.54 0.31
비교예 5 17.5 80 87.72 0.97 88.53 0.02 0.95
비교예 6 20.5 90 87.13 0.98 88.78 -0.37 1.35
표 2에 나타낸 바와 같이, 비교예 5 및 6에서, 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 모두 1.15보다 작은 값을 가지지만, 그러나 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 크다. 따라서 비교예 5 및 6의 투명 전도성 적층체는 노란색 톤을 띄지는 않지만, 이들 적층체는 상기 투명 전도성 적층체들에서의 식별 가능한 패턴들로 인하여 낮은 컬러 균일성의 문제를 여전히 극복할 수 없다.
반면에, 실시예 5 및 6에 있어서는, 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 모두 1.15보다 작고, 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 작다. 그러므로 실시예 5 ~ 6은 상기 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제를 모두 극복할 수 있다.
실험 1 및 2로부터, 투명 전도성 적층체 (A)가 개질 필름 (5)을 포함하는 경우에, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)이 11 nm 내지 16 nm, 바람직하게는 12 nm 내지 15 nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되어져야만 하는 것이 관찰되어진다. 상기 광학적 두께가 너무 큰 경우에는, 상기 투명 전도성 적층체 (A)는 낮은 컬러 균일성의 문제를 직면하게 된다. 또한 상기 광학적 두께가 너무 작은 경우에는, 상기 투명 전도성 적층체 (A)는 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제를 직면하게 된다. 또한 상기 두 번째 굴절 필름 (3)이 60 nm 내지 90 nm, 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되어져야만 하는 것이 관찰되어진다. 상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 상기 광학적 두께가 너무 크거나 작은 경우에는, 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제가 극복되어질 수 없다.
실험 3
실험 3에 있어서, 도 5에 도시한 바와 같은 구조를 가지는 실시예 7 내지 9 및 비교예 7 및 8이 상기 기지로 TOYOBO 사의 통상 제품 (상품명: TOYOBO A4150)을 사용하여 준비되어진다. 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2 및 3)은 각각 Nb2O5 및 SiO2로 만들어진다. 상기 투명 전도성 필름 (4)은 290 Ω/㎟의 저항을 가진다.
본 실험은 실시예 1에서의 그것들과 동일한 항목을 측정하기 위하여 수행되어진다. 이에 따른 결과는 표 3 및 도 6에 모두 나타내어진다.
첫 번째 굴절 레이어
(nm)		 두 번째 굴절 레이어
(nm)		 투명 전도성 필름이 형성되기 전 투명 전도성 필름이 형성된 후 Δb*
투과도(%) b1* 투과도(%) b2*
실시예 7 28 80 91.26 0.35 90.76 0.57 0.22
실시예 8 26 80 91.31 0.32 90.84 0.40 0.08
실시예 9 22 80 91.50 0.32 90.86 0.49 0.17
비교예 7 30 80 91.34 0.37 90.79 0 0.37
비교예 8 18 80 91.70 0.29 90.91 0.73 0.44
표 3에 나타낸 바와 같이, 비교예 7 및 8에서, 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 모두 1.15보다 작은 값을 가지지만, 그러나 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 크다. 따라서 비교예 7 및 9의 투명 전도성 적층체는 노란색 톤을 띄지는 않지만, 이들 적층체는 이들 안에서의 식별 가능한 패턴들로 인하여 낮은 컬러 균일성의 문제를 여전히 겪게 된다.
반면에, 실시예 7 내지 9에 있어서는, 상기 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 모두 1.15보다 작고, 상기 차이값들 (Δb*)은 모두 0.35보다 작다. 그러므로 실시예 7 ~ 9는 상기 노란색 톤 및 낮은 컬러 균일성의 문제를 모두 극복할 수 있다.
표 3의 실시예 7 ~ 9에 기초하면, 상기 투명 전도성 적층체 (A)가 개질 필름 (5)을 포함하지 않는 경우에, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)이 20 nm 내지 29 nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되어져야 하고, 그리고 상기 두 번째 굴절 필름 (2)이 60 nm 내지 90 nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되어져야 한다. 바람직하게는, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 22 nm 내지 28 nm 범위의 광학적 두께를 가지고, 상기 두 번째 굴절 필름은 60 nm 내지 80 nm 범위의 광학적 두께를 가진다.
상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름 (2, 3)의 상기 광학적 두께를 제어함에 의하여, 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 1.15보다 작게 감소되어질 수 있고, 상기 차이값 (Δb*)이 0.35보가 작게 감소되어질 수 있다. 이를 통하여 노란색 톤 문제가 해결되어질 수 있을 뿐만 아니라, 터치 패널용 상기 투명 전도성 적층체의 컬러 균일성 또한 획기적으로 개선되어질 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 상세한 설명, 실시예 및 도면에 의하여 한정되는 것은 아니고, 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 해당 기술 분야의 당업자가 다양하게 수정 및 변경시킨 것 또한 본 발명의 범위 내에 포함됨은 물론이다.

Claims (15)

  1. 서로의 반대편에 첫 번째 및 두 번째 표면(11, 12)을 가지는 기지 (1);
    상기 기지 (1)의 상기 첫 번째 표면 (11) 위에 형성되는 첫 번째 굴절 필름 (2);
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지며, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2) 위에 형성되는 두 번째 굴절 필름 (3); 및,
    식각 영역들 (42)과 비-식각 영역들 (41)에 의하여 형성되어지는 패턴을 가지고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 형성되는 투명 전도성 필름 (4)을 포함하는 투명 전도성 적층체 (A)로서,
    상기 식각 및 비-식각 영역들 (42, 41)은 아래의 관계들을 만족하는 컬러들을 생성하여 이루어지고, 상기 식각 영역들(42)의 CIE b* 컬러 값 및 상기 비-식각 영역들 (42, 41)의 CIE b* 컬러 값 사이의 차이값에 따라 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체.
    b1* < 1.15 .....(1)
    b2* < 1.15 .....(2)
    Δb* = |b1* - b2*| < 0.35 .....(3)
    (여기서, b1*는, 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성되기 전에 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정에 의하여 얻어진 CIE b* 컬러 값으로서, 상기 식각 영역들 (42)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값에 대응하고,
    b2*는, 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성된 후, 그러나 상기 패턴이 형성되기 전에, 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정에 의하여 얻어진 CIE b* 컬러 값으로서, 상기 비-식각 영역들 (41)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값에 대응한다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 투명 전도성 필름 (4)은 인듐주석산화물로 만들어지는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기지 (1)의 상기 두 번째 표면 (12) 상에 형성되는 개질 필름 (5)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 광학적 두께는 11 nm 내지 16nm의 범위이고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 광학적 두께는 60 nm 내지 90nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 기지 (1)의 상기 첫 번째 표면 (11)과 상기 첫 번째 굴절 필름 (2) 사이에 형성되는 개질 필름 (5)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 광학적 두께는 12 nm 내지 15nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 광학적 두께는 60 nm 내지 80nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  8. 제 3 항에 있어서,
    상기 개질 필름 (5)은 반응성 경화 레진으로 만들어지는 경성 코팅 필름인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 광학적 두께는 20 nm 내지 29nm의 범위이고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 광학적 두께는 60 nm 내지 90nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 광학적 두께는 22 nm 내지 28nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 두 번째 굴절 필름 (3)의 광학적 두께는 60 nm 내지 80nm의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 적층체.
  12. 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 (A)의 컬러 균일성을 개선하는 방법으로서,
    상기 투명 전도성 적층체 (A)는 기지 (1) 위에 형성되는 첫 번째 굴절 필름 (2), 상기 첫 번째 굴절 필름 (2)의 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지며, 상기 첫 번째 굴절 필름 (2) 위에 형성되는 두 번째 굴절 필름 (3) 및, 식각 영역들과 비-식각 영역들 (42, 41)에 의하여 형성되어지는 패턴을 가지고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 형성되는 투명 전도성 필름 (4)을 포함하고,
    상기 방법은,
    상기 두 번째 굴절 필름 (3) 상에 상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성되기 전에 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정을 통하여 첫 번째 CIE b* 컬러 값 (b1*)을 결정하는 단계로서, 상기 첫 번째 CIE b* 컬러 값 (b1*)은 상기 식각 영역 (42)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값을 나타내는 단계;
    상기 투명 전도성 필름 (4)이 형성된 후, 그러나 상기 패턴이 형성되기 전에, 상기 투명 전도성 적층체 (A)에 행하여진 측정을 통하여 두 번째 CIE b* 컬러 값 (b2*)을 결정하는 단계로서, 상기 두 번째 CIE b* 컬러 값 (b2*)은 상기 비-식각 영역 (41)에서 생성되는 CIE b* 컬러 값을 나타내는 단계;
    상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*) 사이의 차이값 (Δb*)을 결정하는 단계; 및
    상기 차이값 (Δb*)을 줄이기 위하여 상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 광학적 두께를 제어하여, 이에 의하여 상기 투명 전도성 필름 (4)의 패턴을 보이지 않게 함으로써 컬러 균일성을 향상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치를 위한 투명 전도성 적층체 (A)의 컬러 균일성을 개선하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 첫 번째 및 두 번째 굴절 필름들 (2, 3)의 상기 광학적 두께는, 상기 첫 번째 및 두 번째 CIE b* 컬러 값들 (b1* 및 b2*)이 1.15보다 작고, 상기 차이값 (Δb*)이 0.35보다 작도록 제어되어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)이 형성된 면과 반대편의 상기 기지 (1) 상에 개질 필름 (5)을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 11 nm 내지 16nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3)은 60 nm 내지 90nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 첫 번째 굴절 필름 (2)은 20 nm 내지 29nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되어지고, 상기 두 번째 굴절 필름 (3)은 60 nm 내지 90nm 범위의 광학적 두께를 가지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 방법.
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