KR100948931B1 - 미립 장입물질을 처리하기 위한 방법 및 유동층 작동 장치 - Google Patents

미립 장입물질을 처리하기 위한 방법 및 유동층 작동 장치 Download PDF

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요한 치른가스트
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지멘스 브이에이아이 메탈스 테크놀로지스 게엠베하 앤드 컴퍼니
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Abstract

본 발명은 특히 금속을 함유하는 미립 공급원료를 처리하기 위한 방법에 관한것이며, 상기 공급원료 및 처리 가스 특히, 환원 가스는 유동층을 형성하기 위해 유동층 챔버(1) 예를 들어, 유동층 반응기 내로 도입된다. 처리 가스는 유동층(4) 내에서 적어도 부분적인 반응 후에 상기 유동층으로부터 배출되고 그 후에, 반응성 에이전트(reactive agent) 바람직하게는, 가스 산화제 및/또는 액체 산화제로 특히 발열성 화학 반응에 의해 상기 유동층 외부에서 부분적으로 사용 바람직하게는 산화된다. 상기 반응의 열 에너지는 유동층 챔버 특히, 유동층으로 도입되거나 유동층으로부터 배출된다. 본 발명은 또한 유동층을 작동하기 위한 유니트에 관한 것이다.

Description

미립 장입물질을 처리하기 위한 방법 및 유동층 작동 장치{A PROCESS FOR TREATING A FINELY PARTICULATE CHARGE MATERIAL AND AN APPARATUS FOR OPERATING A FLUIDIZED BED FOR TREATING A FINELY PARTICULATE CHARGE MATERIAL}
본 발명은 미립자(finely particulate), 특히 금속 함유 장입(裝入) 물질(metal-containing charge material)을 처리하기 위한 방법에 관한 것이며, 장입 물질 및 처리 가스(treatment gas), 특히 환원 가스는 유동층(fluidized-bed)을 형성하기 위해 유동층 챔버 예를 들어, 유동층 반응기(fluidized-bed reactor) 내로 도입된다. 본 발명은 또한 유동층 예를 들어, 유동층 반응기를 작동하기 위한 유니트에 관한 것이다.
유동층법의 효율은 무엇보다도 처리 가스의 구성 및 유동층 내의 온도에 의해 조절될 수 있다.
유동층법에 있어서, 적합한 조치 예를 들어, 냉각 가스(cooling gas)를 혼합함으로써 특수한 적용예에 적절한 온도 수준으로 처리 가스의 온도를 설정하는 것이 종래 기술로부터 알려져 있다.
본 발명의 목적은 청구항 제 1 항의 전제부에 따른 방법 및 청구항 제 10 항 의 전제부에 따른 장치를 더 발전시키는 것이며, 이러한 방법 및 장치는 유동층법의 열적 영향의 특히 효율적이고 결과적으로 경제적인 형태를 가능하게 한다.
본 발명에 따라, 이러한 목적은 청구항 제 1 항의 특징부에 개시된 본 발명에 따른 방법 및 청구항 제 10 항의 특징부에 개시된 본 발명에 따른 장치에 의해 달성된다.
제안된 방법은 미립자 금속 산화물, 특히 미립자 산화철의 처리, 특히 환원에 특히 적합하다. 그러나, 본 발명은 이러한 특별한 적용예에 제한되는 것은 아니며, 결과적으로 환원과 관련한 모든 언급은 순전히 예로서 간주된다.
또한 이러한 특수한 진술은 당업자 뿐 아니라 다른 기술 분야, 특히 유동층법이 적용되는 동등한 산업적 처리 분야에서의 숙련자들이 실시할 수 있도록 적합한 변경을 가해 적용된다. 예로서, 본 발명은 또한 시멘트 산업에 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따라, 유동층은 부분 영역, 특히 유동층 챔버의 낮은 부분 영역에 형성되고 및/또는 적어도 부분적으로 반응된 처리 가스는 유동층 챔버 내 바람직하게는, 유동층 위에서 재처리되며, 및/또는 적어도 부분적으로 재처리된 처리 가스는 유동층 챔버로부터 바람직하게는, 유동층 위로부터 배출된다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따라, 유동층 내에서 적어도 부분적으로 반응된 처리 가스를 재처리하기 위한 장치 예를 들어, 산소 버너 및/또는 산소 노즐은 적어도 부분적인 재처리 과정 동안, 특히 적절한 발열이 있다면, 처리 가스의 산화동안 열 에너지가 발생되거나 소비되면서, 유동층 위의 유동층 챔버 내에서 작동된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예에 따라, 열 에너지는 유동층 챔버 내의 유동층 위에서 발생되거나 소비된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예에 따라, 유동층 위에서 발생되거나 소비되는 열 에너지는 유동층 위의 유동층 챔버 내로 도입되거나 유동층 위의 유동층 챔버로부터 제거된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예에 따라, 산화제 예를 들어, 산소 및/또는 공기는 만약 적합하다면, 처리 가스를 재처리하기 위해 유동층 챔버 내의 유동층 위에 배열되는 처리 가스를 재처리하기 위한 장치를 통해 유동층 위의 유동층 챔버 내로 직접 도입된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예에 따라, 적어도 부분적으로 반응된 처리 가스, 특히 환원 가스는 만약 적합하다면, 유동층 챔버 내의 유동층 위에 배열되는 처리 가스를 재처리하기 위한 장치에 의해 유동층 위의 유동층 챔버 내에서 적어도 부분적으로 연소, 특히 적어도 부분적으로 산화된다.
연소는 예를 들어, 발열성 산화와 같은 열 에너지를 얻기 위한 예를 들면, 화학 반응을 나타낸다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예에 따라, 유동층으로부터 나와서 특히, 적어도 때때로 유동층 위에 위치하는 미립 장입 물질은 만약 적합하다면, 유동층 챔버 내의 유동층 위로 안내되고 적어도 부분적으로 재처리, 특히 연소 및/또는 산화 및/또는 가열되는 처리 가스 및/또는 처리 가스 자체를 재처리하기 위한 장치에 의해 적어도 부분적으로 가열 및/또는 냉각된다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따라, 사이클론은 유동층 위의 유동층 챔버 내에 배열되며, 미립 장입 물질은 사이클론, 특히 사이클론 입구 영역에서 처리 가스 및/또는 처리 가스 자체를 재처리하기 위한 장치에 의해 가열 또는 냉각되며, 상기 처리 가스는 유동층 챔버 내의 유동층 위로 안내되고 적어도 부분적으로 재처리, 특히 산화 및/또는 가열된다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따라, 유동층 위에 위치되고 가열 또는 냉각되는 미립 장입 물질은 유동층 내로 적어도 부분적으로 도입, 특히 재순환된다.
더 나아가, 본 발명은 청구항 제 10 항에 개시된 것과 같은 장치, 바람직하게는 청구항 제 1 항 내지 제 9 항 중 하나 이상의 청구항에서 청구된 것과 같은 방법을 수행하기 위한 장치에 의해 특징지어진다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예에 따라, 유동층 위의 유동층 챔버 내에 배열되는 처리 가스를 재처리하기 위한 장치는 액체 및/또는 고체 연소 작용제(combustion agent), 바람직하게는 산화제 및/또는 산소 운반자(oxygen carrier), 특히 바람직하게는 산소 및/또는 공기를 유동층 챔버 내로 도입하기 위해 설계된다.
본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예에 따라, 유동층 챔버 내의 유동층 위에 배열되는 처리 가스를 재처리하기 위한 장치는 비산대 영역(splash zone)에 배열되며, 이로 인해 비산대 영역에 존재하는 미립 장입 물질은 상기 장치 자체 및/또는 적어도 부분적으로 재처리, 특히 산화 및/또는 가열된 처리 가스에 의해 적어도 부분적으로 가열 및/또는 냉각될 수 있다.
이러한 관계에 있어서, 비산대는 미립 고체 입자가 배출되고 그 후, 적어도 부분적으로 유동층 내로 회수되는 유동층 위의 자유공간(free space)이라는 부분으로 특징지어진다.
본 발명에 따른 장치의 특별한 실시예에 따라, 유니트는 유동층 챔버 내의 유동층 위에 배열되는 사이클론(cyclone), 사이클론 출구에 인접하여 유동층 내로 연장되는 긴 관(dipleg) 및 적합하다면, 추가적으로 처리 가스의 재처리를 위해 유동층 챔버 내의 사이클론, 특히 사이클론의 입구 높이에 맞춰 유동층 위에 배열되는 장치를 가지며, 사이클론, 특히 사이클론 입구 영역에서 장치 자체 및/또는 적어도 부분적으로 재처리, 특히 산화, 가열된 처리 가스에 의해 미세 장입 물질이 적어도 부분적으로 가열 또는 냉각되는 것이 가능하다.
본 발명의 특별한 실시예에 따라, 긴 관은 사이클론에서 분리된 물질을 유동층 내로 돌려보내기 위한 장치를 나타낸다.
다양한 유동층 환원 방법에 있어, 장입 광석은 세개 내지 네개의 유동층 반응기 내의 역류에서 가열 또는 환원된다. 이러한 적용에 있어, 온도 프로파일(temperature profile)은 반응열 및 환원 가스의 열함량(heat content)에 의해 설정된다.
따라서, 상응하는 방법의 열 수지 공정 관리(thermal budget process management)는 좁은 제한 범위 내에서만 변경될 수 있다.
종래 기술은 환원 가스의 외부 예열을 개시했지만, 이것은 경제성이 없는 것으로 판명되었다. 유동층의 환원 가스 상류층의 부분적인 연소는 환원 가스의 환원력(reduction potential)에 역효과를 미침으로써 수행될 수 있는 환원 작용에 역효과를 미치게 된다.
유동층 유니트 내에서의 버너의 사용, 특히 산소 버너의 사용에 관한 광범위한 실험은 일반적으로 유동층 유니트 내의 높은 입자 농도 때문에 유동층법을 불안정하게 하는 슬래그 형성이 불꽃 영역에서 발생된다는 것을 보여준다. 더 나아가, 이러한 영역에서, 신뢰할 만한 불꽃 감시(reliable flame monitoring) 및 점화 보조(ignition assistance)는 실현하기 매우 어렵다.
본 발명은 에너지 수지, 특히 에너지의 도입을 최적화 한다.
본 발명의 방법에 따른 본 발명의 특별한 실시예에서, 하나 이상의 산소 버너가 유동층 온도를 증가시키기 위해 유동층 위에 배열된다. 종래의 버너와 비교하였을 때, 본 발명에 따른 산소 버너는 처리 가스, 특히 환원 가스의 연소, 특히 산화가 유동층 챔버 내에서만큼 조기에 산소 버너의 상류층에서 발생한다는 사실에 의해 구별된다. 가장 간단한 실시예에서, 산소 버너는 산소 운반자를 유동층 챔버 내로 공급하기 위한 노즐을 나타낸다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따라, 산소 운반자란 용어의 정의는 모든 산소-함유 물질 및 처리 가스 및/또는 미립 장입 물질 즉, 특히 순수 산소 및/또는 공기의 적어도 부분적인 산화를 위해 유동층 챔버 내에 만연한 주위 조건 하에서 산소를 배출하고 및/또는 제공하는 모든 물질을 포함한다.
본 발명의 특별한 실시예에 따라, 유동층으로부터 배출되는 입자의 결과로서, 상기 입자는 유동층 위의 자유 공간에서 산소 버너에 의해 가열되고 그 후, 유동층 내로 회수된다.
본 발명의 특별한 실시예에 따라, 추가적으로 가열되는 입자 또는 분진(dust)은 선택사양인 사이클론에서 분리되고 그 후, 유동층으로 다시 복귀한다.
유동층의 상류에서 가열되는 가스의 개념과 달리, 제안된 배열을 구비한 본 발명의 특별한 실시예에 따라, 환원 가스의 환원 전위는 단지 유동층의 하류를 악화시킨다. 이것은 상승된 층 온도로 가스의 환원 전위의 사용을 가능하게 한다. 작동 가스가 반응기에 들어갈 때, 높은 가스 온도가 방지된다. 이것은 분배기 베이스에서 발생하는 기존의 케이킹(caking)의 문제를 중화시킨다.
더 나아가, 유동층 또는 유동층 챔버 영역 내에서 발생하는 슬래그 형성(케이킹)의 위험은 불꽃 영역의 낮은 입자 농도에 의해 감소된다.
다음의 특별한 이익은 본 발명의 주요 내용에 의해 실현될 수 있다:
●효율적이고 간단한 불꽃 감시 및 점화 보조
●대략 일정한 처리 가스의 품질을 유지하면서 유동층 온도의 증가에 의해 더 우수하고 더 일정한 처리 특히, 환원
●유동층의 온도 프로파일의 효율적이고 간단한 영향
●분배기 베이스의 연장된 사용기간
●유동층법의 개선된 효율의 결과인 향상된 생산성.
제안된 발명은 상기 발명이 병렬 및/또는 직렬로 작동되는 다수의 유동층을 구비하는 방법에 적용될 때 특히 효율적이라는 것이 증명되었으며, 이는 이러한 경우에 각각의 유동층은 적용된 온도에 관하여 서로 특히 가요적으로 조화될 수 있기 때문이다.
본 발명의 특별한 실시예에 따라, 유동층 반응 예를 들어, 미립 금속 산화물의 환원이 처리 가스의 추가적인 재처리 예를 들어, 부분적 연소에 앞서 유동층 내에서 수행되며, 그럼에도 특히 재순환된 입자, 바람직하게는 미립 장입 물질에 의해 유동층 내의 온도를 제어하는 것이 가능하다.
본 발명의 특별한 실시예에 따라, 재순환은 한편으로는 사이클론 재순환 예를 들어 긴 관을 통한 사이클론 재순환 및/또는 다른 한편으로는 유동층으로부터 배출되고 회수되는 입자에 의해 영향을 받는다. 이러한 실시예에 따라, 유동층에서의 반응 동안 또는 반응 전에 영향을 받은 처리 가스 없이 유동층의 가열이 이루어진다.
본 발명은 개략적 도면을 근거로 하여 특별하고 제한적이지 않은 실시예에 따라 이하 설명된다.
도 1은 미립자, 특히 금속 함유 장입 물질을 처리하기 위한 공정을 도시한다.
도 1은 유동층, 예를 들어 유동층 반응기를 다루기 위한 유니트(1)를 도시하며, 상기 유동층 반응기는 유동층(4) 및 자유 공간(5)을 수용하기 위해 윈드 챔버(wind chamber)(2) 및 유동층 챔버를 구비한다. 더 나아가, 유니트(1)는 처리 가스(treatment gas)(6), 특히 환원 가스를 분배하기 위한 분배기 베이스(3)를 구비한다.
미립 장입 물질(finely particulate charge material), 특히 산화철은 라인(8)을 통해 유니트(1)로 공급되며, 적어도 부분적으로 처리된 형태로 라인(9)을 통해 다시 제거된다.
유니트(1)에는 사이클론(10) 및 긴 관(11)이 있고, 상기 긴 관(11)은 분진 또는 미세 장입 물질을 분리하여 유동층(4)으로 재순환시키기 위해 사용된다. 당업자에게 잘 알려져 있는 것처럼, 유동층(4)은 끓는 액체와 유사하게 행동하며 비록 선명하진 않지만, 도면에 개략적으로 묘사된 한정된 표면에 의해 상부에 한정된다. 이러한 선명하지 않은 경계선(blurred boundary)의 바로 위쪽에는 비산대로 알려진 영역이 있으며, 이러한 영역은 상기 영역 내의 미립자의 존재에 의해 특징지워지며, 상기 미립자는 유동층으로부터 배출된 후, 유동층 내로 회수된다.
유동층 챔버 내에는 유동층(4) 위의 유동층 챔버 내로 산소(11)를 공급하기 위한 산소 버너(12)가 있다. 특정의 실시예에 따라, 산소 버너 자체는 비산대 내에 위치(도 1에 도시된 바와 같이)하거나 비산대 내로 열을 직접 공급하기 하기 위해 사용된다. 입자(16)는 유동층 내로 회수되기 전에 비산대 내에서 산소 버너(12)에 의해 가열되며 이에 따라, 유동층의 가열에 기여한다.
본 발명의 추가적인 실시예에 따라, 산소 운반자(15)를 공급하기 위한 버너(14)는 사이클론(10), 특히 사이클론 입구 영역 내에 제공된다.
이러한 방식으로, 처리 가스는 유동층 챔버 내에서 연소되며, 열이 유동층(4) 위에서 발생되고 이러한 열은 예를 들어, 긴 관(11)을 통해 사이클론(10) 내에서 분리되는 고체 입자에 의해 유동층(4)을 직접적으로 가열하기 위해(또는 경과하여 가열하기 위해) 사용된다.
예를 위해, 화살표(17)는 유동층(4)으로부터 비산대를 통과하여 자유 공간(5) 내로 향하는 미립 고상 입자(fine solid particle)의 경로를 도시하며 이에 따라, 이러한 입자는 산소 버너(14)에 의해 가열되고 그 후, 사이클론(10) 및 긴 관(11)을 통해 유동층(4) 내로 재순환된다.
적어도 부분적으로 반응된 처리 가스는 라인(7)을 통해 다시 배출된다.

Claims (31)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 장입물질과 처리 가스를 유동층 챔버에 제공하여 유동층을 형성하고, 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에 사이클론을 배치하는 단계,
    상기 처리 가스를 상기 유동층 내에서 적어도 부분적으로 반응시키고 나서 상기 처리 가스를 상기 유동층에서 배출하는 단계,
    적어도 부분적으로 반응되고 배출된 상기 처리 가스를, 상기 처리 가스 재처리 장치에서 반응물과 화학반응시켜 적어도 부분적으로 재처리하고, 상기 재처리 장치를 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에서 작동하여 상기 화학 반응에서 열 에너지를 생산하는 단계 및
    상기 열 에너지를 적어도 부분적으로 상기 유동층 챔버에 제공하거나 상기 유동층 챔버에서 배출하며, 상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위 상기 사이클론 영역에서 상기 처리 가스로 상기 미립 장입물질을 가열하거나 냉각하는 단계를 포함하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  12. 제11항에서,
    상기 처리 가스는 상기 유동층 챔버에 제공되는 환원 가스이고, 상기 유동층 챔버는 유동층 반응기인 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  13. 제12항에서,
    상기 적어도 부분적으로 상기 처리 가스를 재처리하는 단계는,
    기체 산화제를 포함하는 반응물과 발열 화학반응을 일으킴으로써 상기 처리 가스를 산화하는 단계를 포함하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  14. 제13항에서,
    상기 처리 가스 재처리 장치는 산소 버너 또는 산소 노즐 중 적어도 하나이고, 상기 재처리 장치는 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에서 작동 가능하고 열 에너지를 생산하며,
    상기 사이클론 입구 영역에서 상기 미립 장입물질을 가열하거나 냉각하려고 상기 열 에너지를 적어도 부분적으로 상기 유동층에 제공하거나 배출하며, 상기 처리 가스를 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버로 유도함으로써 상기 열 에너지를 상기 유동층 챔버에 제공하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  15. 제14항에서,
    상기 사이클론 입구 영역에서, 상기 처리 가스로, 또는 상기 처리 가스 재처리 장치로 상기 미립 장입물질을 가열하거나 냉각하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  16. 제13항에서,
    상기 미립 장입물질은 금속 함유 장입물질인 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  17. 제13항에서,
    상기 유동층은 상기 유동층 챔버의 아랫부분에 형성되고,
    상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에서 상기 부분적으로 반응된 처리 가스를 재처리하는 단계 및
    상기 적어도 부분적으로 재처리된 처리 가스를 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버에서 배출하는 단계를 포함하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  18. 삭제
  19. 제17항에서,
    상기 처리 가스를 재처리하려고 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버에 산화제를 제공하는 단계를 더 포함하는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  20. 제19항에서,
    상기 산화제는 상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위에 배치된 상기 처리 가스 재처리 장치에 의해 제공되는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  21. 제19항에서,
    상기 산화제는 산소 또는 공기인 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  22. 제12항에서,
    상기 적어도 부분적으로 반응된 처리 가스는 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에서 적어도 부분적으로 산화되는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  23. 제22항에서,
    상기 적어도 부분적으로 반응된 처리 가스는 상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위에 배치된 상기 처리 가스 재처리 장치에 의해 적어도 부분적으로 산화되는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  24. 제11항에서,
    상기 유동층은, 미립 장입물질이 상기 유동층에서 나와 상기 유동층 위에 있도록 하고, 적어도 부분적으로 재처리되고 상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위로 유도되는 처리 가스 또는 상기 처리 가스 재처리 장치 중 적어도 어느 하나에 의해 상기 유동층 위에서 상기 미립 장입물질을 가열하거나 냉각하도록 작동할 수 있는 미립 장입물질을 처리하는 방법.
  25. 삭제
  26. 처리 가스를 분배하기 위한 분배기 베이스,
    상기 분배기 베이스 위에 유동층을 형성하며 상기 유동층이 배치되는 아랫부분을 포함하고, 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에서 상기 처리 가스를 재처리하도록 작동하는 유동층 챔버,
    미립 장입물질을 공급하는 제1라인,
    처리된 미립 장입물질을 상기 유동층 챔버에서 배출하는 제2라인,
    처리 가스를 상기 유동층 챔버에 제공하는 제3라인,
    처리 가스를 상기 유동층 챔버에서 배출하는 제4라인,
    상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위에 배치되고, 상기 유동층 내부로 통하는 방출구를 구비하는 사이클론,
    상기 유동층까지 연장되고 상기 방출구에 연결되는 관 및
    적어도 부분적으로 반응한 상기 처리 가스를 재처리하는 재처리 장치를 포함하며,
    상기 재처리 장치는 상기 유동층 위 상기 유동층 챔버 내에 배치되고, 열 에너지를 상기 유동층에 제공하거나 상기 유동층에서 배출하도록 작동하며, 상기 사이클론 높이로 상기 유동층 챔버 내 상기 유동층 위에 배치되어 상기 사이클론 영역에 있는 미립 장입물질이 상기 재처리 장치나 상기 적어도 부분적으로 재처리된 처리 가스에 의해 가열되거나 냉각되게 하는 미립 장입물질을 처리하기 위한 유동층 작동 장치.
  27. 삭제
  28. 제26항에서,
    상기 사이클론에는 상기 유동층 챔버 내에 배치되는 유입구가 있어서 상기 미립 장입물질이 상기 사이클론 입구 영역에서 가열되거나 냉각되는 미립 장입물질을 처리하기 위한 유동층 작동 장치.
  29. 삭제
  30. 제26항에서,
    상기 산화제는 산소 또는 공기인 미립 장입물질을 처리하기 위한 유동층 작동 장치.
  31. 제26항에서,
    상기 재처리 장치는 상기 유동층 챔버 내의 비산대 영역 내에 배열되어 상기 재처리 장치 또는 상기 적어도 부분적으로 재처리된 처리 가스에 의해 상기 장입물질이 상기 비산대 영역에서 가열되거나 냉각되게 하는 미립 장입물질을 처리하기 위한 유동층 작동 장치.
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