KR101079677B1 - 노광장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

노광장치 및 디바이스 제조방법 Download PDF

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Abstract

노광장치는 광원으로부터의 광속을 이용해 조명표면을 조명하도록 구성된 조명 광학계와, 상기 조명표면의 패턴을 기판에 투영하도록 구성된 투영 광학계를 구비한다. 상기 조명 광학계는, 상기 조명표면과 푸리에 변환의 관계에 있는 면의 광강도 분포로서의 유효 광원을 형성하도록 구성된 유효 광원 생성기와, 상기 유효 광원 생성기보다 상기 광원에 더 가깝게 배치되어 노광면에 있어서의 노광량을 조절하도록 구성된 노광량 조정기를 포함한다. 상기 노광량 조정기는, 이산적으로 상기 광속의 투과율을 조정하도록 구성된 투과율 조정기와, 상기 광속의 직경을 조정하도록 구성된 줌 광학계와, 상기 줌 광학계에 의해 조정된 상기 광속의 직경을 규정하는 일정한 개구 영역을 갖는 개구부를 포함한다.
노광장치, 노광량 조정기, 줌 광학계, 조명 광학계

Description

노광장치 및 디바이스 제조방법{EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은, 노광장치 및 디바이스 제조방법에 관한 것이다.
종래부터, 레티클 또는 마스크의 패턴을 투영 광학계를 통해서 기판에 노광하도록 구성된 투영 노광장치가 사용되고 있고, 크리티컬 디멘션(Critical Dimension："CD")의 균일성을 유지한 고품위의 노광이 더욱 더 요구되고 있다. CD 균일성을 유지하기 위해서는, 고정밀도로 노광량을 제어하는 것이 필요하다. 그러나, 광원으로서 범용되고 있는 엑시머 레이저(excimer laser)의 출력을 안정시키는 것은 곤란하기 때문에, 광원은 아니고 조명 광학계로 노광량을 조정하는 것이 바람직하다.
이 관점에서, 일본국 공개특허공보 특개소 63－316430호는, 레이저 출력을 조정하는 방법을 제안하고 있다. 일본국 공개특허공보 특개소 61－202437호는, 복수의 감광(light-attenuating) 필터를 전환하는 방법을 제안하고 있다. 일본국 공개특허공보 특개 2006－74035호는, 광로 중의 광학 소자를 경사지게 하여, 그 표면 반사로 노광량을 제어하는 방법을 제안하고 있다.
그 외의 종래 기술로서는 일본국 공개특허공보 특개평 10－050599호가 있다.
그러나, 근년 더욱 더 협대역화가 요구되는 노광장치용 레이저는 출력의 안정화를 위해서, 제어 범위가 좁아지고 있기 때문에, 일본국 공개특허공보 특개소 63－316430호와 같이, 레이저 출력의 제어만으로는 모든 노광량에 대응할 수 없다. 일본국 공개특허공보 특개소 61－202437호의 방법은, 노광량을 연속적으로는 조정하는 것보다는 이산적으로 조정하기 때문에 노광량의 조정 정밀도가 낮다. 일본국 공개특허공보 특개 2006－74035호의 방법은, 광학 소자의 경사 각도에 대하여 노광량 변화가 크기 때문에 노광량을 안정적으로 제어하는 것이 곤란하다고 하는 문제가 있다.
이와 같이, 종래 기술은 노광량을 정밀하게 제어할 수가 없었다. 따라서, 고정밀한 노광량 제어, 예를 들면, 노광량을 연속적, 광범위, 안정적, 및 고속(또는 고스루풋)으로 제어하는 것이 필요하다.
본 발명은, 노광량을 정밀하게 제어하는 노광장치를 지향한다.
본 발명에 있어서의 노광장치는, 광원으로부터의 광속을 이용해 조명표면을 조명하도록 구성된 조명 광학계와, 상기 조명표면의 패턴을 기판에 투영하도록 구성된 투영 광학계를 구비한다. 상기 조명 광학계는, 상기 조명표면과 푸리에 변환의 관계에 있는 면의 광강도 분포로서의 유효 광원을 형성하도록 구성된 유효 광원 생성기와, 상기 유효 광원 생성기보다 상기 광원에 더 가깝게 배치되어 노광면에 있어서의 노광량을 조절하도록 구성된 노광량 조정기를 포함한다. 상기 노광량 조정기는, 이산적으로 상기 광속의 투과율을 조정하도록 구성된 투과율 조정기와, 상기 광속의 직경을 조정하도록 구성된 줌 광학계와, 상기 줌 광학계에 의해 조정된 상기 광속의 직경을 규정하는 일정한 개구 영역을 갖는 개구부를 포함한다.
본 발명의 그 외의 특징은, 이하 첨부 도면을 참조해 설명되는 바람직한 실시 예에 의해 밝혀질 것이다.
이하, 첨부 도면을 참조해, 본 발명의 실시 예에 대해 설명한다.
도 1은, 본 발명에 따른 조명 광학계 및 이 조명 광학계를 갖는 노광장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
본 실시 예의 광원(1)은, 파장이 약 193nm의 ArF 엑시머 레이저이다. 그러나, 본 발명은 광원(1)으로서 파장이 약 248nm의 KrF 레이저를 사용해도 되고, 광원의 종류 및 파장과 광원의 개수에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 광원(1)은 레이저에 한정하지 않고, 수은 램프 등의 비레이저여도 괜찮다.
빔 디플렉션(deflection) 광학계(2)는, 광원(1)으로부터의 광속을 집광해서, 빔을 확대 및 축소해서, 노광량 조정기(3)로 광속을 도입한다.
노광량 조정기(3)는, 후에 자세히 설명되는 사출된 광속의 광량을 조정하는 기능을 갖는다.
각도 분포 규정 광학계(4)는, 복수의 광학 소자로 구성되어 있다. 각도 분포 규정 광학계(4)는, 광원으로부터의 광속이 마루바닥의 진동 및 노광장치의 진동에 의해 조명 광학계의 광축에 대해서 편심하거나 입사하는 광속의 크기가 바뀌거나 해도, 유효 광원 생성기(5)의 입사면의 광강도 분포를 유지하는 효과가 있다. 예를 들면, 도 2에 나타낸 바와 같이, 렌즈 어레이(옵티컬 인테그레이터;optical integrator)(41)는 일정한 각도로 광속을 사출하고, 콘덴서 렌즈(42)를 통해서 유효 광원 생성기(5)의 입사면을 균일하게 조명한다.
유효 광원 생성기(5)는, 원형 조명, 윤대(輪帶) 조명, 4중극 조명 등의 조명조건에 따라 광속을 윤대 형상이나 4중극 형상으로 변환하도록 구성된 소자를 포함하고 있다. 변배(variable power) 릴레이 렌즈(6)는, 유효 광원 생성기(5)에 의해 변환된 광속을 확대 및 축소하여, 후단의 옵티컬 인티그레이터(7) 위에 투영한다. 유효 광원은 조명 광학계의 동공면 혹은 피조사면(조명표면)과 푸리에 변환의 관계에 있는 면에 있어서의 광강도 분포이며, 피조사면에 입사하는 빛의 각도 분포를 나타낸다.
종래 잘 알려져 있는 윤대 형상의 유효 광원(도 3b)을 형성시키기 위해서, 유효 광원 생성기(5)는 도 3a에 나타낸 바와 같이, 한 쌍의 프리즘으로 구성되면 된다. 또, 한 쌍의 프리즘이 광축 방향으로 상대 이동 가능하도록 구성되면, 보다 다양한 유효 광원이 이용가능해진다. 한 쌍의 프리즘 중 하나가 오목한 원추의 입사면과 평면의 사출면을 갖고, 한 쌍의 프리즘 중 다른 하나가 평면의 입사면과 볼록한 원추의 사출면을 갖는다고 가정한다. 그들 사이의 간격이 도 3a에 나타낸 바와 같이 작을 때, 발광부의 폭이 넓은(윤대율이 작다) 윤대 형상의 유효 광원을 형성할 수 있다. 한편, 이들 사이의 간격을 도 4a에 나타낸 바와 같이 크게 하면, 도 4b에 나타낸 바와 같이 발광부의 폭이 좁은(윤대율이 크다) 윤대 형상의 유효 광원을 형성할 수 있다. 윤대율이 광강도 분포의 내경(내부 σ)을 외경(외부 σ)으로 나눈 값으로서 정의된다. 이 구성에 의해, 생성하고 싶은 패턴에 따라 유효 광원의 생성 자유도를 향상시킬 수가 있다. 또한, 후단의 변배 릴레이 렌즈(6)와 조합하면, 윤대율을 유지한 채로, 유효 광원의 크기(σ값)가 조정 가능해진다. 차광부재(8)는, 옵티컬 인티그레이터(7)의 사출면 근방에 배치된다. 차광 부재(8)가 위치하는 면은, 투영 광학계(17)의 동공면과 공역 관계에 있다. 차광 부재(8)의 형상은, 여러 가지의 변형 조명을 제공할 수가 있다.
옵티컬 인테그레이터(7)는, 예를 들면 굴절 광학 소자나 반사 광학 소자, 프레넬 렌즈(Fresnel lens)와 같은 회절 광학 소자를 2차원적으로 복수 배치한 마이크로 렌즈 어레이이다. 옵티컬 인테그레이터(7)로부터 사출한 광속은, 콘덴서 광학계(9)에 의해 집광되어 가동 시야 조리개(13)가 위치하는 면을 중첩적으로 조명한다.
하프 미러(half mirror;10)은, 계측 유닛으로서의 노광량 센서(11)로 빛을 분기하고, 노광량 센서(11)의 출력 신호가 제어기(12)에 입력되어, 제어기(12)에 의해 기판(피조사면)에 있어서의 노광량이 제어된다. 노광량 제어는, 제어기(12)가 광원(1)이나 노광량 조정기(3)를 제어하는 것에 의해 행해진다. 제어기(12)는, 메모리(20)를 갖는다. 노광량 센서는 도시한 위치에 한정되지 않고, 조명표면 또는 기판면의 위치에 배치되어, 직접 노광량을 계측해도 된다.
가동 시야 조리개(13)는 조명표면(15)이 위치하는 피조사면과 공역인 위치에 배치된다. 가동 시야 조리개(13)는 복수의 가동 차광판을 갖고, 가동 시야 조리개(13)가 임의의 개구 형상을 형성하도록 제어될 때 피조사면의 조명 범위를 규제하고 있다.
가동 시야 조리개(13)를 통과한 광속은, 콘덴서 광학계(14) 및 미러 M에 의해 피조사면에 도입된다.
조명표면(마스크 또는 레티클 15)은 조명표면 스테이지(16) 위에 홀드되어 있다.
피조사면에 배치된 조명표면(15)의 패턴은, 투영 광학계(17)에 의해 노광면에 위치하는 기판(웨이퍼 또는 유리 플레이트)(18)에 전사된다.
기판 스테이지(19)는 기판(18)을 홀드하고, 광축 방향 및 광축과 직교하는 평면을 따라 2차원적으로 움직이도록 제어된다.
스캔형의 노광 방법은, 조명표면(15)과 기판(18)을 도 1의 화살표 방향으로 동기시키면서 주사 노광을 제공한다. 투영 광학계의 축소 배율이 1/β이고, 기판 스테이지(19)의 주사 속도가 V일 때는, 조명표면 스테이지(16)의 주사 속도는 βV이다.
도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 제 1의 실시 예에 대해서, 구체적으로는, 기판(노광면)의 노광량을 조정하는 노광량 조정기(3)에 대해서 설명한다.
301은 투과율 조정기이며, 투과율 조정기는 사출광의 양을 줄이도록 구성되고, 투과율이 각각 다른 복수의 감광 필터(ND 필터)와, 감광 필터 중 하나를 선택하도록 구성된 터릿(turret)(셀렉터)을 포함한다. 302는 광속(빔) 직경 조정 광학계(줌 광학계)이며, 주밍(zooming)을 통해서 사출면의 빔 직경의 광속(빔) 직경을 조정하도록 구성된다. 303은 사출되는 광속의 직경을 제한하기 위해서 일정한 개구 영역을 갖는 개구부(광속 직경 설정부)이다.
도 5a 내지 5c는, 노광량의 제어의 실시 예를 나타낸다. 노광량 조정기(3) 이외의 노광 조건은 도 5a 내지 5c와 같다. 도 5a는, 감광 필터 3011을 이용해 노광한다. 도 5c는, 감광 필터 3012를 이용해 노광한다. 감광 필터 3012는, 복수의 감광 필터 중에서 감광 필터 3011보다 더 낮은 필터이다. 노광량을 연속적으로 제어하기 위해서, 도 5b에 나타낸 바와 같이, 빔 직경 조정 광학계(302)는 유효 영역(개구 영역) 밖에 광속을 확대시켜, 유효 영역 내에 입사하는 광량을 조절한다. 도 5a 내지 5c는, 간이화를 위해서 2개의 렌즈를 포함하는 빔 직경 조정 광학계를 나타내고 있지만, 렌즈의 개수는 2개에 한정되는 것은 아니고, 빔 직경을 조정하도록 구성된 굴절 또는 반사 광학계로 구성된다. 유효 광원의 성능 등을 유지하기 위해서, 개구부(303)의 후단의 광학계의 빔의 크기는 일정하게 유지될 수 있다.
빔 직경 조정 광학계(302)가 최소 배율을 가질 때, 개구부(303)의 면에 있어서의 빔 직경은, 유효 영역만큼 크다. 빔 직경 조정 광학계(302)가 사출 광속의 빔 직경을 조절하는 경우에, 개구부(303)의 사출면에 강도 분포의 큰 변화가 없게 한다. 이 구성으로, 빔 직경이 크게 변동하는 것을 방지할 수 있고, 후단의 광학계에서의 광학 성능을 변동시키는 것을 방지할 수 있다. 게다가, 개구부(303)의 후단에 도 2에 나타낸 옵티컬 인테그레이터를 포함한 적어도 2개의 각도 분포 규정 광학 소자(사출 각도 규정 소자)가 설치될 수 있다. 또, 개구부(303)는 유효 광원 생성기(5) 전단에 배치되는 것이 가능하다. 그렇게 함으로써, 개구부(303)의 면의 광분포 변화의 영향을 경감시키고, 후단의 광학 성능에의 변동을 보다 확실히 억제할 수가 있다. 광량을 광속 단면에 대해서 대략 균일하게 감광하는 것으로, 안정된 광학 성능을 제공할 수 있다.
빔 직경 조정 광학계(302)가 최대 배율을 가질 때에 감광 필터 3011에 의해 제공된 광량을 한층 더 감광하기 위해서, 도 5c에 나타낸 바와 같이, 감광 필터 3011을 감광 필터 3012로 전환한다. 감광 필터 3012를 사용하여, 빔 직경 조정 광학계(302)가 최소 배율을 가질 때에 달성할 수 있는 감광량은, 감광 필터 3011을 사용하여 빔 직경 조정 광학계(302)가 최대 배율을 가질 때에 달성할 수 있는 감광량만큼 높게 설정될 수 있다. 여유를 갖게 하기 위해서, 후자를 전자보다 조금 작게 할 수 있다. 구체적으로는, 빔 직경 조정 광학계(302)가 최소 배율을 갖는 경우에 사용되는 개구부(303)의 사출면의 빔 직경이, 유효 영역의 90% 이상인 것이 바람직하다.
투과율이 가장 가까운 2개의 감광 필터들 사이에서, 투과율이 높은 감광 필터의 투과율로 나눈 투과율이 낮은 감광 필터의 투과율을, 감광 단차라고 부르기로 한다. 빔 직경 조정 광학계가 개구부에 입사하는 광량을 100%~T%까지 변화시킬 수 있다고 가정한다. 광량을 연속적으로 제어하고 싶은 경우, 감광 단차는 T% 이상일 필요가 있다. 광량을 100%~1%까지 제어하고, t=0.01×T라고 하면, 필요한 감광 필터의 수는, tn ＜ 0.01에서 -(2/log t) 이상이 된다. 만약 T%가 50%이면, 필요한 감광 필터의 수는, 감광 필터를 많이 사용하지 않고 상기 식에 t=0.5를 대입하면 7개가 된다. 빔 직경 조정 광학계(302)가 큰 확대율을 갖는 경우에는, 감광 필터를 한층 더 세이브(save)할 수 있다. 복수의 감광 필터군이 있는 경우에도, 감광 필터를 세이브할 수 있다. 통상의 감광기에서는 연속적으로 감광하는 가변 범위를 크게 확보하는 것이 어렵지만, 본 방식에서는 간단한 구성으로, 예를 들면 0.01%와 100% 사이의 넓은 범위에서 광량을 조정할 수가 있다.
본 발명의 제 1의 실시 예는, 노광 처리에 이용하는 노광량을 조정하는 노광량 조정기(3)에 대해 설명했지만, 본 발명은 이 실시 예에 한정되지 않는다. 본 발명의 다른 실시 예는, 노광장치의 계측계에 사용되는 광량을 조정하도록 구성된 노광량 조정기(3)를 포함한다. 노광 처리와 노광장치의 계측계에 이용하는 노광량 조정기(3)는 같은 구성을 가지므로, 그 자세한 설명에 대해서는 생략한다. 노광장치의 계측계에 사용되는 매우 작은 광량은, 0.01% 이하이다. 본 발명에 의하면, 예를 들면, 노광장치의 계측계에 사용되는 광량을 0.01%와 30% 사이의 범위에서 조정할 수 있고, 노광 처리에 사용되는 노광량을 30%와 100% 사이의 범위에서 조정할 수 있다.
이 방법을 이용해 연속적인 노광량의 조정을 용이하게 실시할 수 있다. 예를 들면, 노광 전에 감광 필터와 빔 직경 조정 광학계의 줌 위치로 달성할 수 있는 노광량을 계측하고, 메모리(20)에 기억시킨다. 그렇게 하는 것으로, 필요한 노광량을, 노광장치에서 즉석으로 설정할 수 있다.
도 6을 참조해서 본 발명의 일 실시 예에 따른 노광량 조정 방법에 대해 설명한다. 도 6은, 제어기(12)의 노광량 조정 방법의 플로차트다.
제어기(12)는, 우선, 노광량 센서(11)의 검출 결과와 메모리(20)의 스레숄 드(데이터)를 비교하고(스텝 1000), 노광량의 제어가 필요한지 어떤지를 판단한다(스텝 1001). 노광량 제어가 필요하다고 판단한 경우, 제어기(12)는 노광량의 조정량이 스레숄드 이상인지 어떤지를 판단한다(스텝 1003). 노광량 제어가 필요하지 않다고 판단한 경우에는, 제어기(12)는 그대로 현 상태를 유지한다(스텝 1002).
노광량의 조정량이 스레숄드 이상이라고 판단하면(스텝 1003), 제어기(12)는 노광량이 타겟 값에 가장 가까운 감광 필터 중 하나를 선택한다(스텝 1005). 그 후에, 빔 직경 조정 광학계(302)는 노광량을 타겟 값이 되도록 조정한다(스텝 1006). 노광량의 조정량이 스레숄드 이상이 아닌 경우, 빔 직경 조정 광학계(302)는 노광량을 타겟 값이 되도록 조정한다(스텝 1004).
본 발명은, 이와 같이 노광량을 타겟 노광량으로 즉시 조정하여, 고속화 또는 고스루풋화한 노광장치를 제공한다.
본 발명에 있어서의 노광량 조정기(3)는, 연속적인 노광량의 조정을 위해서, 감광 필터의 매수를 극단적으로 줄여 빔 직경 조정 광학계(302)의 확대/축소 범위를 넓게 하도록 구성되어도 된다. 그러나, 그러한 구성은, 노광장치(100) 내의 빔 직경 조정 광학계(302)를 대형화하기 때문에, 노광장치 전체도 대형화해 버린다. 또, 확대/축소 범위를 넓게 해서 사용하면, 확대/축소 시간이 길어져, 스루풋이 저하해 버린다. 반대로, 감광 필터의 매수를 많이 해서 빔 직경 조정 광학계(302)의 확대/축소 범위를 좁게 하면 노광장치 전체적으로 고가격이 되어 버린다.
따라서, 본 발명은, 예를 들면, 노광 처리시에 있어서 사용되는 감광 필터의 매수를 2 내지 5매로 설정하고, 빔 직경 조정 광학계(302)의 감광량을 0 내지 30%로 설정했다. 감광 필터의 매수를 2매 미만으로 하면, 빔 직경 조정 광학계(302)에 의한 확대/축소 범위가 넓어지기 때문에, 노광장치(100)가 대형화해, 스루풋이 저하한다. 또, 감광 필터의 매수를 5매보다 크게 하면, 노광장치 전체의 코스트가 증가한다. 마찬가지로, 빔 직경 조정 광학계(302)에 의한 감광량을 30%보다 크게 해 버리면 노광장치가 대형화해, 스루풋이 저하한다.
본 발명은 감광 필터의 매수, 빔 직경 조정 광학계(302)의 감광량을 상술한 것처럼 규정함으로써, 연속적이고 고정밀하게 노광량을 조절해서, 저가격화, 소형화한 노광장치를 제공할 수가 있다.
이와 같이, 감광 필터와 빔 직경 조정 광학계(302)를 이용하는 것으로, 간소하고 저비용으로 노광량을 제어할 수 있다. 노광량 제어시에 있어서, 항상 광속 단면의 조도를 균일하게 저감시켜, 개구부(303)는 광속 단면의 크기를 균일하게 유지한다. 이것에 의해, 성능면에서도 안정된 노광량 제어를 실현할 수 있다.
본 실시 예에서는, 이러한 구성의 노광장치(100)가 기판을 노광한 후에 기판의 현상 처리 공정을 통해서 디바이스를 제조하고 있다.
디바이스(반도체 집적회로 소자, 액정 표시 소자 등)는, 상기 노광장치를 사용해 감광제를 도포한 기판(웨이퍼, 유리 플레이트 등)을 노광하는 공정과 그 기판을 현상하는 공정과 다른 주지의 공정에 의해 제조된다.
본 실시 예의 제조방법을 이용하면, 종래보다 단시간에 고정밀하게 반도체 디바이스를 제조할 수가 있다. 이와 같이, 노광장치(100)를 사용하는 디바이스 제 조방법, 및 결과물로서의 디바이스도 본 발명의 일 측면을 구성한다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해 설명했지만, 본 발명은 이러한 실시 예에 한정되지 않는 것은 말할 필요도 없고, 그 요지의 범위에서 여러 가지의 변형 및 변경이 가능하다.
본 출원은 전체 내용이 본 명세서에 참고로 통합되어 있는 2007년 11월 22일자로 출원된 일본 특허출원번호 제2007-302423호로부터 우선권을 주장한다.
도 1은 본 발명에 따른 노광장치의 개략도이다.
도 2는 각도 분포 규정 광학계를 나타내는 도면이다.
도 3a는 유효 광원 생성기의 일례인 원추 프리즘을 나타내고, 도 3b는 윤대율이 작은 윤대 조명을 나타낸다.
도 4a는 유효 광원 생성기의 일례인 원추 프리즘을 나타내고, 도 4b는 윤대율이 큰 윤대 조명을 나타낸다.
도 5a 내지 5c는, 본 발명에 따른 실시 예를 나타낸다.
도 6은 노광량 조정 방법을 나타내는 플로차트다.

Claims (6)

  1. 광원으로부터의 광속을 이용해 조명표면을 조명하도록 구성된 조명 광학계로서,
    상기 조명 광학계는,
    상기 조명표면과 푸리에 변환의 관계에 있는 면의 광강도 분포로서의 유효 광원을 형성하도록 구성된 유효 광원 생성기와,
    상기 유효 광원 생성기보다 상기 광원에 더 가깝게 배치되어 노광면에 있어서의 노광량을 조절하도록 구성된 노광량 조정기를 포함하고,
    상기 노광량 조정기는,
    이산적으로 상기 광속의 투과율을 조정하도록 구성된 투과율 조정기와,
    상기 광속의 직경을 조정하도록 구성된 줌 광학계와,
    상기 줌 광학계에 의해 조정된 상기 광속의 직경을 규정하는 일정의 개구 영역을 갖는 개구부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 조명 광학계는 상기 노광량 조정기의 후단에 배치되는 복수의 옵티컬 인테그레이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 투과율 조정기는
    복수의 감광 필터와,
    상기 복수의 감광 필터 중 하나를 선택하고, 선택된 하나를 광로에 삽입하도록 구성된 셀렉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  4. 제 1 항에 있어서,
    광량을 계측하도록 구성된 계측 유닛과,
    상기 계측 유닛의 계측 결과에 근거해, 상기 노광량 조정기를 제어하도록 구성된 제어기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 조명광학계.
  5. 노광장치로서,
    광원으로부터의 광속을 이용해 조명표면을 조명하도록 구성된 조명 광학계와,
    상기 조명표면의 패턴을 기판에 투영하도록 구성된 투영 광학계를 구비하고,
    상기 조명 광학계는,
    상기 조명표면과 푸리에 변환의 관계에 있는 면의 광강도 분포로서의 유효 광원을 형성하도록 구성된 유효 광원 생성기와,
    상기 유효 광원 생성기보다 상기 광원에 더 가깝게 배치되어 노광면에 있어서의 노광량을 조절하도록 구성된 노광량 조정기를 포함하고,
    상기 노광량 조정기는,
    이산적으로 상기 광속의 투과율을 조정하도록 구성된 투과율 조정기와,
    상기 광속의 직경을 조정하도록 구성된 줌 광학계와,
    상기 줌 광학계에 의해 조정된 상기 광속의 직경을 규정하는 일정의 개구 영역을 갖는 개구부를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 청구항 5의 노광장치를 이용해 기판을 노광하는 스텝과,
    노광된 기판을 현상하는 스텝을 포함하는것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
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