KR101151223B1 - Helicon plasma apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 헬리콘 플라즈마 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들, 각각의 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들, 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들, 영구 자석들의 일부 또는 전부를 고정하고 고정된 영구 자석들이 배치되는 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부, 및 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석 사이의 수직 거리는 조절된다.The present invention provides a helicon plasma apparatus. The device comprises a plurality of dielectric tubes mounted in a vacuum chamber, antennas disposed around each dielectric tube, toroidal permanent magnets disposed perpendicularly to the antennas, some or all of the permanent magnets. A moving part for vertically moving the placement plane in which the fixed and fixed permanent magnets are disposed, and an RF power supply for powering the antennas. Using a moving part, the vertical distance between the antenna and the permanent magnet is adjusted.

Description

헬리콘 플라즈마 장치{HELICON PLASMA APPARATUS}Helicon plasma device {HELICON PLASMA APPARATUS}

본 발명은 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로 헬리콘 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma device, and more particularly to a helicon plasma device.

헬리콘 플라즈마 장치는 전자석을 이용하여 헬리콘 플라즈마를 발생시켰다. 하지만, 헬리콘 플라즈마 장치는 고밀도 플라즈마를 형성할 수 있는 장점은 있으나, 플라즈마 밀도 균일도는 확보되지 못했다.The helicon plasma apparatus generated the helicon plasma using an electromagnet. However, the helicon plasma apparatus has an advantage of forming a high density plasma, but the plasma density uniformity has not been secured.

본 발명의 해결하고자 하는 일 기술적 과제는 영구 자석과 안테나 사이에 거리를 조절하여 균일도를 향상시킨 헬리콘 플라즈마 장치를 제공하는 것이다.One technical problem to be solved of the present invention is to provide a helicon plasma apparatus that improves the uniformity by adjusting the distance between the permanent magnet and the antenna.

본 발명의 일 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치는 진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들, 각각의 상기 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들, 상기 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들, 상기 영구 자석들의 일부 또는 전부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들이 배치되는 상기 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부, 및 상기 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 상기 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석 사이의 수직 거리는 조절된다.According to an embodiment of the present invention, a helicon plasma apparatus includes a plurality of dielectric tubes mounted in a vacuum chamber, antennas arranged around each of the dielectric tubes, and a toroidal shape spaced apart from the antennas. Permanent magnets, a moving part for fixing some or all of the permanent magnets and vertically moving the placement plane in which the fixed permanent magnets are disposed, and an RF power supply for powering the antennas. By using the moving unit the vertical distance between the antenna and the permanent magnet is adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치는 사각형의 진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들, 각각의 상기 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들, 상기 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들, 상기 영구 자석들의 일부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들이 배치되는 상기 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부, 및 상기 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 상기 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석들 사이의 수직 거리를 조절한다.The helicon plasma apparatus according to an embodiment of the present invention includes a plurality of dielectric tubes mounted in a rectangular vacuum chamber, antennas arranged around each of the dielectric tubes, and a toe disposed perpendicularly to the antennas. Permanent magnets in the form of Lloyd, a moving part for fixing a portion of the permanent magnets and vertically moving the placement plane in which the fixed permanent magnets are disposed, and an RF power supply for supplying power to the antennas. The moving unit adjusts the vertical distance between the antenna and the permanent magnets.

본 발명의 일 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치는 유전체 튜브, 상기 유전체 튜브의 둘레에 배치된 안테나, 상기 안테나와 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석, 상기 영구 자석을 상기 유전체 튜브의 축 방향으로 이동시키는 이동부, 및 상기 안테나에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 상기 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석 사이의 수직 거리는 조절된다.According to an embodiment of the present invention, a helicon plasma apparatus includes a dielectric tube, an antenna disposed around the dielectric tube, a toroidal permanent magnet disposed vertically spaced apart from the antenna, and the permanent magnet of the dielectric tube. And a moving unit moving in the axial direction, and an RF power supply for supplying power to the antenna. By using the moving unit the vertical distance between the antenna and the permanent magnet is adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치는 영구 자석과 안테나 사이에 거리를 조절하여 균일한 플라즈마를 형성할 수 있다.The helicon plasma apparatus according to an embodiment of the present invention may form a uniform plasma by adjusting a distance between the permanent magnet and the antenna.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 장치를 설명하는 사시도이다. 도 1b는 도 1a의 플라즈마 장치의 평면도이다. 도 1c는 도 1b의 I-I'선을 따라 자른 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예들에 따른 유전체 튜브들을 설명하는 단면도들이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 RF 전원과 안테나들의 연결을 설명하는 도면들이다.
도 5a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 장치를 설명하는 도면이다. 도 5b는 도 5a의 II-II'선을 따라 자른 단면도이고, 도 5c는 도 5a의 III-III'선을 따라 자른 단면도이다. 도 1a 내지 도 1c에서 설명한 것과 중복되는 설명은 생략한다.
도 6a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치의 평면도이고, 도 6b는 도 6a의 IV-IV'선을 따라 자른 단면도이다.1A is a perspective view illustrating a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a plan view of the plasma apparatus of FIG. 1A. FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1B.
2A and 2B are cross-sectional views illustrating dielectric tubes according to embodiments of the present invention.
3 and 4 are diagrams illustrating a connection of an RF power source and antennas according to embodiments of the present invention.
5A is a view for explaining a plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. 5B is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 5A, and FIG. 5C is a cross-sectional view taken along the line III-III' of FIG. 5A. Descriptions overlapping with those described in FIGS. 1A to 1C will be omitted.
6A is a plan view of a helicon plasma apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line IV-IV ′ of FIG. 6A.

이하에서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 동일한 구성 요소들은 동일한 참조 번호를 이용하여 인용될 것이다. 유사한 구성 요소들은 유사한 참조 번호들을 이용하여 인용될 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the technical idea of the present invention. . Identical components will be referred to using the same reference numerals. Similar components will be referred to using similar reference numerals.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 장치를 설명하는 사시도이다. 도 1b는 도 1a의 플라즈마 장치의 평면도이다. 도 1c는 도 1b의 I-I'선을 따라 자른 단면도이다.1A is a perspective view illustrating a plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a plan view of the plasma apparatus of FIG. 1A. FIG. 1C is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1B.

도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 상기 플라즈마 장치는 진공 챔버(112)에 장착된 복수의 유전체 튜브들(120), 각각의 상기 유전체 튜브들(120)의 둘레에 배치된 안테나들(132), 상기 안테나들(132)과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구 자석들(152), 상기 영구 자석들(152)의 일부 또는 전부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들(152)이 배치되는 상기 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부(160), 및 상기 안테나들(132)에 전력을 공급하는 RF 전원(미도시)을 포함한다. 상기 이동부(160)를 이용하여 상기 안테나(132)와 상기 영구 자석(152) 사이의 수직 거리는 조절된다.1A to 1C, the plasma apparatus includes a plurality of dielectric tubes 120 mounted in a vacuum chamber 112, antennas 132 disposed around each of the dielectric tubes 120, Toroidal permanent magnets 152 disposed vertically spaced apart from the antennas 132, and fixing some or all of the permanent magnets 152 and the fixed permanent magnets 152 are disposed. The moving unit 160 vertically moves the placement plane, and an RF power source (not shown) for supplying power to the antennas 132. The vertical distance between the antenna 132 and the permanent magnet 152 is adjusted using the moving unit 160.

상기 진공 챔버(112)는 원통형 또는 사각통 형상을 가질 수 있다. 상기 진공 챔버(112)는 가스를 공급하는 가스 공급부(미도시) 및 가스를 배기하는 배기부(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 진공 챔버(112)는 기판 홀더(114) 및 상기 기판 홀더(114) 상에 장착되는 기판(116)을 포함할 수 있다. 상기 안테나는 플라즈마 및 활성종을 형성하고, 상기 활성종 및/또는 플라즈마는 상기 기판을 처리할 수 있다. 상기 진공 챔버(112)는 상기 진공 챔버(112)와 분리/결합할 수 있는 상판(110)을 포함할 수 있다. 상기 상판(110)은 금속 또는 금속 합금으로 형성될 수 있다. 상기 상판(110)은 복수 개의 관통홀(111)을 포함할 수 있다. 상기 관통홀(111) 상에 상기 유전체 튜브(120)가 배치되어, 방전 공간을 형성할 수 있다.The vacuum chamber 112 It may have a cylindrical or square cylinder shape. The vacuum chamber 112 may include a gas supply unit (not shown) for supplying gas and an exhaust unit (not shown) for exhausting the gas. The vacuum chamber 112 may include a substrate holder 114 and a substrate 116 mounted on the substrate holder 114. The antenna may form a plasma and active species, and the active species and / or plasma may process the substrate. The vacuum chamber 112 may include a top plate 110 that may be separated / combined with the vacuum chamber 112. The upper plate 110 may be formed of a metal or a metal alloy. The upper plate 110 may include a plurality of through holes 111. The dielectric tube 120 may be disposed on the through hole 111 to form a discharge space.

상기 유전체 튜브들(120)은 상기 관통홀(111)의 상부에 배치되어 방전 공간을 제공한다. 상기 유전체 튜브(120)의 진공 상태는 상기 관통홀(111)의 상부 측벽 근처에 형성된 홈에 삽입된 오링(o-ring)에 의하여 유지될 수 있다. 상기 유전체 튜브들(120)은 뚜껑이 없는 (bell jar) 형태일 수 있다. 상기 유전체 튜브(120)는 와셔 형태의 지지부(124)와 원통 형상의 실린더부(122)를 포함할 수 있다.The dielectric tubes 120 are disposed above the through holes 111 to provide a discharge space. The vacuum state of the dielectric tube 120 may be maintained by an o-ring inserted into a groove formed near the upper sidewall of the through hole 111. The dielectric tubes 120 may be in the form of a bell jar. The dielectric tube 120 may include a washer-shaped support part 124 and a cylindrical cylinder part 122.

상기 유전체 튜브(120)는 유리, 쿼츠, 알루미나, 및 세라믹 중에서 하나를 포함할 수 있다. 상기 유전체 튜브들(120)의 일단은 상기 진공 챔버(112)와 연결되고, 금속 뚜껑(127)은 상기 유전체 튜브들(120)의 타단에 장착될 수 있다. 상기 금속 뚜껑(127)은 가스를 유입하는 가스 유입부(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 금속 뚜껑(127)은 헬리콘 파( Helicon wave)를 반사시켜 보강간섭을 일으킬 수 있다. 이에 따라, 플라즈마는 더 높은 밀도를 가질 수 있다.The dielectric tube 120 may include one of glass, quartz, alumina, and ceramic. One end of the dielectric tubes 120 may be connected to the vacuum chamber 112, and the metal cap 127 may be mounted at the other end of the dielectric tubes 120. The metal lid 127 may include a gas inlet (not shown) for introducing a gas. The metal cap 127 may reflect a helicon wave to cause constructive interference. Thus, the plasma can have a higher density.

상기 RF 전원의 출력은 임피던스 정합회로(미도시)를 통하여 상기 안테나들(132)에 제공될 수 있다. 상기 RF 전원의 주파수는 수백 Khz 내지 수백 Mhz 일 수 있다.The output of the RF power may be provided to the antennas 132 through an impedance matching circuit (not shown). The frequency of the RF power source may be several hundred Khz to several hundred Mhz.

상기 전력 분배부(142)는 상기 임피던스 정합회로의 출력을 병렬 연결된 상기 안테나들(132)에 제공할 수 있다. 상기 전력 분배부(142)는 상기 안테나들(132)과 상기 이동부 사이에 배치될 수 있다. 상기 전력 분배부(142)는 상기 안테나들의 일부 또는 전부에게 병렬 배선을 제공할 수 있다. 상기 전력 분배부(142)는 링 형태를 포함할 수 있다.The power distribution unit 142 may provide the outputs of the impedance matching circuit to the antennas 132 connected in parallel. The power distribution unit 142 may be disposed between the antennas 132 and the moving unit. The power distribution unit 142 may provide parallel wiring to some or all of the antennas. The power distribution unit 142 may include a ring shape.

상기 안테나들(132)은 파이프를 이용하여 형성될 수 있다. 냉매는 상기 안테나들(132)의 내부를 통하여 흘러 상기 안테나들(132)을 냉각시킬 수 있다. 상기 안테나들(132)의 일단은 연결 수단(134)을 통하여 상기 전력 분배부(142)에 연결될 수 있다. 상기 안테나들(132)의 일단은 상기 전력 분배부(142)를 통하여 상기 RF 전원에 연결되고, 상기 안테나들(132)의 타단은 접지 수단(136)을 통하여 상기 금속 상판(110)에 접지될 수 있다. 상기 안테나들(132)은 3 턴(turn) 안테나 또는 1 턴 안테나 일 수 있다. 상기 안테나들(132)에 의하여 형성되는 플라즈마는 헬리콘 모드 플라즈마일 수 있다. 상기 안테나들의 턴 수는 임피던스 매칭(impedance matching)에 기인하여 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 안테나들의 인덕턴스(inductance)값이 너무 크면, 상기 안테난의 턴 수를 2 턴 또는 1 턴으로 줄일 수 있다.The antennas 132 may be formed using pipes. The coolant may flow through the inside of the antennas 132 to cool the antennas 132. One end of the antennas 132 may be connected to the power distribution unit 142 through a connecting means 134. One end of the antennas 132 is connected to the RF power supply through the power distribution unit 142, and the other end of the antennas 132 is grounded to the metal upper plate 110 through a grounding means 136. Can be. The antennas 132 may be three turn antennas or one turn antenna. The plasma formed by the antennas 132 may be a helicon mode plasma. The number of turns of the antennas may be adjusted due to impedance matching. For example, if the inductance value of the antennas is too large, the number of turns of the antenna may be reduced to 2 turns or 1 turn.

상기 영구자석들(152)은 도넛 형상 또는 토로이드 형상을 가질 수 있다. 상기 영구 자석(152)의 단면은 사각형 또는 원형일 수 있다. 상기 영구 자석들(152)의 자화 방향은 상기 영구 자석이 배치되면 평면에 수직할 수 있다. 상기 영구 자석들(152)의 배치되는 평면(155,157)은 2개 이상일 수 있다.The permanent magnets 152 may have a donut shape or a toroid shape. The cross section of the permanent magnet 152 may be rectangular or circular. The magnetization direction of the permanent magnets 152 may be perpendicular to a plane when the permanent magnets are disposed. Two or more planes 155 and 157 may be disposed on the permanent magnets 152.

상기 이동부(160)는 상기 진공 챔버(112)에 고정결합하고 상기 유전체 튜브들이 배치된 평면에 수직하게 연장되는 적어도 하나의 지지 기둥(166,168), 상기 영구자석(152)이 장착되고 상기 지지 기둥(166,168)에 삽입되어 상기 지지 기둥(166,168)을 따라 이동 가능한 자석 고정판(162,164), 및 상기 지지 기둥(166,168)에 삽입되어 지지 기둥(166,168)을 고정하는 상부 지지판(168)을 포함할 수 있다.The moving unit 160 is fixedly coupled to the vacuum chamber 112 and at least one support pillar 166 and 168 extending perpendicular to the plane where the dielectric tubes are disposed, and the permanent magnet 152 is mounted and the support pillar. And magnetic support plates 162 and 164 inserted into the support pillars 166 and 168 and movable along the support pillars 166 and 168, and upper support plates 168 inserted into the support pillars 166 and 168 to fix the support pillars 166 and 168, respectively. .

상기 영구 자석들(152)은 상기 진공 챔버(112)의 주변 영역에 배치되는 제1 영구 자석 그룹과 상기 진공 챔버(112)의 중심부에 배치되는 제2 영구 자석 그룹으로 구분될 수 있다. 상기 제1 영구 자석 그룹은 제1 자석 고정판(162)에 고정될 수 있다. 상기 제1 자석 고정판(162)은 제1 지지 기둥(166)을 따라 이동할 수 있다. 상기 제2 영구 자석 그룹은 제2 자석 고정판(164)에 고정될 수 있다. 상기 제2 자석 고정판(164)은 제2 지지 기둥(168)을 따라 이동할 수 있다. 상기 제1 지지 기둥 및 상기 제2 지지 기둥(166,168)은 스크루 형상을 포함하고, 상기 제1 자석 고정판 및 제2 자석 고정판(162,164)은 너트 형상을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 지지 기둥(166) 또는 상기 제2 지지 기둥(168)이 회전함에 따라 상기 제1 자석 고정판(162) 또는 제2 자석 고정판(164)은 수직 이동할 수 있다. 상기 지지 기둥(166,168)의 일단은 상기 상판(110)에 결합할 수 있고, 상기 지지 기둥(166,168)의 타단은 상기 상부 지지판(168)에 결합할 수 있다. 상기 상부 지지판(168)에 회전 수단(169)이 배치되고, 상기 회전 수단(169)은 상기 지지 기둥(166,168)과 축결합하여 상기 지지 기둥(166,168)에 회전 운동을 제공할 수 있다. 상기 회전 수단(169)은 모터일 수 있다.The permanent magnets 152 may be divided into a first permanent magnet group disposed in the peripheral region of the vacuum chamber 112 and a second permanent magnet group disposed in the center of the vacuum chamber 112. The first permanent magnet group may be fixed to the first magnet fixing plate 162. The first magnet fixing plate 162 may move along the first support pillar 166. The second permanent magnet group may be fixed to the second magnet fixing plate 164. The second magnet fixing plate 164 may move along the second support pillar 168. The first support pillar and the second support pillar 166 and 168 may have a screw shape, and the first magnet fixing plate and the second magnet fixing plate 162 and 164 may have a nut shape. Accordingly, as the first support pillar 166 or the second support pillar 168 rotates, the first magnet fixing plate 162 or the second magnet fixing plate 164 may move vertically. One end of the support pillars 166 and 168 may be coupled to the top plate 110, and the other end of the support pillars 166 and 168 may be coupled to the upper support plate 168. Rotating means 169 is disposed on the upper support plate 168, and the rotating means 169 is axially coupled to the support pillars 166 and 168 to provide rotational movement to the support pillars 166 and 168. The rotating means 169 may be a motor.

상기 영구 자석(152)과 상기 안테나(132)의 수직 거리는 자기장의 형태 및 세기를 변화시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 안테나(132)에 형성된 플라즈마 밀도 분포는 상기 수직 거리를 변화시켜 조절할 수 있다.The vertical distance between the permanent magnet 152 and the antenna 132 may change the shape and intensity of the magnetic field. Accordingly, the plasma density distribution formed on the antenna 132 may be adjusted by changing the vertical distance.

쉴드부(163)는 상기 상판(110)의 외측면과 상기 상부 지지판(168)의 외측면 사이에 배치되어 상기 안테나들(132)에 의해 발생한 전자기파가 외부로 유출되는 것을 차단할 수 있다.The shield part 163 may be disposed between the outer surface of the upper plate 110 and the outer surface of the upper support plate 168 to block the electromagnetic waves generated by the antennas 132 from leaking to the outside.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예들에 따른 유전체 튜브들을 설명하는 단면도들이다.2A and 2B are cross-sectional views illustrating dielectric tubes according to embodiments of the present invention.

도 2a를 참조하면, 상기 유전체 튜브(120)는 와셔 형태의 지지부(124)와 원통 형상의 실린더부(122)를 포함할 수 있다. 상기 유전체 튜브(120) 주위에 3 턴의 안테나가 배치되어 m=0 헬리콘 플라즈마를 형성할 수 있다. 상기 유전체 튜브들(120)의 일단은 상기 진공 챔버(112)와 연결되고, 금속 뚜껑(127)은 상기 유전체 튜브들(120)의 타단에 장착될 수 있다. 상기 금속 뚜껑(127)은 가스를 유입하는 가스 유입부(125)를 포함할 수 있다. 상기 가스 유입부(126)를 금속 뚜껑(127)에 설치시, 가스 분해(gas dissociation)가 증가될 수 있다.Referring to FIG. 2A, the dielectric tube 120 may include a washer-shaped support part 124 and a cylindrical cylinder part 122. An antenna of three turns may be disposed around the dielectric tube 120 to form m = 0 helicon plasma. One end of the dielectric tubes 120 may be connected to the vacuum chamber 112, and the metal cap 127 may be mounted at the other end of the dielectric tubes 120. The metal cap 127 may include a gas inlet 125 for introducing gas. When the gas inlet 126 is installed in the metal cap 127, gas dissociation may be increased.

도 2b를 참조하면, 상기 유전체 튜브(120)는 와셔 형태의 지지부(124)와 원통 형상의 실린더부(122)를 포함할 수 있다. 상기 유전체 튜브(120) 주위에 3 턴의 안테나가 배치되어 m=0 헬리콘 플라즈마를 형성할 수 있다. 상기 유전체 튜브(120)는 벨 자(bell jar) 형태일 수 있다.Referring to FIG. 2B, the dielectric tube 120 may include a washer-shaped support 124 and a cylindrical cylinder 122. An antenna of three turns may be disposed around the dielectric tube 120 to form m = 0 helicon plasma. The dielectric tube 120 may have a bell jar shape.

도 3 및 도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 RF 전원과 안테나들의 연결을 설명하는 도면들이다.3 and 4 are diagrams illustrating connection of an RF power source and antennas according to embodiments of the present invention.

도 3을 참조하면, RF 전원(148)의 출력은 임피던스 정합회로(146)를 통하여 병렬 연결된 안테나들(132)에게 제공될 수 있다. 헬리콘 모드가 발생하기 전에는 안테나들(132)은 배선 길이에 따라 서로 다른 임피던스를 보일 수 있다. 그러나, 헬리콘 모드가 발생하면, 플라즈마 저항값이 회로의 저항값보다 커져서 균일한 플라즈마가 발생할 수 있다. 전력 분배부(142)는 병렬 연결된 안테나들(132)에게 동일한 임피던스를 제공하도록 설계될 수 있다.Referring to FIG. 3, the output of the RF power source 148 may be provided to the antennas 132 connected in parallel through the impedance matching circuit 146. Before the helicon mode occurs, the antennas 132 may exhibit different impedances depending on the wiring length. However, when the helicon mode occurs, the plasma resistance value becomes larger than the resistance value of the circuit, so that uniform plasma may be generated. The power distributor 142 may be designed to provide the same impedance to the antennas 132 connected in parallel.

도 4를 참조하면, 제1 RF 전원(148a)의 출력은 제 1 임피던스 정합회로(146a)를 통하여 병렬 연결된 제1 그룹의 안테나들(132a)에게 제공될 수 있다. 제2 RF 전원(148b)의 출력은 제2 임피던스 정합회로(146b)를 통하여 병렬 연결된 제2 그룹의 안테나들(132b)에게 제공될 수 있다.Referring to FIG. 4, an output of the first RF power source 148a may be provided to the first group of antennas 132a connected in parallel through the first impedance matching circuit 146a. The output of the second RF power source 148b may be provided to the second group of antennas 132b connected in parallel through the second impedance matching circuit 146b.

도 5a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 장치를 설명하는 도면이다. 도 5b는 도 5a의 II-II'선을 따라 자른 단면도이고, 도 5c는 도 5a의 III-III'선을 따라 자른 단면도이다. 도 1a 내지 도 1c에서 설명한 것과 중복되는 설명은 생략한다.5A is a view for explaining a plasma apparatus according to another embodiment of the present invention. 5B is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 5A, and FIG. 5C is a cross-sectional view taken along the line III-III' of FIG. 5A. Descriptions overlapping with those described in FIGS. 1A to 1C will be omitted.

도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 상기 헬리콘 플라즈마 장치는 유전체 튜브(120), 상기 유전체 튜브(120)의 둘레에 배치된 안테나(132), 상기 안테나(132)와 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석(152), 상기 영구 자석(152)을 상기 유전체 튜브(120)의 축방향으로 이동시키는 이동부(260), 및 상기 안테나(132)에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함한다. 상기 이동부(260)를 이용하여 상기 안테나(132)와 상기 영구 자석(152) 사이의 수직 거리는 조절된다.5A to 5C, the helicon plasma apparatus includes a dielectric tube 120, an antenna 132 disposed around the dielectric tube 120, and a toe spaced apart from the antenna 132. It includes a permanent magnet 152 of the Lloyd form, a moving unit 260 for moving the permanent magnet 152 in the axial direction of the dielectric tube 120, and an RF power supply for supplying power to the antenna 132. . The vertical distance between the antenna 132 and the permanent magnet 152 is adjusted using the moving unit 260.

상기 유전체 튜브(132)는 상기 진공 챔버(112)의 상판(110)의 둘레에 규칙적으로 배치된다. 상기 유전체 듀브(132) 사이에 배기부(170)가 배치된다. 상기 배기부(170)는 진공 펌프(미도시)에 연결된다.The dielectric tube 132 is regularly arranged around the top plate 110 of the vacuum chamber 112. An exhaust unit 170 is disposed between the dielectric tubes 132. The exhaust unit 170 is connected to a vacuum pump (not shown).

상기 배기부(170)은 균일한 펌핑(Uniform Pumping)으로 가스 흐름(Gas Flow) 균일도를 향상시킬 수 있다. 종래의 펌핑 방식은 기판의 아래 방향에 배기부가 배치되어, 가스 흐름에 의한 가스 흐름 효과(Gas Flow Effect)가 있었지만, 상 에(110)에 배치된 배기부(170)는 가스 흐름 효과를 감소시킬 수 있다.The exhaust unit 170 may improve gas flow uniformity by uniform pumping. In the conventional pumping method, the exhaust part is disposed under the substrate, and there is a gas flow effect due to the gas flow. However, the exhaust part 170 disposed on the 110 may reduce the gas flow effect. Can be.

또한, 독성 가스(Toxic gas) 사용시 충분히 해리되지 않은 가스는 기판 상의 박막에 원하지 않는 영향을 끼칠 수 있다. 그러나, 상기 상판에 배치된 배기부(170)는 해리되지 않은 가스를 상기 상판 방향으로 배출하여, 공정에서 필요한 해리된 가스만 박막에 영향을 줄 수 있다.In addition, gases that are not sufficiently dissociated when using toxic gases can have undesirable effects on thin films on the substrate. However, the exhaust unit 170 disposed on the upper plate discharges the undissociated gas in the upper plate direction, so that only the dissociated gas necessary in the process may affect the thin film.

도 6a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 헬리콘 플라즈마 장치의 평면도이고, 도 6b는 도 6a의 IV-IV'선을 따라 자른 단면도이다.FIG. 6A is a plan view of a helicon plasma apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line IV-IV ′ of FIG. 6A.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 헬리콘 플라즈마 장치는 사각형의 진공 챔버(212)에 장착된 복수의 유전체 튜브들(220), 각각의 상기 유전체 튜브들(220)의 둘레에 배치된 안테나들(232), 상기 안테나들(232)과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들(252a,252b,252c), 상기 영구 자석들(252a,252b,252c)의 일부 또는 전부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들(252a,252b,252c)이 배치되는 상기 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부(260), 및 상기 안테나들(232)에 전력을 공급하는 RF 전원(248)을 포함한다. 상기 이동부(260)를 이용하여 상기 안테나(232)와 상기 영구 자석들(252a,252b,252c) 사이의 수직 거리는 조절된다. 상기 진공 챔버(212)는 상판(210)을 포함할 수 있다.6A and 6B, the helicon plasma apparatus includes a plurality of dielectric tubes 220 mounted in a rectangular vacuum chamber 212 and antennas disposed around each of the dielectric tubes 220. 232, the toroidal permanent magnets 252a, 252b and 252c and the permanent magnets 252a, 252b and 252c disposed to be spaced vertically apart from the antennas 232 to fix the part or all of the permanent magnets 252a, 252b and 252c. A moving part 260 for vertically moving the placement plane on which the fixed permanent magnets 252a, 252b, and 252c are disposed, and an RF power source 248 for supplying power to the antennas 232. The vertical distance between the antenna 232 and the permanent magnets 252a, 252b and 252c is adjusted using the moving unit 260. The vacuum chamber 212 may include a top plate 210.

상기 유전체 튜브들(220)은 상기 진공 챔버의 상판에 4 X 4 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 금속 상판(227)은 상기 유전체 튜브(220)는 상부에 배치될 수 있다.The dielectric tubes 220 may be disposed in the form of a 4 × 4 matrix on the upper plate of the vacuum chamber. The metal upper plate 227 may be disposed above the dielectric tube 220.

상기 안테나들(232)은 상기 유전체 튜브들(220) 주위에 배치된다. 상기 안테나들(232)은 제1 내지 제3 그룹을 포함할 수 있다. 제1 그룹은 상기 사각형 챔버의 모서리부 근처에 배치된다. 상기 제2 그룹은 상기 사각형 챔버의 변 근처에 배치된다. 상기 제3 그룹은 상기 사각형 챔버의 중심부에 배치된다. 상기 안테나들(232)은 전력 분배부(242)를 통하여 병렬 연결된다. The antennas 232 are disposed around the dielectric tubes 220. The antennas 232 may include first to third groups. The first group is disposed near an edge of the rectangular chamber. The second group is disposed near the sides of the rectangular chamber. The third group is disposed at the center of the rectangular chamber. The antennas 232 are connected in parallel via the power distribution unit 242.

상기 영구 자석들(252a,252b,252c)은 상기 진공 챔버(212)의 모서리 영역에 배치되는 제1 영구 자석 그룹(252a)과 상기 진공 챔버(212)의 변부에 배치되는 제2 영구 자석 그룹(252b), 및 상기 진공 챔버(212)의 중심부에 배치되는 제3 영구 자석 그룹(252c)으로 구분될 수 있다.The permanent magnets 252a, 252b, and 252c may include a first permanent magnet group 252a disposed in the corner region of the vacuum chamber 212 and a second permanent magnet group disposed at the edge of the vacuum chamber 212. 252b) and a third permanent magnet group 252c disposed at the center of the vacuum chamber 212.

상기 이동부(260)는 상기 진공 챔버(212)의 모서리부 근처에 배치된 제1 영구자석들(252a)을 이동시키는 제1 이동부, 상기 진공 챔버(212)의 변 근처에 배치된 제2 영구자석들(252b)을 이동시키는 제2 이동부, 및 상기 진공 챔버(212)의 중심부위에 배치된 제3 영구자석들(252c)을 이동시키는 제3 이동부를 포함한다. 상기 제1 내지 제3 이동부는 독립적으로 상기 안테나(232)와 영구 자석들(252a,252b,252c) 사이의 수직 거리를 변경한다. 상기 제1 이동부는 제1 자석 고정판(264a) 및 제1 지지 기둥(266a)을 포함할 수 있다. 상기 제2 이동부는 제2 자석 고정판(264b) 및 제2 지지 기둥(266b)을 포함할 수 있다. 제3 자석 고정판(264c) 및 제1 지지 기둥(266c)을 포함할 수 있다. The moving part 260 is a first moving part for moving the first permanent magnets 252a disposed near the edge of the vacuum chamber 212, and a second moving part near the side of the vacuum chamber 212. A second moving part for moving the permanent magnets 252b and a third moving part for moving the third permanent magnets 252c disposed on the center of the vacuum chamber 212. The first to third moving parts independently change the vertical distance between the antenna 232 and the permanent magnets 252a, 252b, and 252c. The first moving part may include a first magnet fixing plate 264a and a first support pillar 266a. The second moving part may include a second magnet fixing plate 264b and a second support pillar 266b. The third magnet fixing plate 264c and the first support pillar 266c may be included.

상기 제1 영구 자석 그룹(252a)은 상기 제1 자석 고정판(264a)에 고정될 수 있다. 상기 제1 자석 고정판(264a)은 상기 제1 지지 기둥(266a)을 따라 이동할 수 있다. 상기 제2 영구 자석 그룹(252b)은 상기 제2 자석 고정판(264b)에 고정될 수 있다. 상기 제2 자석 고정판(264b)은 상기 제2 지지 기둥(266b)을 따라 이동할 수 있다. 상기 제3 영구 자석 그룹(252c)은 상기 제3 자석 고정판(264c)에 고정될 수 있다. 상기 제3 자석 고정판(264c)은 상기 제3 지지 기둥(266c)을 따라 이동할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 지지 기둥(266a,266b,266c)은 상기 상부 지지판(268)에 결합할 수 있다. 상기 지지 기둥(266a,266b,266c)의 일단은 상기 상판(210)에 결합하고, 상기 지지 기둥(266a,266b,266c)의 타단은 상기 상부 지지판(268)에 결합할 수 있다. 회전 수단(269)은 상기 상부 지지판(268) 상에서 상기 지지 기둥(266a,266b,266c)과 축 결합하여 상기 지지 기둥(266a,266b,266c)에 회전 운동을 제공할 수 있다. 상기 회전 수단(269)은 모터일 수 있다. The first permanent magnet group 252a may be fixed to the first magnet fixing plate 264a. The first magnet fixing plate 264a may move along the first support pillar 266a. The second permanent magnet group 252b may be fixed to the second magnet fixing plate 264b. The second magnet fixing plate 264b may move along the second support pillar 266b. The third permanent magnet group 252c may be fixed to the third magnet fixing plate 264c. The third magnet fixing plate 264c may move along the third support pillar 266c. The first to third support pillars 266a, 266b, and 266c may be coupled to the upper support plate 268. One end of the support pillars 266a, 266b and 266c may be coupled to the upper plate 210, and the other end of the support pillars 266a, 266b and 266c may be coupled to the upper support plate 268. The rotating means 269 may be axially coupled to the support pillars 266a, 266b, and 266c on the upper support plate 268 to provide rotational motion to the support pillars 266a, 266b, and 266c. The rotating means 269 may be a motor.

상기 제1 내지 제3 지지 기둥(266a,266b,266c)은 스크루 형상을 포함하고, 상기 제1 내지 제3 자석 고정판(264a,264b,264c)은 너트 형상을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 내지 제3 지지 기둥(266a,266b,266c)이 회전함에 따라 각각 상기 제1 내지 제3 자석 고정판(264a,264b,264c)은 수직 이동할 수 있다.The first to third support pillars 266a, 266b, and 266c may have a screw shape, and the first to third magnet fixing plates 264a, 264b, and 264c may have a nut shape. Accordingly, as the first to third support pillars 266a, 266b, and 266c rotate, the first to third magnet fixing plates 264a, 264b, and 264c may move vertically, respectively.

상기 영구 자석(252a,252b,252c)과 상기 안테나(232)의 수직 거리는 자기장의 형태 및 세기를 변화시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 안테나(232)에 형성된 플라즈마 밀도 분포는 상기 수직 거리를 변화시켜 조절할 수 있다.The vertical distance between the permanent magnets 252a, 252b, and 252c and the antenna 232 may change the shape and intensity of the magnetic field. Accordingly, the plasma density distribution formed on the antenna 232 may be adjusted by changing the vertical distance.

쉴드부(263)는 상기 상판(210)의 외측면과 상기 상부 지지판(268)의 외측면 사이에 배치되어 상기 안테나들(232)에 의한 전자기파가 외부로 유출되는 것을 차단할 수 있다.The shield part 263 may be disposed between the outer surface of the upper plate 210 and the outer surface of the upper support plate 268 to block the electromagnetic waves from leaking out by the antennas 232.

이제까지 본 발명에 대하여 구체적 예를 통해 그 내용을 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시 예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.So far, the present invention has been described through specific examples. Those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in a modified form without departing from the essential features of the present invention. Therefore, the disclosed embodiments should be considered in descriptive sense only and not for purposes of limitation. The scope of the present invention is shown in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the scope will be construed as being included in the present invention.

진공 챔버:112
유전체 튜브들: 120
안테나들:132
영구 자석들:152
이동부:160
진공 챔버:212
유전체 튜브들:220
안테나들:232
영구자석들:252a,252b,252c
이동부:260
RF 전원:248Vacuum chamber: 112
Dielectric Tubes: 120
Antennas: 132
Permanent Magnets: 152
A moving part: 160
Vacuum chamber: 212
Dielectric Tubes: 220
Antennas: 232
Permanent Magnets: 252a, 252b, 252c
A moving part: 260
RF power: 248

Claims (11)

진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들;
각각의 상기 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들;
상기 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들;
상기 영구 자석들의 일부 또는 전부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들이 배치되는 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부; 및
상기 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함하고,
상기 안테나들은 상기 유전체 튜브들 내부에 플라즈마를 형성하고,
상기 이동부를 이용하여 상기 안테나들과 상기 영구 자석들 사이의 수직 거리는 조절되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.A plurality of dielectric tubes mounted in the vacuum chamber;
Antennas disposed around each of said dielectric tubes;
Toroidal permanent magnets disposed vertically spaced apart from the antennas;
A moving part which fixes some or all of the permanent magnets and vertically moves the placement plane on which the fixed permanent magnets are disposed; And
An RF power supply for powering the antennas,
The antennas form a plasma inside the dielectric tubes,
And the vertical distance between the antennas and the permanent magnets is adjusted using the moving part. 제1 항에 있어서,
상기 이동부는:
상기 진공 챔버에 고정결합하고 상기 유전체 튜브들이 배치된 평면에 수직하게 연장되는 적어도 하나의 지지 기둥;
상기 영구자석들이 장착되고 상기 지지 기둥에 삽입되어 상기 지지 기둥을 따라 이동 가능한 자석 고정판;및
상기 지지 기둥에 삽입되어 지지 기둥을 고정하는 상부 지지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The moving part:
At least one support column fixedly coupled to the vacuum chamber and extending perpendicular to a plane in which the dielectric tubes are disposed;
A magnet fixing plate mounted with the permanent magnets and inserted into the support pillar and movable along the support pillar; and
And an upper support plate inserted into the support pillar to fix the support pillar. 제1 항에 있어서,
RF 전원은 제1 RF 전원 및 제2 RF 전원을 포함하고,
상기 제1 RF 전원의 출력은 제 1 임피던스 정합회로를 통하여 병렬 연결된 제1 그룹의 안테나들에게 제공되고,
제2 RF 전원의 출력은 제2 임피던스 정합회로를 통하여 제2 그룹의 안테나에게 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The RF power supply includes a first RF power supply and a second RF power supply,
The output of the first RF power source is provided to the first group of antennas connected in parallel via a first impedance matching circuit.
And an output of the second RF power source is provided to the second group of antennas through a second impedance matching circuit. 제1 항 내지 제3 항 중에서 어느 한 항에 있어서,
상기 유전체 튜브들의 일단은 상기 진공 챔버와 연결되고, 상기 유전체 튜브들의 타단에 장착되는 금속 뚜껑을 더 포함하고,
상기 금속 뚜겅은 가스를 유입하는 가스 유입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
One end of the dielectric tubes further comprises a metal lid connected to the vacuum chamber and mounted to the other end of the dielectric tubes,
The metal hood comprises a gas inlet for introducing a gas. 제1 항에 있어서,
상기 영구 자석들은 상기 진공 챔버의 주변 영역에 배치되는 제1 영구 자석 그룹과 상기 진공 챔버의 중심부에 배치되는 제2 영구 자석 그룹으로 구분되고,
상기 이동부는 제1 자석 고정판 및 제1 지지 기둥을 포함하는 제1 이동부, 및 제2 자석 고정판 및 제2 지지 기둥을 포함하는 제2 이동부를 포함하고,
상기 제1 영구 자석 그룹은 제1 자석 고정판에 고정되고, 제1 자석 고정판은 제1 지지 기둥을 따라 이동하고,
상기 제2 영구 자석 그룹은 제2 자석 고정판에 고정되고, 상기 제2 자석 고정판은 제2 지지 기둥을 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The permanent magnets are divided into a first permanent magnet group disposed in the peripheral region of the vacuum chamber and a second permanent magnet group disposed in the center of the vacuum chamber,
The moving part includes a first moving part including a first magnetic fixing plate and a first supporting pillar, and a second moving part including a second magnetic fixing plate and a second supporting pillar,
The first permanent magnet group is fixed to the first magnet fixing plate, the first magnet fixing plate moves along the first support pillar,
And the second permanent magnet group is fixed to a second magnet fixing plate, the second magnet fixing plate moving along a second support column. 제1 항에 있어서,
상기 안테나들과 상기 이동부에 배치되고 상기 RF 전원의 전력을 상기 안테나들에 분배하는 전력 분배부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
And a power distribution unit disposed in the antennas and the moving unit and distributing the power of the RF power to the antennas. 제1 항에 있어서,
상기 안테나들의 일단은 상기 RF 전원에 연결되고, 상기 안테나들의 타단은 상기 진공 챔버에 접지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
One end of the antennas is connected to the RF power source, and the other end of the antennas is grounded to the vacuum chamber. 제1 항에 있어서,
상기 유전체 튜브들은 상기 진공 챔버의 금속성의 상판에 배치되고,
상기 상판은 적어도 하나의 펌핑 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.The method according to claim 1,
The dielectric tubes are disposed on a metallic upper plate of the vacuum chamber,
The upper plate includes at least one pumping port. 사각형의 진공 챔버에 장착된 복수의 유전체 튜브들;
각각의 상기 유전체 튜브들의 둘레에 배치된 안테나들;
상기 안테나들과 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석들;
상기 영구 자석들의 일부를 고정하고 상기 고정된 영구 자석들이 배치되는 배치 평면을 수직하게 이동시키는 이동부; 및
상기 안테나들에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함하고,
상기 안테나들은 상기 유전체 튜브들 내부에 플라즈마를 형성하고,
상기 이동부를 이용하여 상기 안테나들과 상기 영구 자석들 사이의 수직 거리를 조절하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.A plurality of dielectric tubes mounted in a rectangular vacuum chamber;
Antennas disposed around each of said dielectric tubes;
Toroidal permanent magnets disposed vertically spaced apart from the antennas;
A moving part which fixes a part of the permanent magnets and vertically moves an arrangement plane in which the fixed permanent magnets are disposed; And
An RF power supply for powering the antennas,
The antennas form a plasma inside the dielectric tubes,
And using the moving part to adjust a vertical distance between the antennas and the permanent magnets. 제9 항에 있어서,
상기 이동부는:
상기 진공 챔버의 모서리부 근처에 배치된 영구자석들을 이동시키는 제1 이동부;
상기 진공 챔버의 모서리부를 연결하는 선분 주위에 배치된 영구자석들을 이동시키는 제2 이동부; 및
상기 진공 챔버의 중심부위에 배치된 영구자석들을 이동시키는 제3 이동부를 포함하고,
상기 제1 내지 제3 이동부 중 어느 하나는 독립적으로 상기 안테나와 영구 자석들 사이의 수직 거리를 변경하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.10. The method of claim 9,
The moving part:
A first moving part for moving the permanent magnets disposed near the edge of the vacuum chamber;
A second moving part for moving the permanent magnets disposed around the line segment connecting the corners of the vacuum chamber; And
A third moving part configured to move the permanent magnets disposed on the center of the vacuum chamber,
Any one of the first to third moving parts independently change the vertical distance between the antenna and the permanent magnets. 진공 챔버에 장착된 유전체 튜브;
상기 유전체 튜브의 둘레에 배치된 안테나;
상기 안테나와 수직하게 이격되어 배치된 토로이드 형태의 영구자석;
상기 영구 자석을 상기 유전체 튜브의 축 방향으로 이동시키는 이동부; 및
상기 안테나에 전력을 공급하는 RF 전원을 포함하고,
상기 안테나들은 상기 유전체 튜브들 내부에 플라즈마를 형성하고,
상기 이동부를 이용하여 상기 안테나와 상기 영구 자석 사이의 수직 거리는 조절되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.
A dielectric tube mounted in the vacuum chamber;
An antenna disposed around the dielectric tube;
A toroidal permanent magnet disposed vertically spaced apart from the antenna;
A moving part for moving the permanent magnet in the axial direction of the dielectric tube; And
An RF power supply for supplying power to the antenna,
The antennas form a plasma inside the dielectric tubes,
And the vertical distance between the antenna and the permanent magnet is adjusted using the moving part.
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