KR100948768B1 - Holder device for large size mask plate and large size transparent glass plate coated with thin films for 10th generation aligner of liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크기구에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 하판인 마스크판과 상판인 투명유리판사이에 형성된 부압으로 노광용 마스크기구의 하판인 마스크판의 자중에 의한 처짐을 없애고 상판인 투명유리판에 다층 광학박막을 코팅하여 투명유리판을 투과하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 투과율을 높여 광량 손실을 억제하여 액정기판 노광장치의 우수한 결상성능과 높은 생산성을 제공할 수 있는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크기구에 관한 것이다.The present invention relates to a mask apparatus for exposure provided with a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film. More specifically, the negative pressure formed between the mask plate as the lower plate and the transparent glass plate as the upper plate eliminates sagging due to the weight of the mask plate as the lower plate of the exposure mask mechanism, and the multilayer glass thin film is coated on the transparent glass plate as the upper plate to transmit the transparent glass plate to each other. Regarding the exposure mask mechanism having a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film which can increase the transmittance of exposure light and alignment light in the other two wavelength ranges and suppress light loss, thereby providing excellent image forming performance and high productivity of the liquid crystal substrate exposure apparatus. will be.

이를 위하여 본 발명은 마스크판을 하판으로 하고 투명유리판을 상판으로 하여 상기 상판과 상기 하판사이에 형성된 부압으로 상기 마스크판을 부압흡착하여 상기 마스크판의 자중에 의한 처짐을 지우며 상기 마스크판을 유지하는 노광용 마스크기구에 있어서, 표시부 패턴과 얼라인먼트 패턴이 그려진 상기 마스크판의 패턴을 액정기판에 전사하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 상기 투명유리판 투과시 광량 손실을 억제하기 위하여 상기 투명유리판의 표면에 상기 2 파장영역에 대해서 투과율이 우수한 다층 광학박막이 코팅된 상기 투명유리판을 상기 노광용 마스크기구의 상판으로 형성하는 것을 특징으로 한다.To this end, the present invention uses a mask plate as a lower plate and a transparent glass plate as an upper plate to negatively adsorb the mask plate with a negative pressure formed between the upper plate and the lower plate to remove sag caused by the weight of the mask plate and to maintain the mask plate. In the exposure mask mechanism, in order to suppress the amount of light loss in the transmission of the transparent glass plate of the exposure light and the alignment light of two different wavelength regions which transfer the pattern of the mask plate on which the display portion pattern and the alignment pattern are drawn to the liquid crystal substrate, The transparent glass plate coated with the multilayer optical thin film having excellent transmittance with respect to the two wavelength ranges on the surface is formed as a top plate of the exposure mask mechanism.

투명유리판, 마스크기구, 노광광, 얼라인먼트광, 부압흡착, 부압, 10세대, 4층 구성, 광학박막, 액정노광장치, 광량, 자중, 처짐, 2 파장영역  Transparent glass plate, mask mechanism, exposure light, alignment light, negative pressure adsorption, negative pressure, 10 generations, 4 layer construction, optical thin film, liquid crystal exposure device, light quantity, self weight, deflection, 2 wavelength range

Description

다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크기구{HOLDER DEVICE FOR LARGE SIZE MASK PLATE AND LARGE SIZE TRANSPARENT GLASS PLATE COATED WITH THIN FILMS FOR 10TH GENERATION ALIGNER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Mask for exposure with transparent glass plate coated with multi-layered optical thin film

본 발명은 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크기구에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 하판인 마스크판과 상판인 투명유리판사이에 형성된 부압으로 노광용 마스크기구의 하판인 마스크판의 자중에 의한 처짐을 없애고 상판인 투명유리판에 다층 광학박막을 코팅하여 투명유리판을 투과하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 투과율을 높여 광량 손실을 억제하여 액정기판 노광장치의 우수한 결상성능과 높은 생산성을 제공할 수 있는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크기구에 관한 것이다.The present invention relates to a mask apparatus for exposure provided with a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film. More specifically, the negative pressure formed between the mask plate as the lower plate and the transparent glass plate as the upper plate eliminates sagging due to the weight of the mask plate as the lower plate of the exposure mask mechanism, and the multilayer glass thin film is coated on the transparent glass plate as the upper plate to transmit the transparent glass plate to each other. Regarding the exposure mask mechanism having a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film which can increase the transmittance of exposure light and alignment light in the other two wavelength ranges and suppress light loss, thereby providing excellent image forming performance and high productivity of the liquid crystal substrate exposure apparatus. will be.

액정표시장치(LCD) 패널은 박형, 경량, 저소비전력 등의 특징으로 대형 LCD TV에 사용하고 있다. 32", 37", 40", 42", 46", 47", 52" 의 LCD TV용 패널을 삼성전자, LG 디스플레이, 샤프, SONY, IPS알파, AU옵트로닉스(AUO), 치메이옵토일렉트로닉스(CMO) 을 포함하는 LCD 패널 제조사들이 생산하고 있다. LCD패널 제조사에서는 대형LCD TV에 적합한 머더글라스(MOTHER GLASS)로는 1,200 ×1,300mm 의 5세대 유리기판, 1,500 ×1,850mm 의 6세대 유리기판, 1,870 ×2,200mm 의 7세대 유리기판, 2,160 ×2,400mm 의 8세대 유리기판을 사용하고 있으며, 향후 10세대 LCD라인에서는 2,880 ×3,130mm 의 유리기판을 사용할 예정이다. 머더글라스(MOTHER GLASS, 유리기판)을 피노광기판으로 사용하는 액정기판 노광장치의 포토마스크(PHOTOMASK)는 5세대 이하의 액정기판 노광장치에서는 520×610mm의 포토마스크, 6세대 액정기판 노광장치에서는 850×1200mm 또는 850×1000mm의 포토마스크, 8세대 액정기판 노광장치에서는 850×1200mm 또는 850×1400mm의 포토마스크를 사용하고 있다. 일반적으로 LCD 제조라인에는 CF(칼라필터)용 노광기, TFT(초박막 트랜지스터)용 노광기가 있다.LCD panels are used in large LCD TVs because of their thinness, light weight, and low power consumption. 32 ", 37", 40 ", 42", 46 ", 47" and 52 "LCD TV panels are used for Samsung Electronics, LG Display, Sharp, SONY, IPS Alpha, AU Optronics (AUO) and Chimei Optoelectronics ( LCD panel makers, including CMOs, produce 1,200 × 1,300mm 5th generation glass substrates, 1,500 × 1,850mm 6th generation glass substrates, and 1,870. 7G glass substrate of 2,200mm × 8, 8G glass substrate of 2,160 × 2,400mm are used, and 2,880 × 3,130mm glass substrate will be used in 10G LCD line in the future. The photomask of a liquid crystal substrate exposure apparatus using a substrate as an exposed substrate is a photomask of 520 × 610 mm in a 5th generation or less liquid crystal substrate exposure apparatus, and a 850 × 1200 mm or 850 × 1000 mm photolithography in a 6th generation liquid crystal substrate exposure apparatus. Mask, 850 × 1200mm in 8th Gen LCD Substrate Alternatively, a photomask of 850 × 1400 mm is used In general, an LCD manufacturing line includes an exposure machine for CF (color filter) and an exposure machine for TFT (ultra thin film transistor).

액정표시장치, 예를 들면 어레이(ARRAY) 기판상에 박막 트랜지스터(TFT)부의 전극형성은 유리기판상에 투명전극재료인 ITO(인듐 주석산화물)막, 니켈(Ni)막, 알루미늄(Al)막을 차례차례 형성해, 알루미늄(Al)막의 불요부분을 제거한 후, 포토레지스트막을 도포 형성해, 노광용 마스크를 사용하여 노광용 마스크상의 패턴을 노광, 현상하여 알루미늄(Al)배선의 마스크 패턴을 형성한다.The formation of electrodes in a thin film transistor (TFT) portion on a liquid crystal display device, for example, an array (ARRAY) substrate, is followed by an indium tin oxide (ITO) film, a nickel (Ni) film, and an aluminum (Al) film, which are transparent electrode materials on a glass substrate. After forming in turn and removing the unnecessary part of an aluminum (Al) film, a photoresist film is apply | coated and formed, the pattern on an exposure mask is exposed and developed using the exposure mask, and the mask pattern of an aluminum (Al) wiring is formed.

한편 액정표시장치의 칼라필터의 공정순서를 보면 유리기판상에 적색용의 광감광성 착색 레지스트막을 도포해, 그 다음에, 포토마스크을 개입시켜 노광 및 현상 하는 것으로써, 적색 착색층 R을 형성한다. 같은 방법으로 녹색 착색층G 및 청색 착색층 B를 형성한다.On the other hand, in the process procedure of the color filter of the liquid crystal display device, a red colored layer R is formed by applying a red photosensitive colored resist film on a glass substrate and then exposing and developing through a photomask. In the same manner, the green colored layer G and the blue colored layer B are formed.

도1은 종래 방법에 따른 사용 예를 설명하기 위한 구성도이다.1 is a configuration diagram illustrating an example of use according to a conventional method.

도1을 보면 머더글라스(유리기판)과 노광용 마스크(RETICLE,또는 PHOTOMASK) 은 수평상태로 마주보며 놓여있다. 포토레지스트막(PHOTORESIST)이 코팅된 머더글라스(유리기판)은 기판홀더(SUBSTRATE HOLDER)상에 평면상태로 고정되며, 노광용 마스크는 머더글라스(유리기판)에 미소간격 D1 만큼 떨어지며 클램프부재에 의해 고정 유지된다. 노광광학계의 평행조사광을 머더글라스(유리기판)표면에 도포한 포토레지스트상에 조사하여 노광용 마스크의 패턴(PATTERN, 도시하지 않음)을 노광한다. LCD 노광기에 널리 사용하는 근접(PROXIMITY)형 노광장치는 노광대상인 기판과 마스크(포토마스크)간의 거리(근접갭, PROXIMITY GAP)를 약 50∼200㎛정도로 유지하며 노광한다. 근접(PROXIMITY)형 노광장치는 약 10㎛의 해상력을 가지며, 근접갭(PROXIMITY GAP)이 작을수록 노광장치의 해상력은 향상된다. 노광장치에 있어서 최대문제점은 단위면적당 소요질량을 갖는 노광용 마스크는 자중에 의해 마스크 중심부가 휘어지는 것이다. 예를 들면 마스크 사이즈가 크지 않은 5세대 이하 액정기판 노광장치에서는 노광용 마스크가 자중에 의해 마스크 중심부가 휘어지더라도 그 양은 무시할 정도이여서 문제가 되지 않는다. 그러나 6세대 이상 액정기판 노광장치에 사용되는 노광용 마스크는 사이즈가 850×1000mm 이상으로 유리판인 마스크의 자중에 의해 하부에 가상선(VIRTUAL LINE)모양으로 구부려져, 머더글라스(유리기판)과 노광용 마스크의 소정의 미소간격은 위치에 따라 일정하지 않으며 즉 중앙부에서 작아지며 주변부에서는 크게 된다. 그러므로 마스크 패턴을 평행조사광으로 유리기판상에 전사할 수 없게 되고 정확한 패턴을 형성 할 수 없게 되는 것이었다. 따라서, 유리 기판에 패턴 인화의 정밀도가 저하된다. 그 결과 패턴 해상도는 주변부가 떨어진다.1, the mother glass (glass substrate) and the exposure mask (RETICLE, or PHOTOMASK) are placed facing each other in a horizontal state. The mother glass (glass substrate) coated with the photoresist film (PHOTORESIST) is fixed on the substrate holder (SUBSTRATE HOLDER) in a flat state, and the exposure mask is spaced apart from the mother glass (glass substrate) by a small distance D1 and fixed by the clamp member. maintain. Parallel irradiation light of an exposure optical system is irradiated onto a photoresist coated on a mother glass (glass substrate) surface to expose a pattern (PATTERN, not shown) of an exposure mask. PROXIMITY type exposure apparatus widely used in LCD exposure apparatus maintains the distance (proximal gap, PROXIMITY GAP) between the substrate to be exposed and the mask (photomask) at about 50-200 μm. The proximity type exposure apparatus has a resolution of about 10 μm, and the smaller the proximity gap, the better the resolution of the exposure apparatus. In the exposure apparatus, the biggest problem is that the mask for the exposure having the required mass per unit area bends the center of the mask by its own weight. For example, in the fifth generation or less liquid crystal substrate exposure apparatus in which the mask size is not large, the amount of the mask is negligible even if the mask for the exposure bends due to its own weight. However, the exposure mask used in the sixth generation or more liquid crystal substrate exposure apparatus has a size of 850 × 1000 mm or more, and is bent in the form of a virtual line in the lower portion by the weight of the mask, which is a glass plate, so that the mother glass (glass substrate) and the exposure mask are used. The predetermined small spacing of is not constant depending on the position, i.e. it becomes small at the center and large at the periphery. Therefore, the mask pattern cannot be transferred onto the glass substrate by parallel irradiation light, and the accurate pattern cannot be formed. Therefore, the precision of pattern printing falls to a glass substrate. As a result, the pattern resolution drops at the periphery.

이 때문에 마스크 대형화에 따른 자중에 의한 마스크 처짐, 즉 만곡부가 커서 소망하는 근접갭을 유지할 수 없어 유리기판에서 위치에 따른 패턴 해상도 저하로 액정표시장치(LCD) 패널의 품질상 불균일 등의 문제점이 발생하게 된다.As a result, mask deflection due to self-weight due to the enlargement of the mask, that is, the curved portion cannot maintain a desired proximity gap, causes a problem such as unevenness in the quality of the liquid crystal display (LCD) panel due to deterioration of the pattern resolution depending on the position on the glass substrate. do.

본 발명은, 이상의 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 본 발명의 목적은 하판인 마스크판과 상판인 투명유리판사이에 형성된 부압으로 마스크기구의 하판인 대형 사이즈인 마스크판의 자중에 의한 처짐을 지우는 노광용 마스크기구를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and an object of the present invention is a negative pressure formed between a mask plate which is a lower plate and a transparent glass plate that is an upper plate. It is an object of the present invention to provide an exposure mask mechanism for erasing sag.

본 발명의 다른 목적은 얼라인먼트광이 투과하는 투명유리판의 투과율을 높여 마스크판 상의 얼라인먼트마크를 액정기판상에 전사되는 얼라인먼트 정도를 향상시키는 노광용 마스크기구를 제공하는데 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide an exposure mask mechanism for improving the degree of alignment of the alignment mark on the mask plate transferred to the liquid crystal substrate by increasing the transmittance of the transparent glass plate through which the alignment light is transmitted.

본 발명의 또 다른 목적은 투명유리판에 광량 손실을 최소화하는 대역이 넓은 광학박막을 코팅하여 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광에 대해서 투과율이 우수한 노광용 마스크기구를 제공하는데 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide an exposure mask mechanism having excellent transmittance with respect to exposure light and alignment light in two different wavelength regions by coating a wide band optical thin film to minimize light loss on the transparent glass plate.

본 발명은 마스크판을 하판으로 하고 투명유리판을 상판으로 하여 상기 상판과 상기 하판사이에 형성된 부압으로 상기 마스크판을 부압흡착하여 상기 마스크판의 자중에 의한 처짐을 지우며 상기 마스크판을 유지하는 노광용 마스크기구에 있어서, 표시부 패턴과 얼라인먼트 패턴이 그려진 상기 마스크판의 패턴을 액정기판 에 전사하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 상기 투명유리판 투과시 광량 손실을 억제하기 위하여 상기 투명유리판의 표면에 상기 2 파장영역에 대해서 투과율이 우수한 다층 광학박막이 코팅된 상기 투명유리판을 상기 노광용 마스크기구의 상판으로 형성하는 것에 특징이 있다.The present invention provides a mask for exposure using a mask plate as a lower plate and a transparent glass plate as a top plate, thereby negatively adsorbing the mask plate with a negative pressure formed between the top plate and the bottom plate, thereby eliminating sag caused by the weight of the mask plate and maintaining the mask plate. A mechanism, comprising: a surface of the transparent glass plate in order to suppress the amount of light loss in the transmission of the transparent glass plate of exposure light and alignment light of two different wavelength regions which transfer the pattern of the mask plate on which the display unit pattern and the alignment pattern are drawn to the liquid crystal substrate. The transparent glass plate coated with the multilayer optical thin film having excellent transmittance with respect to the two wavelength ranges may be formed as the upper plate of the exposure mask mechanism.

본 발명은 광대역 광학박막이 코팅된 투명유리판을 상판으로 한 노광용 마스크기구를 8세대 이상의 액정기판 노광장치의 마스크스테이지에 흡착 유지하여 투명유리판을 투과하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 광량 손실을 최소화하여 액정기판 노광장치의 우수한 결상성능과 높은 생산성을 제공할 수 있다.According to the present invention, an exposure mask mechanism using a transparent glass plate coated with a wide band optical thin film is adsorbed and held on a mask stage of an 8th generation or more liquid crystal substrate exposure apparatus, and the light quantity of exposure light and alignment light in two different wavelength regions passing through the transparent glass plate. By minimizing the loss, it is possible to provide excellent imaging performance and high productivity of the liquid crystal substrate exposure apparatus.

본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도2는 본 발명의 노광용 마스크기구를 구비한 액정기판 근접노광장치의 주요부 개략구성도이다.Fig. 2 is a schematic structural diagram of an essential part of a liquid crystal substrate proximity exposure apparatus provided with the exposure mask mechanism of the present invention.

도3은 본 발명의 실시 예에 따른 노광용 마스크기구의 분해사시도이다.3 is an exploded perspective view of the exposure mask mechanism according to the embodiment of the present invention.

도4는 마스크판 내지 기판을 보여주는 도면으로,4 is a view showing a mask plate to a substrate,

(a)는 마스크, (b)는 기판, (c)는 마스크판 내지 기판에 설치된 얼라인먼트 마크를 보여주는 도면이다.(a) is a mask, (b) is a board | substrate, (c) is a figure which shows the alignment mark provided in the mask board or board | substrate.

도5는 본 발명의 실시 예에 따른 4층 구성 광학박막의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a four-layer optical thin film according to an embodiment of the present invention.

도2 내지 도5를 보면, 액정기판 근접노광장치의 노광대(기판홀더,1)는 기판 (2)을 로딩하며, 기판, 예를 들면 칼라필터 기판, 즉 기판 표면에 유색 감광성 도막이 형성된 유리 기판 또는 기판 표면에 포토레지스트막이 형성된 유리 기판을 고정 유지할 위치를 결정한다. 제어장치(도시하지 않음) 및 CCD카메라(도시하지 않음)에 의해 Z스테이지, X스테이지, Y스테이지,

Figure 112008502827792-pat00006
스테이지를 구동 제어해 XYZ
Figure 112008502827792-pat00007
방향으로 이동한다. 그리고 기판(2)과 마스크기구(22)의 상대위치를 보정하여 정확하게 위치정렬, 그리고 기판(2)과 마스크기구(22)의 갭(GAP)을 제어해 기판(2)을 마스크기구(22)에 근접한다. 마스크 스테이지(33)는 마스크기구(22)를 보관유지하며 기판(2)에 근접해 마스크기구(22)의 하판인 마스크판(3)을 위치결정한다.2 to 5, the exposure stage (substrate holder 1) of the liquid crystal substrate proximity exposure apparatus loads the substrate 2, and the substrate, for example, a color filter substrate, that is, a glass substrate having a colored photosensitive coating film formed on the substrate surface. Or the position which hold | maintains the glass substrate in which the photoresist film was formed on the substrate surface is determined. Z stage, X stage, Y stage, by control device (not shown) and CCD camera (not shown)
Figure 112008502827792-pat00006
Drive control of stage XYZ
Figure 112008502827792-pat00007
Move in the direction of Then, the relative position of the substrate 2 and the mask mechanism 22 is corrected to precisely align the positions, and the gap GAP between the substrate 2 and the mask mechanism 22 is controlled to control the substrate 2 to the mask mechanism 22. Close to The mask stage 33 holds the mask mechanism 22 and positions the mask plate 3, which is the lower plate of the mask mechanism 22, close to the substrate 2.

노광용 마스크기구(22)는 노광용 개구부(64)를 갖는 마스크 스테이지(33)에 고정 유지된다. 노광대상인 기판(2)의 위쪽 위치에 마스크 스테이지(33)가 설치되고 있으며, 마스크 스테이지(33)의 노광용 개구부(64)를 덮으며 장방형 대형사이즈인 노광용 마스크기구(22)이 고정유지된다. 마스크기구(22)는 장방형 대형사이즈인 마스크판(3)의 바로 위에 마스크판(3)의 종횡치수와 동일하거나 큰 사이즈를 갖는 약3 ∼ 10mm정도의 두께를 갖는 투명유리판(4)을 위치하며, 마스크판(3)과 투명유리판(4)은 외주부 틀 또는 외주부 스페이서(SPACER,5)로 마스크판(3)과 투명유리판(4)이 서로 대향해서 소정거리만큼 떨어져 배치되며 마스크판(3), 투명유리판(4), 외주부 틀(도시하지 않음) 또는 외주부 스페이서(SPACER,5)로 부압공간을 형성한다. 투명유리판(4)은 마스크기구(22)의 상판으로 마스크기구(22)의 하판인 마스크판(3)과 약3 ∼ 10mm정도의 간극(DISTANCE)을 갖으며 대향 배치된다. 외주부틀((도시하지 않음)의 높이 또는 외주부 스페이서(SPACER,5)의 높이로 마스크기구(22)의 상판(4)과 하판(3)의 간극을 결정한다. 기밀성(AIRTIGHT) 재료로 성형 제작한 외주부 틀 또는 외주부 스페이서(SPACER,5)은 투명유리판(4)과 마스크판(3)을 볼트, 너트, 카운터보어(COUNTERBORES), 브라킷(BRACKET)등의 고정수단으로 일체적으로 조립고정한다. 투명유리판(4)의 외주부에 또는 외주부 틀에 관통홀을 내어 부압공간(44)에 필요한 부압을 기체(GAS)공급수단 예를 들면 진공펌프(도시하지 않음)로 제공한다. 부압공간(44) 내부가 부압(NEGATIVE PRESSURE)이 되는 것에 의해서, 대기압과의 차압으로 마스크판(3)을 위쪽에 밀어 올릴 수 있어 마스크판(3)의 자중이 상쇄되어 마스크판(3)은 기판(2)의 판면과 평행상태가 된다. 노광광(44)은 자외선(파장 190nm∼ 300nm)광원으로 예를 들면 수은램프을 사용하며, 노광장치의 평면밀러(MIRROR)등의 광학계를 거쳐 마스크기구(22)의 위쪽으로부터 투명유리판(4)을 투과하고 바로 아래쪽의 마스크판(3)을 조명한다. 마스크판(3)의 원화패턴이 액정기판(2)상에 전사된다. 얼라인먼트광(55)은 노광광(44)의 광로 측방에 설치되며 액정기판 근접노광장치의 마스크판(3)과 액정기판(2)과의 얼라인먼트(ALIGNMENT)에 사용하며 유색 감광성 도막 또는 포토레지스트막을 감광하지 않는 광으로 장파장역(파장 600nm ∼ 900nm)의 광을 이용한다. 예를 들면 800nm이상의 적외선 LED 광원 등이 사용되며, 편각프리즘등의 광학계를 거쳐 마스크기구(22)의 위쪽으로부터 투명유리판(4)을 투과하고 바로 아래쪽의 마스크판(3)상의 얼라인먼트 마크(MA)를 조명한다. 마스크판(3)의 얼라인먼트 패턴(MA)이 액정기판(2)상에 전사되며 기판(2)의 현상처리에 의해 기판(2)상에 얼라인먼트 패턴(PA)이 형성된다. 근접노광장치의 경우에는 마스크판(3)에 대해서 소정의 갭(GAP)으로 배치된 기판(2)상에 마스크판 (3)의 패턴을 전사하는 방식으로 광학요소중 노광광(44)의 조도의 균일성 등이 중요하게 된다. 그리고 얼라인먼트를 실시하기 위해서는 마스크판(3)상의 얼라인먼트 마크(MA)가 액정기판(2)상에 전사되어 기판(2)상의 얼라인먼트 마크(PA)의 위치를 검출할 수 있는 것이 전제가 된다. 마스크 얼라인먼트패턴(MA)은 십자형상이며, 마스크판(3)의 비표시부인 4 엣지(EDGE)부에 각각 설치되고 있다. 단파장의 노광광(44)과 장파장의 얼라인먼트광(55), 즉 서로 다른 2 파장영역의 광원이 투과하는 마스크기구(22)는 상판 투명유리판(4)과 하판 마스크판(3)의 광학부재로 이루어진다. 장파장의 얼라인먼트광(55)이 상판 투명유리판(4)을 투과하고 하판 마스크판(3)상의 가장자리에 위치한 얼라인먼트 마크(MA)를 조명하고 얼라인먼트 마크(MA)를 기판(2)상에 전사한다. 장파장 얼라인먼트광(55)의 투명유리판(4) 투과시 투명유리판(4)표면에서 얼라인먼트광(55)의 반사로 인한 광량 손실로 고정밀도 얼라인먼트가 쉽지 않아 결상성능(IMAGING PERFORMANCE)을 높이기 어려워진다. 투명유리판(4)표면에 반사방지 광학박막을 코팅하여 장파장의 얼라인먼트광(55)의 투과율을 증대시켜 투명유리판(4) 투과시 얼라인먼트광(55)의 광량 손실을 최소화하며, 동시에 이 반사방지 광학박막은 단파장의 노광광(44)에 대해서 투과율 열화가 적고 뛰어난 내광성을 갖는 광학박막이다. 반사방지 광학박막을 표면에 코팅한 투명유리판(4)을 상판(4)으로 하는 마스크기구(22)을 구비한 노광장치는 얼라인먼트의 정도(PRECISION)가 향상되며, 얼라인먼트 시간이 단축되여 노광공정의 생산성이 향상된다. 반사방지 광학박막에서, 고굴절률 물질이란 노광광(44)인 자외선(파장 190nm∼ 300nm)광에 대한 굴절률이 1.90 이상인 HfO2 , Y2 O3 등 및 이러한 혼합물을 말한다. 중간굴절률 물질이란 노광광(44)인 자외선광에 대한 굴절률이 1.55 내지 1.90 인 Al2 O3 , CaF2 , NdF3 , YF2 등 및 이러한 혼합물을 말한다. 저굴절률 물질이란 노광광(44)인 자외선광에 대한 굴절률이 1.55 이하인 MgF2 , SiO2 , BaF2 , LiF, SiF2 , AlF3 , NaF 등 및 이러한 혼합물을 말한다. 이러한 재료로부터 소정의 굴절률을 가지는 것을 선정해, 소망한 범위의 광학박막 두께를 가지는 다층(MULTI-LAYER) 예를 들면 4층 반사방지막을 설계하면, 자외선광에 대한 반사 방지 특성을 큰폭으로 광역화한 서로 다른 2 파장영역, 노광광(44)과 얼라인먼트광(55), 즉 2 파장 반사방지 광학박막을 얻을 수 있다. 여기서 소망한 범위의 광학박막 두께는 반사방지가 되는 2 파장 λ1 , λ2 에 대해서,The exposure mask mechanism 22 is fixedly held to the mask stage 33 having the exposure opening 64. The mask stage 33 is provided in the upper position of the board | substrate 2 to expose, and the exposure mask mechanism 22 which is a rectangular large size is hold | maintained, covering the exposure opening 64 of the mask stage 33. The mask mechanism 22 has a transparent glass plate 4 having a thickness of about 3 to 10 mm having a size equal to or larger than the longitudinal dimension of the mask plate 3 directly above the mask plate 3 having a large rectangular size. In addition, the mask plate 3 and the transparent glass plate 4 are arranged in the outer periphery frame or the outer spacer spacer SPACER 5 so that the mask plate 3 and the transparent glass plate 4 are spaced apart from each other by a predetermined distance. The negative pressure space is formed by the transparent glass plate 4, the outer peripheral frame (not shown), or the outer peripheral spacer SPACER 5. The transparent glass plate 4 is disposed to face the mask plate 3, which is the lower plate of the mask mechanism 22, having a gap of about 3 to 10 mm and is disposed opposite to the mask plate 22. The gap between the upper plate 4 and the lower plate 3 of the mask mechanism 22 is determined by the height of the outer circumferential booth (not shown) or the height of the outer circumferential spacer SPACER 5. The molding is made of an airtight material. One outer circumferential frame or outer circumferential spacer SPACER 5 integrally assembles and fixes the transparent glass plate 4 and the mask plate 3 with fixing means such as bolts, nuts, counterbores, brackets, and the like. Through holes are formed in the outer circumference of the transparent glass plate 4 or in the outer circumferential frame to provide a negative pressure necessary for the negative pressure space 44 as a gas supply means, for example, a vacuum pump (not shown). Negative pressure inside allows the mask plate 3 to be pushed upward by the differential pressure with the atmospheric pressure, so that the weight of the mask plate 3 is canceled out and the mask plate 3 is removed from the substrate 2. The exposure light 44 is an ultraviolet (wavelength 190 nm to 300 nm) light source, for example. The silver lamp is used to pass through the transparent glass plate 4 from above the mask mechanism 22 through an optical system such as a mirror mirror of the exposure apparatus and illuminate the mask plate 3 immediately below. ) Is transferred onto the liquid crystal substrate 2. The alignment light 55 is provided on the side of the optical path of the exposure light 44, and the mask plate 3 and the liquid crystal substrate 2 of the near exposure apparatus of the liquid crystal substrate are provided. It is used for the alignment of light, and it uses the light of long wavelength range (wavelength 600nm ~ 900nm) as the light which does not sensitize a colored photosensitive coating film or a photoresist film, for example, infrared LED light source of 800 nm or more is used, Through the optical system, the transparent glass plate 4 is transmitted from above the mask mechanism 22 and the alignment mark MA on the mask plate 3 immediately below is illuminated. The alignment pattern MA of the mask plate 3 is a liquid crystal. Is transferred onto the substrate 2 and the substrate 2 The alignment pattern PA is formed on the substrate 2 by the development of the mask 2. In the case of the proximity exposure apparatus, the mask is disposed on the substrate 2 arranged in the predetermined gap GAP with respect to the mask plate 3. The uniformity of illuminance of the exposure light 44 among the optical elements becomes important in such a manner as to transfer the pattern of the plate 3. In order to perform the alignment, the alignment mark MA on the mask plate 3 is transferred onto the liquid crystal substrate 2 and the position of the alignment mark PA on the substrate 2 can be detected. The mask alignment pattern MA has a cross shape and is provided in each of the four edge portions EDGE, which are non-display portions of the mask plate 3. The short wavelength exposure light 44 and the long wavelength alignment light 55, that is, the mask mechanism 22 through which light sources in two different wavelength regions pass, are used as optical members of the upper transparent glass plate 4 and the lower mask plate 3. Is done. The long wavelength alignment light 55 penetrates the upper transparent glass plate 4, illuminates the alignment mark MA located at the edge on the lower mask plate 3, and transfers the alignment mark MA onto the substrate 2. When the transparent glass plate 4 of the long wavelength alignment light 55 is transmitted, the amount of light loss due to the reflection of the alignment light 55 on the surface of the transparent glass plate 4 is not easy, so that it is difficult to increase the imaging performance. Coating the anti-reflection optical thin film on the surface of the transparent glass plate 4 to increase the transmittance of the long wavelength alignment light 55, thereby minimizing the amount of light loss of the alignment light 55 when the transparent glass plate 4 is transmitted. The thin film is an optical thin film having a low light transmittance deterioration and excellent light resistance to the exposure light 44 having a short wavelength. The exposure apparatus having the mask mechanism 22 having the transparent glass plate 4 coated with the anti-reflection optical thin film on the surface as the upper plate 4 has improved alignment accuracy, and the alignment time is shortened. Productivity is improved. In the antireflective optical thin film, the high refractive index material refers to HfO 2 , Y 2 O 3 , and the like, and mixtures thereof having a refractive index of 1.90 or more with respect to ultraviolet light (wavelengths 190 nm to 300 nm) light, which is the exposure light 44. The medium refractive index material refers to Al 2 O 3 , CaF 2 , NdF 3 , YF 2 , and the like, and mixtures thereof having a refractive index of 1.55 to 1.90 with respect to the ultraviolet light, which is the exposure light 44. The low refractive index material refers to MgF 2 , SiO 2 , BaF 2 , LiF, SiF 2 , AlF 3 , NaF, and the like, and mixtures thereof having a refractive index of 1.55 or less with respect to ultraviolet light, which is the exposure light 44. By selecting a material having a predetermined refractive index from such a material and designing a multilayer (MULTI-LAYER), for example, a four-layer anti-reflection film having an optical film thickness in a desired range, the anti-reflection property against ultraviolet light is greatly widened. Two wavelength regions different from each other, the exposure light 44 and the alignment light 55, that is, the two-wavelength antireflection optical thin film can be obtained. Here, the optical film thickness in the desired range is for the two wavelengths λ 1 and λ 2 that are antireflective,

2 / λo =1 / λ1 + 1 / λ2 로서 정해지는 λo 에 대해서 다층반사방지막의 각각의 광학박막 두께가 0.1 λo ∼ 0,5 λo 의 두께로 적층한다. 반사방지가 되는 2 파장으로 단파장의 노광광(44)뿐만이 아니라, 장파장의 얼라인먼트광(55)측의 반사율도 충분히 낮은 것을 특징으로 2 파장 반사방지 광학박막이다. 투명유리판(4) 표면에 4층의 광학박막으로부터 되어, 각 박막이 투명유리판(4) 표면측으로부터 저굴절률 물질, 고굴절률 물질, 저굴절률 물질 및 고굴절률 물질로 만들어져 있다. 보다 상세하게는 투명유리판(4) 표면측으로부터 MgF2 , Y2 O3 , MgF2 , Y2 O3 의 순서로 박막을 4층 교대로 진공 증착법(EVAPORATION)으로 적층한 것이다. 광학박막은 통상의 진공 증착법을 이용해 형성된다. 투명유리판(4)은 석영유리, 또는 BK7을 이용한다. 4층 구성의 상기 광학박막을 포함하여 아래 적층 구성도 단파장의 노광광(44) 뿐만이 아니라, 장파장의 얼라인먼트광(55)측의 반사율도 충분히 낮은 것을 보여준다. 투명유리판(4) 표면측으로부터 LMLML 의 5층 구성, MHMHL 의 5층 구성, MLMLML 의 6층 구성은 장파장의 얼라인먼트광(55)에 대하여 투과율을 증대시켜 얼라인먼트광(55)의 광량 손실을 최소로 하여 고정밀도의 얼라인먼트가 가능해진다. 여기서 L 은 굴절률이 1.55 이하인 저굴절률 물질로 MgF2 , SiO2 , BaF2 , LiF, SiF2 , AlF3 , NaF 등 및 이러한 혼합물을 말하며, M 은 굴절률이 1.55 내지 1.90 인 중굴절률 물질로 Al2 O3 , CaF2 , NdF3 , YF2 등 및 이러한 혼합물을 말하며, H 는 굴절률이 1.90 이상인 고굴절률 물질로 HfO2 , Y2 O3 등 및 이러한 혼합물을 말한다. 실제로는 다층광학박막을 성막하는 것을 고려하면 층수(NUMBER OF LAYERS)가 많을수록 성막시간이 길어져 제조의 불균형이 커지므로 본 실시예서는 층수를 4층으로 하고 있다. 투명유리판(4) 표면에 4층구조의 광학박막은 투명유리판(4) 전면(ENTIRE SURFACE)에 균일한 광강도를 줄 수 있게 진공 증착법(EVAPORATION)으로 성막한다. 그리고 노광장치의 편각프리즘, 다이크로익(DICHROIC)막에 의해 노광광(44)과 얼라인먼트광(55)을 분리할 수 있어 얼라인먼트의 정도가 향상되고 동시에 얼라인먼트 시간이 단축되어 노광공정의 생산성(THROUGHPUT)이 향상된다.The thickness of each optical thin film of the multilayer antireflection film is laminated at a thickness of 0.1 lambda o to 0,5 lambda o with respect to lambda o determined as 2 / lambda o = 1 / lambda 1 + 1 / lambda 2 . It is a two-wavelength antireflection optical thin film characterized by sufficiently low reflectance not only of the short wavelength exposure light 44 but also of the long wavelength alignment light 55 at two wavelengths that are antireflection. It consists of four layers of optical thin films on the transparent glass plate 4 surface, and each thin film is made from a low refractive index material, a high refractive index material, a low refractive index material, and a high refractive index material from the transparent glass plate 4 surface side. More specifically, the thin films are laminated by vacuum deposition (EVAPORATION) in alternating four layers in the order of MgF 2 , Y 2 O 3 , MgF 2 , Y 2 O 3 from the transparent glass plate 4 surface side. An optical thin film is formed using a conventional vacuum vapor deposition method. The transparent glass plate 4 uses quartz glass or BK7. In addition to the shorter wavelength exposure light 44, the reflectance on the side of the alignment light 55 on the long wavelength side is sufficiently low as well, including the above optical thin film of the four-layer structure. The five-layer structure of LMLML, the five-layer structure of MHMHL, and the six-layer structure of MLMLML from the surface of the transparent glass plate 4 increase the transmittance with respect to the alignment light 55 having a long wavelength, thereby minimizing the loss of light amount of the alignment light 55. This enables high precision alignment. Where L is a low refractive index material having a refractive index of less than 1.55 MgF 2 , SiO 2 , BaF 2 , LiF, SiF 2 , AlF 3 , NaF and the like and mixtures thereof, M is a medium refractive index material with a refractive index of 1.55 to 1.90 Al 2 O 3 , CaF 2 , NdF 3 , YF 2 , and the like, and such mixtures. H is a high refractive index material having a refractive index of 1.90 or higher, and HfO 2 , Y 2 O 3, etc., and such mixtures. In fact, considering the formation of a multilayer optical thin film, the larger the number of layers (NUMBER OF LAYERS), the longer the film formation time and the larger the manufacturing imbalance, so the embodiment has four layers. An optical thin film having a four-layer structure on the surface of the transparent glass plate 4 is formed by vacuum deposition (EVAPORATION) to give uniform light intensity to the entire surface of the transparent glass plate (ENTIRE SURFACE). In addition, the exposure light 44 and the alignment light 55 can be separated by a polarization prism and a dichroic film of the exposure apparatus, so that the degree of alignment is improved and the alignment time is shortened, thereby reducing the productivity of the exposure process (THROUGHPUT). ) Is improved.

도1은 종래 방법에 따른 사용 예를 설명하기 위한 구성도이다.1 is a configuration diagram illustrating an example of use according to a conventional method.

도2는 본 발명의 노광용 마스크기구를 구비한 액정기판 근접노광장치의 주요부 개략구성도이다.Fig. 2 is a schematic structural diagram of an essential part of a liquid crystal substrate proximity exposure apparatus provided with the exposure mask mechanism of the present invention.

도3은 본 발명의 실시 예에 따른 노광용 마스크기구의 분해사시도이다.3 is an exploded perspective view of the exposure mask mechanism according to the embodiment of the present invention.

도4는 마스크판 내지 기판을 보여주는 도면으로,4 is a view showing a mask plate to a substrate,

(a)는 마스크, (b)는 기판, (c)는 마스크판 내지 기판에 설치된 얼라인먼트 마크를 보여주는 도면이다.(a) is a mask, (b) is a board | substrate, (c) is a figure which shows the alignment mark provided in the mask board or board | substrate.

도5는 본 발명의 실시 예에 따른 4층 구성 광학박막의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a four-layer optical thin film according to an embodiment of the present invention.

Claims (4)

마스크판을 하판으로 하고 투명유리판을 상판으로 하여 상기 상판과 상기 하판사이에 형성된 부압으로 상기 마스크판을 부압흡착하여 상기 마스크판의 자중에 의한 처짐을 지우며 상기 마스크판을 유지하는 노광용 마스크 지지기구에 있어서,The mask plate is the lower plate and the transparent glass plate is the upper plate, and the mask plate is negatively pressure-adsorbed by the negative pressure formed between the upper plate and the lower plate to eliminate the deflection caused by the weight of the mask plate and to maintain the mask plate. In 표시부 패턴과 얼라인먼트 패턴이 그려진 상기 마스크판의 패턴을 액정기판에 전사하는 서로 다른 2 파장영역의 노광광과 얼라인먼트광의 상기 투명유리판 투과시 광량 손실을 억제하기 위하여 상기 투명유리판의 표면에 상기 2 파장영역에 대해서 투과율이 우수한 다층 광학박막이 코팅된 상기 투명유리판을 상기 노광용 마스크 지지기구의 상판으로 형성하는 것을 특징으로 하는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크 지지기구.The two wavelength region on the surface of the transparent glass plate in order to suppress the amount of light loss in the transmission of the transparent glass plate and the exposure light of the two different wavelength regions for transferring the pattern of the mask plate, the display portion pattern and the alignment pattern is drawn on the liquid crystal substrate And the transparent glass plate coated with the multilayer optical thin film having excellent transmittance with respect to the upper surface of the mask support mechanism for exposure is provided with the transparent glass plate coated with the multilayer optical thin film. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명유리판은 석영유리로 구비되는 것을 특징으로 하는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크 지지기구.The transparent glass plate is a mask support mechanism for exposure with a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film, characterized in that provided with quartz glass. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다층 광학박막은 상기 투명유리판 표면측으로부터 저굴절률 물질, 고굴절률 물질, 저굴절률 물질 및 고굴절률 물질 순서의 4층 구성으로 성막하는 것을 특징으로 하는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크 지지기 구.The multilayer optical thin film is formed on a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film, characterized in that the film is formed in a four-layer configuration in order of a low refractive index material, a high refractive index material, a low refractive index material, and a high refractive index material from the surface of the transparent glass plate. Mask supporter 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다층 광학박막은 상기 투명유리판 표면측으로부터 MgF2 , Y2 O3 , MgF2 , Y2 O3 순서의 4층 구성으로 성막하는 것을 특징으로 하는 다층 광학박막이 코팅된 투명유리판을 구비한 노광용 마스크 지지기구.The multilayer optical thin film is formed on the transparent glass plate surface side for MgF 2 , Y 2 O 3 , MgF 2 , Y 2 O 3 in order to form a four-layer structure, characterized in that for exposure with a transparent glass plate coated with a multilayer optical thin film Mask Support Mechanism.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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