KR100940405B1 - Cleaning system for the photoresist nozzle tip - Google Patents
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Abstract
본 발명은 포토레지스트 노즐팁 세정장치에 관한 것으로, 상세하게는 포토레지스트 노즐팁에 포토레지스트 노즐팁을 솔벤트로 자동세척할 수 있는 세정장치를 설치하여 포토레지스트 노즐팁의 오염으로 방지하기 위한 포토레지스트 노즐팁 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist nozzle tip cleaning device, and more particularly, to a photoresist nozzle tip having a cleaning device capable of automatically cleaning the photoresist nozzle tip with solvent, thereby preventing photoresist nozzle contamination by contamination. It relates to a nozzle tip cleaning device.
본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치는 상기 노즐팁을 청소하기 위한 솔벤트가 들어있는 솔벤트 저장탱크, 상기 솔벤트 저장탱크에서의 솔벤트를 상기 포토레지스트 노즐팁으로 이송하기 위한 이송배관, 상기 이송배관상에 설치되어 솔벤트의 유량을 제어하기 위한 제어벨브, 상기 포토레지스트 노즐팁을 청소한 솔벤트를 배출하기 위한 배출관과 상기 제어밸브를 제어하기 위한 제어부를 포함하고 있다.Photoresist nozzle tip cleaning device according to the present invention is a solvent storage tank containing a solvent for cleaning the nozzle tip, a transfer pipe for transferring the solvent from the solvent storage tank to the photoresist nozzle tip, the transfer pipe phase Is installed in the control valve for controlling the flow rate of the solvent, and the discharge pipe for discharging the solvent for cleaning the photoresist nozzle tip and a control unit for controlling the control valve.
본 발명에 의하여, 포토레지스트 노즐팁에 묻은 이물질을 자동적으로 세정할 수 있으므로 코팅과정에서 발생하는 문제점을 최소화할 수 있으며, 아울러 종전의 작업자의 수작업시간을 줄여줌으로서 경비절감에도 기여할 수 있다.According to the present invention, the foreign matter on the photoresist nozzle tip can be automatically cleaned, thereby minimizing problems in the coating process, and can also contribute to cost reduction by reducing the manual labor time of the former worker.
포토레지스트, 노즐팁, 세정, 솔벤트 Photoresist, Nozzle Tip, Cleaning, Solvent
Description
본 발명은 포토레지스트 노즐팁 세정장치에 관한 것으로, 상세하게는 포토레지스트 노즐팁에 포토레지스트 노즐팁을 솔벤트로 자동세척할 수 있는 세정장치를 설치하여 포토레지스트 노즐팁의 오염을 방지하기 위한 포토레지스트 노즐팁 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist nozzle tip cleaning device, and more particularly, to a photoresist for preventing contamination of a photoresist nozzle tip by installing a cleaning device capable of automatically cleaning the photoresist nozzle tip with solvent. It relates to a nozzle tip cleaning device.
도 1은 종래의 코터(coater)장비의 개략도이다. 도 1에서 보는 바와 같이,코터장비(100)에는 노즐 베스(110)가 있으며, 상기 노즐 베스(110)내의 포토레지스트는 암(arm)(120)을 통하여 웨이퍼로 분사된다. 1 is a schematic diagram of a conventional coater (coater) equipment. As shown in FIG. 1, the
도 2의 (a) 내지 (c)는 노즐 베스의 밑면을 청소하기 위한 솔벤트 공급계통을 설명하기 위한 도면이다. 도 2(a)는 노즐베스의 외관을 보여주는 도면이고, 도 2(b)는 노즐베스 밑면 청소용 솔벤트 공급계통을 보여주는 도면이고, 도 2(c)는 솔벤트 공급계통만 별도로 도시한 도면이다.2 (a) to 2 (c) are views for explaining a solvent supply system for cleaning the bottom of the nozzle bath. Figure 2 (a) is a view showing the appearance of the nozzle bath, Figure 2 (b) is a view showing the solvent supply system for cleaning the nozzle base bottom, Figure 2 (c) is a view showing only the solvent supply system separately.
도면에서는 노즐베스(110)가 4개가 연속적으로 설치되어 있으며, 노즐베스(110)의 밑면은 클리닝관(114)에 의해 연결되어 있다. 클리닝관(114)은 4개의 노즐베스(110)의 밑면을 연결하며, 클리닝관의 일측면(112)으로 솔벤트가 공급되고, 클리닝관의 다른 측면(116)으로 솔벤트가 배출된다. 클리닝관의 일측면(112)으로 공급된 솔벤트(118)는 노즐베스의 밑면에 침전된 포토레지스트(119)를 클리닝한 후, 클리닝관의 다른 측면(116)을 통하여 외부로 배출된다. 도 2에서 인용부호 118은 솔벤트의 흐름을 나타낸 것이다. In the drawing, four
그러나, 포토레지스트의 노즐팁에 포토레지스트가 묻었을 경우 이를 제거할 수 있는 장치가 없어서 도 3과 같이 코팅에 문제가 발생하고 있는 실정이다. 따라서 작업자는 이러한 문제를 해결하기 위하여 상당한 시간을 들여서 포토레지스트의 노즐팁을 청소하고 있다.However, when the photoresist is deposited on the nozzle tip of the photoresist, there is no device capable of removing the photoresist, thereby causing a problem in coating as shown in FIG. 3. Therefore, the operator spends a considerable amount of time cleaning the nozzle tip of the photoresist to solve this problem.
본 발명은 상기된 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 코터장치의 포토레지스트 노즐팁에 세정장치를 설치하여 노즐팁의 오염에 의해 발생하는 코팅상의 문제를 해결할 수 있도록 한 세정장치를 구비한 포토레지스트 노즐팁을 제공함에 그 목적이 있다. The present invention has been invented to solve the above-mentioned problems, a photoresist provided with a cleaning device to install a cleaning device on the photoresist nozzle tip of the coater device to solve the coating problem caused by contamination of the nozzle tip. The purpose is to provide a nozzle tip.
본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치는 상기 노즐팁을 청소하기 위한 솔벤트가 들어있는 솔벤트 저장탱크, 상기 솔벤트 저장탱크에서의 솔벤트를 상기 포토레지스트 노즐팁으로 이송하기 위한 이송배관, 상기 이송배관상에 설치되어 솔벤트의 유량을 제어하기 위한 제어벨브, 상기 포토레지스트 노즐팁을 청소한 솔벤트를 배출하기 위한 배출관과 상기 제어밸브를 제어하기 위한 제어부를 포함하고 있다.Photoresist nozzle tip cleaning device according to the present invention is a solvent storage tank containing a solvent for cleaning the nozzle tip, a transfer pipe for transferring the solvent from the solvent storage tank to the photoresist nozzle tip, the transfer pipe phase Is installed in the control valve for controlling the flow rate of the solvent, and the discharge pipe for discharging the solvent for cleaning the photoresist nozzle tip and a control unit for controlling the control valve.
본 발명의 다른 바람직한 특징에 의하면, 상기 이송배관은 상기 포토레지스트 노즐팁에 각각 2개씩 설치되어 있다.According to another preferred feature of the present invention, two transfer pipes are provided at each of the photoresist nozzle tips.
본 발명의 다른 바람직한 특징에 의하면, 상기 배출관은 배출박스와 연결되어 있으며, 상기 배출박스 내부는 대기압이하로 감압 운전된다.According to another preferred feature of the invention, the discharge pipe is connected to the discharge box, the discharge box is operated under reduced pressure below atmospheric pressure.
본 발명의 다른 바람직한 특징에 의하면, 상기 제어부는 포토레지스트 더미 분사 전에만 상기 제어밸브를 열어서 상기 포토레지스트 세정장비를 작동시킨다.According to another preferred feature of the invention, the control unit operates the photoresist cleaning equipment by opening the control valve only before the photoresist dummy injection.
본 발명에 의하여, 포토레지스트 노즐팁에 묻은 이물질을 자동적으로 세정할 수 있으므로 코팅상에 발생하는 문제점을 최소화할 수 있으며, 아울러 종전의 작업자의 수작업시간을 줄여줌으로서 경비절감에도 기여할 수 있다.According to the present invention, the foreign matter on the photoresist nozzle tip can be automatically cleaned, thereby minimizing the problem occurring on the coating, and can also contribute to cost reduction by reducing the manual labor time of the former worker.
이하 예시도면에 의거하여 본 발명의 일실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명한다. 다만, 아래의 실시예는 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 충분히 이해할 수 있도록 제공되는 것이지, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration and operation of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following examples are provided to enable those skilled in the art to fully understand the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the embodiments described below.
도 4는 본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치를 도시한 개략도이고, 도 5는 본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팀 세정장치의 배출관을 도시한 개략도이며, 도 6은 도 5에서의 AA단면도이다. 도 4 내지 도 6에서 보는 바와 같이, 포토레지스트 노즐팁 세정장치는 포토레지스트 노즐팁(230)을 청소하기 위한 솔벤트가 들어있는 솔벤트 저장탱크(200), 상기 솔벤트 저장탱크(200)에서의 솔벤트를 상기 포토레지스트 노즐팁(230)으로 이송하기 위한 이송배관(220), 상기 이송배관(220)상에 설치되어 솔벤트의 유량을 제어하기 위한 제어밸브(210), 상기 포토레지스트 노즐 팁(230)을 청소한 솔벤트를 배출하기 위한 배출관(240)과 상기 제어밸브를 제어하기 위한 제어부(미도시)를 포함하고 있다.Figure 4 is a schematic diagram showing a photoresist nozzle tip cleaning apparatus according to the present invention, Figure 5 is a schematic diagram showing a discharge pipe of the photoresist nozzle team cleaning apparatus according to the present invention, Figure 6 is a cross-sectional view AA in FIG. . As shown in FIGS. 4 to 6, the photoresist nozzle tip cleaning apparatus includes a
배출관(240)은 각각의 포토레지스트 노즐팁(230)에서 나오는 솔벤트를 배출하는데, 여기서 배출관은 각각의 포토레지스트 노즐팁(230)마다 하나씩 나오게 된다. 따라서 각각의 배출관(240)에서 배출된 솔벤트를 모으기 위하여 배출관(240)은 배출박스(250)와 연결하는 것이 바람직하다. 또한 배출박스(250) 내부는 대기압이하로 감압 운전하는 것이 바람직하다. 이는 배출박스(250)를 대기압이하로 감압운전함으로서 솔벤트의 배출을 쉽게 하기 위함이다.
또한 이송배관(220)은 상기 포토레지스트 노즐팁에 각각 2개씩 설치되는 것이 바람직하다. 2개씩 설치된 이송배관(220)은 포토레지스트 노즐팁을 기준으로 서로 마주보고 있게된다. 이송배관(220)을 포토레지스트 노즐팁(230)마다 별개로 설치하는 것은 이송배관(220)을 거쳐서 포토레지스트 노즐팁(230)을 청소한 솔벤트가 감압운전되는 배출박스(250)로 배출되는 과정에서 각각의 노즐팁(230)마다 동일하게 감압이 되어 동일한 유량의 솔벤트가 각각의 노즐팁마다 흐르게 하기 위함이다.In addition, the
본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치의 작동에 대하여 살펴보면, 먼저 솔벤트 저장탱크(200)에 저장된 솔벤트는 이송배관(220)을 통하여 포토레지스트 노즐팁(230)으로 공급된다. 이 과정에서 필요시에는 솔벤트를 이송하기 위한 펌프(미도 시)와 이송되는 솔벤트의 유량을 체크하기 위한 유량계(212)가 추가로 설치될 수 있다. 또한 이송되는 솔벤트를 제어하기 위한 제어밸브(210)도 설치된다. Referring to the operation of the photoresist nozzle tip cleaning apparatus according to the present invention, the solvent stored in the
이송배관(220)은 각각의 포토레지스트 노즐팁에 하나이상씩 연결되어야 하며, 바람직하게는 이송배관(220)이 각각의 포토레지스트 노즐팁(230)에 연결되기 전에 2개로 분기되어서 결과적으로 각각의 포토레지스트 노즐팁(230)에 2개의 이송배관이 연결되도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우 2개의 이송배관은 포토레지스트 노즐팁(230)을 사이에 두고 서로 마주보는 것이 바람직하다.One or
도 6에서 보는 바와 같이, 포토레지스트 노즐팁(230)에 공급된 솔벤트(빨간 화살표)는 포토레지스트 노즐팁(230)을 세정하고, 배출관(240)을 통하여 외부로 배출된다. 여기서 배출관은 배출박스(250)에 연결되어 있어서, 각각의 배출관(240)에서 나온 솔벤트를 모아서 배출하는 것이 바람직하며, 아울러 배출박스는 대기압보다 낮은 압력하에 운전하여 솔벤트의 배출을 쉽게 하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 6, the solvent (red arrow) supplied to the
한편 코터장비에서는 장시간 미사용시에 노즐팁이 굳어지는 것을 방지하기 위하여 몇시간에 한번씩 더미공정을 실시하고 있는데, 본원발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치는 상기된 더미공정을 실시하기 전에 작동되는 것이 바람직하다. 따라서 제어부는 더미공정을 실시하기 전에 제어밸브(210)를 열어서 세정작업을 진행하게 된다. On the other hand, the coater equipment performs a dummy process every few hours to prevent the nozzle tip from hardening when not in use for a long time. The photoresist nozzle tip cleaning device according to the present invention is operated before performing the above dummy process. desirable. Therefore, the controller opens the
도 1은 종래의 코터(coater)장비의 개략도,1 is a schematic diagram of a conventional coater (coater) equipment,
도 2의 (a) 내지 (c)는 노즐 베스의 밑면을 청소하기 위한 솔벤트 공급계통을 설명하기 위한 도면,(A) to (c) is a view for explaining a solvent supply system for cleaning the bottom of the nozzle bath,
도 3은 코팅상에 문제가 있는 웨이퍼 사진,3 is a photograph of a wafer having a problem on the coating,
도 4는 본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팁 세정장치를 도시한 개략도, 4 is a schematic view showing a photoresist nozzle tip cleaning apparatus according to the present invention;
도 5는 본 발명에 의한 포토레지스트 노즐팀 세정장치의 배출관을 도시한 개략도, 5 is a schematic view showing the discharge pipe of the photoresist nozzle team cleaning apparatus according to the present invention;
도 6은 도 5에서의 AA단면도이다.6 is a cross-sectional view taken along AA in FIG. 5.
<도면의 주요부분에 대한 주요부호의 설명><Description of the major symbols for the main parts of the drawings>
100 : 코터기 110 : 노즐베스100: coater 110: nozzle bath
200 : 솔벤트 저장탱크 210 : 제어밸브200: solvent storage tank 210: control valve
220 : 이송배관 230 : 포토레지스트 노즐팁 220: transfer piping 230: photoresist nozzle tip
240 : 배출관 250 : 배출박스240: discharge pipe 250: discharge box
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KR101384604B1 (en) | 2012-11-30 | 2014-04-11 | 포이스주식회사 | The system of purging a chemical supply line for manufacturing semi-conductor and the method thereof |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101880219B1 (en) * | 2016-03-11 | 2018-07-20 | 주식회사 선익시스템 | Nozzle cleaning module and nozzle jet system having the same |
CN117891133A (en) * | 2024-03-14 | 2024-04-16 | 广州市艾佛光通科技有限公司 | Photoresist printing system and printing method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010105108A (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-28 | 윤종용 | Photoresist coating equipment |
KR20050058591A (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | A cleaning device of a nozzle and the cleaning method thereof |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010105108A (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-28 | 윤종용 | Photoresist coating equipment |
KR20050058591A (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | A cleaning device of a nozzle and the cleaning method thereof |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101384604B1 (en) | 2012-11-30 | 2014-04-11 | 포이스주식회사 | The system of purging a chemical supply line for manufacturing semi-conductor and the method thereof |
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