KR101123273B1 - 태양전지 패널 - Google Patents
태양전지 패널 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101123273B1 KR101123273B1 KR1020100076286A KR20100076286A KR101123273B1 KR 101123273 B1 KR101123273 B1 KR 101123273B1 KR 1020100076286 A KR1020100076286 A KR 1020100076286A KR 20100076286 A KR20100076286 A KR 20100076286A KR 101123273 B1 KR101123273 B1 KR 101123273B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- adhesive film
- conductive adhesive
- solar cell
- electrode
- substrate
- Prior art date
Links
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 65
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 38
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 7
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/022433—Particular geometry of the grid contacts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/05—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
- H01L31/0504—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells specially adapted for series or parallel connection of solar cells in a module
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/05—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
- H01L31/0504—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells specially adapted for series or parallel connection of solar cells in a module
- H01L31/0512—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells specially adapted for series or parallel connection of solar cells in a module made of a particular material or composition of materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
본 발명의 한 측면에 따른 태양전지 패널은 복수의 태양전지들, 인접한 태양전지들을 전기적으로 연결하는 인터커넥터 및 상기 인터커넥터와 기판 사이에 위치하는 제1 도전성 접착 필름을 포함한다. 각각의 태양전지는 기판, 상기 기판의 후면(back surface)에 위치하는 후면 전극을 포함한다. 제1 도전성 접착 필름은 제1 수지 및 상기 제1 수지 내에 분산된 복수의 제1 도전성 입자를 포함한다. 제1 도전성 접착 필름은 후면 전극의 후면에 위치하며, 후면 전극과 직접 접촉한다. 그리고 인터커넥터는 제1 도전성 접착 필름의 후면(back surface)에 위치하며, 제1 도전성 접착 필름의 제1 도전성 입자를 통해 후면 전극과 전기적으로 연결된다. 후면 전극은 알루미늄 분말을 포함한다.
Description
본 발명은 인접한 태양전지들을 인터커넥터에 의해 서로 전기적으로 접속한 태양전지 패널에 관한 것이다.
광전 변환 효과를 이용하여 광 에너지를 전기 에너지로 변환하는 태양광 발전은 무공해 에너지를 얻는 수단으로서 널리 이용되고 있다. 그리고 태양전지의 광전 변환 효율의 향상에 수반하여, 개인 주택에서도 복수의 태양전지 패널을 이용하는 태양광 발전 시스템이 설치되고 있다.
태양전지 패널은 복수의 태양전지들을 전기적으로 연결하는 인터커넥터, 태양전지들을 보호하는 전면 보호 부재와 후면 보호 부재 및 이들 보호 부재 사이에서 태양전지들을 밀봉하는 밀봉 부재를 포함한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 제조 원가 및 공정수를 절감할 수 있는 태양전지 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 한 측면에 따르면, 태양전지 패널은 복수의 태양전지들, 인접한 태양전지들을 전기적으로 연결하는 인터커넥터 및 상기 인터커넥터와 기판 사이에 위치하는 제1 도전성 접착 필름을 포함한다.
각각의 태양전지는 기판, 상기 기판의 후면(back surface)에 위치하는 후면 전극을 포함한다.
제1 도전성 접착 필름은 제1 수지 및 상기 제1 수지 내에 분산된 복수의 제1 도전성 입자를 포함한다. 제1 도전성 접착 필름은 후면 전극의 후면에 위치하며, 후면 전극과 직접 접촉한다.
그리고 인터커넥터는 제1 도전성 접착 필름의 후면(back surface)에 위치하며, 제1 도전성 접착 필름의 제1 도전성 입자를 통해 후면 전극과 전기적으로 연결된다.
후면 전극은 알루미늄 분말을 포함한다. 보다 구체적으로, 후면 전극은 레이저 회절법에 근거하는 입자 분포의 중심 입경이 10㎛ 이하의 범위에 있는 알루미늄 분말과, 산화 비스무스(bismuth)를 필수 성분으로 하고 유리 연화점이 580℃ 이하인 비스무스계 유리 프릿과, 유기 비이클(vehicle)을 포함하는 알루미늄 페이스트로 형성될 수 있다.
후면 전극은 제1 도전성 접착 필름과 직접 접촉하는 제1 부분 및 제1 부분과 이웃하는 제2 부분을 포함한다.
제1 부분과 제2 부분은 두께가 서로 다르게 형성되거나, 서로 동일하게 형성될 수 있다.
제1 부분과 제2 부분의 두께가 서로 다른 경우, 제1 부분의 두께는 제2 부분의 두께보다 작게 형성된다.
알루미늄 분말을 포함하는 후면 전극의 표면에 산화막 및/또는 불순물이 존재하면 제1 도전성 접착 필름이 후면 전극에 양호하게 접착되지 않을 수 있다. 따라서, 산화막을 포함하는 불순물을 제거하기 위해 후면 전극의 제1 부분을 표면 처리할 수 있으며, 상기 표면 처리에 따라 제1 부분의 두께가 제2 부분의 두께보다 작게 형성될 수 있다.
이때, 제1 도전성 접착 필름의 폭은 제1 부분의 폭과 동일하거나 작게 형성될 수 있으며, 이 경우, 제2 부분에는 제1 도전성 접착 필름이 접촉하지 않는다. 이와는 달리, 제1 도전성 접착 필름의 폭은 제1 부분의 폭보다 크게 형성될 수 있으며, 이 경우, 제2 부분의 일부에도 제1 도전성 접착 필름이 직접 접촉한다.후면 전극의 제1 부분을 표면 처리하는 대신에 후면 전극의 전체, 즉 제1 부분 및 제2 부분 모두 표면 처리하는 것도 가능하다. 이 경우에는 제1 부분과 제2 부분의 두께가 서로 동일하게 형성된다.
상기 표면 처리는 기체(에어 또는 질소 가스 등의 불활성 가스) 또는 순수를 이용한 세정 공정, 또는 롤러를 이용한 그라인딩(grinding) 공정에 따라 실시할 수 있다.
후면 전극이 고밀도 알루미늄막 및 저밀도 알루미늄막을 포함하는 경우, 상기 표면 처리에 따라 상기 저밀도 알루미늄막을 제거하는 것도 가능하다.
저밀도 알루미늄막을 제거하면, 알루미늄 페이스트를 소성하는 동안 후면 전계부를 효과적으로 형성할 수 있고, 기판의 휘어짐을 방지할 수 있다.
후면 전극의 제1 부분과 제2 부분은 서로 다른 길이로 형성되거나, 서로 동일한 길이로 형성된다.
제1 부분과 제2 부분이 서로 다른 길이로 형성되는 경우에는 제1 부분의 길이가 제2 부분의 길이보다 짧은 것이 바람직하다. 제1 부분의 길이가 제2 부분의 길이보다 짧으면, 제1 도전성 접착 필름의 길이를 상기 제1 부분의 길이보다 길게 형성하여 제1 도전성 접착 필름의 적어도 어느 한쪽 단부를 제1 부분 외측의 기판과 직접 접촉시킬 수 있다.
제1 도전성 접착 필름의 제1 수지 내에 분산된 복수의 제1 도전성 입자는 후면 전극의 제1 부분 및 인터커넥터 중 적어도 하나와 직접 접촉하거나, 제1 도전성 입자와 후면 전극의 제1 부분 사이 및 제1 도전성 입자와 인터커넥터 사이에 수지가 위치할 수 있다.
이때, 복수의 제1 도전성 입자는 인접한 제1 도전성 입자들과 서로 전기적으로 연결될 수 있도록 위치하는 것이 바람직한데, 그 이유는 후면 전극으로 이동한 전하가 인접한 제1 도전성 입자들을 통해서도 이동하게 되면 전류 흐름이 원활하게 이루어지기 때문이다.
후면 전극으로 이동한 전하를 인터커넥터에 효과적으로 전달하기 위해, 복수의 제1 도전성 입자는 후면 전극의 제1 부분 및 인터커넥터 중 적어도 하나와 직접 접촉하는 것이 바람직하며, 복수의 제1 도전성 입자는 후면 전극의 제1 부분 및 인터커넥터와 각각 직접 접촉하는 것이 더욱 바람직하다.
태양전지는 기판의 수광면에 위치하는 에미터부, 에미터부와 전기적으로 연결되는 전면 전극, 및 전면 전극이 위치하지 않는 에미터부 위에 위치하는 반사방지막을 더 포함할 수 있다.
전면 전극의 전면(front surface)에는 제2 도전성 접착 필름이 위치하고, 제2 도전성 접착 필름의 전면(front surface)에는 이웃하는 태양전지의 후면 전극과 전기적으로 연결된 인터커넥터가 위치하며, 제2 도전성 접착 필름은 제2 수지 및 상기 제2 수지 내에 분산된 복수의 제2 도전성 입자를 포함한다.
전면 전극은 제2 도전성 접착 필름과 직접 접촉하는 제1 부분 및 제2 도전성 접착 필름과 접촉하지 않는 제2 부분을 포함한다.
복수의 전면 전극은 제1 부분 및 제2 부분이 서로 동일한 선폭으로 형성되거나, 전면 전극 중 적어도 한 전극의 제1 부분 및 제2 부분이 서로 다른 선폭으로 형성될 수 있다.
제1 부분 및 제2 부분이 서로 다른 선폭으로 형성되는 경우에는 제1 부분의 선폭을 제2 부분의 선폭보다 크게 형성함으로써, 도전성 접착 필름과의 접합 강도를 향상시키고, 접촉 저항을 감소시켜 출력 저하를 방지하는 것이 바람직하다.
이때, 제1 부분은 전면 전극의 길이 방향으로 일정한 길이를 가지며, 제1 부분의 길이는 도전성 접착 필름의 폭 이하로 형성될 수 있다.
그리고 제2 도전성 접착 필름의 일부는 반사방지막과 직접 접촉한다.
이러한 특징에 따르면, 전극으로 이동한 전하가 도전성 접착 필름의 도전성 입자를 통해 인터커넥터에 전달된다.
따라서, 전극으로 이동한 전하를 인터커넥터로 전달하기 위한 집전 전극을 형성할 필요가 없으므로, 집전 전극 형성에 필요한 공정 및 비용을 절감할 수 있다.
또한, 도전성 접착 필름을 이용하여 전극과 인터커넥터를 직접 연결하면, 태빙 작업을 저온(180℃ 이하)에서 실시할 수 있다. 이와 같이 저온 공정으로 태빙(tabbing) 작업을 진행하면, 고온(220℃ 이상)에서 납땜을 이용하여 태빙 작업을 실시하는 경우에 비해 기판의 휨(bowing) 및 손상을 방지할 수 있다.
또한, 플럭스(flux)를 사용하지 않으므로 균일한 접착력을 유지함과 아울러 오정렬(miss alignment)을 방지할 수 있어 출력 감소를 억제할 수 있다.
도 1은 일반적인 태양전지 패널의 분해 사시도이다.
도 2는 일반적인 태양전지 패널에 있어서, 복수의 태양전지의 전기적 연결 관계를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이다.
도 4는 도 3의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이다.
도 5는 도 3의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이다.
도 6 내지 도 8은 후면 전극의 다양한 실시예를 나타내기 위한 기판 후면의 평면도이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이다.
도 10은 도 9의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이다.
도 11은 도 9의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이다.
도 12는 도 9의 조립 상태를 나타내는 또 다른 실시예의 단면도이다.
도 13 및 도 14는 전면 전극의 다양한 실시예를 나타내기 위한 기판 전면(front surface)의 평면도이다.
도 2는 일반적인 태양전지 패널에 있어서, 복수의 태양전지의 전기적 연결 관계를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이다.
도 4는 도 3의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이다.
도 5는 도 3의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이다.
도 6 내지 도 8은 후면 전극의 다양한 실시예를 나타내기 위한 기판 후면의 평면도이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이다.
도 10은 도 9의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이다.
도 11은 도 9의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이다.
도 12는 도 9의 조립 상태를 나타내는 또 다른 실시예의 단면도이다.
도 13 및 도 14는 전면 전극의 다양한 실시예를 나타내기 위한 기판 전면(front surface)의 평면도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한 어떤 부분이 다른 부분 위에 "전체적"으로 형성되어 있다고 할 때에는 다른 부분의 전체 면(또는 전면)에 형성되어 있는 것뿐만 아니라 가장 자리 일부에는 형성되지 않은 것도 포함한다.
그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 태양전지 패널에 대하여 설명한다.
도 1은 일반적인 태양전지 패널의 분해 사시도이고, 도 2는 복수의 태양전지의 전기적 연결 관계를 나타내는 개략도이다.
도면을 참고하면, 태양전지 패널(100)은 복수의 태양전지(10)들, 인접한 태양전지(10)들을 전기적으로 연결하는 인터커넥터(20), 태양전지(10)들을 보호하는 전면 보호막(EVA: Ethylene Vinyl Acetate)(30a) 및 후면 보호막(30b), 태양전지(10)들의 수광면 쪽으로 전면 보호막(30a) 위에 배치되는 투명 부재(40), 수광면 반대 쪽으로 후면 보호막(30b)의 하부에 배치되는 후면 시트(back sheet)(50)를 포함한다.
후면 시트(50)는 태양전지 패널(10)의 후면에서 습기가 침투하는 것을 방지하여 태양전지(10)를 외부 환경으로부터 보호한다. 이러한 후면 시트(50)는 수분과 산소 침투를 방지하는 층, 화학적 부식을 방지하는 층, 절연 특성을 갖는 층과 같은 다층 구조를 가질 수 있다.
양면 수광형 태양전지의 경우에는 후면 시트(50) 대신에 광 투과성의 유리 또는 수지를 사용하는 것도 가능하다.
전면 보호막(30a) 및 후면 보호막(30b)은 태양전지(10)들의 전면 및 후면에 각각 배치된 상태에서 라미네이션 공정에 의해 태양전지(10)들과 일체화 되는 것으로, 습기 침투로 인한 부식을 방지하고 태양전지(10)를 충격으로부터 보호한다. 이러한 전면 및 후면 보호막(30a, 30b)은 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA, ethylene vinyl acetate)와 같은 물질로 이루어질 수 있다.
전면 보호막(30a) 위에 위치하는 투명 부재(40)는 투과율이 높고 파손 방지 기능이 우수한 강화 유리 등으로 이루어져 있다. 이때, 강화 유리는 철 성분 함량이 낮은 저 철분 강화 유리(low iron tempered glass)일 수 있다. 이러한 투명 부재(40)는 빛의 산란 효과를 높이기 위해서 내측면이 엠보싱(embossing) 처리될 수 있다.
복수의 태양전지(10)는 도 1에 도시한 바와 같이 행렬 구조로 배열되어 있다. 도 1에서, 후면 보호막(30b) 위에 배열된 태양 전지(10)는 3×3 행렬 구조를 가지지만, 이에 한정되지 않고 필요에 따라 행과 열 방향으로 배치되는 태양전지(10)의 개수는 조정이 가능하다.
복수의 태양전지(10)들은 도 2에 도시한 바와 같이 인터커넥터(20)에 의해 전기적으로 연결된다. 보다 구체적으로, 복수의 태양전지(10)들이 인접 배치된 상태에서, 어느 한 태양전지의 전면에 형성된 전면 전극부는 인터커넥터(20)에 의해 인접한 태양 전지의 후면에 형성된 전극부와 전기적으로 연결된다.
이하, 첨부도면을 참고하여 본 발명의 실시예에 대해 설명한다.
도 3는 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이며, 도 4는 도 3의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이고, 도 5는 도 3의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이다.
도면을 참고하면, 태양전지(10)는 기판(11), 기판(11)의 수광면, 예컨대 빛이 입사되는 면에 위치하는 에미터부(12), 에미터부(12) 위에 위치하는 복수의 전면 전극(13), 에미터부(12) 위에 위치하며 전면 전극(13)과 교차하는 전면 전극용 집전부(14), 전면 전극(13) 및 전면 전극용 집전부(14)가 위치하지 않는 에미터부(12) 위에 위치하는 반사방지막(15), 및 수광면의 반대쪽 면, 즉 기판(11)의 후면에 위치하는 후면 전극(16)을 포함한다.
태양전지(10)는 후면 전극(16)과 기판(11) 사이에 형성되는 후면 전계(back surface field, BSF)부를 더 포함한다. 후면 전계부(17)는 기판(11)과 동일한 도전성 타입의 불순물이 기판(11)보다 고농도로 도핑된 영역, 예를 들면, p+ 영역이다.
이러한 후면 전계부(17)는 전위 장벽으로 작용하게 된다. 따라서, 기판(11)의 후면부 쪽에서 전자와 정공이 재결합하여 소멸되는 것이 감소되므로 태양전지(10)의 효율이 향상된다.
기판(11)은 제1 도전성 타입, 예를 들어 p형 도전성 타입의 실리콘으로 이루어진 반도체 기판이다. 이때, 실리콘은 단결정 실리콘, 다결정 실리콘 또는 비정질 실리콘일 수 있다. 기판(11)이 p형의 도전성 타입을 가질 경우, 붕소(B), 갈륨(Ga), 인듐(In) 등과 같은 3가 원소의 불순물을 함유한다
기판(11)의 표면은 복수의 요철을 갖는 텍스처링(texturing) 표면으로 형성될 수 있다.
기판(11)의 표면이 텍스처링 표면으로 형성되면 기판(11)의 수광면에서의 빛 반사도가 감소하고, 텍스처링 표면에서 입사와 반사 동작이 이루어져 태양전지의 내부에 빛이 갇히게 되어 빛의 흡수율이 증가된다.
따라서, 태양전지의 효율이 향상된다. 이에 더하여, 기판(11)으로 입사되는 빛의 반사 손실이 줄어들어 기판(11)으로 입사되는 빛의 양은 더욱 증가한다.
에미터부(12)는 기판(11)의 도전성 타입과 반대인 제2 도전성 타입, 예를 들어, n형의 도전성 타입을 구비하고 있는 불순물이 도핑(doping)된 영역으로서, 기판(11)과 p-n 접합을 이룬다.
에미터부(12)가 n형의 도전성 타입을 가질 경우, 에미터부(12)는 인(P), 비소(As), 안티몬(Sb) 등과 같이 5가 원소의 불순물을 기판(11)에 도핑하여 형성될 수 있다.
이에 따라, 기판(11)에 입사된 빛에 의해 반도체 내부의 전자가 에너지를 받으면 전자는 n형 반도체 쪽으로 이동하고 정공은 p형 반도체 쪽으로 이동한다. 따라서, 기판(11)이 p형이고 에미터부(12)가 n형일 경우, 분리된 정공은 기판(11)쪽으로 이동하고 분리된 전자는 에미터부(12)쪽으로 이동한다.
이와는 반대로, 기판(11)은 n형 도전성 타입일 수 있고, 실리콘 이외의 다른 반도체 물질로 이루어질 수도 있다. 기판(11)이 n형의 도전성 타입을 가질 경우, 기판(11)은 인(P), 비소(As), 안티몬(Sb) 등과 같이 5가 원소의 불순물을 함유할 수 있다.
에미터부(12)는 기판(11)과 p-n접합을 형성하게 되므로, 기판(11)이 n형의 도전성 타입을 가질 경우 에미터부(12)는 p형의 도전성 타입을 가진다. 이 경우, 분리된 전자는 기판(11)쪽으로 이동하고 분리된 정공은 에미터부(12)쪽으로 이동한다.
에미터부(12)가 p형의 도전성 타입을 가질 경우, 에미터부(12)는 붕소(B), 갈륨(Ga), 인듐(In) 등과 같은 3가 원소의 불순물을 기판(11)에 도핑하여 형성할 수 있다.
기판(11)의 에미터부(12) 위에는 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2) 또는 이산화티탄(TiO2) 등으로 이루어진 반사방지막(15)이 형성되어 있다. 반사방지막(15)은 태양전지(10)로 입사되는 빛의 반사도를 줄이고 특정한 파장 영역의 선택성을 증가시켜 태양전지(10)의 효율을 높인다. 이러한 반사방지막(15)은 약 70㎚ 내지 80㎚ 의 두께를 가질 수 있으며, 필요에 따라 생략될 수 있다.
복수의 전면 전극(13)은 에미터부(12) 위에 형성되어 에미터부(12)와 전기적 및 물리적으로 연결되고, 인접하는 전면 전극(13)과 서로 이격된 상태로 어느 한 방향으로 형성된다. 각각의 전면 전극(13)은 에미터부(12) 쪽으로 이동한 전하, 예를 들면 전자를 수집한다.
복수의 전면 전극(13)은 적어도 하나의 도전성 물질로 이루어져 있고, 이들 도전성 물질은 니켈(Ni), 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐(In), 티타늄(Ti), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나일 수 있지만, 이외의 다른 도전성 금속 물질로 이루어질 수 있다.
예를 들면, 전면 전극(13)은 납(Pb)을 포함하는 은(Ag) 페이스트로 이루어질 수 있다. 이 경우, 전면 전극(13)은 스크린 인쇄 공정을 이용하여 은 페이스트를 반사방지막(15) 위에 도포하고, 기판(11)을 약 750℃ 내지 800℃의 온도에서 소성(firing)하는 과정에서 에미터부(12)와 전기적으로 연결될 수 있다.
이때, 전술한 전기적 연결은 소성 과정에서 은(Ag) 페이스트에 포함된 납 성분이 반사방지막(15)을 식각하여 은 입자가 에미터부(12)와 접촉하는 것에 따라 이루어진다.
전면 전극용 집전부(14)는 전면 전극(13)과 동일한 재질로 동일한 방법에 따라 형성될 수 있다.
후면 전극(16)은 기판(11)의 수광면 반대쪽, 즉 기판(11)의 후면에 형성되어 있으며, 기판(11)쪽으로 이동하는 전하, 예를 들어 정공을 수집한다.
후면 전극(16)은 적어도 하나의 도전성 물질로 이루어져 있다. 도전성 물질은 니켈(Ni), 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐(In), 티타늄(Ti), 금(Au) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나일 수 있지만, 이외의 다른 도전성 물질로 이루어질 수 있다.
후면 전극(16)이 알루미늄 재질로 이루어지는 경우, 상기 후면 전극(16)은 알루미늄 페이스트를 도포한 후 이를 소성하여 형성할 수 있다.
이때 사용하는 알루미늄 페이스트는 레이저 회절법에 근거하는 입자 분포의 중심 입경(D50)이 10㎛ 이하인 알루미늄 분말, 산화 비스무스를 필수 성분으로 하고 유리 연화점이 580℃ 이하인 비스무스계 유리 프릿(glass frit), 및 유기 비이클(organic vehicle)을 포함할 수 있다.
알루미늄 분말은 알루미늄을 주 재료로 하는 입자의 집합체를 말하며, 알루미늄 이외의 불순물을 미량 포함하는 것도 가능하다.
상기 중심 입경은 해당 분말의 입자 분포에 있어서 누적 체적 50%일 때의 입경, 즉 D50(중간수(medium) 지름)을 말한다. 이러한 D50은 레이저 회절법에 근거하는 여러 가지의 입자 분포 측정 장치에 따라서 용이하게 측정할 수 있다.
알루미늄 분말을 구성하는 입자는 구상(sphere shape)인 것이 바람직하지만, 플레이크(flake) 형상 또는 불규칙 형상의 어느 것이라도 관계 없다.
전극을 알루미늄 분말의 함유량은 페이스트(paste) 전체의 65 질량% 내지 85 질량%가 바람직하고, 유리 프릿은 산화 비스무스의 함유량이 유리 프릿 전체의 40 질량% 이상인 것이 바람직하다.
적합한 비스무스계 유리 프릿으로는 산화 비스무스와 산화 붕소(B2O3) 및 산화 아연(ZnO)을 주성분으로 하는 유리 프릿, 산화 비스무스와 산화 붕소 및 산화 규소를 주성분으로 하는 유리 프릿, 및 산화 비스무스와 산화 규소 및 산화 납을 주성분으로 하는 유리 프릿 등이 있다.
이 외에도 비스무스계 유리 프릿에는 산화 바륨(BaO) 및 산화 규소(SiO2) 등이 더 포함될 수 있다.
이러한 구성의 유리 프릿은 페이스트 전체의 1 질량% 내지 10 질량% 정도 함유될 수 있다.
유기 비히클은 알루미늄 분말과 유리 프릿을 양호하게 분산시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 에틸렌 글리콜(ethylene glycol) 및 디에틸렌 글리콜(diethyleneglycol) 유도체(글리콜 에테르(glycol ether)계), 톨루엔(toluene) 및 크실렌(xylene) 등의 고비등점 유기 용매를 한 종류 또는 여러 종 조합하여 사용할 수 있다.
이러한 구성의 유기 비히클은 페이스트 전체의 10 질량% 내지 30 질량% 정도 함유될 수 있다.
전술한 내용에 따라 제조된 알루미늄 페이스트를 기판(11)의 후면에 도포하고, 적당한 온도(실온 내지 100℃)에서 건조시킨 후, 소성로에서 적당한 가열 조건(예를 들면 700℃ 내지 800℃)으로 가열(소성)하면 후면 전극(16)을 제조할 수 있으며, 후면 전계부(17)는 알루미늄 페이스트가 소성되는 것과 동시에 형성된다.
또한, 상기한 알루미늄 페이스트를 이용하여 후면 전극(16)을 형성하면, 기판(11)의 표면에는 고밀도 알루미늄막(16a)이 형성되고, 고밀도 알루미늄막(16a)의 표면에는 저밀도 알루미늄막(16b)이 형성된다. 그리고 저밀도 알루미늄막(16b)의 표면에는 알루미늄 산화막이 형성되거나 불순물이 존재한다.
후면 전극(16)의 표면에 알루미늄 산화막 또는 불순물이 존재하면 후술하는 제1 도전성 접착 필름(60)을 후면 전극(16)에 접착할 때 접착력이 저하될 수 있다.
따라서 제1 도전성 접착 필름(60)을 후면 전극(16)에 접착하기 전에 후면 전극(16)의 표면 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
상기 표면 처리는 기체(에어 또는 질소 가스 등의 불활성 가스) 또는 순수를 이용한 세정 공정, 또는 롤러를 이용한 그라인딩(grinding) 공정에 따라 실시할 수 있다.
물론, 상기 표면 처리 작업을 실시하여 후면 전극(16)의 표면에 존재하는 알루미늄 산화막 또는 불순물 이외에 저밀도 알루미늄막(16b)을 제거하는 것도 가능하다.
이러한 구성의 태양전지(10)는 도 2에 도시한 바와 같이 인터커넥터(20)에 의해 이웃하는 태양전지와 전기적으로 연결된다.
이에 대하여 보다 구체적으로 설명하면, 기판(11)의 후면 전극(16)에는 제1 도전성 접착 필름(60)이 접착된다.
제1 도전성 접착 필름(60)은 제1 수지(62) 및 제1 수지(62) 내에 분산된 복수의 제1 도전성 입자(64)를 포함한다. 제1 수지(62)는 접착성을 갖는 재질이면 특별히 한정되지 않는다. 단 접착 신뢰성을 높이기 위해서는 열경화성 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
열경화성 수지로는 에폭시(epoxy) 수지, 페녹시(phenoxy) 수지, 아크릴(acryl) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, 폴리카보네이트(polycarbonate) 수지 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 수지를 사용할 수 있다.
제1 수지(62)는 열경화성 수지 이외의 임의 성분으로서, 공지의 경화제 및 경화 촉진제를 함유할 수 있다.
예를 들면, 제1 수지(62)는 후면 전극(16)과 인터커넥터(20)의 접착성을 향상시키기 위해 실란(silane)계 커플링(coupling)제, 티타네이트(titanate)계 커플링제, 알루미네이트(aluminate)계 커플링제 등의 개질 재료를 함유할 수 있으며, 도전성 입자(64)의 분산성을 향상시키기 위해 인산 칼슘이나 탄산칼슘 등의 분산제를 함유할 수 있다. 또한 제1 수지(62)는 탄성률을 제어하기 위해 아크릴 고무, 실리콘 고무, 우레탄 등의 고무 성분을 함유할 수 있다.
그리고 제1 도전성 입자(64)는 도전성을 갖는 것이라면 그 재료는 특별히 한정되지 않는다. 제1 도전성 입자(64)는 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 철(Fe), 니켈(Ni), 납(Pb), 아연(Zn), 코발트(Co), 티타늄(Ti) 및 마그네슘(Mg)으로부터 선택된 1종 이상의 금속을 주성분으로 포함할 수 있으며, 금속 입자만으로 이루어지거나, 금속 피복 수지 입자로 이루어질 수 있다. 이러한 구성의 제1 도전성 접착 필름(60)은 박리 필름을 더 포함할 수 있다.
제1 도전성 입자(64)의 압축 응력을 완화하고 접속 신뢰성을 향상시키기 위해서는 제1 도전성 입자(64)로 금속 피복 수지 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
분산성을 향상시키기 위해 제1 도전성 입자(64)는 2㎛ 내지 30㎛의 입경을 갖는 것이 바람직하다.
제1 수지(62)가 경화한 뒤의 접속 신뢰성 측면에서, 제1 수지(62) 내에 분산되는 제1 도전성 입자(64)의 배합량은 제1 도전성 접착 필름(60)의 전체 체적에 대하여 0.5 체적% 내지 20 체적%로 하는 것이 바람직하다.
제1 도전성 입자(64)의 배합량이 0.5 체적% 미만이면 후면 전극(16)과의 물리적인 접점이 감소하므로 전류 흐름이 원활하게 이루어지지 않을 수 있으며, 상기 배합량이 20 체적%를 초과하면 제1 수지(62)의 상대적 양이 감소하여 접착 강도가 저하될 수 있다.
제1 도전성 접착 필름(60)은 후면 전극(16)의 일부분에 접착된다. 제1 도전성 접착 필름(60)을 이용하여 태빙(tabbing) 작업을 실시할 때, 전기적 접속 확보 및 접착력 유지가 가능한 범위라면 가열 온도 및 가압 압력의 조건은 특별히 제한되지 않는다.
예를 들면, 가열 온도는 제1 수지(62)가 경화되는 온도 범위, 예컨대 140℃ 내지 180℃의 범위로 설정할 수 있고, 가압 압력은 후면 전극(16), 제1 도전성 접착 필름(60) 및 인터커넥터(20)가 상호간에 충분히 밀착되는 범위로 설정할 수 있다. 또한 가열 및 가압 시간은 후면 전극(16) 및 인터커넥터(20) 등이 열로 인한 손상 또는 변질되지 않는 범위로 설정할 수 있다.
이하에서는, 제1 도전성 접착 필름(60)이 접착되는 상기 전극 부분을 제1 부분(16c)이라고 하고, 제1 부분(16c)과 이웃하는 위치의 전극 부분을 제2 부분(16d)이라고 한다. 따라서, 제1 도전성 접착 필름(60)은 제1 부분(16c)와 직접 접촉한다.
후면 전극(16)의 제1 부분(16c)에 접착된 제1 도전성 접착 필름(60)의 후면(back surface)에는 이 필름(60)과 동일한 방향으로 인터커넥터(20)가 접착되고, 제1 도전성 접착 필름(60)에 접착되지 않은 인터커넥터(20)의 나머지 부분은 이웃하는 태양전지(10)의 전면 전극용 집전부(14)에 전기적으로 연결된다.
제1 도전성 접착 필름(60)에 의해 후면 전극(16)과 인터커넥터(20)가 접착된 상태에서, 도 4에 도시한 바와 같이 제1 도전성 입자(64)와 후면 전극(16) 사이 및 제1 도전성 입자(64)와 인터커넥터(20) 사이에는 제1 수지(62)가 위치할 수 있다. 이 경우 후면 전극(16)으로 이동한 전하(carrier)는 제1 도전성 입자(64)로 점프(jump)한 후 다시 인터커넥터(20)로 점프한다. 따라서 후면 전극(16)으로 이동한 전하는 화살표를 따라 이동하여 인터커넥터(20)로 이동한다.
이때, 제1 도전성 입자(64) 사이의 간격은 적절히 설정할 수 있다. 제1 도전성 입자(64) 사이의 간격은 제1 수지(62) 내에 분산된 제1 도전성 입자(64)의 개수 또는 크기를 적절히 조절하는 것에 따라 설정할 수 있다.
따라서, 후면 전극(16)으로 이동한 전하는 제1 도전성 입자(64)를 통해 인터커넥터(20)로 전달된다.
이와는 달리, 도 5에 도시한 바와 같이 제1 도전성 입자(64)는 후면 전극(16) 및 인터커넥터(20) 중에서 적어도 하나와 직접 접촉하거나, 양쪽 모두와 직접 접촉할 수 있다.
한편, 제1 도전성 입자(64)는 태빙 작업시에 가해지는 압력으로 인해 타원 형태로 변형될 수 있다. 따라서, 제1 도전성 접착 필름(60)은 폭을 두께보다 크게 형성하는 것이 바람직하다.
이러한 구조에 따르면, 후면 전극(16)으로 이동한 전하는 제1 도전성 입자(64)를 통해 인터커넥터(20)로 직접 전달되므로, 도 4의 실시예에 비해 전류 흐름이 원활하게 이루어진다.
한편, 후면 전극(16)의 표면에 존재하는 알루미늄 산화막 및/또는 불순물을 제거하기 위한 표면 처리 작업은 제1 도전성 접착 필름(60)이 접착되는 제1 부분(16c)에 국한하여 실시할 수 있다. 이때, 고밀도 알루미늄막(16a)의 표면에 위치하는 저밀도 알루미늄막(16b)도 알루미늄 산화막 및 불순물과 함께 제거된다.
따라서, 도 4에 도시한 바와 같이, 제1 부분(16c)은 고밀도 알루미늄막(16a)으로만 이루어지고, 제2 부분(16d)은 고밀도 알루미늄막(16a)과 저밀도 알루미늄막(16d) 및 알루미늄 산화막(도시하지 않음)으로 이루어지므로, 제1 부분(16c)의 두께(T1)은 제2 부분(16d)의 두께(T2)에 비해 얇게 형성된다.
제1 부분(16c)의 두께(T1)가 제2 부분(16d)의 두께(T2)에 비해 얇게 형성되는 경우, 도 4에 실선으로 도시한 바와 같이 제1 도전성 접착 필름(60)의 폭(W2)은 제1 부분(16c)의 폭(W1)과 동일하거나 작게 형성될 수 있다(W1≥W2). 이러한 구조에 따르면, 제1 도전성 접착 필름(60)은 제1 부분(16c)에 직접 접촉하지만, 제2 부분(16d)에는 직접 접촉하지 않는다. 이때, 제1 도전성 접착 필름(60)의 폭(W2)은 인터커넥터(20)의 폭과 동일하거나 크게 형성될 수 있으며, 또한 작게 형성될 수도 있다.
이와는 달리, 도 4에 점선으로 도시한 바와 같이 제1 도전성 접착 필름(60)의 폭(W2)은 제1 부분(16c)의 폭(W1)보다 크게 형성될 수 있다(W2>W1). 이 경우에도 제1 도전성 접착 필름(60)의 폭(W2)은 인터커넥터(20)의 폭과 동일하거나 크게 형성될 수 있으며, 또한 작게 형성될 수도 있다.
물론, 후면 전극(16)이 저밀도 알루미늄막(16b)을 포함하지 않는 경우에도 후면 전극(16)의 표면에 존재하는 알루미늄 산화막이 제거됨으로 인해 제1 부분(16c)과 제2 부분(16d)은 미세한 두께 차이가 발생될 수 있다.
이와는 달리, 표면 처리 작업을 후면 전극(16)의 전체 표면에 대해 실시하면, 도 5에 도시한 바와 같이, 제1 부분(16c) 및 제2 부분(16d)은 모두 고밀도 알루미늄막(16a)으로만 이루어지므로, 제1 부분(16c)과 제2 부분(16d)은 서로 동일한 두께로 형성된다.
그리고 제1 도전성 접착 필름(60)의 폭(W2)은 제1 부분(16c)의 폭(W1)과 동일한 크기로 형성된다(W1=W2).
한편, 후면 전극(16)은 도 6에 도시한 바와 같이 모서리부를 제외한 기판(11)의 후면 전체 영역에 형성될 수 있다.
이 경우, 제1 도전성 접착 필름(60)은 제1 부분(16c)의 길이(L1) 및 제2 부분(16d)의 길이(L2)와 동일하거나 약간 짧은 길이로 형성될 수 있다.
이와는 달리, 후면 전극(16)은 도 7에 도시한 바와 같이 제1 부분(16c)의 길이(L1)는 제2 부분(16d)의 길이(L2)보다 짧게 형성될 수도 있다.
이 경우, 제1 도전성 접착 필름(60)의 길이는 제1 부분의 길이(L1)보다 길게 형성하여 제1 도전성 접착 필름(60)의 적어도 어느 한쪽 단부를 제1 부분(16c) 외측의 기판(11)과 직접 접촉시키는 것이 접착력 증가 측면에서 바람직하다. 이 경우, 제1 도전성 접착 필름(60)의 길이는 제2 부분(16d)의 길이(L2)와 동일하게 형성할 수 있다.
하지만 제1 도전성 접착 필름(60)의 길이는 제1 부분의 길이(L1)와 동일하거나 더 짧게 형성할 수도 있다.
그리고 도 8에 도시한 바와 같이, 후면 전극(16)의 제1 부분(16c) 중 일부 영역에는 기판(11)을 노출하는 홀 패턴(P)이 형성될 수 있다. 이러한 구조에 따르면, 제1 도전성 접착 필름(60)이 홀 패턴(P)에서 기판(11)과 직접 접촉하므로 제1 도전성 접착 필름(60)의 접착력이 증가한다.
한편, 도 8은 홀 패턴(P)이 열방향(도 8의 가로방향)으로 평행한 것을 도시하고 있지만, 상기 홀 패턴(P)은 열방향으로 평행하지 않을 수도 있으며, 또한 무작위적으로, 즉 랜덤하게 위치할 수도 있다.
이러한 특징에 따르면, 후면 전극으로 이동한 전하는 제1 도전성 접착 필름의 제1 도전성 입자를 통해 인터커넥터에 전달된다.
따라서, 후면 전극으로 이동한 전하를 인터커넥터로 전달하기 위한 후면 전극용 집전부를 형성할 필요가 없으므로, 후면 전극용 집전부 형성에 필요한 공정 및 비용을 절감할 수 있다.
또한, 제1 도전성 접착 필름을 이용하여 후면 전극과 인터커넥터를 직접 연결하면, 태빙 작업을 저온(140℃ 내지 180℃ 이하)에서 실시할 수 있다. 이와 같이 저온 공정으로 태빙(tabbing) 작업을 진행하면, 고온(220℃ 이상)에서 납땜을 이용하여 태빙 작업을 실시하는 경우에 비해 기판의 휨(bowing) 및 손상을 방지할 수 있다.
또한, 플럭스(flux)를 사용하지 않으므로 인터커넥터와 후면 전극의 접착력을 균일하게 유지할 수 있고, 오정렬(miss alignment)을 방지할 수 있어 출력 감소를 억제할 수 있다.
한편, 후면 전극(16)에 전기적으로 연결된 인터커넥터(20)는 이웃하는 태양전지의 전면 전극용 집전부(14)에 전기적으로 연결되는데, 이때 인터커넥터(20)와 전면 전극용 집전부(14)의 전기적 연결, 즉 태빙(tabbing) 작업은 플럭스(flux)를 이용한 납땜 작업에 의해 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 패널을 도 9 내지 도 14를 참고하여 설명한다.
제2 실시예는 기판 후면부의 전극 구조 및 태빙 구조가 전술한 제1 실시예와 동일하므로, 이하에서는 기판 전면부의 전극 구조 및 태빙 구조에 대해서만 설명한다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 패널의 주요부 분해 사시도이고, 도 10은 도 9의 조립 상태를 나타내는 한 실시예의 단면도이며, 도 11은 도 9의 조립 상태를 나타내는 다른 실시예의 단면도이고, 도 12는 도 9의 조립 상태를 나타내는 또 다른 실시예의 단면도이다.
그리고 도 13 및 도 14는 전면 전극의 다양한 실시예를 나타내기 위한 기판 전면(front surface)의 평면도이다.
제2 실시예를 설명함에 있어서, 전술한 제1 실시예와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면번호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도면을 참고하면, 기판(11)의 에미터부(12) 위에는 전술한 제1 실시예와는 달리 복수의 전면 전극(13)만 에미터부(12) 위에 위치한다. 즉 전면 전극용 집전부는 본 실시예에서는 형성되지 않는다.
그리고 기판(11)의 전면(front surface)에는 전면 전극(13)과 교차하는 방향으로 복수의 제2 도전성 접착 필름(160)이 위치한다.
제2 도전성 접착 필름(160)은 제2 수지(162) 및 제2 수지(162) 내에 분산된 복수의 제2 도전성 입자(164)를 포함한다. 제2 수지(162)는 제1 도전성 접착 필름(60)의 제1 수지(62)와 동일한 재질로 이루어질 수 있으며, 제2 도전성 입자(164)는 제1 도전성 접착 필름(60)의 제1 도전성 입자(64)와 동일한 재질로 이루어질 수 있다.
하지만 제2 수지(162)는 제1 수지(62)와 서로 다른 재질로 이루어질 수도 있고, 제2 도전성 입자(164)는 제1 도전성 입자(64)와 서로 다른 재질로 이루어질 수도 있다.
제2 도전성 접착 필름(160)은 140℃ 내지 180℃의 저온 공정에 의해 복수의 전면 전극(13)과 교차하는 방향으로 상기 전면 전극(13)의 일부분에 접착된다. 따라서, 제2 도전성 접착 필름(160)의 일부분은 전면 전극(13)의 일부분에 직접 접촉하고, 나머지 부분은 반사방지막(15)에 직접 접촉한다.
이하에서는 제2 도전성 접착 필름(160)이 접착되는 상기 전극 부분을 제1 부분(13a)이라고 하고, 제2 도전성 접착 필름(160)이 접착되지 않는 전극 부분을 제2 부분(13b)이라고 한다.
전면 전극(13)의 제1 부분(13a)에 접착된 제2 도전성 접착 필름(160)의 전면(front surface)에는 제2 도전성 접착 필름(160)과 동일한 방향으로 인터커넥터(20)가 접착된다. 이 인터커넥터(20)는 전술한 제1 실시예의 제1 도전성 접착 필름(60)에 의해 이웃하는 태양전지의 후면 전극(16)에 접착된 인터커넥터이다.
제2 도전성 접착 필름(160)에 의해 전면 전극(13)과 인터커넥터(20)가 접착된 상태에서, 도 10에 도시한 바와 같이 제2 도전성 입자(164)와 전면 전극(13) 사이 및 제2 도전성 입자(164)와 인터커넥터(20) 사이에는 제2 수지(162)가 위치할 수 있다.
이 경우 전면 전극(13)으로 이동한 전하는 제2 도전성 입자(164)로 점프(jump)한 후 다시 인터커넥터(20)로 점프한다. 이때, 제2 도전성 입자(164)로 점프한 전하는 이웃하는 제2 도전성 입자(164)로 점프할 수도 있다. 따라서 전면 전극(13)으로 이동한 전하는 화살표를 따라 이동하여 인터커넥터(20)로 이동한다.
전하가 인접한 제2 도전성 입자(164)로도 점프할 수 있도록 하기 위해, 제2 도전성 입자 사이의 간격을 적절히 설정할 수 있다. 제2 도전성 입자 사이의 간격은 제2 수지(162) 내에 분산된 제2 도전성 입자(164)의 개수 또는 크기를 적절히 조절하는 것에 따라 설정할 수 있다.
따라서, 전면 전극(13)으로 이동한 전하는 제2 도전성 입자(164)를 통해 인터커넥터(20)로 전달된다.
이와는 달리, 도 11에 도시한 바와 같이 제2 도전성 입자(164)는 전면 전극(13) 및 인터커넥터(20) 중에서 적어도 하나와 직접 접촉하거나, 양쪽 모두와 직접 접촉할 수 있다.
이러한 구조에 따르면, 전면 전극(13)으로 이동한 전하는 제2 도전성 입자(164)를 통해 인터커넥터(20)로 직접 전달되므로, 도 10의 실시예에 비해 전류 흐름이 원활하게 이루어진다.
한편, 전면 전극(13)의 제1 부분(13a)과 접착되지 않는 제2 도전성 접착 필름(160)의 나머지 부분은 에미터부(12) 위에 위치한 반사방지막(15)과 직접 접촉한다.
제2 도전성 접착 필름(160)과 인터커넥터(20)를 양호하게 접착시키기 위해, 제2 도전성 접착 필름(160)은 전면 전극(13)의 돌출 두께(T3)보다 큰 두께(T4)를 가질 수 있다. 이 경우, 제2 도전성 접착 필름(160)의 전면(front surface)이 평탄면을 이루게 되므로, 인터커넥터(20)와 제2 도전성 접착 필름(160)의 접착이 양호하게 이루어진다.
통상적인 전면 전극(13)이 15㎛ 이하로 두께로 형성되므로, 전면 전극(13)의 돌출 두께는 15㎛보다 작다. 따라서, 제2 도전성 접착 필름(160)은 적용하고자 하는 태양전지의 스펙(spec)에 따라 15㎛ 내지 60㎛의 두께(T4) 범위 내에서 적절한 것을 사용할 수 있다.
다른 예로, 도 12에 도시한 바와 같이 제2 도전성 접착 필름(160)은 단차를 가질 수 있다. 또한, 전면 전극(13)으로 이동한 전하가 인터커넥터(20)로 양호하게 전달되도록 하기 위해, 인접한 제2 도전성 입자(64)들이 서로 물리적으로 접촉될 수 있으며, 전면 전극(13) 위에는 적어도 2개의 제2 도전성 입자(164)들이 위치할 수 있다.
제2 도전성 접착 필름(160)이 단차를 가질 경우에는 인터커넥터(20)도 제2 도전성 접착 필름(160)과 동일한 단차를 가질 수 있다. 그리고 도시하지는 않았지만 상기 인터커넥터(20)는 제2 도전성 입자(164)로 인해 표면이 볼록한 부분을 가질 수 있다.
도 12에 도시한 바와 같이, 제2 도전성 입자(164)는 태빙 작업시에 가해지는 압력으로 인해 타원 형태로 변형될 수 있다.
전술한 실시예의 경우 전면 전극(13)의 제1 부분(13a)이 제2 부분(13b)과 동일한 선폭(W3)을 갖는다.
이와는 달리, 전면 전극(13)의 제1 부분(13 a)과 제2 부분(13b)은 서로 다른 선폭으로 형성될 수 있다.
도 13을 참고하면, 전면 전극(13)의 제1 부분(13a)의 선폭(W4)은 제2 부분(13b)의 선폭(W3)보다 크게 형성된다. 이와 같이 제1 부분(13a)의 선폭(W4)을 제2 부분(13b)의 선폭(W3)보다 크게 형성하면, 제2 도전성 접착 필름(160)과 전면 전극(13)의 접착 강도를 향상시키고, 접촉 저항을 감소시켜 출력 저하를 방지할 수 있다.
제2 부분(13b)의 선폭(W3)보다 큰 선폭(W4)을 갖는 제1 부분(13a)은 일부 열의 전면 전극(13)에만 형성되고, 나머지 열의 전면 전극(13)의 제1 부분(13a)은 제2 부분(13b)과 동일한 선폭을 갖는다. 즉, 도 13에 도시한 바와 같이, 제2 부분(13b)의 선폭(W3)보다 큰 선폭(W4)을 갖는 제1 부분(13a)은 짝수 열의 전면 전극(13)에만 형성되고, 홀수 열의 전면 전극(13)은 제1 부분(13a)의 선폭(W4)이 제2 부분(13b)의 선폭(W3)과 동일한 크기로 형성될 수 있다.
도시하지는 않았지만, 제2 부분(13b)의 선폭(W3)보다 큰 선폭(W4)을 갖는 제1 부분(13a)은 홀수 열의 전면 전극에만 형성되거나, 이외의 다양한 형태로 형성될 수 있다.
그리고, 제1 부분(13a)은 전면 전극(13)을 기준으로 할 때 상하 대칭으로 형성되며, 전면 전극(13)의 길이 방향으로 일정한 길이(L3)를 갖는다. 이때, 제2 도전성 접착 필름(160)과 전면 전극(13)의 접착 강도 향상 및 접촉 저항 감소를 위해 제1 부분(13a)의 길이(L3)는 제2 도전성 접착 필름(160)의 폭(도 9 참조, W5) 이하로 형성되는 것이 바람직하다.
제2 도전성 접착 필름(160)의 폭(W5)이 1㎜ 미만으로 형성되면 접촉 저항이 증가되고, 상기 폭(W5)이 20㎜를 초과하면 수광 면적이 축소되는 문제점이 있으므로, 제2 도전성 접착 필름(160)의 폭(W5)은 1㎜ 내지 20㎜의 범위 내에서 형성하는 것이 바람직하다.
따라서, 제1 부분(13a)의 길이(L3)는 태양전지의 스펙(spec)에 따라 상기 제2 도전성 접착 필름(160)의 폭(W5) 범위 내에서 적절히 형성할 수 있다.
이와는 달리, 도 14에 도시한 바와 같이 제2 부분(13b)의 선폭(W3)에 비해 큰 선폭(W4)을 갖는 제1 부분(13a)은 모든 열의 전면 전극(13)에 각각 형성될 수 있다.
그리고, 제1 부분(13a)은 이웃하는 제1 부분(13a)과 서로 마주보도록 돌출될 수 있으며, 도시하지는 않았지만 동일한 방향으로 돌출될 수도 있다.
이러한 특징에 따르면, 전면 전극용 집전부와 후면 전극용 집전부를 형성할 필요가 없으므로, 집전 전극 형성에 필요한 공정 및 비용을 더욱 절감할 수 있다.
또한 기판의 휨(bowing) 및 손상을 더욱 효과적으로 방지할 수 있으며, 출력 감소를 효과적으로 억제할 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
10: 태양전지 11: 기판
12: 에미터부 13: 전면 전극
14: 전면 전극용 집전부 15: 반사방지막
16: 후면 전극 17: 후면 전계부
20: 인터커넥터 30a, 30b: 보호막
40: 투명 부재 50: 후면 시트
60, 160: 도전성 접착 필름 64, 164: 도전성 입자
12: 에미터부 13: 전면 전극
14: 전면 전극용 집전부 15: 반사방지막
16: 후면 전극 17: 후면 전계부
20: 인터커넥터 30a, 30b: 보호막
40: 투명 부재 50: 후면 시트
60, 160: 도전성 접착 필름 64, 164: 도전성 입자
Claims (20)
- 기판, 및 상기 기판의 후면(back surface)에 위치하는 후면 전극을 각각 포함하는 복수의 태양전지들;
제1 수지 및 상기 제1 수지 내에 분산된 복수의 제1 도전성 입자를 포함하고, 상기 후면 전극의 후면에 위치하며, 상기 후면 전극과 직접 접촉하는 제1 도전성 접착 필름; 및
상기 제1 도전성 접착 필름의 후면에 위치하며, 상기 제1 도전성 입자를 통해 상기 후면 전극과 전기적으로 연결되는 인터커넥터
를 포함하며,
상기 후면 전극은 상기 제1 도전성 접착 필름과 직접 접촉하는 제1 부분 및 상기 제1 부분과 이웃하는 제2 부분을 포함하는 태양전지 패널. - 제1항에서,
상기 후면 전극은 알루미늄 입자를 포함하는 태양전지 패널. - 삭제
- 제1항에서,
상기 제1 부분과 제2 부분의 두께가 서로 다른 태양전지 패널. - 제4항에서,
상기 제1 부분의 두께가 상기 제2 부분의 두께보다 작은 태양전지 패널. - 제5항에서,
상기 제1 도전성 접착 필름의 폭은 상기 제1 부분의 폭과 동일하거나 작게 형성되며, 상기 제2 부분에는 상기 제1 도전성 접착 필름이 접촉하지 않는 태양전지 패널. - 제5항에서,
상기 제1 도전성 접착 필름의 폭은 상기 제1 부분의 폭보다 크게 형성되며, 상기 제2 부분의 일부에도 상기 제1 도전성 접착 필름이 직접 접촉하는 태양전지 패널. - 제1항에서,
상기 제1 부분과 제2 부분의 두께가 서로 동일한 태양전지 패널. - 제1항에서,
상기 제1 부분과 제2 부분의 길이가 서로 다른 태양전지 패널. - 제9항에서,
상기 제1 부분의 길이가 상기 제2 부분의 길이보다 짧은 태양전지 패널. - 제10항에서,
상기 제1 도전성 접착 필름의 길이와 상기 제1 부분의 길이가 서로 동일한 태양전지 패널. - 제10항에서,
상기 제1 도전성 접착 필름의 길이가 상기 제1 부분의 길이보다 길게 형성되고, 상기 제1 도전성 접착 필름의 적어도 어느 한쪽 단부는 상기 제2 부분의 외측으로 연장되어 상기 기판과 직접 접촉하는 태양전지 패널. - 제1항에서,
상기 제1 부분과 제2 부분의 길이가 서로 동일한 태양전지 패널. - 제1항, 제2항 및 제4항 내지 제13항 중 어느 한 항에서,
상기 복수의 제1 도전성 입자는 상기 제1 부분 및 상기 인터커넥터 중 적어도 하나와 직접 접촉하는 태양전지 패널. - 제14항에서,
상기 복수의 제1 도전성 입자는 상기 제1 부분 및 상기 인터커넥터와 각각 직접 접촉하는 태양전지 패널. - 제14항에서,
상기 복수의 제1 도전성 입자는 인접한 제1 도전성 입자들과 서로 전기적으로 연결되는 태양전지 패널. - 제14항에서,
상기 태양전지는 상기 기판의 수광면에 위치하는 에미터부, 상기 에미터부와 전기적으로 연결되는 전면 전극, 및 상기 전면 전극이 위치하지 않는 상기 에미터부 위에 위치하는 반사방지막을 더 포함하는 태양전지 패널. - 제1항, 제2항 및 제4항 내지 제13항 중 어느 한 항에서,
상기 복수의 제1 도전성 입자와 후면 전극의 제1 부분 사이 및 상기 복수의 도전성 입자와 인터커넥터 사이에 상기 제1 수지가 위치하는 태양전지 패널. - 제18항에서,
상기 복수의 제1 도전성 입자는 인접한 제1 도전성 입자들과 서로 전기적으로 연결되는 태양전지 패널. - 제18항에서,
상기 태양전지는 상기 기판의 수광면에 위치하는 에미터부, 상기 에미터부와 전기적으로 연결되는 전면 전극, 및 상기 전면 전극이 위치하지 않는 상기 에미터부 위에 위치하는 반사방지막을 더 포함하는 태양전지 패널.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100076286A KR101123273B1 (ko) | 2010-08-09 | 2010-08-09 | 태양전지 패널 |
PCT/KR2010/008519 WO2012020889A1 (en) | 2010-08-09 | 2010-11-30 | Solar cell panel |
US12/957,635 US8507788B2 (en) | 2010-08-09 | 2010-12-01 | Solar cell panel |
EP10015494.7A EP2418690A3 (en) | 2010-08-09 | 2010-12-09 | Solar cell panel |
CN201110033925.2A CN102376794B (zh) | 2010-08-09 | 2011-01-31 | 太阳能电池板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100076286A KR101123273B1 (ko) | 2010-08-09 | 2010-08-09 | 태양전지 패널 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120014314A KR20120014314A (ko) | 2012-02-17 |
KR101123273B1 true KR101123273B1 (ko) | 2012-03-20 |
Family
ID=44141541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100076286A KR101123273B1 (ko) | 2010-08-09 | 2010-08-09 | 태양전지 패널 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8507788B2 (ko) |
EP (1) | EP2418690A3 (ko) |
KR (1) | KR101123273B1 (ko) |
CN (1) | CN102376794B (ko) |
WO (1) | WO2012020889A1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2791978A2 (en) * | 2011-12-13 | 2014-10-22 | Dow Corning Corporation | Photovoltaic cell and method of forming the same |
CN104126230A (zh) * | 2011-12-14 | 2014-10-29 | 道康宁公司 | 包括各向同性或各向异性导电层的光伏电池和制品 |
US20140166099A1 (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | Sunedison, Inc. | Crystalline photovoltaic cells and methods of manufacturing |
TWI548106B (zh) * | 2013-03-14 | 2016-09-01 | 長生太陽能股份有限公司 | 光伏電池模組及其製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009130949A1 (ja) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 三菱マテリアル株式会社 | 太陽電池用インターコネクタ用材料及び太陽電池用インターコネクタ |
KR20100043473A (ko) * | 2008-10-20 | 2010-04-29 | 주식회사 정호실업 | 태양전지모듈용 버스리본 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4084985A (en) * | 1977-04-25 | 1978-04-18 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method for producing solar energy panels by automation |
JPH08298334A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池板 |
JP2933003B2 (ja) * | 1996-04-16 | 1999-08-09 | 日本電気株式会社 | 太陽電池素子の実装構造 |
JP2004146464A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Sharp Corp | 太陽電池およびその製造方法、太陽電池用インターコネクター、ストリングならびにモジュール |
KR101087202B1 (ko) * | 2003-11-27 | 2011-11-29 | 쿄세라 코포레이션 | 태양 전지 모듈 |
US20070295381A1 (en) * | 2004-03-29 | 2007-12-27 | Kyocera Corporation | Solar Cell Module and Photovoltaic Power Generator Using This |
JP5025135B2 (ja) * | 2006-01-24 | 2012-09-12 | 三洋電機株式会社 | 光起電力モジュール |
US20070235077A1 (en) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Kyocera Corporation | Solar Cell Module and Manufacturing Process Thereof |
JP5230089B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2013-07-10 | 三洋電機株式会社 | 太陽電池モジュール |
JP2008135654A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 太陽電池モジュール |
JP4294048B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2009-07-08 | 三洋電機株式会社 | 太陽電池モジュール |
DE102008035730B4 (de) * | 2007-12-23 | 2009-10-15 | Paul Wild Ohg | Verfahren zur Anbringung eines Bearbeitungsstifts an einen zu schleifenden Edelstein sowie Handhabungs- oder Bearbeitungsstift und Messstift zum Durchführen des Verfahrens |
-
2010
- 2010-08-09 KR KR1020100076286A patent/KR101123273B1/ko active IP Right Grant
- 2010-11-30 WO PCT/KR2010/008519 patent/WO2012020889A1/en active Application Filing
- 2010-12-01 US US12/957,635 patent/US8507788B2/en active Active
- 2010-12-09 EP EP10015494.7A patent/EP2418690A3/en not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-01-31 CN CN201110033925.2A patent/CN102376794B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009130949A1 (ja) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 三菱マテリアル株式会社 | 太陽電池用インターコネクタ用材料及び太陽電池用インターコネクタ |
KR20100043473A (ko) * | 2008-10-20 | 2010-04-29 | 주식회사 정호실업 | 태양전지모듈용 버스리본 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120014314A (ko) | 2012-02-17 |
US20110139211A1 (en) | 2011-06-16 |
EP2418690A3 (en) | 2014-02-26 |
US8507788B2 (en) | 2013-08-13 |
CN102376794A (zh) | 2012-03-14 |
CN102376794B (zh) | 2015-03-18 |
WO2012020889A1 (en) | 2012-02-16 |
EP2418690A2 (en) | 2012-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101077504B1 (ko) | 태양전지 모듈 | |
EP2528109B1 (en) | Solar cell module | |
KR101621989B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
US9698291B2 (en) | Solar cell panel and method for manufacturing the same | |
KR101045860B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
US9231128B2 (en) | Solar cell module | |
KR101110826B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
KR101044606B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
KR20120138021A (ko) | 태양전지 모듈 | |
KR101123273B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
KR20120136044A (ko) | 태양전지 모듈 | |
KR20120044541A (ko) | 도전성 접착 필름, 상기 필름을 구비한 태양전지 패널 및 상기 패널의 제조 방법 | |
KR101692561B1 (ko) | 태양전지 패널 | |
KR20120138020A (ko) | 태양전지 모듈 | |
KR20120043242A (ko) | 태양전지 패널 및 이의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150213 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160122 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170113 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180112 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190114 Year of fee payment: 8 |