KR101040632B1

KR101040632B1 - 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치

Info

Publication number: KR101040632B1
Application number: KR1020100112162A
Authority: KR
Inventors: 이승현
Original assignee: 주식회사 우진아이엔에스
Priority date: 2010-11-11
Filing date: 2010-11-11
Publication date: 2011-06-10

Abstract

본 발명은 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조공정에서 배기덕트 내에 설치되어 내부에 축적되는 부산물(예 : 응축액, 미반응 가스 등)이 역류되는 것을 방지할 수 있는 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는, 폴리염화비닐(PVC) 재질이며, 원통형의 수직관과, 상기 수직관의 상,하부에 각각 외측으로 돌출 연장되는 플랜지로 이루어진 본체와; 상기 본체에 삽입되며, 상기 상부 플랜지의 상부에 위치하도록 상기 상부 플랜지와 동일한 직경으로 돌출 형성되는 받침부와, 상기 받침부로부터 하부로 연장되며 부산물의 배출이 용이하도록 깔대기 형태로 형성되는 배출부와, 상기 배출부의 하단에 형성되며 배기덕트 내 압력에 의해 신축되어 배출구가 개폐되는 신축부로 이루어지는 바이톤(viton) 재질의 역류방지체로; 구성되는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치{Apparatus for preventing counterflow of by-product for exhaust air duct of semiconductor manufacturing process}

본 발명은 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조공정에서 배기덕트 내에 설치되어 내부에 축적되는 부산물(예 : 응축액, 미반응 가스 등)이 역류되는 것을 방지할 수 있는 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치에 관한 것이다.

일반적으로, CVD(화학기상증착)는 기체상태의 화합물을 가열된 모재 표면에서 반응시키고 생성물을 모재 표면에 증착시키는 기술이다. CVD는 현재 상업적으로 이용되는 박막제조기술로 가장 많이 활용되고 있다. CVD(화학기상증착) 공정은 융점이 높아서 제조하기 어려운 재료를 융점보다 낮은 온도에서 용이하게 제조할 수 있고, 증착되는 박막의 순도가 높으며, 대량 생산이 가능하여 비용이 PVD 공정에 비해 적게 들고, 여러 가지 종류의 원소 및 화합물의 증착이 가능한 것이 특징이다.

특히, 웨이퍼의 표면에 패턴을 형성시키기 위한 여러 공정들에는 여러 반응가스들의 공급에 의한 웨이퍼와의 반응이 수반되게 되는데, 반응 후의 부산물이나 미반응 가스 등이 배기가스에 포함되어 방출되는 것이 필연적이다.

이러한 반응 후의 부산물 혹은 미반응 가스들을 포함하는 배기가스가 그대로 대기 중으로 방출될 경우에는 심각한 환경오염의 원인이 될 수 있기 때문에 상기 부산물 혹은 미반응 가스들은 배기라인을 통해 외부로 배출된다.

도 4에 도시된 바와 같이, 종래의 배기라인은 챔버(100)에 연결된 진공배관(200)의 일측에 진공펌프(300)가 설치되어 일정한 진공압을 발생시키고, 1차 스크루버(400)와 2차 스크루버(500)가 설치되어 배기된 공정가스를 차례로 정화한 후 대기로 방출하는 구조이며, 상기 1차, 2차 스크루버 사이에는 배기덕트(600)가 설치된다.

그러나, 종래의 배기라인은 배기덕트 내의 공정 부산물을 단순히 배출하기 위해 DC FLANGE TYPE 방식으로 이루어지므로 체결력이 부족하여 응축수 누수 발생 요인이 많으며, 제작비용이 많이 소요되는 문제점이 있었다. 또한, 가장 심각한 문제는 배기덕트 내에 부산물 혹은 미반응 가스 배출 시 부산물이 음압에 의해 역류되는 문제점이 발생하였다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 배기덕트 내에 설치되어 내부에 축적되는 부산물이 역류되는 것을 방지할 수 있으며, 구조가 간단하여 탈부착이 용이한 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는, 폴리염화비닐(PVC) 재질이며, 원통형의 수직관과, 상기 수직관의 상,하부에 각각 외측으로 돌출 연장되는 플랜지로 이루어진 본체와; 상기 본체에 삽입되며, 상기 상부 플랜지의 상부에 위치하도록 외측으로 돌출 형성되는 받침부와, 상기 받침부로부터 하부로 연장되며 부산물의 배출이 용이하도록 깔대기 형태로 형성되는 배출부와, 상기 배출부의 하단에 형성되며 배기덕트 내 압력에 의해 신축되어 배출구가 개폐되는 신축부로 이루어지는 바이톤(viton) 재질의 역류방지체로; 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는, 배기덕트 내에 설치되어 내부에 축적되는 부산물이 역류되는 것을 방지하는 효과가 있다.

또한, 구조가 간단하여 설비의 고장 및 점검 시 탈부착이 용이하여 취급이 편리한 효과가 있다.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 분리사시도.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 단면도.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 사용상태도.
도 4는 종래 기술을 도시한 도면.

또한, 상기 신축부는 상기 배출부의 하단에 수직방향으로 형성되는 수직면과, 상기 수직면의 단부 양측에 형성되는 돌기구로 형성되는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 분리사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 단면도이며, 도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치를 도시한 사용상태도이다.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는 본체(1)와, 상기 본체(1)에 삽입되는 역류방지체(2)로 구성된다.

상기 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는, 구조가 간단하여 취급이 용이하며 기존의 포집기에 비해 설치공간이 적다.

상기 본체(1)는 폴리염화비닐(PVC) 재질로 이루어져 가볍고 내부식성이 우수하며, 원통형의 수직관(11)과, 상기 수직관(11)의 상,하부에 각각 외측으로 돌출 연장되는 플랜지(12)로 이루어진다.

상기 상,하부 플랜지(12a,12b)에는 배기덕트(3)의 플랜지(31)와 볼트(4) 체결되도록 다수개의 볼트구멍(13)이 형성된다.

상기 역류방지체(2)는 상기 본체(1)에 삽입되며, 상기 상부 플랜지(12a)의 상부에 위치하도록 외측으로 돌출 형성되는 받침부(21)와, 상기 받침부(21)로부터 하부로 연장되며 부산물의 배출이 용이하도록 깔대기 형태로 형성되는 배출부(22)와, 상기 배출부(22)의 하단에 형성되며 배기덕트(3) 내 압력에 의해 신축되어 배출구(231)가 개폐되는 신축부(23)로 이루어지는 바이톤(viton) 재질의 역류방지체(2)로 구성된다.

상기 역류방지체(2)는 바이톤 재질로서, 내화학성이 우수하여 부산물에 대한 저항성이 뛰어나다.

상기 배출부(22)는 부산물의 배출이 용이하도록 깔대기 형태로 형성되어 있으며, 부산물의 배출을 보다 신속하게 하기 위해 양측면에 테이퍼면(221)이 더 형성된다. 특히, 상기 테이퍼면(221)의 하단은 상기 신축부(23)의 상단과 일치되게 형성되므로 상기 배출부(22)로 유입된 부산물을 신축부(23)로 안내할 수가 있다.

상기 신축부(23)는 상기 배출부(22)의 하단에 연장 형성되는 것으로, 상기 배출부(22)의 하단에 수직방향으로 형성되는 수직면(232)과, 상기 수직면(232)의 단부 양측에 형성되는 돌기구(233)로 형성된다.

따라서, 상기 수직면(232)을 따라 배출구(231)로 부산물이 수직방향으로 안내되어 배출되고, 상기 돌기구(233)에 의해 상기 배출구(231)의 개방을 줄여줌으로써 부산물의 과다 배출을 예방할 수 있다.

본 발명에 따른 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치는, 배기덕트(3) 내에 부산물의 배출 시 음압에 의해 부산물이 역류되지 않도록 하기위해 설치되는 것으로서, 재질이 가볍고 구조가 간단하여 배기라인의 장비를 정비하거나 고장 시 탈부착이 용이하며, 설치 공간이 적게 든다.

특히, 배기덕트(3) 내 압력에 의해 신축되는 바이톤 재질의 역류방지체(2)에 의해 부산물이 통과하는 경우에 신축부(23)가 늘어나면서 배출구(231)를 통해 배출되고, 부산물의 배출량이 작아지면서 압력의 크기도 작아져 늘어났던 신축부(23)가 다시 줄어들면서 배출구(231)의 개방을 최소화하여 부산물이 역류하는 것을 차단하게 된다.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 중심으로 기술되었지만 당업자라면 이러한 기재로부터 본 발명의 범주를 벗어남이 없이 많은 다양한 자명한 변형이 가능하다는 것은 명백하다. 따라서 본 발명의 범주는 이러한 많은 변형의 예들을 포함하도록 기술된 청구범위에 의해서 해석되어져야 한다.

1 : 본체
11 : 수직관
12 : 플랜지
12a : 상부 플랜지
12b : 하부 플랜지
13 : 볼트구멍
2 : 역류방지체
21 : 받침부
22 : 배출부
221 : 테이퍼면
23 : 신축부
231 : 배출구, 232 : 수직면, 233 : 돌기구
3 : 배기덕트
31 : 플랜지
4 : 볼트

Claims

폴리염화비닐(PVC) 재질이며, 원통형의 수직관(11)과, 상기 수직관(11)의 상부에 외측으로 돌출 연장되는 상부 플랜지(12a)와, 상기 수직관(11)의 하부에 외측으로 돌출 연장되는 하부 플랜지(12b)로 이루어진 본체(1)와;
상기 본체(1)에 삽입되며, 상기 상부 플랜지(12a)의 상부에 위치하도록 외측으로 돌출 형성되는 받침부(21)와, 상기 받침부(21)로부터 하부로 연장되며 부산물의 배출이 용이하도록 깔대기 형태로 형성되는 배출부(22)와, 상기 배출부(22)의 하단에 형성되며 배기덕트(3) 내 압력에 의해 신축되어 배출구(231)가 개폐되는 신축부(23)로 이루어지는 바이톤(viton) 재질의 역류방지체(2)로 구성되며;
상기 배출부(22)의 양측면에 부산물의 배출을 신속하게 하기 위해 테이퍼면(221)이 더 형성되고;
상기 테이퍼면(221)의 하단은 상기 신축부(23)의 상단과 일치되게 형성되며;
상기 신축부(23)는 상기 배출부(22)의 하단에 수직방향으로 형성되는 수직면(232)과, 상기 수직면(232)의 단부 양측에 형성되는 돌기구(233)로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치.
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