KR100964654B1 - 대면적 ｘ선 검출장치 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 대면적 X선 검출장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 센서 패널의 테두리부에 댐을 형성하며, 상기 댐 안쪽으로 저점성의 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층을 형성함으로써 센서 패널과 신틸레이터 패널이 균일하게 접합할 수 있을 뿐만 아니라 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
신틸레이터 패널, 센서 패널, 대면적 X선 검출장치, 댐
Description
본 발명은 대면적 X선 검출장치 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 센서 패널과 신틸레이터 패널이 균일하게 접합된 X선 대면적 X선 검출장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
X선 검출장치는 피사체의 각 부분을 통과하는 서로 다른 X선을 투과량에 따라 서로 다른 전기 신호로 출력함으로써 상기 피사체의 내부 구조를 이미지로 재구성하는 장치이다.
이러한 X선 검출장치는 산업용, 의료용 등 다양한 분야에서 사용되고 있으며 특히, 의료분야에서는 다양한 신체부위의 고화질 이미지를 획득하기 위하여 활발한 연구개발이 이루어지고 있다.
X선 검출장치의 구조를 간단히 살펴보면, 일반적으로 알루미늄층과 CsI층으로 이루어져 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널과 상기 신틸레이터 패널에서 변환된 가시광선을 받아들여 가시광선의 세기에 따른 전기신호를 출력하는 TFT 패널로 이루어진다.
일반적인 X선 검출장치에는 X선이 신틸레이터 패널을 통과하여 TFT 패널까지 도달하는 동안 광학적인 확산이나 산란 등 다양한 원인으로 인하여 이미지의 질이 떨어진다는 문제점이 있다.
이러한 일반적인 X선 검출장치는 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널이 각각 제작되어 서로 접착함으로써 제조하게 되는데, 접착시에 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 사이의 거리를 균일하게 하여 접착하거나 기포를 함유하지않도록 하는 것은 매우 어려운 일이다.
또한, 대면적의 신틸레이터 패널이나 TFT 패널을 접합할 수 있는 제조장치의 구성이 어려우며, 신틸레이터 패널의 크기가 크기 때문에 발생하는 수많은 공정상의 어려움이 있었다.
이러한 어려움은 치아나 악궁 등의 이미지를 획득하는 구강센서와 같은 소면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제가 되지 않지만, 흉부나 두부 및 경부 등과 같은 광범위한 부분의 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제로 작용하게 된다.
이로 인해, 신틸레이터 패널과 TFT 패널을 균일하게 접합시키는 기술이나 기포의 함유를 줄일 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 발명된 것으로, 본 발명의 목적은 센서 패널의 테두리부에 댐을 형성하며, 상기 댐 안쪽으로 저점성의 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층을 형성함으로써 센서 패널과 신틸레이터 패널이 균일하게 접합된 대면적 X선 검출장치 및 그의 제조방법을 제공하는데에 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치는 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치에 있어서, X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널, 복수 개의 광전 변환 소자를 구비하여 상기 가시광선을 센싱하는 센서 패널, 상기 센서 패널에서 가시광선을 센싱하지 못하는 테두리부에 형성된 댐 및 상기 댐 안쪽에 형성되어 상기 신틸레이터 패널과 상기 센서 패널을 접합하는 접착층을 포함하여 이루어진다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 댐은 제1열경화성 물질로 형성되고, 상기 접착층은 제2열경화성 물질로 형성되며, 상기 제1열경화성 물질은 상기 제2열경화성 물질보다 점성도가 높다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 댐은 제1 UV경화성 물질로 형성되고, 상기 접착층은 제1 UV경화성 물질로 형성되며, 상기 제1 UV경화성 물질은 상기 제2 UV경화성 물질보다 점성도가 높은 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 센서 패널의 테두리부에 제1 경화성 물질로 댐을 형성하는 제 1 단계, 상기 센서 패널 위에 형성된 댐 안쪽으로 제2 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층을 형성하는 제 2 단계, 상기 센서 패널에 형성된 접착층 위에 신틸레이터 패널을 마운팅시켜 합착하는 제 3 단계 및 상기 댐과 접착층을 경화시키는 제 4 단계를 포함하여 이루어진다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제1 경화성 물질은 상기 제2 경화성 물질 보다 점성도가 높다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제1 경화성 물질 및 상기 제2 경화성 물질은 열경화성 물질이며, 열에 의해 경화된다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제1 경화성 물질 및 상기 제2 경화성 물질은 UV경화성 물질이며, UV에 의해 경화된다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 3 단계는 상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 진공챔버 내부에 구비된 제 1 지지테이블에 위치시키는 제 3-1 단계, 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비된 제 2 지지테이블에 상기 신틸레이터 패널을 장착하는 제 3-2 단계, 상기 진공챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 3-3 단계, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 3-4 단계 및 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 3-5 단계를 포함하여 이루어진다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 3-5 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 3-5-1 단계를 더 포함하여 이루어진다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 3-5 단계 이후에 상기 질소 퍼징에 의해 진공을 해제하여 상기 센서 패널과 신틸레이터 패널을 압착하는 제 3-5-2 단계를 더 포함하여 이루어진다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 3-4 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10mm이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 센서 패널의 테두리부에 댐을 형성하고, 상기 댐 안쪽으로 저점성의 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층을 형성함으로써 센서 패널과 신틸레이터 패널을 균일하게 접합할 수 있을 뿐만 아니라 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명은 센서 패널의 테두리부에 댐을 형성함으로써 신틸레이터 패 널의 조해를 방지하기 위해 별도로 수행하는 실런트 제조공정을 생략할 수 있는 효과를 제공한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치를 도시하는 도면이다.
도 1을 참조하면, X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널(130), 복수 개의 광전 변환 소자를 구비하여 상기 가시광선을 센싱하는 센서 패널(140), 상기 센서 패널(140)에서 가시광선을 센싱하지 못하는 테두리부에 형성된 댐(150) 및 상기 댐(150) 안쪽에 형성되어 상기 신틸레이터 패널(130)과 센서 패널(140)을 접합하는 접착층(160)을 포함하여 이루어진다.
상기 신틸레이터 패널(130)은 알루미늄 플레이트(110)와 상기 알루미늄 플레이트(110) 후면에 고휘도 형광 물질인 요드화 세슘(CsI) 등을 퇴적시켜 성막하는 주상 결정구조의 신틸레이터층(120)으로 형성된다.
여기서, 상기 알루미늄 플레이트(110)는 X선을 투과시키고, 가시광선을 반사시키는 알루미늄의 성질을 이용하여 상기 신틸레이터층(120)에서 발생된 가시광선이 외부로 누설되지 않도록 하여 대면적 X선 검출장치(100)의 감도를 향상시킨다.
상기 센서 패널(140)은 상기 신틸레이터 패널(130)로부터의 가시 광선을 전기신호로 변환하는 하여준다.
상기 가시 광선 신호를 전기신호로 변환하는 수단으로 다양한 수단을 이용할 수 있지만 TFT를 이용하는 것이 일반적이므로, 본 발명에서는 센서 패널로서 TFT 패널을 이용하여 설명하기로 한다.
상기 TFT 패널(140)은 직사각형 평판 형상으로 표면에 이차원의 매트릭스상으로 복수 개의 픽셀이 배열되고, 각 픽셀마다 스위칭 소자로서 TFT(tin film transistor)와 포토 다이오드와 같은 광전 변환 소자가 형성되어 있다.
여기서, 상기 TFT 패널(140) 후면에는 상기 TFT 패널(140)을 지지하고 외부의 저항으로부터 보호하는 서브글래스를 더 포함할 수도 있다.
이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다. 또한, 상기 신틸레이터 패널(130) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다.
즉, 본 발명은 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상인 센서패널과, 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 신틸레이터 패널을 이용하여 접합함으로써 초대형 X선 검출장치를 제조할 수 있 수 있다. 한편, 바람직한 실시예로서 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이가 8×8 인치, 10×12 인치 또는 17×17 인치인 대면적 X선 검출장치를 제조할 수 있다.
상기 댐(150)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 TFT 패널(140)에서 가시광선을 센싱하지 못하는 주변부에 점성도가 높은 제1열경화성 물질 또는 제1 UV경화성물질로 형성되며, 열 또는 UV에 의해 경화된 후에 상기 신틸레이터층(120)을 대기 중의 수분으로부터 보호한다.
상기 신틸레이터 패널(130)과 접합되는 상기 접착층(160)의 표면은 기포가 발생하지 않도록 균일하게 형성되어야 한다.
이하, 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치(100)의 제조방법을 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조방법을 설명하는 흐름도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치(100)의 제조방법은 TFT 패널(140)의 테두리부에 제1 경화성 물질로 댐(150)을 형성하는 단계, 상기 TFT 패널(140) 위에 형성된 댐(150) 안쪽으로 제2 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층(160)을 형성하는 단계, 상기 TFT 패널(140)에 형성된 접착층(160) 위에 신틸레이터 패널(130)을 마운팅시켜 합착하는 단계 및 상기 댐(150)과 접착층(160)을 경화시키는 경화 단계를 포함하여 이루어진다.
먼저, 상기 TFT 패널(140)을 평탄한 면에 안착 및 고정시키고, 제1디스펜싱 장치(20)를 이용하여 댐(150)을 형성한다(S100). 이때, 상기 제1디스펜싱 장치(20)는 상기 TFT 패널(140) 위에서 상기 TFT 패널(140)의 테두리부를 따라 이동하면서 상기 제1 경화성 물질을 도포하여 댐(150)을 형성한다. 이때, 상기 제1 경화성 물질은 점성도가 높아 잘 흘러내리지 않으므로 의도하지 않은 곳까지 접착되어 문제를 일으켰던 종래의 결점을 보완할 수 있다.
상기 댐(150)은 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 접합시키는 접착층(160)을 균일하게 만드는 것을 보조하기 위해 형성된 것으로 경화된 후에는 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)의 주변부를 밀착시킴으로써 대기중의 수분에 의한 신틸레이터 패널(130)의 조해를 방지한다.
즉, 상기 댐(150)은 상기 TFT 패널(140)의 주변부에서 외부로부터 내부를 보호하는 높이가 일정한 테두리 모양으로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 TFT 패널(140) 위에 댐(150)을 형성한 뒤, 제2디스펜싱 장치(30)에 상기 제2 경화성 물질을 준비한다. 그리고, 상기 제2디스펜싱 장치(30)는 상기 TFT 패널(140) 위에서 상하 또는 좌우로 이동하면서 상기 제2 경화성 물질을 댐(150) 안쪽으로 디스펜싱하여 채운다. 이로 인해, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 합착하는 접착층(160)이 형성된다(S200).
이때, 상기 제1 경화성 물질은 상기 제2 경화성 물 보다 점성도가 높은 것을 사용하는 것이 바람직하며, 경화성 물질로 열경화성 물질 또는 UV경화성 물질을 사용할 수 있다. 한편, 상기 제2열경화성 물질로서 액상 실리콘을 사용할 수 있으며, 상기 액상 실리콘을 상기 TFT 패널(140)에 도포함으로써 표면이 균일한 접착층(160)이 형성된다.
그리고, 상기 접착층(160) 위에 상기 신틸레이터 패널(130)을 마운팅시켜 합착시킴으로써, 상기 댐(150)은 상기 신틸레이터 패널(130)의 테두리의 모양에 따라 성형되어 밀착된다(S300). 이로 인해 상기 신틸레이터 패널(130)에 구비된 신틸레이터층(120)은 대기중의 수증기로부터 보호받을 수 있다.
상기 접착층(120)에 신틸레이터 패널(130)을 접착하는 단계는 그 내부를 진 공 상태로 형성시킬 수 있는 진공챔버(200) 내부에서 이루어질 수 있다.
보다 상세하게, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)의 합착 단계는 상기 접착층(160)을 위쪽으로 하여 상기 TFT 패널(140)을 진공챔버(200) 내부에 구비된 제 1 지지테이블(210)에 위치시키는 단계, 상기 제 1 지지테이블(210) 상부에 구비된 제 2 지지테이블(220)에 상기 신틸레이터 패널(130)을 장착하는 단계, 상기 진공챔버(200)의 내부를 진공 상태로 만드는 단계, 상기 TFT 패널(140)과 상기 신틸레이터 패널(130) 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블(220)을 하강하는 단계 및 상기 제 2 지지테이블(220)의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널(130)을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널(130)을 상기 접착층(160)에 접촉시키는 단계 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 제 1 지지테이블(210) 및 제 2 지지테이블(220)은 상기 진공챔버(200) 내부의 진공보다 더 강한 진공을 발생시킴으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 각각 흡착시킨다.
또한, 상기 신틸레이터 패널(130)은 상기 제 2 지지테이블(220)에 의해 상기 TFT 패널(140)과 일정 간격을 이룰 때까지 하강하며, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)의 간격은 약 5m 내지 10mm가 가장 바람직하다.
상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)의 간격이 약 5mm 내지 10mm의 간격을 이루게 되면, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 제 2 지지테이블(220)에 구비된 복수 개의 기공을 통해 상기 신틸레이터 패널(130)과 제 2 지지테이블(220) 사이에 기체를 불어넣음으로써 상기 제 2 지지테이블(220)에 흡착된 신틸레이터 패 널(130)의 지지를 해제하여 상기 접착층(160)으로 낙하시킴으로써 접착한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)이 접착된 이후, 상기 제 2 지지테이블(220)을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널(130)의 상부에 물리적 압력을 가함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 압착시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에서는 진공챔버(200) 내부에 순간적으로 질소를 퍼징하여 대기압을 형성함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 압착시킬 수 있다.
상기 진공합착을 통해 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 합착시킨 뒤, 상기 댐(150)을 형성하는데 사용한 제1열경화성 물질 또는 제1 UV경화성물질과 상기 접착층(160)을 형성하는데 사용한 제2열경화성 물질 또는 제2 UV경화성물질을 열 또는 UV를 이용하여 경화시킴으로써 대면적 X선 검출장치가(100) 제작된다(S400).
따라서, 상기 대면적 X선 검출장치(100)의 제작방법은 상기 TFT 패널(140)에 형성된 댐(150)에 의해 액상 실리콘이 외부로 누설되지 않고 일정 높이의 균일한 표면을 갖는 접착층(160)이 형성되어 상기 신틸레이터 패널(130)을 밀착시킴으로써 보다 견고하게 접합할 수 있다.
또한, 상기 댐(150)에 의해 대기중의 수분이 차단되어 상기 신틸레이터 패널(130)의 조해를 방지하므로 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)을 접합하고 난 후, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(130)의 주변부를 액상 실리콘으로 실링하지 않아도 실링 효과를 볼 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 X선 검출장치의 제조방법에 의해 제조된 대면적 X선 검출장치는 치과용 장비 예를 들면, 파노라마 장치, CT 장치 및 세팔로 장치 등 다양한 장비에 응용될 수 있을 뿐만 아니라, 흉부 X선 촬영장치나 맘모 장치 등과 의료용 장비에도 다양하게 적용될 수 있다.
특히, 17×17 인치의 대면적 X선 검출장치를 이용할 경우, 17×17 인치의 신틸레이터 패널과 17×17 인치의 센서 패널을 각각 4장씩 붙여 사용하면 초대형 X선 검출장치를 제조할 수도 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.
도 1 내지 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치를 도시하는 도면이다.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제작방법을 설명하는 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 TFT 패널과 신틸레이터 패널의 진공합착을 설명하는 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
100 : X선 검출장치 110 : 알루미늄 플레이트
120 : 신틸레이터층 130 : 신틸레이터 패널
140 : TFT 패널 150 : 댐
160 : 접착층
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- X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,센서 패널의 테두리부에 제1 경화성 물질로 댐을 형성하는 제 1 단계;상기 센서 패널 위에 형성된 댐 안쪽으로 제2 경화성 물질을 디스펜싱하여 접착층을 형성하는 제 2 단계;상기 센서 패널에 형성된 접착층 위에 신틸레이터 패널을 마운팅시켜 합착하는 제 3 단계; 및상기 댐과 접착층을 경화시키는 제 4 단계;를 포함하고,상기 제 3 단계는:상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 진공챔버 내부에 구비된 제 1 지지테이블에 위치시키는 제 3-1 단계;상기 제 1 지지테이블 상부에 구비된 제 2 지지테이블에 상기 신틸레이터 패널을 장착하는 제 3-2 단계;상기 진공챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 3-3 단계;상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 3-4 단계; 및상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 3-5 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 제1 경화성 물질은 상기 제2 경화성 물질보다 점성도가 높은 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 제1 경화성 물질 및 상기 제2 경화성 물질은 열경화성 물질이며, 열에 의해 경화되는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 제1 경화성 물질 및 상기 제2 경화성 물질은 UV경화성 물질이며, UV에 의해 경화되는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
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- 제 6 항에 있어서,상기 제 3-5 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 3-5-1 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 3-5 단계 이후에 상기 진공챔버 내부의 진공을 해제하여 상기 센서 패널과 신틸레이터 패널을 압착하는 제 3-5-2 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 3-4 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10mm인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
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