KR100950681B1 - 기판 처리 장치, 기판의 제조 방법 및 반도체 장치의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 기판을 처리하는 반응관과,상기 반응관 내의 기판을 가열하는 히터와,상기 반응관 외부에 냉각용 유체를 유통시키는 유로와,상기 반응관 주변의 온도를 검출하는 열전대를 갖고,상기 열전대는 보호관으로 덮여진 상태에서 상기 냉각용 기체를 유통시키는 유로 내부에 설치되고,상기 보호관의 외부에는 상기 냉각용 유체의 상기 보호관으로 향하는 흐름을 차단하는 커버가 설치되되,상기 커버의 선단부에는 개구부가 설치되고, 상기 커버는 상기 개구부가 상기 반응관의 외측면과 대향하도록 배치되는 기판 처리 장치.
- 삭제
- 청구항 1의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 개구부에 의하여 상기 열전대의 온도 측정 접점이 위치하는 상기 보호관의 선단부는 노출되어 있고, 상기 보호관은 상기 노출된 선단부가 상기 반응관의 외측면과 대향하도록 배치되는 기판 처리 장치.
- 청구항 3의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 냉각용 유체가 상기 반응관의 외측면과 평행으로 흐르도록 구성되는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 보호관은, 그 관축이, 상기 냉각용 유체의 흐름과 직각이 되도록 배치되는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 보호관은, 그 관축이, 상기 반응관의 관축과 직각이 되도록 배치되는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 보호관은, 그 관축이, 수평이 되도록 배치되는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 보호관과 상기 커버와의 사이에는 공간이 설치되는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 커버는, 상기 보호관의 측면의 적어도 일부를 덮도록 구성되어 있는 기판 처리 장치.
- 청구항 4의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 커버는, 상기 보호관의 측면의 전체를 덮도록 구성되어 있는 기판 처리 장치.
- 삭제
- 청구항 1의 기판 처리 장치에 있어서, 상기 커버는, 알루미나, 지르코늄 또는 탄화규소 제인 기판 처리 장치.
- 반응관 내에 기판을 반입하는 공정과,상기 반응관 내에서 기판을 가열하여 처리하는 공정과,기판을 처리한 후에 상기 반응관 외부에 냉각용 유체를 유통시킴과 동시에, 상기 냉각용 유체를 유통시키는 유로 내부에 설치되고 보호관으로 덮여진 열전대에 의하여 상기 반응관 주변의 온도를 검출하면서, 상기 반응관 내부의 온도를 강온하는 공정과,처리 후의 기판을 상기 반응관 내부로부터 반출하는 공정을 가지며,상기 반응관 내부의 온도를 강온하는 공정에서는, 상기 보호관의 외부에 상기 냉각용 유체의 상기 보호관으로 향하는 흐름을 차단함과 아울러서, 선단부에는 상기 반응관의 외측면과 대향하도록 배치되는 개구부를 갖는 커버를 구비한 상태에서 상기 반응관 주변의 온도를 검출하는 기판의 제조 방법.
- 반응관 내에 기판을 반입하는 공정과,상기 반응관 내에서 기판을 가열하여 처리하는 공정과,기판을 처리한 후에 상기 반응관 외부에 냉각용 유체를 유통시킴과 동시에, 상기 냉각용 유체를 유통시키는 유로 내부에 설치되고 보호관으로 덮여진 열전대에 의하여 상기 반응관 주변의 온도를 검출하면서, 상기 반응관 내부의 온도를 강온하는 공정과,처리 후의 기판을 상기 반응관 내부로부터 반출하는 공정을 가지며,상기 반응관 내부의 온도를 강온하는 공정에서는, 상기 보호관의 외부에 상기 냉각용 유체의 상기 보호관으로 향하는 흐름을 차단함과 아울러서, 선단부에는 상기 반응관의 외측면과 대향하도록 배치되는 개구부를 갖는 커버를 구비한 상태에서 상기 반응관 주변의 온도를 검출하는 반도체 장치의 제조 방법.
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