KR101130920B1 - Coating apparatus and method of fabricating liquid crystal display device using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법은 슬릿노즐의 내부에 타원형의 바(bar)를 삽입하여 유체흐름을 균일하게 함으로써 도포의 균일도를 확보하기 위한 것으로, 슬릿노즐을 통해 피처리물 전면에 도포액을 도포하는 도포액 도포장치에 있어, 상기 슬릿노즐은 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체로 분리되는 노즐몸체; 상기 제 2 노즐몸체의 상부에 형성되어 도포액이 유입되는 유입구; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상기 제 2 노즐몸체 내면에 형성되어 상기 유입된 도포액을 저장하는 수납공간; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 하부에 형성되어 상기 저장된 도포액을 피처리물 표면에 도포하는 토출구; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상부에 형성되어 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 갭을 유지하는 쐐기(shim); 및 상기 수납공간의 하단부에 삽입되며, 상기 노즐몸체의 길이방향으로 형성되어 도포액의 흐름을 균일하게 하는 바를 포함하는 것을 특징으로 한다.The coating liquid coating apparatus of the present invention and a manufacturing method of the liquid crystal display device using the same are to ensure the uniformity of the coating by inserting an elliptical bar (bar) in the slit nozzle to uniform the flow of fluid, through the slit nozzle A coating liquid coating apparatus for applying a coating liquid to the entire surface of a workpiece, wherein the slit nozzle comprises: a nozzle body separated into a first nozzle body and a second nozzle body; An inlet formed at an upper portion of the second nozzle body to introduce a coating liquid; An accommodation space formed on an inner surface of the second nozzle body between the first nozzle body and the second nozzle body to store the introduced coating liquid; A discharge port formed in a lower portion between the first nozzle body and the second nozzle body to apply the stored coating liquid to the surface of the workpiece; A shim formed at an upper portion between the first nozzle body and the second nozzle body to maintain a gap between the first nozzle body and the second nozzle body; And it is inserted into the lower end of the receiving space, characterized in that it comprises a bar to be formed in the longitudinal direction of the nozzle body to uniform the flow of the coating liquid.
슬릿노즐, 도포장치, 유체흐름, 바 Slit Nozzle, Applicator, Fluid Flow, Bar
Description
도 1은 일반적인 스핀코터의 구조를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing the structure of a typical spin coater.
도 2a 및 도 2b는 슬릿코터의 기본적인 개념 및 상기 슬릿코터에 의해 감광물질이 도포되는 것을 나타내는 사시도.2A and 2B are perspective views illustrating a basic concept of a slit coater and a photosensitive material applied by the slit coater.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 슬릿코터를 개략적으로 나타내는 정면도.Figure 3 is a front view schematically showing a slit coater according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐을 개략적으로 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view schematically showing a slit nozzle according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐을 개략적으로 나타내는 정면도.5 is a front view schematically showing a slit nozzle according to an embodiment of the present invention.
도 6은 도 5에 도시된 슬릿노즐에 있어서, 슬릿노즐 내부에 삽입된 바의 구조와 유체흐름을 개략적으로 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view schematically showing the structure and fluid flow of the bar inserted in the slit nozzle in the slit nozzle shown in FIG.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명에 따른 다양한 형태를 가진 바를 개략적으로 나타내는 예시도.7a to 7d are exemplary views schematically showing bars having various forms according to the present invention.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS
110 : 유리기판 120,220 : 테이블110: glass substrate 120,220: table
140,240 : 슬릿노즐 200 : 슬릿노즐부140,240: slit nozzle 200: slit nozzle
241 : 노즐몸체 242 : 토출구241
246 : 유입구 300 : 슬릿코터246: inlet 300: slit coater
400,400a~400d : 바(bar)400,400a ~ 400d: bar
본 발명은 도포액 도포장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판표시장치(Flat Panel Display; FPD)의 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 피처리물 표면에 레지스트액이나 현상액, 컬러필터 등의 도포액을 슬릿 형상으로 도포하는 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid coating device, and more particularly, to a coating liquid such as a resist liquid, a developing liquid, a color filter, or the like on a surface of an object such as a flat panel display (FPD) substrate or a semiconductor wafer. The present invention relates to a coating liquid coating apparatus for coating in a shape and a manufacturing method of a liquid crystal display device using the same.
평판표시장치 또는 반도체 소자의 제조공정에는 박막 증착공정과 상기 박막 중 선택된 영역을 노출시키는 포토리소그래피공정 및 상기 선택된 영역의 박막을 제거하는 식각공정이 다수회 포함되어 있으며, 특히 상기 포토리소그래피공정은 기판 또는 웨이퍼 상에 감광성 물질의 포토레지스트막을 형성하는 코팅공정과 소정의 패턴이 형성된 마스크를 사용하여 이를 패터닝하는 노광 및 현상공정으로 이루어져 있다.The manufacturing process of a flat panel display device or a semiconductor device includes a thin film deposition process, a photolithography process for exposing a selected region of the thin film, and an etching process for removing the thin film of the selected region, a plurality of times. Or a coating step of forming a photoresist film of a photosensitive material on the wafer and an exposure and developing step of patterning it using a mask having a predetermined pattern formed thereon.
일반적으로 기판 또는 웨이퍼 상에 포토레지스트막을 형성하는 상기 코팅공정에는 스프레이(spray) 코팅방법, 롤 코팅방법 또는 스핀(spin) 코팅방법 등이 사용된다.In general, a spray coating method, a roll coating method, or a spin coating method is used for the coating process of forming a photoresist film on a substrate or a wafer.
상기 스프레이 코팅방법과 롤 코팅방법의 경우는 코팅막의 균일성과 막 두께 조정에서 고정밀도용으로는 적합하지 않아 고정밀 패턴 형성용으로는 스핀 코팅방 법이 사용된다.In the case of the spray coating method and the roll coating method, the spin coating method is used for forming a high-precision pattern because the coating film is not suitable for high precision in the uniformity and film thickness adjustment of the coating film.
이하, 상기의 스핀 코팅방법에 사용되는 스핀코터(spin coater)를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a spin coater used in the spin coating method will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 일반적인 스핀코터의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of a general spin coater.
도면에 도시된 바와 같이, 스핀코터는 회전축(6)에 연결되어 있는 스핀척(spin chuck)(5)과 상기 스핀척(5)을 외부에서 감싸고 있을 뿐만 아니라 개폐(開閉)가 가능한 커버(7) 및 상기 스핀척(5)의 상부에 위치하여 커버(70) 개방(開放)시 상기 커버(7)의 내부로 이동하는 노즐(4)로 구성된다.As shown in the figure, the spin coater not only surrounds the
상기 스핀척(5)에는 포토레지스트가 도포되는 피처리물(10)이 안착되고, 상기 커버(7)의 하부에는 하부로 낙하되는 포토레지스트를 외부로 배출시키는 드레인 밸브(미도시)가 설치된다.The
이와 같이 구성되는 스핀코터는 소정 피처리물(10)에 코팅막을 형성하기 위해, 먼저노즐(4)이 하강하여 스핀척(5)에 안착되어 있는 피처리물(10) 표면에 포토레지스트를 분사하게 된다.The spin coater configured as described above sprays a photoresist on the surface of the
피처리물(10)에 포토레지스트가 분사되면, 커버(7)가 밀폐됨과 아울러 모터(M)가 회전하게 되고 이와 연결되어 있는 회전축(6)이 회전하여 피처리물(10)이 안착되어 있는 스핀척(5)을 소정 회전수로 회전시키게 된다.When the photoresist is sprayed onto the
스핀척(5)이 회전하면 피처리물(10)의 상면에 분사되어 있는 포토레지스트가 원심력에 의해 외측으로 퍼지게 됨으로써 피처리물(10) 전면에 포토레지스트가 도포되게된다.When the spin chuck 5 rotates, the photoresist sprayed on the upper surface of the
이와 같이 피처리물(10) 전면에 포토레지스트가 도포되면 이를 응고시킨 후 포토 마스크 등을 사용하여 노광, 현상함으로써 피처리물(10) 표면에 소정의 패턴을 형성하게 된다.When the photoresist is coated on the entire surface of the
그러나, 상기 스핀코터를 이용한 스핀 코팅방법은 웨이퍼와 같이 크기가 작은 피처리물에 감광물질을 코팅하는데 적합하며, 피처리물의 크기가 크고 중량이 무거운 평판표시장치용 기판(예를 들면, 액정표시패널용 유리기판)에 감광물질을 코팅하는데는 적합하지 않다.However, the spin coating method using the spin coater is suitable for coating a photosensitive material on a small workpiece such as a wafer, and has a large and heavy substrate for a flat panel display device (for example, a liquid crystal display). It is not suitable for coating photosensitive material on panel glass substrate).
이는 감광물질이 코팅될 기판이 크고 중량이 무거울수록 기판을 고속으로 회전시키기 매우 어려우며, 고속 회전시 기판의 파손 및 에너지 소모가 매우 큰 문제점을 갖기 때문이다.This is because the larger the substrate to be coated with the photosensitive material and the heavier the weight, the more difficult it is to rotate the substrate at high speed, and the breakage and energy consumption of the substrate during the high speed rotation are very large.
또한, 상기 스핀 코팅방법은 코팅에 사용되는 포토레지스트의 양에 비해 버려지는 양이 너무 많아 포토레지스터의 낭비가 심하다는 문제점이 있다. 즉, 기판 표면에 도포된 포토레지스트는 고속 회전시 상당량이 스핀척 밖으로 비산(飛散)되어 버려지게 된다. 실질적으로 감광을 위해 사용되는 포토레지스트보다 낭비되는 포토레지스트의 양이 훨씬 많을 뿐만 아니라, 상기 비산되는 포토레지스트 파편은 이후 박막 형성공정에서 이물로 작용되기가 쉽고, 환경 오염원이 되기도 한다.In addition, the spin coating method has a problem that waste of photoresist is severe because the amount of waste is excessively large compared to the amount of photoresist used for coating. That is, a considerable amount of photoresist applied to the substrate surface is scattered out of the spin chuck at high speed. Substantially, the amount of photoresist wasted is much higher than that of photoresists used for photosensitization, and the scattered photoresist fragments are likely to act as foreign matters in subsequent thin film formation processes, and may also be environmental pollution sources.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 대면적의 기판에 레지스트액이나 현상액, 컬러필터 등의 도포액을 균일하게 도포할 수 있는 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and provides a coating liquid coating apparatus capable of uniformly applying a coating liquid, such as a resist liquid, a developing liquid, a color filter, to a large area substrate, and a method of manufacturing a liquid crystal display device using the same. The purpose is to.
또한, 본 발명의 다른 목적은 슬릿노즐 내부의 유체흐름을 균일하게 함으로써 도포액의 도포를 균일하게 유지할 수 있는 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a coating liquid coating apparatus capable of maintaining a uniform coating of the coating liquid by making the fluid flow inside the slit nozzle uniform, and a manufacturing method of the liquid crystal display device using the same.
본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in the configuration and claims of the invention described below.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 슬릿노즐을 통해 피처리물 전면에 도포액을 도포하는 도포액 도포장치에 있어, 상기 슬릿노즐은 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체로 분리되는 노즐몸체; 상기 제 2 노즐몸체의 상부에 형성되어 도포액이 유입되는 유입구; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상기 제 2 노즐몸체 내면에 형성되어 상기 유입된 도포액을 저장하는 수납공간; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 하부에 형성되어 상기 저장된 도포액을 피처리물 표면에 도포하는 토출구; 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상부에 형성되어 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 갭을 유지하는 쐐기(shim); 및 상기 수납공간의 하단부에 삽입되며, 상기 노즐몸체의 길이방향으로 형성되어 도포액의 흐름을 균일하게 하는 바(bar)를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is a coating liquid coating apparatus for applying a coating liquid to the entire surface of the workpiece through a slit nozzle, the slit nozzle is a nozzle body separated into a first nozzle body and a second nozzle body ; An inlet formed at an upper portion of the second nozzle body to introduce a coating liquid; An accommodation space formed on an inner surface of the second nozzle body between the first nozzle body and the second nozzle body to store the introduced coating liquid; A discharge port formed in a lower portion between the first nozzle body and the second nozzle body to apply the stored coating liquid to the surface of the workpiece; A shim formed at an upper portion between the first nozzle body and the second nozzle body to maintain a gap between the first nozzle body and the second nozzle body; And it is inserted into the lower end of the receiving space, characterized in that it comprises a bar (bar) is formed in the longitudinal direction of the nozzle body to uniform the flow of the coating liquid.
또한, 본 발명의 액정표시장치의 제조방법은 제 1 기판과 제 2 기판을 제공하는 단계; 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체로 분리되는 노즐몸체, 상기 제 2 노즐몸체의 상부에 형성되어 도포액이 유입되는 유입구, 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상기 제 2 노즐몸체 내면에 형성되어 상기 유입된 도포액을 저장하는 수납공간, 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 하부에 형성되어 상기 저장된 도포액을 피처리물 표면에 도포하는 토출구, 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 상부에 형성되어 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이의 갭을 유지하는 쐐기 및 상기 수납공간의 하단부에 삽입되며, 상기 노즐몸체의 길이방향으로 형성되어 도포액의 흐름을 균일하게 하는 바로 구성되는 슬릿노즐을 제공하는 단계; 상기 슬릿노즐을 이용하여 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판 표면에 도포액을 도포하는 단계; 포토리소그래피공정을 이용하여 상기 도포액이 도포된 제 1 기판 또는 제 2 기판에 각각 박막 트랜지스터 패턴 및 컬러필터 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함한다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention comprises the steps of providing a first substrate and a second substrate; A nozzle body which is divided into a first nozzle body and a second nozzle body, an inlet formed at an upper portion of the second nozzle body to introduce a coating liquid, and an inner surface of the second nozzle body between the first nozzle body and the second nozzle body; A storage space formed in the storage space for storing the introduced coating liquid, a discharge hole formed in a lower portion between the first nozzle body and the second nozzle body to apply the stored coating liquid to the surface of the workpiece, and the first nozzle body; It is formed in the upper portion between the second nozzle body and is inserted into the lower end of the wedge and the receiving space to maintain the gap between the first nozzle body and the second nozzle body, formed in the longitudinal direction of the nozzle body flow of the coating liquid Providing a slit nozzle configured to make the uniform; Applying a coating liquid to a surface of the first substrate or the second substrate using the slit nozzle; Forming a thin film transistor pattern and a color filter pattern on a first substrate or a second substrate to which the coating liquid is applied using a photolithography process; And bonding the first substrate and the second substrate to each other.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the coating liquid coating apparatus and a method of manufacturing a liquid crystal display device using the same according to the present invention.
일반적으로 반도체 제조분야, 평판표시장치 제조분야에서는 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등을 원하는 형상으로 패터닝하기 위해서는 전술한 바와 같이 포토리소그래피공정이 필요하며, 상기 포토리소그래피공정에는 광과 화학 반응하는 포토레지스트와 같은 감광물질이 사용된다.In general, in the semiconductor manufacturing field and flat panel display device manufacturing field, a photolithography process is required as described above in order to pattern a thin film performing a specific function, for example, an oxide thin film, a metal thin film, or a semiconductor thin film, into a desired shape. Photolithography processes use photosensitive materials such as photoresists that chemically react with light.
이때, 상기 감광물질은 박막이 형성된 기판에 매우 균일한 두께로 형성되어야 공정 중에 불량이 발생하지 않게 된다. 예를 들어, 감광물질이 지정된 두께보다 두껍게 형성될 경우 박막 중 원하는 부분이 식각되지 않게 되며, 상기 감광물질이 지정된 두께보다 얇게 형성될 경우 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각되는 문제점이 발생하게 된다.At this time, the photosensitive material should be formed in a very uniform thickness on the substrate on which the thin film is formed so that no defect occurs during the process. For example, when the photosensitive material is formed thicker than the specified thickness, the desired portion of the thin film is not etched, and when the photosensitive material is formed thinner than the specified thickness, the thin film is etched more than the desired etching amount. .
특히, 이와 같은 균일한 감광물질의 도포는 평판표시장치용 기판, 그 중에서도 액정표시패널이 대면적화 되어감에 따라 기판의 사이즈가 증가하는 현 추세에 있어서 매우 중요한 요인의 하나이다.In particular, the application of the uniform photosensitive material is one of the very important factors in the current trend of increasing the size of the substrate as the substrate for a flat panel display device, especially the liquid crystal display panel, becomes larger.
상기 문제를 해결하고자 기존의 스핀척과 같은 스피너(spinner)를 사용하지 않고 소정의 감광물질을 슬릿노즐을 사용하여 분사하는 노즐방식이 제안되었다. 상기 노즐방식의 도포액 도포장치를 스피너를 이용하지 않기 때문에 스핀리스 코터(spinless coater) 또는 슬릿을 통해 감광물질이 분사되므로 슬릿코터(slit coater)라 부른다. 상기 슬릿코터는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상의 노즐을 통하여 감광물질을 공급하여 기판 표면에 면 형태로 감광물질을 도포함으로써, 대형의 액정표시패널에 감광물질을 도포하는데 적합하다.In order to solve the above problem, a nozzle method of spraying a predetermined photosensitive material using a slit nozzle without using a spinner like a conventional spin chuck has been proposed. Since the nozzle-type coating liquid coating device does not use a spinner, the photosensitive material is injected through a spinless coater or a slit and thus is called a slit coater. The slit coater is suitable for applying a photosensitive material to a large liquid crystal display panel by supplying the photosensitive material through a slit-shaped nozzle longer than its width to apply a photosensitive material to the surface of the substrate in the form of a surface.
도 2a 및 도 2b는 슬릿코터의 기본적인 개념 및 상기 슬릿코터에 의해 감광물질이 도포되는 것을 예를 들어 나타내는 예시도이다.2A and 2B are exemplary views illustrating a basic concept of a slit coater and a photosensitive material applied by the slit coater.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 슬릿코터는 폭이 좁고 길이가 긴 슬릿 형태의 노즐(140)을 구비하여, 상기 슬릿노즐(140)을 통해 포토레지스트(145)를 공급함으로써 기판(110) 표면에 면 형태로 포토레지스트(145)를 도포하게 된다.As shown in the figure, the slit coater of the present invention includes a
즉, 상기 슬릿코터는 소정량의 포토레지스트(145)를 바(bar)형의 긴 슬릿노즐(140)을 통해 기판(110) 등에 도포하는 장치로, 기판(110)의 일측에서 다른 일측으로 일정한 속도로 이동하면서 미세한 슬릿노즐(140)을 통해 일정량의 포토레지스트(145)를 도포함으로써 상기 기판(110) 표면에 균일한 포토레지스트막을 형성할 수 있게 된다.That is, the slit coater is a device for applying a predetermined amount of
또한, 상기 슬릿코터는 원하는 기판(110) 표면에만 포토레지스트(145)를 도포할 수 있어 전술한 스핀코터에 비해 도포액을 보다 낭비 없이 사용할 수 있는 장점이 있으며, 폭이 긴 면 형태로 도포액의 도포가 가능하여 대형의 기판이나 사각형의 기판에 적합하다.In addition, the slit coater can apply the
참고로, 미설명부호 120은 기판(110)이 안착되는 테이블을 나타내며, 화살표는 슬릿노즐(140)이 이동하는 방향으로 상기 화살표 방향으로 포토레지스트(145)가 분사, 도포되게 된다.For reference,
그러나, 이러한 구조만으로는 자체적으로 상부에서 하부로 흐르는 포토레지 스트(145)와 같은 도포액의 균일도를 보장하지 못한다.However, this structure alone does not guarantee uniformity of the coating liquid, such as the
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 슬릿코터를 개략적으로 나타내는 정면도이다.3 is a front view schematically showing a slit coater according to an embodiment of the present invention.
이때, 본 실시예의 슬릿코터는 액정표시장치의 화면패널을 제조하기 위한 사각형 유리기판을 피처리기판으로 하고 있으며, 기판의 표면에 형성된 전극층 등을 선택적으로 에칭하는 포토리소그래피공정에 있어서, 기판의 표면에 도포액을 도포하는 도포액 코팅공정에 이용된다. 또한, 상기 슬릿코터는 액정표시장치용의 유리기판뿐만 아니라, 일반적으로 플랫패널 디스플레이용의 여러 가지 기판에 처리액(도포액)을 도포하는 장치로서 변형 이용할 수도 있다.At this time, the slit coater according to the present embodiment uses a rectangular glass substrate for manufacturing the screen panel of the liquid crystal display device as the substrate to be processed, and in the photolithography process of selectively etching the electrode layer or the like formed on the surface of the substrate, the surface of the substrate It is used for the coating liquid coating process of apply | coating a coating liquid to this. In addition, the slit coater may be modified as a device for applying a processing liquid (coating liquid) to not only glass substrates for liquid crystal display devices but also various substrates for flat panel displays in general.
도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 슬릿코터(300)는 기판(미도시)이 안착되는 테이블(220), 상기 기판에 도포액, 예를 들면 포토레지스트와 같은 감광물질을 도포하는 슬릿노즐부(200) 및 상기 슬릿노즐부(200)의 양단에 설치되어 상기 슬릿노즐부(200)를 일정한 속도로 이동시키는 구동부(260)를 구비한다. 또한, 상기 슬릿코터(300)는 기판에 코팅되는 감광물질을 공급하는 공급부(미도시)와 상기 공급부로부터 슬릿노즐부(200)에 감광물질을 공급하면서 일정한 압력을 가하여 감광물질이 분사되게 하는 펌핑(pumping)수단(미도시)을 포함한다.As shown in the drawing, the slit coater 300 of the present embodiment is a table 220 on which a substrate (not shown) is seated, and a slit nozzle part for applying a photosensitive material such as a photoresist to the substrate. And a driving
이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공급부는 감광물질을 저장하는 저장탱크와 여기에 저장된 감광물질을 슬릿노즐부(200)로 공급하는 공급배관 및 유량 조절장치로 구성된다.At this time, although not shown in the drawing, the supply unit is composed of a storage tank for storing the photosensitive material and a supply pipe and a flow rate adjusting device for supplying the photosensitive material stored therein to the
상기 저장탱크는 슬릿노즐부(200)에 공급되는 포토레지스트와 같은 감광액이 나 현상액, 컬러필터 등의 도포액이 저장되며 상기 구동부(260)에 부착되어 있을 수 있다.The storage tank may store a photoresist such as a photoresist supplied to the
상기 펌핑수단은 일정한 압력을 슬릿노즐부(200)에 가하고 그 압력에 의해 슬릿노즐부(200)에 저장된 감광물질이 분사되게 한다. 이때, 상기 펌핑수단은 저장탱크에 설치되어 있을 수 있으며, 저장탱크의 내부를 가압(加壓)하여 상기 저장탱크에 저장된 도포액을 슬릿노즐부(200)로 공급하는 역할을 한다.The pumping means applies a predetermined pressure to the
상기 테이블(220) 상부에는 유리기판과 같은 피처리물이 안착되며, 상기 기판을 테이블(220)로부터 들어올리기 위한 핀(미도시)이 테이블 표면에 다수개 설치되어 있다.An object to be processed, such as a glass substrate, is mounted on the table 220, and a plurality of pins (not shown) are provided on the table surface to lift the substrate from the table 220.
이때, 상기 테이블(220)은 직사각형 형상의 석제(石製)로 이루어지며, 그 상면 및 측면은 평탄하게 가공되어 있다.At this time, the table 220 is made of a rectangular stone (stone), the upper surface and the side is processed flat.
상기 테이블(220)의 상면은 수평면으로 되어 있어 기판이 안착되게 되는데, 상기 상면에는 다수의 진공흡착구(미도시)가 형성되어 있어, 슬릿코터(300)에서 기판을 처리하는 동안 기판의 흡착을 통해 상기 기판을 소정의 수평 위치로 유지하게 한다.The upper surface of the table 220 is a horizontal plane, the substrate is seated, a plurality of vacuum suction holes (not shown) are formed on the upper surface, so that the suction of the substrate during the processing of the substrate in the slit coater 300 To keep the substrate in a predetermined horizontal position.
이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 테이블(220)의 일측에는 예비 토출(吐出)장치가 설치되어 코팅을 처음 시작하는 경우나 매회 코팅이 완료된 다음에 슬릿노즐부(200)로부터 예비 토출을 실시함으로써, 도포액이 슬릿노즐부(200)의 전면에서 균일하게 도포되도록 할 수 있다.At this time, although not shown in the drawing, a preliminary ejection device is installed at one side of the table 220, and the preliminary ejection is performed from the
상기 구동부(260)는 슬릿노즐부(200)의 양단에 설치되어 상기 슬릿노즐부 (200)를 수직방향(Z축 방향)으로 이동시키는 한 쌍의 Z축 구동장치(261)와 상기 슬릿노즐부(200)를 전후방향(X축 방향)으로 일정한 속도로 이동시켜 기판 표면에 감광물질을 균일하게 분사하도록 하는 한 쌍의 X축 구동장치(262)를 포함한다.The driving
이때, 상기 X축 구동장치(262)는 모터(미도시)와 이동레일, 가이드 레일과 같은 이동수단(270)으로 구성될 수 있으며, 상기 모터로 비접촉 타입의 리니어(linear) 모터를 사용할 수 있다.At this time, the
상기 이동수단(270)은 테이블(220)의 양단부에 고정, 설치되는 지지블록(290)과 함께 슬릿노즐부(200)의 이동을 안내한다. 즉, 상기 이동수단(270)은 슬릿노즐부(200)를 통해 기판에 도포액을 도포하기 위해 상기 슬릿노즐부(200)를 테이블(220)면의 수평 X축 방향으로 이동시키는 가이드 역할을 한다.The moving means 270 guides the movement of the
상기 테이블(220)의 상부에는 상기 테이블(220)의 양측부분에서 거의 수평으로 놓여진 슬릿노즐부(200)가 설치되어 있으며, 상기 슬릿노즐부(200)는 기판 상부에서 이를 가로지르며 상기 기판의 폭에 대응되는 길이를 가지는 슬릿 형태의 노즐(240)과 상기 노즐(240)이 장착되는 헤드(250)로 구성된다. 또한, 상기 슬릿노즐부(200)는 상기 노즐(240) 사이의 갭을 측정하기 위한 갭 센서(255)를 포함한다.The upper part of the table 220 is provided with a
이때, 상기 노즐(240)은 노즐몸체(241), 유입구 및 토출구(242)로 구성되며, 상기 노즐몸체(241) 내부에 감광물질을 저장하기 위한 수납 공간을 갖고, 유입구는 노즐몸체(241)에 형성되며 토출구(242)는 노즐몸체(241) 중 기판과 마주보는 면에 형성된다. 이때, 상기 토출구(242)는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상을 갖는다.At this time, the
또한, 상기 노즐(240)은 상기 X축 구동장치(262)를 통해 상기 기판 일측으로 부터 타측 방향으로 이동하면서 감광물질을 분사함으로써 기판 표면에 감광물질을 균일하게 도포하게 된다. 이와 달리 노즐(240)을 고정시킨 상태로 기판(100)을 슬라이딩시켜 동일한 감광물질 도포공정을 진행할 수도 있다.In addition, the
상기 헤드(250)와 노즐(240)은 다수개의 볼트(미도시)로 고정되며, 상기 볼트를 조절하여 상기 노즐(240) 양단의 수직방향으로의 높낮이 편차를 조정하게 된다.The
이와 같이 구성되는 본 실시예의 슬릿노즐(240)은 노즐몸체(241) 하단부에 설치된 다수개의 볼트(미도시)에 의해 일차적으로 내부의 기하학적 균일도 및 대칭성을 조절하게 되며, 슬릿노즐(240) 내부에 바(bar)형태의 보조물(미도시)을 삽입함으로써 상부 유입구로부터 유입되는 도포액을 노즐(240) 방향에 대해 하부 토출구(242)로 균일하게 흐르도록 할 수 있게되는데, 이를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.The
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐을 개략적으로 나타내는 단면도이며, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 슬릿노즐을 개략적으로 나타내는 정면도이다.4 is a cross-sectional view schematically showing a slit nozzle according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a front view schematically showing a slit nozzle according to an embodiment of the present invention.
도면에 도시된 바와 같이, 노즐(240)은 크게 제 1 노즐몸체(241a), 제 2 노즐몸체(241b)와 유입구(246) 및 토출구(242)로 이루어져 있다.As shown in the figure, the
이와 같이 노즐(240)은 두 부분의 노즐몸체(241)가 결합된 구조를 가지며, 상기 제 1 노즐몸체(241a)와 제 2 노즐몸체(241b) 사이에는 공급되는 감광물질을 잠시 저장할 수 있는 수납공간(244)이 형성된다. 상기 수납공간(244)은 펌핑수단에 의해 가압되는 감광물질이 직접 토출구(242)를 통해 분사되지 않고 슬릿노즐(240) 전체로 일정하게 분사되게 하는 역할을 한다. 상기 수납공간(244)은 제 2 노즐몸체(241b)의 내면에서 가운데는 공간이 크고 가장자리에서는 공간이 상대적으로 작은 아치형으로 형성될 수 있다.As such, the
상기 유입구(246)는 상기 제 2 노즐몸체(241b)의 상부에 형성되어 상기 수납공간(244)에 감광물질을 공급하게 되며, 상기 토출구(242)는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상으로 기판과 마주보는 면에 형성되어 상기 기판 표면에 면 형태의 감광물질을 도포하게 된다.The
이때, 도면에는 상기 유입구(246)가 제 2 노즐몸체(241b)의 상부에 형성되어 있는 경우를 예를 들어 나타내고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 본 실시예의 유입구(246)는 상기 제 1 노즐몸체(241a)와 제 2 노즐몸체(241a) 사이에 형성될 수도 있다.In this case, the
그리고, 상기 제 1 노즐몸체(241a)와 제 2 노즐몸체(241b)사이의 갭은 스테인리스 스틸재질의 매우 얇은 쐐기(shim)(243)에 의해 결정되고 유지되게 된다.The gap between the
전술한 바와 같이 본 실시예의 슬릿노즐(240)은 기하학적 균일도 확보를 위해 그 구조를 좌우 두 개의 몸체(241a, 241b)부분으로 구분하고, 상기 노즐몸체(241)의 하단부에 설치된 볼트(248)의 조임과 풀림에 의해 상기 좌우 노즐몸체(241a, 241b) 사이의 간격을 조절하게 된다.As described above, the
또한, 슬릿노즐(240) 내부에는 유체흐름을 조절하기 위해 바(bar)(400)와 같은 보조물을 삽입하여 상부(PI)로부터 주입되는 포토레지스트와 같은 도포액을 노즐 (240) 방향에 대해 균일하게 하부(PO)로 흐르도록 한다.In addition, an injection liquid such as a photoresist injected from the upper portion P I may be inserted into the
이와 같이 슬릿노즐(240) 내부의 형상 변경을 통해 도포 균일도를 확보함으로써 수율을 향상시키고 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.In this way, by securing the uniformity of the coating through the shape change inside the
도 6은 도 5에 도시된 슬릿노즐에 있어서, 슬릿노즐 내부에 삽입된 바의 구조와 유체흐름을 개략적으로 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically showing the structure and fluid flow of the bar inserted in the slit nozzle in the slit nozzle shown in FIG.
도면에 도시된 바와 같이, 그 단면이 타원형의 바(400)는 하부의 일부가 오픈(open)되어 있으며, 포토레지스트와 같은 도포액이 그 단면의 전후로 균일하게 흐르도록 전후 대칭의 구조를 갖는다. 이때, 상기 바(400)는 슬릿노즐(240)의 수납공간(244) 하단부에 위치할 수 있다.As shown in the figure, the
참고로, 도시된 화살표는 유체의 흐름을 개략적으로 나타내고 있다.For reference, the arrow shown schematically shows the flow of the fluid.
이와 같이 본 실시예의 바(400)는 전후 대칭이 되는 타원형 구조를 갖는 경우를 예를 들어 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니면 본 실시예의 바(400)는 상기 슬릿노즐(240)의 내부 형상에 따라 비대칭적인 구조를 가질 수 있으며, 타원형 이외의 다양한 형태, 예를 들면 원형의 구조를 가질 수도 있다.As described above, the
또한, 본 실시예의 바(400)는 그 하부의 일부가 오픈된 구조를 가진 경우를 예를 들어 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the
상기 바(400)는 그 길이 방향에 대해 수평이 유지될 수도 있고 일정한 각도를 가질 수도 있으며, 이하 도면을 참조하여 상기 바(400)가 그 길이 방향에 대해 일정한 각도를 가진 경우를 상세히 설명한다.The
도 7a 내지 도 7d는 본 발명에 따른 다양한 형태를 가진 바를 개략적으로 나타내는 예시도로써, 그 길이 방향에 대해 일정한 각도를 가진 다양한 형태의 바(400a~400d)가 도시되어 있다.7A to 7D are diagrams schematically illustrating bars having various shapes according to the present invention, and various types of
도 7a 및 도 7d에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 바(400a, 400d)는 중앙부가 높게 구성이 되기도 하고 그 높이의 정도도 매우 다양하며, 또한 가장 높은 곳이 한 군데 이상인 경우도 있다.As shown in FIGS. 7A and 7D, the
또한, 도 7b 및 도7c에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 바(400b, 400c)는 중앙부가 낮게 구성이 되기도 하고 그 높이의 정도도 매우 다양하며, 또한 가장 낮은 곳이 한 군데 이상인 경우도 있다.In addition, as shown in Figures 7b and 7c, the bar (400b, 400c) according to the present invention may be configured with a low central portion, the degree of height is also very varied, and also the case where the lowest is one or more places have.
즉, 본 발명에 따른 바(400a~400d)는 양쪽 끝단이 중앙에 비해 높을 수도 낮을 수도 있으며, 이렇게 상기 바(400a~400d)가 그 길이 방향에 대해 일정한 각도를 가진 경우에는 높은 지점이 한 군데 이상으로 형성될 수도 있다.That is, the
이와 같이 다양한 형태를 가진 바(400a~400d)는 슬릿노즐(240)의 내부 형상의 변경에 따라 적절하게 삽입되게 되며, 상기 슬릿노즐(240)의 내부 형상이 변경되는 하나의 예로 벤트(vent)의 구조와 형성위치를 들 수 있다.As described above, the
즉, 벤트가 노즐몸체의 중앙에 형성된 경우, 상기 벤트가 노즐몸체의 중앙과 그 좌우에 형성된 경우 및 상기 벤트가 노즐몸체의 한쪽에 치우쳐 형성된 경우에 따라 슬릿노즐(240) 내부의 형상이 변경되게 되며, 이에 따라 상기 슬릿노즐(240) 내부에 삽입되는 바(400a~400d)는 그 형태가 다양하게 변경되어 삽입되게 된다.That is, when the vent is formed in the center of the nozzle body, the shape of the inside of the
여기서, 상기 벤트는 슬릿노즐(240)에 감광물질을 처음 채우는 경우와 같이 상기 슬릿노즐(240) 내부, 특히 수납공간(244) 내부에 에어가 발생할 때 상기 에어를 배출하기 위해 형성한다.Here, the vent is formed to discharge the air when air is generated in the
이하, 본 발명의 도포액 도포장치를 적용한 예를 액정표시장치의 제조방법을 통해 상세히 설명한다.Hereinafter, an example in which the coating liquid coating device of the present invention is applied will be described in detail through a manufacturing method of a liquid crystal display device.
액정표시장치의 제조방법은 크게 어레이 기판을 형성하는 어레이공정과 컬러필터 기판을 형성하는 컬러필터공정 및 상기 어레이 기판과 컬러필터 기판을 합착하여 단위 액정표시패널을 형성하는 셀공정으로 이루어지며, 이를 보다 상세히 살펴보면 다음과 같다.The manufacturing method of the liquid crystal display device is largely composed of an array process for forming an array substrate, a color filter process for forming a color filter substrate, and a cell process for forming a unit liquid crystal display panel by combining the array substrate and the color filter substrate. Looking in more detail as follows.
우선, 유리와 같은 투명한 절연기판 위에 종횡으로 배열되어 복수개의 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트라인과 데이터라인을 형성하고, 상기 각 화소영역에 상기 게이트라인과 데이터라인에 접속되는 스위칭소자인 박막 트랜지스터를 형성한다. 또한, 상기 어레이공정을 통해 박막 트랜지스터에 접속되며 상기 박막 트랜지스터를 통해 신호가 인가됨에 따라 액정층을 구동하는 화소전극을 형성한다. 한편, 횡전계 모드의 경우에는 상기 어레이공정을 통해 액정층에 수평전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극을 함께 형성하게 된다.First, a thin film transistor which is a switching element which is arranged vertically and horizontally on a transparent insulating substrate such as glass to define a plurality of pixel regions and is connected to the gate line and the data line in each pixel region. To form. In addition, the pixel electrode is connected to the thin film transistor through the array process and drives the liquid crystal layer as a signal is applied through the thin film transistor. In the transverse electric field mode, the pixel electrode and the common electrode for forming a horizontal electric field are formed together in the liquid crystal layer through the array process.
또한, 컬러필터 기판에는 컬러필터공정에 의해 적, 녹, 청색의 컬러를 구현하는 서브컬러필터로 이루어진 컬러필터와 상기 서브컬러필터 사이를 구분하고 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스를 형성한다.In addition, a color matrix is formed on the color filter substrate to form a black matrix that distinguishes between the color filter composed of a sub color filter that implements red, green, and blue colors and the sub color filter and blocks light transmitted through the liquid crystal layer. do.
상기 블랙매트릭스는 수지 재질의 유기막이 적용될 수 있는데, 예를 들면 카본 블랙(carbon black)이나 흑색 안료 중 어느 하나를 포함한 아크릴(acryl), 에폭 시(epoxy) 또는 폴리이미드(polyimide) 수지 등의 착색된 유기계 수지 등을 적용할 수 있다.The black matrix may be an organic film made of a resin material. For example, coloring of an acrylic, epoxy or polyimide resin including any one of carbon black and black pigment may be performed. Organic resins and the like can be used.
다음으로, 상기 기판 전면에 투명한 절연물질로 이루어진 오버코트층을 형성한다.Next, an overcoat layer made of a transparent insulating material is formed on the entire surface of the substrate.
상기 오버코트층은 컬러필터가 형성된 기판을 평탄화하고 안료 이온의 용출을 막기 위해 절연특성을 가지는 투명한 수지로 형성할 수 있으며, 특히 아크릴계 수지 또는 에폭시계 수지로 형성할 수 있다.The overcoat layer may be formed of a transparent resin having insulating properties to planarize the substrate on which the color filter is formed and to prevent elution of the pigment ions, and may be formed of an acrylic resin or an epoxy resin.
이와 같이 상기 어레이공정 및 컬러필터공정에는 박막 트랜지스터 및 컬러필터 등의 패턴 형성에 다수회의 포토리소그래피공정을 필요로 한다.As described above, the array process and the color filter process require a plurality of photolithography processes to form patterns of thin film transistors and color filters.
상기 포토리소그래피공정은 마스크에 그려진 패턴을 박막이 증착된 기판 위에 전사시켜 원하는 패턴을 형성하는 일련의 공정으로 감광액 도포, 노광, 현상공정 등 다수의 공정으로 이루어져 있다.The photolithography process is a series of processes for transferring a pattern drawn on a mask onto a substrate on which a thin film is deposited to form a desired pattern. The photolithography process includes a plurality of processes such as photoresist coating, exposure, and development.
이때, 예를 들어 상기 감광액의 도포에 본 발명의 도포액 도포장치를 이용하게 되면 기판 전면에 균일한 감광액의 도포로 원하는 패턴을 얻을 수 있게 된다. 그 결과 수율 및 생산성이 향상되는 효과를 얻을 수 있다.At this time, for example, when the coating liquid coating apparatus of the present invention is used to apply the photosensitive liquid, a desired pattern can be obtained by applying a uniform photosensitive liquid to the entire surface of the substrate. As a result, the yield and productivity can be improved.
다음으로, 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판 위에 유기막으로 스페이서를 형성한다.Next, a spacer is formed of an organic layer on the color filter substrate or the array substrate.
상기 스페이서로는 액정표시패널이 점차 대형화되어 감에 따라 어레이 기판이나 컬러필터 기판에 고정되는 형태의 컬럼 스페이서(또는, 패턴화된 스페이서)를 사용하고 있다.As the spacers are gradually enlarged in size, column spacers (or patterned spacers) fixed to an array substrate or a color filter substrate are used.
이어서, 상기 어레이 기판과 컬러필터 기판에 각각 배향막을 도포한 후, 상기 두 기판 사이에 형성되는 액정층의 액정분자에 배향규제력 또는 표면고정력(즉, 프리틸트각과 배향방향)을 제공하기 위해 상기 배향막을 배향 처리한다. 이때, 상기 배향 처리방법으로 러빙 또는 광배향의 방법을 적용할 수 있다.Subsequently, an alignment layer is applied to the array substrate and the color filter substrate, respectively, and then the alignment layer is provided to provide alignment control force or surface fixation force (ie, pretilt angle and alignment direction) to the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer formed between the two substrates. Orientation treatment. In this case, a rubbing or photoalignment method may be applied as the alignment treatment method.
다음으로, 상기 컬러필터 기판에 실런트로 소정의 실 패턴을 형성하는 동시에 상기 어레이 기판에 액정층을 형성한다.Next, a predetermined seal pattern is formed on the color filter substrate with a sealant, and a liquid crystal layer is formed on the array substrate.
이후, 상기 어레이 기판과 컬러필터 기판에 압력을 가하여 합착하여 단위 액정표시패널을 이루게 된다.Thereafter, pressure is applied to the array substrate and the color filter substrate to form a unit liquid crystal display panel.
상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.Many details are set forth in the foregoing description but should be construed as illustrative of preferred embodiments rather than to limit the scope of the invention. Therefore, the invention should not be defined by the described embodiments, but should be defined by the claims and their equivalents.
상술한 바와 같이 본 발명에 의한 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법은 도포 균일도를 확보함으로써 수율과 생산성을 향상시키는 효과를 제공한다.As described above, the coating liquid coating apparatus and the method of manufacturing the liquid crystal display device using the same according to the present invention provide the effect of improving the yield and productivity by securing the coating uniformity.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050053190A KR101130920B1 (en) | 2005-06-20 | 2005-06-20 | Coating apparatus and method of fabricating liquid crystal display device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050053190A KR101130920B1 (en) | 2005-06-20 | 2005-06-20 | Coating apparatus and method of fabricating liquid crystal display device using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20060133376A KR20060133376A (en) | 2006-12-26 |
| KR101130920B1 true KR101130920B1 (en) | 2012-03-28 |
Family
ID=37812283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020050053190A KR101130920B1 (en) | 2005-06-20 | 2005-06-20 | Coating apparatus and method of fabricating liquid crystal display device using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101130920B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104460125A (en) * | 2014-12-08 | 2015-03-25 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | Liquid crystal coating nozzle and liquid crystal coating device |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107835555A (en) * | 2017-11-21 | 2018-03-23 | 深圳市诚峰智造有限公司 | A kind of plasma surface processing device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010051270A (en) * | 1999-10-26 | 2001-06-25 | 히가시 데쓰로 | Solution processing apparatus |
| KR20050015369A (en) * | 2003-08-05 | 2005-02-21 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The device for coating photoresist and the method for driving the same |
-
2005
- 2005-06-20 KR KR1020050053190A patent/KR101130920B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010051270A (en) * | 1999-10-26 | 2001-06-25 | 히가시 데쓰로 | Solution processing apparatus |
| KR20050015369A (en) * | 2003-08-05 | 2005-02-21 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The device for coating photoresist and the method for driving the same |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104460125A (en) * | 2014-12-08 | 2015-03-25 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | Liquid crystal coating nozzle and liquid crystal coating device |
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|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
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|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160226 Year of fee payment: 5 |
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Payment date: 20180213 Year of fee payment: 7 |