KR101124118B1 - Etching solution control apparatus comprising rgb sensor and cnd sensor - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러는 에칭 공정 라인에 설치되는 에칭액 콘트롤러로서, 에칭 공정 라인에 설치되어 에칭액의 색상 정보를 감지하기 위한 알지비 센서부와, 에칭액의 전기전도도를 감지하기 위한 전기전도도센서부와, 상기 알지비센서부 및 전기전도도센서부로부터 신호를 입력받는 제어부를 포함한다.
본 발명에 의해, 에칭액의 색상 값과 전기전도도 값을 측정하여 에칭액 내로 물이 유입되는 상황을 감시할 수 있다.
또한, 구리 농도가 작은 에칭액에 대해서도 정확한 색상 값을 감지할 수 있으며, 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러는 기존의 에칭 공정 라인 설계 변경 없이 용이하게 설치할 수 있다.An etchant controller according to the present invention is an etchant controller installed in an etching process line, which is installed in an etching process line, an algibi sensor unit for sensing color information of an etchant, an electrical conductivity sensor unit for detecting an electrical conductivity of an etchant, And, the control unit for receiving a signal from the RG ratio sensor unit and the conductivity sensor unit.
According to the present invention, it is possible to monitor the situation in which water flows into the etchant by measuring the color value and the electric conductivity value of the etchant.
In addition, the accurate color value can be detected even for the etching liquid having a low copper concentration, and the etching solution controller according to the present invention can be easily installed without changing the existing etching process line design.
Description
본 발명은 에칭액 콘트롤 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 에칭액의 색상을 감지할 수 있는 알지비 센서(RGB Sensor)와 전기전도도를 감지할 수 있는 전기전도도센서(CND Sensor: Conductivity Sensor)를 포함하여 구성된 에칭액 콘트롤 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an etching liquid control apparatus, and more particularly, to include an RGB sensor capable of detecting the color of the etching liquid and an electrical conductivity sensor (CND sensor: Conductivity Sensor) capable of detecting electrical conductivity. It is related with the configured etching liquid control apparatus.
종래 에칭 가공법은 PCB 회로 기판의 형성 또는 반도체 리드 프레임 가공 등에 이용되고 있다.Conventionally, the etching process is used for forming a PCB circuit board or processing a semiconductor lead frame.
또는, 액정 디스플레이 및 유기 EL 디스플레이와 같은 평면 표시장치를 구성하는 어레이 기판, 반도체 소자를 구성하는 실리콘 웨이퍼 기판 상에 에칭액을 이용하여 금속 박막 패턴이 형성된다.Alternatively, a metal thin film pattern is formed using an etchant on an array substrate constituting a flat panel display device such as a liquid crystal display and an organic EL display, and a silicon wafer substrate constituting a semiconductor element.
일반적으로 에칭액은 물과 함께 에칭되는 금속 성질에 따른 몇몇 휘발성 성분을 포함하여 이루어진다.In general, the etchant comprises some volatile components depending on the metal properties that are etched with the water.
마이크로 또는 소프트 에칭액의 성분은 에칭 대상 금속의 종류에 따라 다르며, 통상적으로는 질산, 황산, 아세트산, 인산, 과산화수소 등과 물이 혼합되어 구성된다.The components of the micro or soft etching solution vary depending on the type of the metal to be etched, and are usually formed by mixing water with nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, phosphoric acid, hydrogen peroxide and the like.
통상 에칭 가공 공정은 기판에 대해 에칭액을 샤워형으로 분사하거나 기판을 에칭액 중에 침지하여 이루어지며, 이러한 공정에서 에칭액은 많은 양의 기판을 처리하기 위해 순환 반복 사용된다.In general, an etching process is performed by spraying an etchant into a shower or immersing the substrate in an etchant, in which the etchant is repeatedly used to process a large amount of the substrate.
그런데, 이와 같이 반복 사용되는 에칭액에는 라인 공정에서 이루어지는 물 청소 또는 PCB 기판의 미건조 등의 여러가지 원인으로 인해 수분이 유입되는 경우가 발생된다.By the way, in the etching solution repeatedly used in this way, water may be introduced due to various reasons such as water cleaning or undrying of the PCB substrate in the line process.
이러한 에칭액 내로의 수분 유입이 장시간 이루어질 경우 에칭액에 의한 충분한 또는 정확한 에칭 효과를 얻을 수 없는 문제가 발생된다.If moisture is introduced into the etchant for a long time, a problem arises in that a sufficient or accurate etching effect by the etchant cannot be obtained.
본 발명의 목적은, 에칭액의 색상 값과 전기전도도 값을 측정하여 에칭액 내로 물이 유입되는 상황을 감시할 수 있는 에칭액 콘트롤 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an etchant control apparatus capable of monitoring the situation of water flowing into an etchant by measuring the color value and the electric conductivity value of the etchant.
본 발명의 또 다른 목적은, 구리 농도가 작은 에칭액에 대해서도 정확한 색상 값을 감지할 수 있도록 구성된 에칭액 콘트롤 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an etchant control device configured to detect an accurate color value even for an etchant having a low copper concentration.
본 발명의 또 다른 목적은, 기존의 에칭 공정 라인 내에 설치가 용이한 에칭액 콘트롤 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide an etching liquid control device that can be easily installed in an existing etching process line.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤 장치는 에칭 공정 라인에 설치되는 에칭액 콘트롤 장치로서, 에칭 공정 라인에 설치되어 에칭액의 색상 정보를 감지하기 위한 알지비 센서부와, 에칭액의 전기전도도를 감지하기 위한 전기전도도센서부와, 상기 알지비센서부 및 전기전도도센서부로부터 신호를 입력받는 제어부를 포함한다.Etching liquid control apparatus according to the present invention for achieving the above object is an etching liquid control apparatus installed in the etching process line, is installed in the etching process line to know the Algibi sensor unit for detecting the color information of the etching liquid, and the electrical conductivity of the etching liquid An electrical conductivity sensor unit for sensing, and a control unit for receiving a signal from the RG ratio sensor unit and the electrical conductivity sensor unit.
여기서, 상기 알지비 센서부는 하우징과 상기 하우징 내에 수용되는 유리관과 에칭액의 색상정보를 감지하는 컬러센서와 발광부를 포함하며, 상기 에칭액은 상기 유리관 내부로 유동되도록 구성될 수 있다.Here, the Algibi sensor unit may include a housing, a glass tube accommodated in the housing, a color sensor for detecting color information of the etching solution, and a light emitting unit, and the etching solution may be configured to flow into the glass tube.
바람직하게는, 상기 컬러센서와 상기 발광부는 상기 유리관에 대해 상호 대면하도록 배치된다.Preferably, the color sensor and the light emitting portion are disposed to face each other with respect to the glass tube.
바람직하게는, 상기 유리관의 내부로 유리기둥이 돌출되도록 구성된다.Preferably, the glass pillar is configured to protrude into the glass tube.
여기서, 상기 유리관 내부로 돌출되는 유리기둥의 선단과 대면하는 상기 유리관의 내면 사이의 간격은 4 mm 이상 15 mm 이하로 구성될 수 있다.Here, the interval between the inner surface of the glass tube facing the front end of the glass pillar protruding into the glass tube may be configured to 4 mm or more and 15 mm or less.
한편, 상기 제어부는 에칭액의 전기전도도가 하락하고 알지비 값이 증가하는(흰색에 가까워지는) 것으로 상기 알지비 센서부 및 전기전도도센서부로부터 감지할 경우 경고 신호를 발신하도록 구성될 수 있다.On the other hand, the control unit may be configured to send a warning signal when the electrical conductivity of the etchant is detected from the algibi sensor unit and the electrical conductivity sensor unit to increase (close to white) the Algi ratio value.
또한, 상기 제어부는 에칭액의 전기전도도가 하락하고 알지비 값이 증가하는(흰색에 가까워지는) 것으로 상기 알지비 센서부 및 전기전도도센서부로부터 감지할 경우 에칭액의 보충을 중단하도록 제어할 수 있다.In addition, the control unit may control to stop the replenishment of the etchant when the electric conductivity of the etchant is detected and the algibi value is increased (close to white) from the algibi sensor unit and the electric conductivity sensor unit.
또한, 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러는 온도 감지부를 추가적으로 포함할 수 있다.In addition, the etchant controller according to the present invention may further include a temperature sensor.
바람직하게는, 상기 발광부는 상기 제어부에 의해 밝기가 조절되도록 구성된다. Preferably, the light emitting unit is configured to adjust the brightness by the control unit.
본 발명에 의해, 에칭액의 색상 값과 전기전도도 값을 측정하여 에칭액 내로 물이 유입되는 상황을 감시할 수 있다.According to the present invention, it is possible to monitor the situation in which water flows into the etchant by measuring the color value and the electric conductivity value of the etchant.
또한, 구리 농도가 작은 에칭액에 대해서도 정확한 색상 값을 감지할 수 있다.In addition, accurate color values can be detected even for etching liquid having a low copper concentration.
또한, 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러는 기존의 에칭 공정 라인 설계 변경 없이 용이하게 설치할 수 있다.In addition, the etchant controller according to the present invention can be easily installed without changing the existing etching process line design.
첨부의 하기 도면들은, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 이해시키기 위한 것이므로, 본 발명은 하기 도면에 도시된 사항에 한정 해석되어서는 아니 된다.
도 1 은 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러를 포함하는 에칭 공정 라인의 전체 개략도이다.
도 2 는 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤러에 포함되는 알지비 센서부의 사시도이다.
도 3 은 상기 알지비 센서부에 포함되는 유리관의 측면도이다.
도 4 는 에칭액 내의 구리(Cu) 이온 농도 증가에 따르는 전기전도도(CND: Conductivity)와 R(Red), G(Green), B(Blue) 값의 변화를 나타내는 표이다.
도 5 는 에칭액 내의 구리 이온 농도 증가에 따르는 전기전도도와 RGB 값의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 6 은 일정 구리 이온 농도 상태에서 에칭액에 물이 투입될 경우의 전기전도도와 RGB 값의 변화를 나타내는 표이다.
도 7 은 일정 구리 이온 농도 상태에서 에칭액에 물이 투입될 경우의 전기전도도와 RGB 값의 변화를 나타내는 그래프이다.Since the accompanying drawings are for understanding the technical spirit of the present invention together with the detailed description of the following invention, the present invention should not be construed as limited to the matters shown in the following drawings.
1 is an overall schematic diagram of an etching process line including an etchant controller according to the present invention.
2 is a perspective view of an algibi sensor unit included in the etchant controller according to the present invention.
3 is a side view of the glass tube included in the Algibi sensor unit.
4 is a table showing changes in conductivity (CND) and R (Red), G (Green), and B (Blue) values with increasing copper (Cu) ion concentration in the etchant.
5 is a graph showing changes in electrical conductivity and RGB value with increasing copper ion concentration in the etchant.
FIG. 6 is a table showing changes in electrical conductivity and RGB values when water is added to an etchant in a constant copper ion concentration.
7 is a graph showing changes in electrical conductivity and RGB values when water is added to an etchant in a constant copper ion concentration.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.Prior to this, terms used in the present specification and claims should not be construed in a dictionary meaning, and the inventors may properly define the concept of terms in order to explain their invention in the best way. It should be construed as meaning and concept consistent with the technical spirit of the present invention.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments shown in the present specification and the drawings are only exemplary embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are presented. Therefore, various equivalents It should be understood that water and variations may exist.
본 발명에 따른 에칭액 콘트롤 장치는 에칭 공정 라인에 설치되는 에칭액 콘트롤 장치로서, 에칭 공정 라인에 설치되어 에칭액의 색상 정보를 감지하기 위한 알지비 센서부(10)와, 에칭액의 전기전도도를 감지하기 위한 전기전도도센서부(20)와, 상기 알지비센서부(10) 및 전기전도도센서부(20)로부터 신호를 입력받는 제어부(30)를 포함한다.The etchant control device according to the present invention is an etchant control device installed in an etching process line, which is installed in an etching process line to detect the color information of the
에칭액은 에칭액조(80)내에 수용된 상태에서 에칭 공정을 수행하게 되며, 순환펌프(60)에 의해 순환된다.The etching liquid is subjected to the etching process in the state accommodated in the etching
상기 순환펌프(60)에 의해 에칭액이 순환되는 라인 내 일측에는 상기 알지비 센서부(10)와 전기전도도센서부(20)가 배치된다.One side of the line in which the etching solution is circulated by the
상기 알지비(RGB) 센서부(10)는 에칭액 조(80)로부터 순환되는 에칭액 내의 동(Cu)이온 농도 변화에 따른 에칭액의 색깔 변화를 감지한다.The
상기 알지비 센서부(10)의 일측에는 상기 전기전도도센서부(20)와 온도감지부(40)를 내부에 수용하는 하우징(50)이 배치된다.The housing 50 for accommodating the electrical conductivity sensor 20 and the temperature sensing unit 40 is disposed at one side of the Algivy
상기 제어부(30)는 상기 알지비 센서부(10)와 전기전도도센서부(20)로부터 데이터를 입력받으며, 이러한 데이터에 기초하여 전체 에칭액 콘트롤 장치를 제어하게 된다.The
에칭액에 의한 PCB 기판 등의 에칭 작업이 반복됨에 따라, 에칭액 내에는 구리 이온의 농도가 점차적으로 증가하게 되는데, 이러한 구리이온 농도의 증가는 에칭액의 색깔을 더욱 짙은 푸른색이 되도록 한다.As the etching operation of the PCB substrate and the like by the etching solution is repeated, the concentration of copper ions gradually increases in the etching solution, and the increase in the copper ion concentration causes the color of the etching solution to become a deeper blue color.
따라서, 구리 이온 농도의 증가는, 푸른색이 짙어지는 정도를 상기 알지비 센서부(10)를 통해 감지함으로써 식별할 수 있다.Therefore, the increase in the copper ion concentration can be identified by sensing the degree to which the blue color becomes deep through the Algivy
한편, 에칭액 내의 구리 이온 농도가 변화됨으로써, 에칭액의 전기전도도 역시 변화되는데, 실험을 통해 측정한 에칭액 내의 구리 이온 농도가 변화될 경우의 RGB 값 및 전기전도도(CND: Conductivity) 값의 변화는 도 4 의 표와 같다.On the other hand, as the copper ion concentration in the etchant is changed, the electrical conductivity of the etchant is also changed. When the copper ion concentration in the etchant measured through the experiment is changed, the change in the RGB value and the conductivity value (CND) is shown in FIG. 4. As shown in the table.
도 4 에서의 RGB 값은 하얀색에 가까울수록 높은 값으로 표시하였는데, 에칭액 내의 구리 이온의 농도가 짙어질수록 RGB 값 및 전기전도도 값은 저하되는 것으로 실험에 의해 밝혀졌다.The RGB value in FIG. 4 was expressed as a higher value as it was closer to white color. As the concentration of copper ions in the etching solution became thicker, it was found by experiment that the RGB value and the electric conductivity value decreased.
도 5 는 에칭액 내의 구리 이온 농도 증가에 따르는 전기전도도와 RGB 값의 변화를 나타내는 그래프로서, 구리 이온 농도가 증가될 수록 RGB 값 및 전기전도도 값이 저하되는 상기 실험치를 나타내었다. 5 is a graph showing a change in electrical conductivity and RGB value with increasing copper ion concentration in the etching solution, and shows the experimental value in which the RGB value and the electrical conductivity value decrease as the copper ion concentration increases.
도 4, 5 에서 알 수 있는 바와 같이, 에칭액 내의 구리 이온 농도가 증가될 때의 CND 값의 변화 기울기보다는 RGB 값의 변화 기울기가 더욱 크다.As can be seen from FIGS. 4 and 5, the gradient of change in RGB value is greater than the gradient of change in CND value when the copper ion concentration in the etching solution is increased.
따라서, 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤 장치에서는 상기 RGB 센서부를 주된 감지부로 구성한다.Therefore, in the etching liquid control apparatus which concerns on this invention, the said RGB sensor part is comprised as a main sensing part.
도 6 은 일정 구리 이온 농도 상태에서 에칭액에 물이 투입될 경우의 전기전도도와 RGB 값의 변화를 나타내는 표이며, 도 7 은 상기 변화를 나타내는 그래프이다.FIG. 6 is a table illustrating changes in electrical conductivity and RGB values when water is added to an etchant in a constant copper ion concentration state, and FIG. 7 is a graph illustrating the change.
상기 도 6 에 도시된 표에서 알 수 있는 바와 같이, 일정 구리 이온 농도 상태에서 물의 투입 량(부피비, Vol%)이 증가될수록 전기전도도는 감소되고, RGB 값은 증가되는 것이 실험에 밝혀졌다.As can be seen from the table shown in FIG. 6, it was found in the experiment that the electrical conductivity decreases and the RGB value increases as the amount of water input (volume ratio, Vol%) increases at a constant copper ion concentration.
상기 표에서 온도는 CND 센서를 통해 에칭액의 전기전도도를 보정하기 위한 요소로서 측정되었다.In the table, the temperature was measured as a factor for correcting the electrical conductivity of the etchant through the CND sensor.
도 4 내지 7 의 실험 결과로부터 본원 발명자는 라인 공정의 물 청소 또는 PCB 기판의 미건조 등 기타 다양한 원인에 의해 에칭액 조(80) 또는 공정 라인 내로 물이 투입될 경우에는, 전기전도도가 감소되고 RGB 값이 증가되는 현상을 감지하는 원리를 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤 장치에 이용하였다.From the experimental results of FIGS. 4 to 7, the inventors of the present invention found that when water is introduced into the
상기와 같이 공정 라인 내에 물이 투입될 경우에는 에칭액 보충 펌프(70)에 의해 에칭액 보충조(90)로부터 에칭액을 보충하는 작업을 중단시키며, 경고 신호를 발신하도록 구성된다.When water is introduced into the process line as described above, the operation of replenishing the etchant from the
상기 에칭액 조(80) 내의 에칭액은 일정한 부피를 유지하도록 구성되며, 일정 부피를 초과할 경우에는 내부의 에칭액을 흘려 내보내게 되는데, 만약 상기 에칭액 조(80) 내에 비의도적으로 물이 투입된 상태라면, 상기 에칭액 보충조(90)로부터의 에칭액 보충이 무의미한 낭비가 되기 때문이다.The etchant in the
따라서, 에칭 공정 라인 내로 물이 투입될 경우에는 에칭액 보충을 중단하며, 물이 투입된 원인을 찾아낼 수 있도록 경고 신호를 발신한다. Therefore, when water is introduced into the etching process line, the etching solution is stopped and a warning signal is sent to find out the cause of the water input.
한편, 상기 알지비 센서부(10)는 하우징(11, 18, 19)과 상기 하우징(11, 18, 19) 내에 수용되는 유리관(12)과 에칭액의 색상정보를 감지하는 컬러센서(14)와 발광부(16)를 포함하며, 에칭액이 상기 유리관(12) 내부로 유동되도록 구성된다.On the other hand, the Algibi
여기서, 도 3 에 도시된 바와 같이 상기 컬러센서(14) 내의 수광부(15)와 상기 발광부(16)는 상기 유리관(12)에 대해 상호 대면되는 위치에 배치된다.3, the
그런데, 상기 유리관(12) 내로 유동되는 에칭액에 대해 상기 발광부(16)로부터의 광을 상기 수광부(15)가 수광하는 경우, 상기 유리관(12)의 표면 외부에 상기 발광부(16) 및 수광부(15)가 배치되므로, 유리관(12) 내부로 유동되는 에칭액에 의해, 상기 발광부(16)로부터의 광을 수광하여 에칭액의 색상값의 변화를 정밀하게 감지하는데 한계가 있었다.However, when the
따라서, LED 전구 등으로 구성되는 상기 발광부(16)로부터의 광을 보다 온전히 상기 수광부(15)에 전달할 수 있도록 구성하기 위해, 상기 유리관(12)의 내부로 유리기둥(17)이 돌출되도록 구성하였다.Therefore, in order to transmit the light from the
그리하여, 상기 발광부(16)로부터의 광이 상기 유리기둥(17)을 통해 전달되고 상기 유리기둥(17)의 선단으로부터 간격 d 만큼만 에칭액을 통과한 이후 상기 수광부(15)에 수광되도록 하였다.Thus, the light from the
여기서, 상기 유리관(12) 내부로 돌출되는 상기 유리기둥(17)의 선단과 대면하는 상기 유리관(12)의 내면 사이의 간격(d)은 4 mm 이상 15 mm 이하로 구성된다.Here, the distance d between the inner surface of the
광의 조도는 거리의 제곱에 반비례하는데 상기 간격 d 이 15 mm 를 초과할 정도로 넓을 경우에는 에칭액의 색상 변화를 민감하게 감지할 수 없는 문제점이 있다.The illuminance of light is inversely proportional to the square of the distance, but when the distance d is wide enough to exceed 15 mm, there is a problem in that the color change of the etchant cannot be sensitively detected.
또한, 상기 간격(d)이 4 mm 보다 작을 경우에는 에칭액 내에 포함되는 구리 이온에 의한 색상의 변화를 상기 컬러센서(14)가 지나치게 민감하게 감지하여, RGB 값의 변동이 너무 커지는 문제점이 있었다. In addition, when the distance d is smaller than 4 mm, the
한편, 상기 하우징(50) 내에는 온도 감지부(40)를 배치하여, 에칭액의 온도 변화를 감지하도록 구성하고, 이러한 온도의 변화를 에칭액의 전기전도도 계산시 보정계수로 활용하도록 구성하였다.On the other hand, the temperature sensor 40 is disposed in the housing 50, and configured to sense the temperature change of the etching solution, and the temperature change is configured to utilize the correction factor when calculating the electrical conductivity of the etching solution.
상기와 같이 구성된 상태에서, 정상적인 에칭 공정동안의 RGB 값 및 전기전도도 범위를 상기 제어부 내에 저장하고, 이러한 정상적 범위를 벗어나는 RGB 값 또는 전기전도도 값이 감지될 경우에는 경고 신호를 발신하도록 구성된다.In the state configured as described above, it is configured to store the RGB value and the conductivity range during the normal etching process in the controller, and to send a warning signal when the RGB value or the conductivity value outside the normal range is detected.
또한, RGB 값은 상승되는데 전기전도도가 하락될 경우에는 공정 라인 내에 물이 투입된 것으로 판단하여 경고신호를 발신하도록 구성된다.In addition, when the RGB value is increased but the electrical conductivity drops, it is configured to send a warning signal by determining that water is introduced into the process line.
한편, 마이크로 에칭 또는 소프트 에칭 등의 에칭 공정의 종류에 따라 에칭액 내의 구리 이온 농도가 변화되는데, 이러한 다양한 공정 종류에 부합되도록 본 발명에 따른 에칭액 콘트롤 장치를 이용하기 위해, 상기 발광부(16)의 밝기는 상기 제어부(30)에 의해 조절되도록 구성된다.On the other hand, the copper ion concentration in the etching liquid is changed according to the type of etching process such as micro etching or soft etching, in order to use the etching liquid control device according to the present invention to meet such various process types, The brightness is configured to be adjusted by the
상기 제어부(30)에 의한 상기 발광부(16) 밝기의 제어를 위해서는 PWM(Pulse Width Modulation) 제어방식이 이용된다.A pulse width modulation (PWM) control method is used to control the brightness of the
이상, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명의 기술적 사상은 이러한 것에 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해, 본 발명의 기술적 사상과 하기 될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 실시가 가능할 것이다.As mentioned above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the technical idea of the present invention is not limited thereto, and it should be understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Various modifications and variations may be made without departing from the scope of the appended claims.
10: 알지비센서부 20: 전기전도도센서부
30: 제어부 40: 온도감지부
50: 하우징 60: 펌프
70: 보충액 펌프 80: 에칭액조10: Algibi sensor unit 20: electrical conductivity sensor unit
30: control unit 40: temperature detection unit
50: housing 60: pump
70: replenishment liquid pump 80: etching liquid tank
Claims (9)
에칭 공정 라인에 설치되어 에칭액의 색상 정보를 감지하기 위한 알지비 센서부와;
에칭액의 전기전도도를 감지하기 위한 전기전도도센서부와;
상기 알지비센서부 및 전기전도도센서부로부터 신호를 입력받는 제어부를 포함하며,
온도 감지부를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.Etching liquid control device installed in the etching process line,
An algibi sensor unit installed at an etching process line to sense color information of an etching solution;
An electrical conductivity sensor unit for detecting electrical conductivity of the etching solution;
It includes a control unit for receiving a signal from the algibi sensor unit and the conductivity sensor unit,
Etching liquid control device comprising a color sensor and a conductivity sensor, characterized in that further comprises a temperature sensor.
상기 알지비 센서부는 하우징과 상기 하우징 내에 수용되는 유리관과 에칭액의 색상정보를 감지하는 컬러센서와 발광부를 포함하며,
상기 에칭액은 상기 유리관 내부로 유동되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.The method of claim 1,
The Algibi sensor unit includes a housing and a color sensor and a light emitting unit for detecting the color information of the glass tube and the etching solution accommodated in the housing,
And the etching liquid is configured to flow into the glass tube.
상기 컬러센서와 상기 발광부는 상기 유리관에 대해 상호 대면하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 알지비 센서와 씨엔디 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.The method of claim 2,
And the color sensor and the light emitting unit are disposed to face each other with respect to the glass tube.
상기 유리관의 내부로 유리기둥이 돌출되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.The method of claim 2,
Etching liquid control apparatus comprising a color sensor and a conductivity sensor, characterized in that configured to project a glass column into the inside of the glass tube.
상기 유리관 내부로 돌출되는 유리기둥의 선단과 대면하는 상기 유리관의 내면 사이의 간격은 4 mm 이상 15 mm 이하로 구성되는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.The method of claim 4, wherein
Etching liquid control apparatus comprising a color sensor and a conductivity sensor, characterized in that the interval between the inner surface of the glass tube facing the front end of the glass pillar protruding into the glass tube is composed of 4 mm or more and 15 mm or less.
상기 제어부는 에칭액의 전기전도도가 하락하고 알지비 값이 증가하는(흰색에 가까워지는) 것으로 상기 알지비 센서부 및 전기전도도센서부로부터 감지할 경우 경고 신호를 발신하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치. The method of claim 1,
The control unit is configured to send a warning signal when the electrical conductivity of the etching solution is detected from the algibi sensor unit and the electrical conductivity sensor unit to increase (close to white) the Algi ratio value of the color sensor, characterized in that And an etchant including a conductivity sensor.
상기 제어부는 에칭액의 전기전도도가 하락하고 알지비 값이 증가하는(흰색에 가까워지는) 것으로 상기 알지비 센서부 및 전기전도도센서부로부터 감지할 경우 에칭액의 보충을 중단하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.The method according to claim 6,
The control unit controls to stop the replenishment of the etchant when the electric conductivity of the etchant decreases and the algibi value increases (close to white) when detected from the algibi sensor unit and the electric conductivity sensor unit. An etchant control device comprising a sensor and a conductivity sensor.
상기 발광부는 상기 제어부에 의해 밝기가 조절되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 컬러 센서와 전도도 센서를 포함하는 에칭액 콘트롤 장치.
The method of claim 2,
The light emitting unit is an etching liquid control device comprising a color sensor and a conductivity sensor, characterized in that the brightness is adjusted by the control unit.
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|---|---|---|---|
| KR1020100073478A KR101124118B1 (en) | 2010-07-29 | 2010-07-29 | Etching solution control apparatus comprising rgb sensor and cnd sensor |
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|---|---|---|---|---|
| KR101291554B1 (en) | 2012-03-23 | 2013-08-08 | (주)화백엔지니어링 | Device and method for regeneration of etchant and copper recovery using rgb color sensor |
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| JP2000346793A (en) * | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Shimadzu Corp | Detector cell and optical measuring apparatus |
| KR20080020140A (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-05 | 동우 화인켐 주식회사 | Etching solution control system and etching apparatus and etching solution control method thereof |
| KR20090111765A (en) * | 2008-04-22 | 2009-10-27 | 가부시키가이샤 히라마 리카 켄큐쇼 | Etching solution preparation apparatus and etching solution concentration measurement apparatus |
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2010
- 2010-07-29 KR KR1020100073478A patent/KR101124118B1/en active IP Right Grant
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