KR100963248B1 - Method for producing anti-glare film - Google Patents
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Abstract
본 발명은 PET나 TAC과 같은 투명 기재 필름 위에 인라인(In-line) 코팅방식을 이용하여 코팅하며 1차 방현층을 형성하고 다시 내수성이 우수한 전도성 고분자를 포함한 대전방지층을 코팅하고 복층 코팅시 헤이즈와 NAS(narrow angle scattering, clarity)값이 방현층 본래의 값에서 벗어나는 것을 보정 하기 쉽게 대전방지 코팅 조성액에 투광성 미립자나 통전 입자를 첨가하여 헤이즈와 NAS를 보정을 용이하게 하며 표면저항 값을 감소시키기 용이한 대전방지 고해상 방현필름을 제조하는 제조방법을 제공하는 것으로서, A. 투명 기재 필름 상부에 방현층을 형성하는 단계로서, (a) 광경화성 수지, 투광성미립자, 광개시제 및 용제를 포함하여 이루어지는 방현층 조성물 100중량%에 있어서, i) 상기 광경화성 수지는 10.0중량% 내지 80.0중량%, ii) 상기 투광성 미립자는 무기 투광성 미립자 또는 유기 투광성 미립자를 포함하여 이루어지며, 상기 무기 투광성 미립자는 0.1중량% 내지 30.0중량%이고, 유기 투광성 미립자는 0.1중량% 내지 30.0중량%, iii) 상기 광개시제는 0.1중량% 내지 10.0중량% ⅳ) 상기 용제는 10.0 내지 80.0중량%를 포함하여 이루어지며, 상기 방현층조성물을 혼합하여 상기 투명기재 필름 위에 코팅하는 코팅단계; (b) 상기 코팅된 방현층 조성물을 온도는 40℃ 내지 90℃로 하고, 시간은 30초 내지 180초로 건조하는 건조단계; (c) 상기 방현층 조성물을 자외선 광량은 30mJ 내지 1300mJ 범위인 자외선 의해 경화하는 경화단계를 포함하여 방현층 형성단계를 수행하고, B. 상기 방현층 전면 상부에 대전방지층을 형성하는 단계로서, (a) 광경 화성수지, 대전방지제, 투광성미립자, 광개시제 및 용제를 포함하여 이루어지는 대전방지층 조성물 100중량%에 있어서, i) 상기 광경화성수지는 4.0중량% 내지 80.0중량%, ii) 상기 투광성미립자는 0.1중량% 내지 30중량%, iii) 상기 광개시제는 0.1중량% 내지 10.0중량%, iv) 상기 대전방지제는 전도성 고분자, 무기산화물, 유기 고분자 통전 입자 유기 고분자 통전 입자 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하며, 상기 전도성 고분자는 5.0중량% 내지 90중량%, 상기 무기산화물은 0.1중량% 내지 30.0중량%, 상기 유기 고분자 통전 입자는 0.1중량% 내지 30.0중량%, ⅴ) 상기 용제는 4 내지 80중량%를 포함하여 이루어지며, 상기 대전방지층 조성물을 혼합하여 상기 방현층 전면 상부에 코팅하는 코팅단계; (b) 상기 코팅된 대전방지층 조성물을 온도는 40℃ 내지 90℃로 하고, 시간은 30초 내지 180초로 하여 건조하는 건조단계; 및 (c) 상기 대전방지층 조성물을 자외선 광량은 30mJ 내지 1300mJ 범위인 자외선 의해 경화하는 경화단계를 포함하는 대전방지층 형성단계를 수행하되, 그 표면저항이 1.0*e05 Ω/sq내지 9.9*e10Ω/sq인 것을 특징으로 한다. The present invention is coated on a transparent substrate film such as PET or TAC by using an in-line coating method to form a primary anti-glare layer and again to coat an antistatic layer containing a conductive polymer excellent in water resistance and to haze and It is easy to correct the NAS (narrow angle scattering, clarity) value from the original value of the antiglare layer, and it is easy to correct the haze and NAS by adding translucent fine particles or conductive particles to the antistatic coating composition, and to reduce the surface resistance value. A method for producing an antistatic high resolution antiglare film, comprising the steps of: A. forming an antiglare layer on top of a transparent base film, comprising: (a) an antiglare layer comprising a photocurable resin, a transparent particulate, a photoinitiator, and a solvent In 100% by weight of the composition, i) 10.0% to 80.0% by weight of the photocurable resin, ii) the light transmitting fine particles are inorganic It comprises light particulates or organic light-transmitting fine particles, wherein the inorganic light-transmitting fine particles is 0.1% to 30.0% by weight, 0.1% to 30.0% by weight of organic light transmitting particles, iii) 0.1% to 10.0% by weight of the photoinitiator Iii) the solvent comprising 10.0 to 80.0% by weight, the coating step of mixing the anti-glare layer composition and coating on the transparent base film; (b) drying the coated antiglare layer composition at a temperature of 40 ° C. to 90 ° C., and drying the time to 30 seconds to 180 seconds; (C) performing the anti-glare layer forming step including a curing step of curing the anti-glare layer composition by the ultraviolet light amount of 30mJ to 1300mJ range, B. forming an antistatic layer on the upper surface of the anti-glare layer, ( a) 100 wt% of an antistatic layer composition comprising a photocurable resin, an antistatic agent, a translucent particulate, a photoinitiator and a solvent, i) the photocurable resin is 4.0 to 80.0 wt%, ii) the translucent particulate is 0.1 Wt% to 30% by weight, iii) the photoinitiator is 0.1% to 10.0% by weight, iv) the antistatic agent includes at least one or more of conductive polymer, inorganic oxide, organic polymer conductive particle and organic polymer conductive particle, 5.0 wt% to 90 wt% of the conductive polymer, 0.1 wt% to 30.0 wt% of the inorganic oxide, and 0.1 wt% to 30.0 wt% of the organic polymer energized particles. A solvent comprising 4 to 80% by weight, the coating step of mixing the antistatic layer composition to coat the upper surface of the anti-glare layer; (b) a drying step of drying the coated antistatic layer composition at a temperature of 40 ° C. to 90 ° C., and a time of 30 seconds to 180 seconds; And (c) performing an antistatic layer forming step including a curing step of curing the antistatic layer composition by ultraviolet rays having an amount of ultraviolet light in the range of 30 mJ to 1300 mJ, the surface resistance of which is 1.0 * e 05 Ω / sq to 9.9 * e 10. It is characterized by the fact that it is Ω / sq.
본 발명에 의할 때 헤이즈, NAS(Narrow Angle Scattering, clarity)보정이 용이하며 내침수성이 좋은 대전방지 고해상 방현필름을 제조할 수 있다. According to the present invention, haze, NAS (Narrow Angle Scattering, clarity) can be easily corrected, and antistatic high resolution anti-glare film can be manufactured.
대전방지, 전도성고분자, 내수성, 방현, anti-glare, 투광성미립자 Antistatic, conductive polymer, water resistance, anti-glare, anti-glare, translucent particulate
Description
본 발명은 이중코팅시 헤이즈와 NAS(narrow angle scattering, clarity)값을 보정 하기 쉽도록 대전방지 코팅 조성액에 투광성 미립자나 통전 입자를 첨가하여 정전기 예방 효과와 내수성 및 방현 특성의 조절이 우수한 대전방지 방현 필름을 제조하는 방법 및 그 방법에 의해 제조된 방현필름에 관한 것이다. The present invention adds light-transmitting fine particles or conducting particles to the antistatic coating composition to easily correct the haze and NAS (narrow angle scattering, clarity) value during double coating, antistatic antiglare with excellent antistatic effect and control of water resistance and antiglare properties. A method for producing a film and an antiglare film produced by the method.
종래의 일반 방현필름은 정전기 방지기능이 충분히 부여되지 못하여 표면에 이물질 등이 부착되어 대형 LCD(Liquid Crystal Display)에서 외부 전하에 의해 액정이 깨지는 문제가 있고 자사의 특허인 공개번호 10-2007-0050532에서 처럼 폴리싸이오펜계열의 단층형 대전방지방현필름의 제조방법이 있으나 표면저항을 일정수준 유지하면서 헤이즈대비 NAS값(Narrow Angle Scattering, 선명도)을 70이하로 낮추기가 어려운 단점이 있으며 일본 특공보 1999-0072711에서와 같이 투명기재 필름과 방현층과의 사이에 투명도전성층을 갖고, 방현층중에 도전재료가 함유된 것을 특징으로 하는 대전방지 방현필름이 있으나 내수성이 약하여 고온다습한 조건에서 헤이즈가 상승하여 디스플레이 화면의 화상을 저하하는 단점이 있다.Conventional anti-glare film has a problem that the liquid crystal is broken by an external charge in a large LCD (Liquid Crystal Display) due to the adhesion of foreign matters on the surface due to insufficient antistatic function and its patent No. 10-2007-0050532 There is a manufacturing method of polythiophene-type single layer antistatic anti-glare film, but it is difficult to reduce NAS value (Narrow Angle Scattering) to less than 70 while maintaining surface resistance level. As in -0072711, there is an antistatic antiglare film having a transparent conductive layer between the transparent base film and the antiglare layer, and a conductive material is contained in the antiglare layer, but the water resistance is weak so that the haze increases in high temperature and high humidity conditions. There is a disadvantage in that the image of the display screen is lowered.
이와 같이 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)나 트리아세틸-셀룰로스(TAC)와 같은 투명 기재 필름 위에 인라인(In-line) 코팅방식을 이용하여 코팅하며 1차 방현층을 형성하고 다시 내수성이 우수한 전도성 고분자를 포함한 대전방지층을 코팅하고 복층 코팅시 헤이즈와 NAS(narrow angle scattering, clarity)값이 방현층 본래의 값에서 벗어나는 것을 보정 하기 쉽게 대전방지 코팅 조성액에 투광성 미립자나 통전 입자를 첨가하여 헤이즈와 NAS를 보정을 용이하게 하며 표면저항 값을 감소시키기 용이한 대전방지 고해상 방현필름의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 방현필름을 제공하는 데 있다.As described above, the present invention has been proposed to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is an in-line on a transparent substrate film such as polyethylene terephthalate (PET) or triacetyl-cellulose (TAC). ) Coating by coating method to form the first anti-glare layer, and then to coat the anti-static layer containing the conductive polymer with excellent water resistance. When double coating, the haze and NAS (narrow angle scattering, clarity) value deviate from the original value of the anti-glare layer. Method of manufacturing antistatic high resolution anti-glare film and anti-glare prepared by the method to easily correct haze and NAS and to reduce surface resistance by adding translucent fine particles or energized particles to antistatic coating composition To provide the film.
이하, 기술적 구성을 중심으로 본 발명에 대하여 상세히 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail centering on a technical structure.
본 발명에 따른 대전방지 방현필름은 투명 기재 필름 위에 인라인 코팅방식을 이용하여 1차 방현층을 형성하는 단계와 상기 방현층 위에 2차 대전방지층을 형성하는 단계를 거쳐 제조된다.The antistatic antiglare film according to the present invention is prepared through the steps of forming a primary antiglare layer on the transparent base film by using an inline coating method and forming a secondary antistatic layer on the antiglare layer.
이하, 각 단계에 대해서 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, each step will be described in detail.
Ⅰ. 방현층 형성 단계I. Antiglare Formation Step
1) 방현층 코팅 단계1) Antiglare Coating Step
상기 코팅에 의해 대전 방지 방현 필름을 제조하는 경우, 필름을 형성하기 위한 매트릭스로서 바인더 수지를 이용한다. 바인더 수지로는 경화성 수지로서, 경화성 수지는 자외선 경화형 수지, 전리선 경화형 수지, 열경화형 수지 등이 사용되며 용제와 첨가제, 광개시제 또 방현 기능을 갖게 하는 입자로서 무기 투광성 미립자, 유기 투광성 미립자, 통전입자, 전도성고분자 등을 그 종류와 크기, 형태를 적절하게 선택하여 적어도 하나 이상 첨가하여 사용한다. When manufacturing an antistatic anti-glare film by the said coating, binder resin is used as a matrix for forming a film. As the binder resin, the curable resin is used as the curable resin, the ultraviolet curable resin, the ionizing radiation curable resin, the thermosetting resin, and the like, and the particles having the function of solvents and additives, the photoinitiator and the anti-glare. At least one conductive polymer may be used in addition to appropriately selected types, sizes, and shapes.
본 발명에서 사용하는 투명 기재 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 트리아세틸-셀룰로스(TAC), 디아세틸 셀룰로오스(DAC), 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀, 무정형 폴리올레핀, 사이클로 올레핀, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리아미드, 폴리(메틸메타크릴레이트) 공중합체, 폴리아크릴레이트, 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 셀로판, 방향족 폴리아미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐알콜, 폴리프로필렌, 시클로계 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 수지, 염화비닐계 수지, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지, 이미드계 수지, 술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리에테르 에테르케톤계 수지, 폴리페닐렌술피드계 수지, 염화비닐리덴계 수지, 비닐부틸알계 수지, 알릴레이트계 수지, 폴리옥시메틸렌계 수지, 에폭시계 수지 또는 상기 수지의 혼합물 등이 상기 투명 기재필름을 형성하는 물질로 사용될 수 있다. 또한, 투명 기재 필름은 될 수 있는 한 착색이 없는 것이 바람직하다. 따라서, Rth ＝ [(nx+ny)/2-nz]ㆍd (단, nx, ny는 필름평면 내의 주굴절률, nz 는 필름두께방향의 굴절률, d 는 필름두께이다)로 표현되는 필름두께방향의 위상차 값이 -90nm 내지 +75nm 인 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 두께방향의 위상차 값(Rth)이 -90 nm 내지 +75nm 인 것을 사용함으로써, 투명기판에 기인하는 착색 (광학적인 착색)을 거의 해소할 수 있다. 두께방향의 위상차 값(Rth)은 더욱 바람직하게는 -80nm 내지 +60 nm, 특히 -70 nm 내지 +45 nm 가 바람직하다. 투명 기재필름의 두께는 1 내지 100㎛, 바람직하게는 5.0 내지 80.0㎛ 정도로 하며 이들 필름은 단층 또는 2층 이상의 복층 필름을 사용할 수도 있다. 본 발명에서 사용하는 투명 기재 필름은 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성, 경제성 등을 감안하여 동일한 작용효과를 나타낸다면 상기 열거된 물질에 한정되지 않는다.The transparent base film used in the present invention is a cellulose resin such as polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), diacetyl cellulose (DAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, polyolefin, amorphous polyolefin, cyclo Olefin, polybutylene terephthalate, polyamide, poly (methyl methacrylate) copolymer, polyacrylate, polyimide, polyether, polycarbonate, polysulfone, cellophane, aromatic polyamide, polyethylene, polypropylene, polyvinyl Alcohol, polypropylene, polyolefin having a cyclo-norbornene structure, polyolefin resin such as ethylene-propylene copolymer, amide resin such as vinyl chloride resin, nylon or aromatic polyamide, imide resin, sulfone resin , Polyether sulfone resin, polyether ether ketone resin, Paul Riphenylene sulfide resin, vinylidene chloride resin, vinyl butyl al resin, allylate resin, polyoxymethylene resin, epoxy resin, or a mixture of the above resins may be used as the material for forming the transparent base film. have. In addition, it is preferable that a transparent base film does not have coloring as much as possible. Therefore, the film thickness direction expressed by Rth = [(nx + ny) / 2-nz] · d (where nx and ny are the main refractive indices in the film plane, nz is the refractive index in the film thickness direction and d is the film thickness). It is preferably used that the retardation value of is from -90 nm to +75 nm. By using such a phase difference value Rth in the thickness direction of -90 nm to +75 nm, the coloring (optical coloring) due to the transparent substrate can be almost eliminated. The phase difference value Rth in the thickness direction is more preferably -80 nm to +60 nm, particularly -70 nm to +45 nm. The thickness of the transparent base film is about 1 to 100 µm, preferably about 5.0 to 80.0 µm, and these films may use a single layer or two or more multilayer films. The transparent base film used in the present invention is not limited to the materials listed above as long as they exhibit the same effect in view of transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding, isotropy, economic efficiency, and the like.
본 발명의 인라인 코팅방식에서 사용되는 코팅헤드는 나이프(Knife), 콤마(Comma), 다이(Die), 마이크로그라비아, 그라비아, 닙(nip), 스프레이 등이 있다. 본 발명에서와 같은 인라인 코팅방식은 상기에 열거한 코팅헤드를 사용함으로써 발생하는 미세한 공극화 현상을 없애거나 최소화한다. 또한, 공극에 공기가 차게되면 굴절율에 변화를 가져올 수 있고, 빛을 산란시켜서 전체적인 투과율을 감소시킨다.Coating heads used in the in-line coating method of the present invention is a knife (Knife), comma (Comma), Die (Die), microgravure, gravure, nip (nip), spray and the like. In-line coating as in the present invention eliminates or minimizes the fine voiding phenomenon caused by using the coating heads listed above. In addition, air filling the voids can cause a change in the refractive index and scatter the light to reduce the overall transmittance.
본 발명에서 사용되는 경화성 수지, 무기산화물, 유기 고분자 비드, 유기 고분자 통전 입자, 광개시제, 용제를 포함하여 구성되는 방현 코팅 조성물의 구성에 대해 각각 살펴보면 다음과 같다.Looking at the configuration of the anti-glare coating composition comprising a curable resin, inorganic oxide, organic polymer beads, organic polymer conductive particles, photoinitiator, solvent used in the present invention, as follows.
① 광경화형 수지① Photocurable resin
본 발명에서 광경화형 수지는 자외선 경화형 수지 또는 전리선 경화형 수지를 사용한다. 본 발명에서 사용 가능한 광경화형 수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위 또는 함량은 나열된 수지나 함량에 한정되지 않음은 물론이다. 방현효과는 물론 고경도 및 투명성 등의 물성을 부여하기 위해서 본 발명에서 사용하는 광경화형 수지는 자외선 경화성 아크릴레이트계 수지를 사용한다. In the present invention, the photocurable resin uses an ultraviolet curable resin or an ionizing radiation curable resin. If the photocurable resin usable in the present invention exhibits the same effect, the range or content thereof is not limited to the listed resins or contents. UV-curable acrylate resin is used for the photocurable resin used by this invention in order to provide not only an anti-glare effect but high physical properties, such as high hardness and transparency.
본 발명에서 사용하는 아크릴레이트계 수지는 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 아밀 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타아크릴레이트, 벤질 헥실 메타아크릴레이트, 사이클로 헥실 메타아크릴레이트, 벤질 메타아크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타아크릴레이트, 벤질 메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 에톡시디에틸렌클리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리틀테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판아크릴산벤조에이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, n-스테아릴메타아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타아크릴레이트, 2-히드록시부틸 메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트 등의 단량체 또는 올리고머를 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다. 전술한 광경화성 수지는 방현 코팅 조성물 100중량%에 있어서 10.0중량% 내지 80.0중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 광경화형수지가 10.0중량% 보다 작으면 고경도 도막을 얻기 힘들고, 80.0중량% 보다 많을 때는 경도는 높아지지만 점도가 높고 작업성과 채산성이 떨어지는 단점이 있다.The acrylate resin used in the present invention is ethyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethyl Hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl acrylate, methyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl (meth) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acryl Latex, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyprop Philacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyacrylate, neopentylglycol diacrylate, 1,6-hexanedioldiacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythreat Tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2 At least one monomer or oligomer such as hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerin dimethacrylate Use by mixing. It is preferable to use 10.0 weight%-80.0 weight% of said photocurable resin in 100 weight% of anti-glare coating compositions. When the photocurable resin is less than 10.0% by weight, it is difficult to obtain a high hardness coating film, and when the photocurable resin is more than 80.0% by weight, the hardness is high but the viscosity is high and workability and profitability are poor.
② 무기 투광성 미립자② inorganic light transmitting fine particles
본 발명에서 방현 효과를 얻기 위한 무기 투광성 미립자는 유기 투광성 미립자와 유기 고분자 비드에 Ni, Pt등을 코팅한 유기 고분자 통전입자를 제외한 무기 투광성 미립자를 통칭하여 무기 투광성 미립자라 하며 형태적으로는 단분산 구형과 다분산 구형, 무정형등이 있다. In the present invention, the inorganic light-transmitting fine particles for the anti-glare effect are collectively referred to as inorganic light-transmitting microparticles except for organic light-transmitting microparticles and inorganic light-transmitting microparticles other than organic polymer-coated particles coated with Ni, Pt on organic polymer beads. Spherical, polydisperse, and amorphous.
본 발명에서는 대표적으로 SiO2, TiO2, CaCO3, BaSO4 등의 무기 투광성 미립자를 단독 또는 혼합하여 사용한다.In the present invention, inorganic light transmitting fine particles such as SiO 2 , TiO 2 , CaCO 3 and BaSO 4 are typically used alone or in combination.
본 발명에서 사용된 무기 투광성 미립자중 SiO2의 경우 실리카 파우더(silica powder), 건식실리카(fumed silica), 지름이 1~200㎚의 nano입자를 분산시킨 실리카 졸(silica sol), 친수성 다공질 실리카, 소수성 다공질 실리카 등 그 종류가 매우 다양하다. In the case of SiO 2 of the inorganic light-transmitting fine particles used in the present invention, silica powder, fumed silica, silica sol in which nanoparticles having a diameter of 1 to 200 nm are dispersed, hydrophilic porous silica, Hydrophobic porous silica and the like are very diverse.
본 발명에서 사용된 무기 투광성 미립자의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 10.0㎛가 바람직하다. 무기 투광성 미립자의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 방현효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되는 단점이 있다. 또한 무기 투광성 미립자의 입자 직경이 10.0㎛보다 크면 도포 되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화 된다. The particle diameter of the inorganic light transmitting fine particles used in the present invention is preferably 0.1 µm to 10.0 µm. If the particle diameter of the inorganic light-transmitting fine particles is smaller than 0.1 mu m, it is difficult to obtain an antiglare effect due to satisfactory light diffusion, and there is a disadvantage in that light diffusivity is lowered. In addition, when the particle diameter of the inorganic light-transmitting fine particles is larger than 10.0 µm, the background of the screen to be applied becomes rough and the image contrast deteriorates.
본 발명에서 사용하는 무기 투광성 미립자의 함량은 방현 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 30.0중량%인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 1.0중량% 내지 27중량%이다. 무기 투광성 미립자의 함량이 0.1중량%보다 작으면 광확산에 의한 방현 효과를 기대하기 어렵고, 30.0중량% 보다 크면 광확산 효과가 과도하여 투과율을 현저히 감소시킨다.The content of the inorganic light transmitting fine particles used in the present invention is preferably 0.1% to 30.0% by weight in 100% by weight of the antiglare coating composition. More preferably, it is 1.0 to 27 weight%. If the content of the inorganic light-transmitting fine particles is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the anti-glare effect due to light diffusion, and when the content of the inorganic light-transmitting fine particles is greater than 30.0% by weight, the light diffusion effect is excessively reduced to significantly reduce the transmittance.
③ 유기 투광성 미립자③ organic light transmitting fine particles
본 발명에서 방현효과를 얻기 위한 유기 투광성 미립자는 멜라민계 비드(굴절율 : 1.57), 아크릴계 비드(굴절율:1.47), 아크릴-스티렌계 비드(굴절율 :1.50~1.60등 다양하게 제어가능), 폴리스티렌계 비드(1.60), 폴리카보네이트계 비드, 폴리에틸렌계 비드, 염화비닐계 비드 등의 유기 투광성 미립자와 유기 고분자 비드에 Ni, Pt등을 코팅한 유기 고분자 통전입자, 유기치환기를 갖는 실록산 화합물등을 통칭하며 형태적으로는 단분산 구형과 다분산 구형, 무정형등이 있다. 또한, 본 발명에서 사용하는 스티렌계 비드는 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, o-에틸스티렌, p-에틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌 또는 비닐 톨루엔을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The organic light-transmitting fine particles for the anti-glare effect in the present invention is melamine beads (refractive index: 1.57), acrylic beads (refractive index: 1.47), acrylic-styrene beads (refractive index: 1.50 ~ 1.60 can be variously controlled), polystyrene beads (1.60), organic light-transmitting fine particles such as polycarbonate beads, polyethylene beads, vinyl chloride beads, organic polymer conductive particles coated with Ni, Pt, etc. on organic polymer beads, siloxane compounds having an organic substituent, and the like. In general, there are monodisperse spheres, polydisperse spheres, and amorphous forms. In addition, the styrene beads used by this invention use styrene, (alpha) -methylstyrene, (alpha)-ethylstyrene, o-ethylstyrene, p-ethylstyrene, 2, 4- dimethyl styrene, or vinyl toluene individually or in mixture.
본 발명에서는 방현효과를 이루기 위해 무기 투광성 미립자와 유기 투광성 미립자를 적어도 하나 이상 혼합하여 사용하는 것을 기술적 특징으로 한다.In the present invention, in order to achieve the anti-glare effect, it is a technical feature to use at least one mixture of inorganic light-transmitting fine particles and organic light-transmitting fine particles.
본 발명에서 사용하는 유기 투광성 미립자를 선택할 때에는 굴절율, 고해상도 저하 개선효과 등을 고려하여 입자의 종류, 입자크기, 입자형상 등을 선택한다. When selecting the organic light-transmitting fine particles used in the present invention, the type, particle size, particle shape and the like of the particles are selected in consideration of the refractive index, the effect of improving the resolution of high resolution, and the like.
본 발명에 의한 대전방지 고해상 방현 필름에서 사용하는 유기 투광성 미립자는 고분자 비드의 굴절율, 크기, 형태 등을 조절하여 보다 방현효과가 뛰어나면서도 고정세한 디스플레이 화질을 저하하지 않고 선명하게 구현할 수 있다.The organic light-transmitting fine particles used in the antistatic high resolution anti-glare film according to the present invention can be clearly implemented without adjusting the refractive index, size, shape, and the like of the polymer beads without degrading the display quality with high anti-glare effect.
유기 투광성 미립자의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 8.0㎛가 바람직하다. 보다 바람직하게는 2.0㎛ 내지 6.0㎛이다. 상기 유기 투광성 미립자의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 방현효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되고 백탁현상이 발생하는 단점이 있다. 또한 상기 유기 투광성 미립자의 입자 직경이 8.0㎛보다 크면 도포 되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다. The particle diameter of the organic light transmitting fine particles is preferably 0.1 µm to 8.0 µm. More preferably, they are 2.0 micrometers-6.0 micrometers. If the particle diameter of the organic light-transmitting fine particles is smaller than 0.1 μm, it is difficult to obtain an anti-glare effect due to satisfactory light diffusion, and light diffusivity is lowered, causing cloudiness. In addition, when the particle diameter of the organic light-transmitting fine particles is larger than 8.0 mu m, the background of the screen to be applied becomes rough and the image contrast deteriorates.
본 발명에서 사용하는 유기 투광성 미립자의 함량은 방현 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 30.0중량%인 것이 바람직하다. 유기 투광성 미립자의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 광확산에 의한 방현 효과를 기대하기 어렵고, 30.0중량% 보다 크면 광확산 효과가 과도하여 투과율을 현저히 감소시킨다.The content of the organic light transmitting fine particles used in the present invention is preferably 0.1% to 30.0% by weight in 100% by weight of the antiglare coating composition. If the content of the organic light-transmitting fine particles is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the anti-glare effect due to light diffusion, and when the content of the organic light-transmitting fine particles is greater than 30.0% by weight, the light diffusion effect is excessively reduced to significantly reduce the transmittance.
본 발명에서 사용하는 투광성 미립자는 방현층을 형성하는 방식에 따라서 일정 정도 차이가 있을 수 있으며, 본 발명에서 사용하는 인라인 코팅방식에서 마이크로그라비어, 그라비어, 다이, 캠, 콤마, 나이프, 스프레이, 스핀코팅 등의 코팅 헤드의 종류에 따라서 사용하는 투광성 미립자의 종류, 크기, 형상 등이 달라질 수 있다.The light-transmitting fine particles used in the present invention may vary to some extent depending on the method of forming the anti-glare layer, and in the in-line coating method used in the present invention, microgravure, gravure, die, cam, comma, knife, spray, spin coating The kind, size, shape, etc. of the light-transmitting fine particles to be used may vary depending on the kind of coating head such as the like.
④ 용제④ Solvent
본 발명에서는 방현층을 투명 기재 필름에 도포를 용이하게 하고 균일한 분산과 작업성을 위하여 유기 용매를 사용하며 투광성 미립자가 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다. 방현층의 도포성, 투명 기재 필름과의 밀착력, 방현기능의 저하 방지 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.In the present invention, it is preferable to use an organic solvent in which an antiglare layer is easily applied to a transparent base film, an organic solvent is used for uniform dispersion and workability, and light transmitting particles can be evenly dispersed. An organic solvent is used in consideration of the coating property of the antiglare layer, the adhesion to the transparent base film, the prevention of the deterioration of the antiglare function, and the like.
본 발명에서 사용하는 유기 용매는 알콜계의 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다. 유기용매는 도포되는 방현 코팅 조성물 100중량%에 있어서 10.0중량% 내지 80.0중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 유기용매의 함량이 10.0중량%보다 작을 때는 점도가 높아 작업성이 떨어지고 비드의 분산이 잘 이루어지지 않으며 80.0중량%보다 클때는 투명 기재 필름과의 도포성, 밀착력, 경도 등이 떨어진다.The organic solvent used in the present invention is a saturated hydrocarbon alcohol having 1 to 8 carbon atoms such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, t-butanol, isobutanol, alcohols, ketones, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. Saturated hydrocarbon-based ketones having 1 to 8 carbon atoms, such as saturated hydrocarbon ketones having 1 to 8 carbon atoms, and acetyl acetone, saturated hydrocarbon-based esters having 1 to 8 carbon atoms, such as ethyl acetate and butyl acetate, and ether alcohols. Cellosolve, methylcellosolve, butylcellosolve, 1-methoxy-2-propanol, other N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, benzene, toluene, xylene, ethyl At least one of benzene and the like is mixed and used. It is preferable to use 10.0 weight%-80.0 weight% of an organic solvent with respect to 100 weight% of an anti-glare coating composition apply | coated. When the content of the organic solvent is less than 10.0% by weight, the viscosity is high, workability is poor, and the beads are not dispersed well, and when it is more than 80.0% by weight, the coating property, adhesion, hardness, etc. with the transparent base film are inferior.
⑤ 광개시제⑤ photoinitiator
본 발명에서는 광경화형 수지를 사용하므로 이를 경화하기 위하여 광개시제를 사용한다.In the present invention, since the photocurable resin is used, a photoinitiator is used to cure it.
본 발명에서 사용하는 광개시제는 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐) 프로판-1-온 등의 아세트페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐아황산, 4-벤조일-N, N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류, 2, 4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 등을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다. 광개시제의 함량은 방현 코팅 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10.0중량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다. 광개시제의 함량이 0.1중량%보다 작으면 광중합 효과를 얻기 힘들고, 광개시제의 함량이 10.0중량% 보다 크면 광중합개시 효과에 비하여 지나치게 많은 광개시제가 투입되어 물성과 경제성이 떨어진다.Photoinitiators used in the present invention, diethoxyacetphenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2- Acetphenones such as morphine (4-thiomethylphenyl) propane-1-one, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether, benzophenone, o Methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfite, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl Benzophenones such as benzenemethananium bromide and (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone and 1-chloro-4-dichlorothioxanthone, 2 , 4, 6-trimethylbenzoyldiphenylbenzoyl oxide and the like are mixed and used. The content of the photoinitiator is preferably used in the range of 0.1% by weight to 10.0% by weight based on 100% by weight of the antiglare coating composition. When the content of the photoinitiator is less than 0.1% by weight, it is difficult to obtain a photopolymerization effect. When the content of the photoinitiator is greater than 10.0% by weight, too much photoinitiator is added as compared to the photoinitiator effect, thereby deteriorating physical properties and economic efficiency.
2) 건조단계2) drying step
상기 1)단계의 과정을 거쳐 형성된 방현층은 건조하는 공정을 거치게 된다. 이는 상기 방현층 코팅단계에서 투명지지체 상에 함유된 용매를 제거하기 위해 수행된다. 건조온도는 40℃ 내지 90℃로 수행하는 것이 바람직하다. 온도가 40℃ 이하이면 건조가 제대로 이루어지지 않고 건조시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한 건조온도가 90℃ 이상에서는 투명 기재 필름에 굴곡이 발생하는 등 물성이 변할 여지가 있으며, 그 이상의 온도 상승은 경제성이 떨어진다. 또한, 건조시간은 30초 내지 180초 정도가 바람직하다. 건조시간이 30초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 180초 이상의 건조는 물성에 영향을 줄 수 있다.The anti-glare layer formed through the process of step 1) is subjected to a drying process. This is carried out to remove the solvent contained on the transparent support in the antiglare layer coating step. The drying temperature is preferably carried out at 40 ℃ to 90 ℃. If the temperature is 40 ℃ or less there is a problem that the drying time is not made properly and the drying time is long. In addition, when the drying temperature is 90 ° C. or higher, there is a possibility that physical properties may change, such as bending occurring in the transparent base film. In addition, the drying time is preferably about 30 seconds to about 180 seconds. If the drying time is 30 seconds or less, the effect of drying does not appear properly, and drying for more than 180 seconds may affect physical properties.
3) 경화단계3) curing step
본 발명에서 경화단계는 광경화를 통해 이루어지고 광경화는 자외선 경화에 의해 수행된다. 상기 자외선 경화에서, 자외선 광량은 30mJ 내지 1300mJ 범위에서 자외선 경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 300mJ 내지 600mJ이다. 자외선 경화시 에너지량이 30mJ보다 작을 때는 충분한 광경화 효과를 얻을 수 없고, 자외선경화 에너지량이 1300mJ보다 클 때는 지나친 자외선 경화로 방현층의 물성에 영향을 줄 수 있다. 상기의 자외선 경화는 초고온 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본아크, 크세논아크, 메탈할라이드 램프 등의 광원으로부터 발하는 자외선 등을 사용한다. 상기의 과정을 거쳐 형성된 방현층의 두께는 1.0㎛ 내지 10.0㎛인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 3.0㎛ 내지 7.0㎛이다. 방현층의 두께가 1.0㎛ 이하이면 방현효과를 구현하기가 힘들고, 10㎛ 이상이면 그 두께가 두꺼워지며 필름이 휘는 문제를 유발한다.In the present invention, the curing step is made through photocuring and photocuring is performed by ultraviolet curing. In the ultraviolet curing, the ultraviolet light amount is preferably ultraviolet curing in the range of 30mJ to 1300mJ, more preferably 300mJ to 600mJ. When the amount of energy during UV curing is less than 30mJ, sufficient photocuring effect is not obtained, and when the amount of UV curing energy is greater than 1300mJ, excessive UV curing may affect the properties of the antiglare layer. The above-mentioned ultraviolet curing uses ultraviolet rays emitted from light sources such as ultra high temperature mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, metal halide lamp and the like. It is preferable that the thickness of the anti-glare layer formed through the said process is 1.0 micrometer-10.0 micrometers. More preferably, they are 3.0 micrometers-7.0 micrometers. If the thickness of the antiglare layer is 1.0 μm or less, it is difficult to realize the antiglare effect. If the thickness of the antiglare layer is 10 μm or more, the thickness thereof becomes thick and the film bends.
Ⅱ. 대전방지층 형성 단계 II. Antistatic layer forming step
1) 대전방지층 코팅단계1) Antistatic layer coating step
대전방지층은 광경화형 수지, 전도성 고분자수지, 광개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 투광성 미립자로 구성되며 상기 방현층 위에 인라인 코팅방식을 통해 코팅함으로써 수행된다. The antistatic layer is composed of a photocurable resin, a conductive polymer resin, a photoinitiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, and a light transmitting fine particle, and is performed by coating the antiglare layer through an inline coating method.
본 발명의 인라인 코팅방식에서 사용되는 코팅헤드는 예컨대 나이프(Knife), 콤마(Comma), 다이(Die), 마이크로그라비아, 그라비아, 닙(nip), 스프레이 등이 있다. 본 발명에서와 같은 인라인 코팅방식은 상기에 열거한 코팅헤드를 사용함으로써 발생하는 미세한 공극화 현상을 없애거나 최소화한다. 또한, 공극에 공기가 차게되면 굴절율에 변화를 가져올 수 있고, 빛을 산란시켜서 전체적인 투과율을 감소시킨다.Coating heads used in the in-line coating method of the present invention is, for example, knife (Knife), comma (Comma), die (Die), microgravure, gravure, nip (nip), spray and the like. In-line coating as in the present invention eliminates or minimizes the fine voiding phenomenon caused by using the coating heads listed above. In addition, air filling the voids can cause a change in the refractive index and scatter the light to reduce the overall transmittance.
본 발명에서 사용되는 대전방지 코팅 조성물의 구성은 다음과 같다.The composition of the antistatic coating composition used in the present invention is as follows.
① 광경화형 수지① Photocurable resin
본 발명에서 사용하는 광경화형 수지는 자외선 경화형 수지와 전리선 경화형수지 중 적어도 하나를 사용한다.The photocurable resin used in the present invention uses at least one of an ultraviolet curable resin and an ionizing curable resin.
본 발명에서 사용가능한 광경화형 수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위나 함량은 나열된 수지나 함량에 한정되지 않음은 물론이다. If the photocurable resin usable in the present invention exhibits the same effect, the range or content thereof is not limited to the listed resins or contents.
본 발명에서 사용된 자외선 경화형 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylol methane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리아크릴레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate),1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane] 등과 같은 다관능기 알콜 유도체, 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate)와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 (penta-erythritol triacrylate)와 같은 우레탄 아크릴레이트등이 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다. 전술한 광경화형 수지는 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서 4.0중량% 내지 80.0중량% 사용하는 것이 바람직하다. 광경화형 수지가 4.0중량%보다 작으면 수지 함량이 적어서 고경도를 얻기 힘들고, 80.0중량%보다 많을 때는 경도는 높아지지만 대전방지제와 혼합성이 저하되고 표면저항이 상승하는 단점이 있다.UV-curable polyfunctional acrylate resin used in the present invention is dipentaerythritol hexaacrylate (dipentaerythritol hexaacrylte), tetramethylol methane tetraacrylate, tetramethylolmethane triacrylate (tetramethylolmethane triacrylate) , Trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane Polyfunctional alcohol derivatives such as [1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl) hexane], polyethylene glycol diacrylate and pentaerythritol triacrylate, The same urethane acrylate or the like is used by mixing at least one. It is preferable to use 4.0 weight%-80.0 weight% of said photocurable resin in 100 weight% of antistatic coating compositions. When the photocurable resin is less than 4.0% by weight, it is difficult to obtain high hardness due to the low resin content. When the photocurable resin is more than 80.0% by weight, the hardness is high, but the mixture with the antistatic agent is lowered and the surface resistance is increased.
② 대전방지제② Antistatic Agent
본 발명에서 사용하는 대전방지제는 전도성 고분자, 무기산화물, 유기 고분자 통전 입자를 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다.The antistatic agent used in the present invention is used by mixing at least one conductive polymer, an inorganic oxide, and an organic polymer energized particle.
본 발명에서 사용되는 대전방지제는 폴리싸이오펜(Polythiophene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시싸이오펜)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT)], 폴 리(p-페닐렌설파이드)[Poly(p-phenylenesulfide)], 폴리(p-페닐렌비닐렌) [Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리(티에닐렌비닐렌[Poly(thienylene vinylene)], 폴리아닐린(Polyaniline)등의 전도성 고분자, ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide)등의 무기산화물, 유기 고분자 비드에 Ni, Pt등의 금속을 코팅한 유기 고분자 통전 입자 등을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용한다. The antistatic agent used in the present invention is polythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) [Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT)], poly (p-phenylene sulfide) Conductive polymers such as [Poly (p-phenylenesulfide)], poly (p-phenylenevinylene) [Poly (p-phenylene vinylene)], poly (thienylene vinylene), polyaniline , Inorganic oxides such as ITO (Indium Tin Oxide), ATO (Antimony Tin Oxide), organic polymer beads coated with a metal such as Ni, Pt, or the like, and at least one or more are mixed and used.
본 발명에서는 전기 전도도가 높고, 대기 중에서 비교적 안정하며 내침수성이 우수하고 투명한 전도성 도막을 얻을 수 있는 전도성 폴리싸이오펜 계열의 고분자 수지를 사용할 수 있다. 그 일례로는 3-알킬 싸이오펜, 2,3- 다이메틸싸이오펜, 2,3-다이메틸-5-벤조일싸이오펜, 2,3-다이메틸-5-(α-하이드록시벤질)싸이오펜, 2,3-다이메틸-5-(α-하이드록시벤질)싸이오펜, 2,3-다이메틸-5-벤질싸이오펜, 3,4- (에틸렌디옥시)싸이오펜 등이 있다. 상기 싸이오펜계열의 고분자 수지의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서, 5.0중량% 내지 90.0% 포함되어 있는 것이 바람직하다. 싸이오펜계열의 고분자 수지의 함량이 5.0중량%보다 작으면 전도성 향상 효과가 미비하고, 그 함량이 90.0%보다 많으면 색상이 진하며 효과 대비 경제성이 떨어진다.In the present invention, it is possible to use a conductive polythiophene-based polymer resin having a high electrical conductivity, relatively stable in the air, excellent in immersion resistance and to obtain a transparent conductive coating film. Examples include 3-alkyl thiophene, 2,3-dimethylthiophene, 2,3-dimethyl-5-benzoylthiophene, 2,3-dimethyl-5- (α-hydroxybenzyl) thiophene , 2,3-dimethyl-5- (α-hydroxybenzyl) thiophene, 2,3-dimethyl-5-benzylthiophene, 3,4- (ethylenedioxy) thiophene, and the like. The content of the thiophene-based polymer resin is preferably contained in 5.0% by weight to 90.0% in 100% by weight of the antistatic coating composition. If the content of the thiophene-based polymer resin is less than 5.0% by weight, the conductivity enhancement effect is insignificant. If the content is more than 90.0%, the color is darker and the economy is inferior to the effect.
본 발명에서 대전방지제로 사용하는 무기산화물은 투명성을 유지하고 전기 전도도가 좋은 것으로서 ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide)등을 사용할 수 있다. 본 발명에서 무기산화물의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.1중량% 내지 30.0중량%인 것이 바람직하다. 1.0중량% 내지 25중량%인 것이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 20중량%이다. 무기산화물의 함량이 30.0중량% 보다 큰 경우에는 경제성이 떨어지며 투명도의 저하로 인해 편광판의 신뢰도가 저하한다. Inorganic oxides used as antistatic agents in the present invention may be used as ITO (Indium Tin Oxide), ATO (Antimony Tin Oxide), etc. as maintaining the transparency and good electrical conductivity. In the present invention, the content of the inorganic oxide is preferably 0.1% to 30.0% by weight relative to 100% by weight of the antistatic coating composition. It is more preferable that they are 1.0 weight%-25 weight%. More preferably, it is 3 to 20 weight%. When the content of the inorganic oxide is greater than 30.0% by weight, the economical efficiency is lowered and the reliability of the polarizing plate is lowered due to the decrease in transparency.
본 발명에서 대전방지제로 사용하는 유기 고분자 통전 입자는 유기 고분자 비드에 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 납(Pb), 코발트(Co) 등을 코팅한 미립자를 사용할 수 있다. 유기 고분자 통전 입자의 직경은 0.1㎛ 내지 8.0㎛가 바람직하다. 유기 고분자 통전 입자의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 대전방지 효과를 얻기 힘들고 유기 고분자 통전 입자의 입자 직경이 8.0㎛보다 크면 도포 되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화한다. 유기 고분자 통전 입자의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.1중량% 내지 30.0중량%인 것이 바람직하다. 유기 고분자 통전 입자의 함량이 0.1중량%보다 작으면 전도성을 확보하기 힘들고, 30.0중량% 보다 크면 전도성 효과는 좋으나 투명도가 낮아지고, 경제성이 떨어진다.In the present invention, the organic polymer energized particles used as the antistatic agent include silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), nickel (Ni), and chromium (Cr). ), Lead (Pb), cobalt (Co) and the like fine particles can be used. The diameter of the organic polymer energized particles is preferably 0.1 µm to 8.0 µm. If the particle diameter of the organic polymer energized particles is smaller than 0.1 mu m, a satisfactory antistatic effect is hardly obtained, and if the particle diameter of the organic polymer energized particles is larger than 8.0 mu m, the background of the screen to be applied becomes rough and image contrast deteriorates. The content of the organic polymer energized particles is preferably 0.1% to 30.0% by weight based on 100% by weight of the antistatic coating composition. When the content of the organic polymer energized particles is less than 0.1% by weight, it is difficult to secure the conductivity, and when the content of the organic polymer is greater than 30.0% by weight, the conductivity is good, but the transparency is low, and the economy is low.
③ 용제③ solvent
본 발명에서는 용제는 대전방지 코팅 조성물이 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다. 대전방지층의 도포성, 방현층과의 부착성, 대전방지 기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.In the present invention, it is preferable to use an organic solvent in which the antistatic coating composition can be evenly dispersed. An organic solvent is used in consideration of the coating property of the antistatic layer, the adhesion to the antiglare layer, and the improvement of the antistatic function.
본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 유기용매는 도포되는 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서 4.0중량% 내지 80.0중량% 사용하는 것이 바람직하다. 유기용매의 함량이 4.0중량%보다 작을 때는 점도가 높고 작업성이 나쁘며 80.0중량% 보다 클 때는 방현층과의 도포성, 부착성 등이 떨어지고 경도가 낮아지고 표면 저항값이 상승하는 단점이 있다.The organic solvent used in the present invention is a saturated hydrocarbon alcohol having 1 to 8 carbon atoms, such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, isobutanol, ketones, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Saturated hydrocarbon-based ketones having 1 to 8 carbon atoms, such as ketones, and saturated hydrocarbon diketones having 1 to 8 carbon atoms, such as acetyl acetone, ethyl acetate of esters, and saturated hydrocarbon-based esters having 1 to 8 carbon atoms, such as butyl acetate and ether alcohols. Ethyl cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, other N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, etc. do. In addition, at least one of benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, and the like corresponding to an aromatic hydrocarbon may be mixed and used. The organic solvent is preferably used from 4.0% by weight to 80.0% by weight in 100% by weight of the antistatic coating composition to be applied. When the content of the organic solvent is less than 4.0% by weight, the viscosity is high, the workability is bad, and when the content is greater than 80.0% by weight, the coating property, adhesion and the like with the antiglare layer is lowered, the hardness is lowered and the surface resistance value is increased.
④광개시제④ Photoinitiator
본 발명에서는 다음과 같은 광개시제가 사용된다. 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐) 프로판-1-온 등의 아세트페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐아황산, 4-벤조일-N, N-디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류, 2, 4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 등을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 촉진제(증감제)로서, N, N-디메틸파라톨루이진, 4, 4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아민계 화합물을 적어도 하나 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 광개시제의 함량은 투광성 수지 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10.0중량%의 범위가 바람직하다. 광개시제의 함량이 0.1중량%보다 작으면 광중합 효과를 얻기 힘들고, 광개시제의 함량이 10.0중량% 보다 크면 광중합개시 효과에 비하여 지나치게 많은 광개시제가 투입되어 경제성이 떨어진다.In the present invention, the following photoinitiators are used. Diethoxyacetphenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morphine (4-thiomethylphenyl) Benzoin ethers such as acetphenones such as propane-1-one, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, and 4- Phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfite, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] benzenemethananium bromide , Benzophenones such as (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, thioxanthones such as 2,4-diethyl thioxanthone and 1-chloro-4-dichlorothioxanthone, 2, 4, 6-trimethylbenzoyl Diphenyl benzoyl oxide etc. can be used in mixture of at least 1 or more. In addition, as an accelerator (sensitizer), at least one or more amine compounds such as N, N-dimethyl paratoluidin and 4, 4'-diethylaminobenzophenone can be mixed and used. The content of the photoinitiator is preferably in the range of 0.1% by weight to 10.0% by weight in 100% by weight of the light transmissive resin composition. When the content of the photoinitiator is less than 0.1% by weight, it is difficult to obtain a photopolymerization effect, and when the content of the photoinitiator is greater than 10.0% by weight, too much photoinitiator is added as compared to the photoinitiator effect, thereby reducing economic efficiency.
⑤ 투광성 미립자⑤ Translucent fine particles
본 발명에서 사용되는 투광성 미립자는 무기 투광성 미립자나 유기 투광성 미립자, 또는 유기 고분자 미립자에 Ni, Pt등을 코팅한 유기 고분자 통전 입자를 적어도 하나 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The light-transmitting fine particles used in the present invention may be used by mixing at least one or more organic polymer conductive particles coated with Ni, Pt or the like on inorganic light-transmitting fine particles, organic light-transmitting fine particles, or organic polymer fine particles.
본 발명에서 사용하는 투광성 미립자를 선택할 때에는 굴절율, 고해상도 저하 개선효과 등을 고려하여 입자의 종류, 입자크기, 입자형상 등을 선택한다. When selecting the light-transmitting fine particles to be used in the present invention, the type of particles, particle size, particle shape and the like are selected in consideration of the refractive index and the effect of improving the high resolution.
본 발명에서는 또한 대전방지층 코팅시 투광성 미립자를 혼합하지 않고 광경화형 수지와 전도성 고분자, 용제, 개시제 등의 조성만으로 대전방지층을 형성할 수도 있다. In the present invention, the antistatic layer may be formed only by the composition of the photocurable resin, the conductive polymer, the solvent, the initiator, and the like, without mixing the light transmitting fine particles when the antistatic layer is coated.
본 발명에서 사용되는 투광성 미립자의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 8.0㎛가 바람직하다. 투광성 미립자의 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 방현효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되는 단점이 있으며 투광성 미립자의 입자 직경이 8.0㎛보다 크면 Ni, Pt등 금속 코팅되지 않은 무기 투광성 미립자나 유기 투광성 미립자의 경우 표면저항 값이 급격히 올라가며 도포 되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화 된다. As for the particle diameter of the translucent microparticles | fine-particles used by this invention, 0.1 micrometer-8.0 micrometers are preferable. If the diameter of the light-transmitting fine particles is smaller than 0.1 μm, it is difficult to obtain anti-glare effect due to satisfactory light diffusion, and there is a disadvantage in that light diffusivity is deteriorated. If the particle diameter of the light-transmitting fine particles is larger than 8.0 μm, non-metal coated inorganic materials such as Ni and Pt In the case of the light-transmitting fine particles or the organic light-transmitting fine particles, the surface resistance value increases rapidly and the background of the screen to be applied becomes rough and the image contrast deteriorates.
본 발명에서 사용하는 투광성 미립자의 첨가량은 대전방지코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 30.0중량%인 것이 바람직하다. 투광성 미립자의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 광확산에 의한 방현 효과를 기대하기 어렵고, 30.0중량% 보다 크면 표면저항 값이 많이 증가하고 광확산 효과가 과도하여 투과율을 현저히 감소시킨다.It is preferable that the addition amount of the translucent microparticles | fine-particles used by this invention is 0.1 to 30.0 weight% in 100 weight% of antistatic coating compositions. If the content of the light-transmitting fine particles is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the anti-glare effect due to light diffusion. If the content of the light-transmitting fine particles is less than 30.0% by weight, the surface resistance value is increased a lot and the light diffusion effect is excessive, thereby significantly reducing the transmittance.
2) 건조단계2) drying step
상기 1)단계의 과정을 거쳐 형성된 대전방지층은 건조 공정을 거치게 된다. 이는 상기 대전방지층 코팅단계에서 상기 대전방지층에 함유된 용제를 제거하기 위해 수행된다. 건조온도는 40℃ 내지 90℃로 수행하는 것이 바람직하다. 온도가 40℃ 이하이면 건조가 제대로 이루어지지 않고 건조시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한 건조온도가 90℃ 이상에서는 투명기재필름에 주름이 발생하는 등의 물성이 변할 여지가 있으며 경제성이 떨어진다. 또한, 건조시간은 30초 내지 180초 정도가 바람직하다. 건조시간의 30초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 180초 이상의 건조는 채산성을 악화시키고 물성에 영향을 줄 수 있다.The antistatic layer formed through the process of step 1) is subjected to a drying process. This is performed to remove the solvent contained in the antistatic layer in the antistatic layer coating step. The drying temperature is preferably carried out at 40 ℃ to 90 ℃. If the temperature is 40 ℃ or less there is a problem that the drying time is not made properly and the drying time is long. In addition, if the drying temperature is 90 ℃ or more, there is a possibility that the physical properties such as wrinkles occur in the transparent substrate film, and economic efficiency is poor. In addition, the drying time is preferably about 30 seconds to about 180 seconds. If the drying time is 30 seconds or less, the effect of drying does not appear properly, and drying for more than 180 seconds may deteriorate profitability and affect physical properties.
3) 경화단계3) curing step
경화단계에서는 대전방지층 코팅단계 및 건조단계를 통하여 형성된 대전방지층을 자외선 경화를 통하여 경화시킨다. In the curing step, the antistatic layer formed through the antistatic layer coating step and the drying step is cured through UV curing.
본 발명에서 자외선 경화는 30mJ 내지 1300mJ 에너지 범위에서 자외선 경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 300mJ 내지 1000mJ이다. 자외선 경화시 에너지량이 30mJ보다 작을 때는 충분한 광경화 효과를 얻을 수 없고, 자외선 경화 에너지량이 1300mJ보다 클 때는 지나친 자외선 경화로 방현층의 물성에 영향을 줄 수 있다. 상기의 자외선 경화는 초고온 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본아크, 크세논아크, 메탈할라이드 램프 등의 광원으로부터 발하는 자외선 등을 사용한다. 상기의 대전방지층의 형성단계를 통해 형성된 대전방지층의 두께는 0.5㎛ 내지 6.0㎛인 것이 바람직하다. 두께가 0.5㎛보다 얇으면 대전방지 기능을 수행하기가 어렵고, 6.0㎛보다 두꺼워지면 전체적으로 필름이 두꺼워지며, 컬이 심해지고 경제성이 떨어진다는 단점이 있다. 상기 대전방지 고해상 방현 필름의 표면저항은 1.0*e05 Ω/sq내지 9.9*e10Ω/sq이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 2.0*e05Ω/sq내지 7*e10Ω/sq이다. 표면저항이 9.9*e10Ω/sq 보다 크면, 대전방지효과가 적고, 표면저항이 1.0*e05Ω/sq 보다 작게 하기 위해서는 필요한 전도성 고분자의 양이 많아져서 경제성이 떨어진다.In the present invention, UV curing is preferably UV curing in the energy range of 30mJ to 1300mJ, more preferably 300mJ to 1000mJ. When the amount of energy during UV curing is less than 30mJ, sufficient photocuring effect is not obtained, and when the amount of UV curing energy is greater than 1300mJ, excessive ultraviolet curing may affect the physical properties of the antiglare layer. The above-mentioned ultraviolet curing uses ultraviolet rays emitted from light sources such as ultra high temperature mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, metal halide lamp and the like. The thickness of the antistatic layer formed through the formation of the antistatic layer is preferably 0.5㎛ to 6.0㎛. If the thickness is thinner than 0.5㎛ it is difficult to perform the antistatic function, if the thickness is thicker than 6.0㎛ as a whole, the film is thick, the curl is severe and economical disadvantages. The surface resistance of the antistatic high resolution antiglare film is preferably 1.0 * e 05 Ω / sq to 9.9 * e 10 Ω / sq. More preferably, 2.0 * e 05 Ω / sq to 7 * e 10 Ω / sq. When the surface resistance is greater than 9.9 * e 10 Ω / sq, the antistatic effect is small, and in order to make the surface resistance smaller than 1.0 * e 05 Ω / sq, the amount of the conductive polymer required is large, resulting in low economic efficiency.
본 발명의 보호범위는 본 발명에 의한 대전방지 고해상 방현필름은 물론 이를 이용한 디스플레이에도 미친다. 또한 본 발명에 의한 디스플레이는 브라운관표 시장치(CRT, cathode-ray tube), 액정표시장치(LCD, liquid crystal dispaly), 플라즈마표시장치(PDP, plasma display pannel) 및 유기전계발광 표시장치(OLED, organic light emitting diode)로 이루어진 그룹 중에서 적어도 하나에 적용 가능하다.The protection scope of the present invention extends to the antistatic high resolution anti-glare film according to the present invention as well as the display using the same. In addition, the display according to the present invention has a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) and an organic light emitting display (OLED). It is applicable to at least one of the group consisting of organic light emitting diodes.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 대전방지 고해상 방현 필름의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 고해상 방현 필름은 투명 기재 필름 위에 인라인(In-line) 코팅방식을 이용하여 광경화형수지와 광개시제, 용제, 그리고 투광성 미립자를 혼합하여 제조한 용액으로 방현층을 형성하고 다시 그 상부에 광경화형수지와 광개시제, 용제, 폴리싸이오펜계열의 전도성 고분자와 투광성 미립자를 함유한 조성액을 코팅함으로써 헤이즈, NAS(Narrow Angle Scattering, clarity)보정이 용이하며 내침수성이 좋은 대전방지 고해상 방현필름을 제조할 수 있다.As described above, the method for producing an antistatic high resolution antiglare film according to the present invention, and the antistatic high resolution antiglare film using the same, are used in an in-line coating method on a transparent substrate film, a photocurable resin, a photoinitiator, a solvent, The anti-glare layer was formed by mixing the light-transmitting fine particles, and then coated on the top thereof with a photocurable resin, a photoinitiator, a solvent, a polythiophene-based conductive polymer and a light-transmitting fine particle, and the haze and NAS (Narrow Angle). Scattering, clarity) Easily calibrated and immersion resistant, antistatic high resolution anti-glare film can be manufactured.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예와 비교되는 비교예를 가지고 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with comparative examples compared with preferred examples of the present invention.
실시예 1Example 1
80㎛의 트리아세틸셀룰로스 필름의 한쪽 면에 <표1>의 '실시예 1'란에 기재 된 조성으로 이루어진 자외선 경화형 수지 조성물을 이용하고, 형태가 무정형이고 재질이 실리카이며 크기 분포가 2 내지 4㎛인 무기 투광성 미립자를 첨가하여 분산시킨 후 바코터를 이용하여 코팅하고 60℃에서 2분간 건조시킨 후에 자외선조사장치{UV curing system : SMD-1000(상품명)}를 사용하여 광량 500mJ/cm2로 경화시켜 방현층을 제조하였다. 그 후, <표2>의 '실시예 1'란에 기재된 조성으로 이루어진 자외선 경화형 수지 조성물을 이용하고, 전도성 고분자(PEDOT modified compond:SC-CHON)를 첨가하여 분산시킨 후 바코터를 이용하여 코팅하고 60℃에서 2분간 건조한 후에 자외선조사장치{UV curing system : SMD-1000(상품명)}를 사용하여 광량 500mJ/cm2로 경화시켜 대전방지층을 형성하여 대전방지 고해상 방현필름을 제작하였다. An ultraviolet curable resin composition composed of the composition described in the 'Example 1' column of <Table 1> was used on one side of an 80 μm triacetyl cellulose film, and the form was amorphous, the material was silica, and the size distribution was 2-4. After dispersing by adding the inorganic light-transmitting fine particles of μm and coating using a bar coater and dried for 2 minutes at 60 ℃, using an ultraviolet irradiation device {UV curing system: SMD-1000 (brand name)} to a light amount of 500mJ / cm 2 Cured to prepare an antiglare layer. Thereafter, using a UV curable resin composition composed of the composition described in the 'Example 1' column of <Table 2>, the conductive polymer (PEDOT modified compond: SC-CHON) is added to disperse and then coated using a bar coater After drying at 60 ° C. for 2 minutes, an ultraviolet irradiation device {UV curing system: SMD-1000 (trade name)} was used to cure at an amount of light of 500 mJ / cm 2 to form an antistatic layer to prepare an antistatic high resolution antiglare film.
실시예 2Example 2
<표1>과 <표2>의 '실시예 2'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 2" column of <Table 1> and <Table 2>,
실시예 3Example 3
<표1>과 <표2>의 '실시예 3'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 3" column of Table 1 and Table 2.
실시예 4Example 4
<표1>과 <표2>의 '실시예 4'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 4" column of Table 1 and Table 2.
실시예 5Example 5
<표1>과 <표2>의 '실시예 5'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 5" column of Table 1 and Table 2.
실시예 6Example 6
<표1>과 <표2>의 '실시예 6'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 6" column of Table 1 and Table 2.
실시예 7Example 7
<표1>과 <표2>의 '실시예 7'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 7" column of Table 1 and Table 2.
실시예 8Example 8
<표1>과 <표2>의 '실시예 8'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except using the composition described in the "Example 8" column of <Table 1> and <Table 2>,
비교예 1Comparative Example 1
대전방지 고해상 방현필름 ASAG44(Di Nippon Print사)제품의 기본물성과 내침수처리 후 측정값을 <표 6>에 기재하였다.The basic properties of the antistatic high resolution antiglare film ASAG44 (Di Nippon Print Co., Ltd.) and the measured values after immersion treatment are described in Table 6.
비교예 2Comparative Example 2
<표3>과 <표4>의 '비교예 2'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except for using the composition described in the "Comparative Example 2" column of <Table 3> and <Table 4>,
비교예 3Comparative Example 3
<표3>과 <표4>의 '비교예 3'란에 기재된 조성물을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일,Same as Example 1 except for using the composition described in the "Comparative Example 3" column of <Table 3> and <Table 4>,
1Example
One
2Example
2
3Example
3
4Example
4
5Example
5
6Example
6
7Example
7
8Example
8
acrylateTrifunctional urethane
acrylate
phenylketoneHydroxycyclohexyl
phenylketone
미립자Inorganic light transmission
Particulate
투광성
미립자Organic
Translucent
Particulate
(2.0㎛)Spherical Monodisperse PS
(2.0 μm)
(약 2.65㎛)Spherical Polydispersity PMMA
(About 2.65 μm)
폴리실세스
실록산 비드
(약 2.0㎛)Spherical polydispersity
Polysilses
Siloxane beads
(About 2.0 μm)
비드 (약 4.0㎛) Amorphous polysilsessiloxane
Bead (approximately 4.0 μm)
상기 <표 1>은 실시예 1에서 실시예 8까지의 1차 방현층 조성비를 나타낸 것이다.Table 1 shows the primary anti-glare layer composition ratio from Example 1 to Example 8.
4Example
4
5Example
5
phenylketoneHydroxycyclohexyl
phenylketone
고분자conductivity
Polymer
미립자Weapon light transmitting
Particulate
실리카 비드
(약 2.5㎛)Porous amorphous
Silica beads
(About 2.5 μm)
투광성
미립자abandonment
Translucent
Particulate
(약 2.65㎛)Spherical Polydispersity PMMA
(About 2.65 μm)
실록산 비드
(약 2.0㎛)Spherical polysilses
Siloxane beads
(About 2.0 μm)
실록산 비드
(약 4.0㎛)Amorphous polysilses
Siloxane beads
(Approximately 4.0 μm)
상기 <표 2>은 실시예 1에서 실시예 8까지의 대전 방지층 조성비를 나타낸 것이다.<Table 2> shows the antistatic layer composition ratio from Example 1 to Example 8.
44 film
(DNP)ASAG
44 film
(DNP)
Oligomer
acrylateTrifunctional urethane
acrylate
phenylketoneHydroxycyclohexyl
phenylketone
투광성
미립자Organic
Translucent
Particulate
(약 4㎛) Amorphous polysiloxane beads
(About 4 μm)
상기 <표 3>의 비교예 1은 ASAG44(DNP사, 일본) 시판중인 대전방지방현필름 제품으로 TAC을 기재필름으로 활용하여 1차로 ATO등의 무기산화물로 대전방지코팅을 한후 그 상부에 통전입자를 함유한 2차 방현층을 형성한 제품이며, 비교예 2와 비교예 3의 1차 방현층 조성비를 나타낸 것이다.Comparative Example 1 of Table 3 is an antistatic anti-reflective film product commercially available as ASAG44 (DNP, Japan), using TAC as a base film, and then, first, an antistatic coating with inorganic oxides such as ATO, and then energized particles thereon. It is a product in which the secondary anti-glare layer containing was shown, and the primary anti-glare layer composition ratio of the comparative example 2 and the comparative example 3 is shown.
44 film
(DNP)ASAG
44 film
(DNP)
16.0
16.0
phenylketoneHydroxycyclohexyl
phenylketone
미립자Translucent
Particulate
(약 2㎛)Spherical Polysiloxane Beads
(About 2 μm)
(약 4㎛)Amorphous polysiloxane beads
(About 4 μm)
상기 <표 4>는 비교예 2, 비교예 3의 대전 방지층 조성비를 나타낸 것이다.Table 4 shows the antistatic layer composition ratios of Comparative Example 2 and Comparative Example 3.
85℃/6hrAfter immersion
85 ℃ / 6hr
85℃/6hrAfter immersion
85 ℃ / 6hr
85℃/6hrAfter immersion
85 ℃ / 6hr
85℃/6hrAfter immersion
85 ℃ / 6hr
상기 <표 5>는 상기 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 방현 필름의 내수성테스트 전·후의 헤이즈, NAS(Narrrow Angle Scattering, Clarity)변화 및 표면저항 값의 변화에 대한 평가 항목을 측정한 결과를 나타낸 것이다. Table 5 is an evaluation of the change in haze, NAS (Narrrow Angle Scattering, Clarity) and surface resistance values before and after the water resistance test of the anti-glare film according to Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 It shows the result of measuring the item.
상기 <표 6>은 상기 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 방현 필름의 내수성 테스트 전?후의 헤이즈, NAS(Narrrow Angle Scattering, Clarity)변화 및 표면저항 값의 변화에 대한 평가 항목을 측정한 결과를 나타낸 것이다. <Table 6> is a result of measuring the evaluation items for the haze, NAS (Narrrow Angle Scattering, Clarity) change and surface resistance value change before and after the water resistance test of the anti-glare film according to Comparative Examples 1 to 3 It is shown.
평가 방법Assessment Methods
1: One: 내침수성Immersion Resistance 평가 evaluation
내열용기에 증류수를 넣고 85℃로 중탕 가열한 후 상기 실시예와 비교예에서 언급한 시료를 침수시킨 후 6시간이 경과한 후의 투과도, 헤이즈, 투명도(NAS, clarity), 표면저항값을 측정한 후 이에 대한 결과를 4단계로 구분한다.After distilled water was put in a heat-resistant container and heated to 85 ° C., the permeability, haze, clarity (NAS, clarity) and surface resistance after 6 hours after the samples mentioned in the above Examples and Comparative Examples were submerged were measured. The results are divided into four stages.
A: Haze, NAS 변화 3% 이하A: Haze, NAS changes less than 3%
B: Haze, NAS 변화 3내지 ~ 6% 이하B: Haze, NAS changes 3 to 6% or less
C: Haze, NAS 변화 6% 이상C: Haze, NAS changes more than 6%
D: Haze, NAS 변화 6% 이상, 표면저항 변화 1.0*E2 이상 D: Haze, NAS change over 6%, surface resistance change over 1.0 * E 2
2, 2, 헤이즈와Hayes and 투명도( transparency( NASNAS )의 정의 및 측정원리) Definition and measuring principle
헤이즈(haze)와 투명도(clarity, NAS)는 양자 모두 빛의 확산투과율(Diffuse transmittance)을 측정하는 단위이지만, (도 3b)에서 나타낸 바와 같이 구체적으로 헤이즈는 광각분산(wide angle scattering)에 대한 측정단위이며, NAS는 2.5°이내의 협각산란(narrow angle)에 대한 측정단위라는 점에 차이점이 있다.Haze and clarity (NAS) are both units that measure the diffuse transmittance of light, but as shown in FIG. 3B, haze is specifically measured for wide angle scattering. The difference is that NAS is a unit of measure for narrow angles within 2.5 °.
헤이즈Haze (( hazehaze ) 값) Value
(1) 내부헤이즈(IH, Internal Haze) 값은 상기 실시예 및 비교예에 의하여 제작된 방현필름(100)의 방현층(20) 상부에 동일한 광경화형 수지로 방현층(20) 두께의 약 1.5배로 클리어코팅을 하여 돌출부분에 의한 방현 효과를 제거하고 측정장치(Haze-gardplus)를 이용하여 측정하였다.(1) The internal haze (IH) value is about 1.5 of the thickness of the
(2) 표면헤이즈(SH, Surface Haze)는 전체헤이즈를 TH, 내부헤이즈를 IH로 표기할 때, SH=TH-IH를 통하여 도출된 값을 나타낸다.(2) Surface Haze (SH) represents a value derived through SH = TH-IH when the total haze is expressed as TH and the internal haze is expressed as IH.
(3) 전체헤이즈(TH, Total Haze)는 방현 필름의 전체의 헤이즈값을 측정한 값이다.(3) Total haze (TH, Total Haze) is the value which measured the haze value of the whole anti-glare film.
<표 5>와 <표 6>에서는 상기와 같이 정의된 헤이즈를 상기 실시예 및 비교예에 의한 대전방지 고해상 방현필름의 헤이즈와 투명도를 측정장비(haze-gardplus, Byk Gardner, made in Germany)를 이용하여 측정한 결과를 나타내었다. 또한, 대전방지 고해상 방현필름의 표면저항 값은 측정장비(ACL 800 MEGOHMMETER)를 이용하여 측정한 결과를 나타내었다.<Table 5> and <Table 6> is the haze defined as described above to measure the haze and transparency of the antistatic high resolution anti-glare film according to the above Examples and Comparative Examples (haze-gardplus, Byk Gardner, made in Germany) The measurement results were shown. In addition, the surface resistance value of the antistatic high resolution anti-glare film showed the results measured using a measuring device (ACL 800 MEGOHMMETER).
투명도(transparency( ClarityClarity ))
투명도는 NAS(narrow angle scattering) 값에 의해 평가하였다. NAS값은 방현 필름의 시인성 평가 기준의 하나로, 본 발명에서는 상기의 모든 실시예와 비교예에 대해 측정장비(Haze-gardplus, BYK Gardner)를 이용하여 NAS(Narrow Angle Scattering, Clarity)값을 측정하고 그 측정된 값을 <표 5>와 <표 6>에 기재하였다.Transparency was assessed by narrow angle scattering (NAS) values. NAS value is one of the criteria for evaluating the visibility of the antiglare film, in the present invention by using the measuring equipment (Haze-gardplus, BYK Gardner) for all the above Examples and Comparative Examples to measure the NAS (Narrow Angle Scattering, Clarity) value The measured values are shown in Tables 5 and 6.
상기 <표 5>에 나타난 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예 1내지 실시예 8은 비교예 1 내지 비교예 3과 비교하여 볼 때, 내침수성이 개선됨을 알 수 있다. 이는 본 발명에서는 내수성이 좋은 폴리싸이오펜(Polychiophene)계열의 대전방지제를 이용함으로 인해 내침수성이 매우 우수하게 나타나는 것이다. 방현층 외에 대전방지층에도 투광성 미립자를 혼합하여 이중 coating시 발생되는 Haze와 NAS값의 보정을 용이하게 개선하였으며 또한 폴리싸이오펜 계열의 전도성 고분자 및 ITO, ATO, 유기 고분자 통전 입자를 사용하여 우수한 대전방지 방현필름을 제조할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시예 2 내지 실시예8은 실시예 1과 비교하여 볼 때, 광학값의 조절이 훨씬 용이함을 알 수 있다.As shown in Table 5, preferred Examples 1 to 8 of the present invention can be seen that the immersion resistance is improved compared to Comparative Examples 1 to 3. In the present invention, the water resistance is very excellent due to the use of an antistatic agent of polythiophene-based polythiophene series. In addition to the anti-glare layer, light-transmitting fine particles are mixed in the antistatic layer to easily improve the correction of Haze and NAS values generated during double coating. Anti-glare film can be manufactured. Preferred Examples 2 to 8 of the present invention, compared with Example 1, it can be seen that the adjustment of the optical value is much easier.
이는 본 발명에서는 방현층은 물론 대전방지층에도 투광성 미립자를 혼합하여 사용함으로써 나타나는 것이다. In the present invention, this is shown by mixing the light-transmitting fine particles in the antiglare layer as well as the antistatic layer.
이상, 본 발명을 구성을 중심으로 실시예와 비교예를 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기저의 범위 내에 있는 것으로 본다.In the above, this invention was demonstrated in detail with reference to an Example and a comparative example centering on a structure. However, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments, but may be embodied in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. Without departing from the gist of the invention as claimed in the claims, any person of ordinary skill in the art is deemed to be within the scope of the claims underlying the present invention to the extent possible for various modifications.
또한, 본 발명에서의 바람직한 범위, 더욱 바람직한 범위 한정은 그 효과를 더욱 극대화시키기 위한 것으로서, 한정 범위가 좁혀짐으로써 더욱 만족스러운 기술적 효과를 얻을 수 있다.In addition, the preferable range and the more preferable range limitation in this invention are for further maximizing the effect, and a narrower range can obtain a more satisfactory technical effect.
도 1은 본 발명에 실시예에 의한 대전방지 고해상 방현필름의 적층구조를 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of an antistatic high resolution antiglare film according to an embodiment of the present invention;
도 2는 본 발명의 비교예에 의한 2차 대전방지층에 투광성 미립자를 혼합하지 않고 코팅한 대전방지 방현필름의 적층구조를 나타낸 단면도, Figure 2 is a cross-sectional view showing a laminated structure of the antistatic antiglare film coated without mixing the light-transmitting fine particles to the secondary antistatic layer according to a comparative example of the present invention,
도 3a, 도 3b는 본 발명의 실시예 및 비교예에서 측정된 헤이즈와 투명도(NAS)의 정의 및 측정원리를 나타낸 도면3A and 3B are diagrams showing definitions and principles of haze and transparency (NAS) measured in Examples and Comparative Examples of the present invention.
<도면의 주요부호에 대한 설명><Description of Major Symbols in Drawing>
10: 투명 기재필름 10: transparent base film
20: 방현층20: antiglare layer
30: 투광성 미립자를 혼합한 대전방지층 30: antistatic layer mixed with translucent fine particles
40: 대전방지층의 광경화 수지층40: photocurable resin layer of antistatic layer
50: 투광성 미립자 50: light transmitting fine particles
60: 투광성 미립자가 혼합되지 않은 대전방지층 60: antistatic layer in which light-transmitting fine particles are not mixed
100: 대전방지 방현필름100: antistatic antiglare film
Claims (25)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080023742A KR100963248B1 (en) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | Method for producing anti-glare film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080023742A KR100963248B1 (en) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | Method for producing anti-glare film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090098388A KR20090098388A (en) | 2009-09-17 |
| KR100963248B1 true KR100963248B1 (en) | 2010-06-10 |
Family
ID=41357475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080023742A KR100963248B1 (en) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | Method for producing anti-glare film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100963248B1 (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103137245B (en) * | 2011-11-30 | 2015-09-09 | 群康科技(深圳)有限公司 | Nesa coating and manufacture method, electronic installation |
| CN103998953B (en) * | 2011-12-26 | 2017-03-08 | 大日本印刷株式会社 | Anti-glare film, polaroid and image display device |
| KR101273789B1 (en) | 2012-04-19 | 2013-06-11 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | Anti-glare film, polarizer and image display device |
| KR102043174B1 (en) * | 2016-10-21 | 2019-11-11 | 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. | Light Scattering Film with Enhanced Extraction Performance |
| KR102101475B1 (en) * | 2017-06-30 | 2020-04-16 | 주식회사 엘지화학 | Transparant conductive film |
| KR102076566B1 (en) * | 2018-04-19 | 2020-02-12 | 효성화학 주식회사 | Tri-Acetyl Cellulose Film |
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| WO2005033752A1 (en) | 2003-10-06 | 2005-04-14 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antiglare film |
| KR100699624B1 (en) * | 2005-11-16 | 2007-03-23 | 주식회사 에이스 디지텍 | Method for Manufacturing Antistatic High-Resolution Anti-Glare Film and Antistatic High-Resolution Anti-Glare Film using thereof |
-
2008
- 2008-03-14 KR KR1020080023742A patent/KR100963248B1/en active IP Right Grant
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20090098388A (en) | 2009-09-17 |
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