KR100928730B1 - Surface protection glass film formation method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리실라잔을 기판에 코팅한 후 경화반응에 의해 실리카 유리막을 형성하는 방법을 이용하는 것으로서, 특히 경화반응을 진행함에 있어서 상온에서 실행하되, 고온 경화의 효과를 얻을 수 있는 유리막 형성 방법에 관한 것으로 폴리실라잔의 경화 방법에 상압 플라즈마 경화 또는 가압 가습 경화 또는 스팀 경화를 적용한다.The present invention uses a method of forming a silica glass film by a curing reaction after coating the polysilazane on the substrate, in particular in the glass film forming method that can be carried out at room temperature in the curing reaction, the effect of high temperature curing can be obtained To the curing method of polysilazane, atmospheric pressure plasma curing or pressure humidification curing or steam curing is applied.

실리카 코팅, 폴리실라잔, 경화, 플라즈마 Silica coating, polysilazane, curing, plasma

Description

표면보호용 유리막 형성 방법{A method for formation of a glass film for surface protection}A method for formation of a glass film for surface protection}

본 발명은 폴리실라잔을 기판에 코팅한 후 경화반응에 의해 실리카 유리막을 형성하는 방법을 이용하는 것으로서, 특히 경화반응을 진행함에 있어서 상온에서 실행하되, 고온 경화의 효과를 얻을 수 있는 유리막 형성 방법에 관한 것이다.The present invention uses a method of forming a silica glass film by a curing reaction after coating the polysilazane on the substrate, in particular in the glass film forming method that can be carried out at room temperature in the curing reaction, the effect of high temperature curing can be obtained It is about.

최근 키패드, 전자기기 외장, 자동차 외장 등의 표면을 보호하는 동시에 외관을 유지하기 위해 증착에 의한 유리막 코팅, 무기 코팅, 폴리실라잔(Polysilazane)을 사용한 유리막 코팅 같은 유리막의 적용이 증대되고 있는 추세이다. 이 경우 모재 위에 혹은 광택이나 색깔을 내기 위한 1차 코팅막 위에 유리막을 코팅한다. 코팅의 방법으로는 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 딥(Dip) 코팅, 진공 플라즈마 코팅 등이 있으나, 비용적 측면에서 상압에서 가능한 스프레이나 딥 코팅이 주로 사용된다. 코팅 공정은 크게 모재의 전처리, 코팅, 경화의 순으로 이루어진다. 이때의 경화의 방법으로는 상온 경화, 고온 경화로 크게 나눌 수 있다.Recently, the application of glass films such as glass film coating by vapor deposition, inorganic coating, and glass film coating using polysilazane (Polysilazane) has been increasing to protect the surface of keypads, electronic device exteriors, automobile exteriors, etc. while maintaining the appearance. . In this case, the glass film is coated on the base material or on the primary coating film for gloss or color. Coating methods include spray coating, spin coating, dip coating, and vacuum plasma coating. However, in terms of cost, spray or dip coating that can be used at atmospheric pressure is mainly used. The coating process consists of the pretreatment, coating and curing of the base material. As a method of hardening at this time, it can be divided roughly into normal temperature hardening and high temperature hardening.

이러한 유리막의 최종 특성은 코팅재질과 경화 조건에 의해 결정된다. The final properties of this glass film are determined by the coating material and the curing conditions.

상온 경화의 경우 기판 선택의 자유도가 높으나, 그 경화시간이 매우 긴 단점이 있으며, 최고 물성 발현을 위해서는 최고 7~30일 정도가 소요된다. 또한 이러한 과정 중에 불순물의 유입이나 밀도가 치밀하지 않게 되어 최고 물성 발현이 되지 않는 경우가 많게 된다. 이는 공정 단가 및 시간을 증가시키게 된다.In the case of room temperature curing, there is a high degree of freedom of substrate selection, but the curing time is very long. In addition, the inflow or density of impurities during this process is not dense, so that the best physical properties are not often expressed. This will increase the process cost and time.

고온 경화의 경우 최고 물성 발현을 위해 200~450℃ 이상의 온도에서 경화시킨다. 이러한 고온 경화는 경화속도가 빠르고, 경화된 유리막의 물성도 좋으나 기판 선택의 제약을 가져오게 된다. 예를 들어 플라스틱 모재의 경우는 경화 중 뒤틀림이 발생할 수 있고, 1차 코팅막이 형성된 경우에는 경화 중 1차 코팅막의 박리 등이 발생되어 불량이 발생된다.In the case of high-temperature curing, it is cured at a temperature of 200 ~ 450 ℃ or more for the best physical properties. Such high temperature curing has a high curing speed and good physical properties of the cured glass film, but it causes a limitation of substrate selection. For example, in the case of a plastic base material, distortion may occur during curing, and when a primary coating film is formed, peeling of the primary coating film may occur during curing, and defects may occur.

기존의 진공 혹은 저압 플라즈마의 경우에는 본 발명에서 제안하는 것과 달리 투명 코팅막을 대기중에서 코팅한 후 경화를 시키는 것이 아니라 투명 코팅막 자체를 증착하는 것으로 보통 SiO2 박막을 형성시키는 것이다. 하지만 진공 관련 부대 비용이 많이 들어 제조 단가가 높고, 챔버내에서 작업을 해야하므로 모재의 크기에 제약이 따르는 단점이 있다.In the case of the conventional vacuum or low pressure plasma, unlike the proposal of the present invention, the transparent coating film is coated in the air and then not cured, but instead of the transparent coating film itself to form a SiO 2 thin film. However, the manufacturing cost is high due to the high costs associated with the vacuum, and work in the chamber has a disadvantage in that the size of the base material is limited.

본 발명의 목적은 폴리실리잔을 이용하여 실리카 유리막을 형성함에 있어서, 상온에서 경화시키되 그 경화속도를 향상시킬 수 있는 유리막 형성방법을 제공하는 데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of forming a glass film which can be cured at room temperature in forming a silica glass film using polysilicon, but can improve its curing speed.

본 발명의 다른 목적은 폴리실리잔을 이용하여 실리카 유리막을 형성함에 있어서, 상온에서 경화시키되 불순물에 의한 결함이 없고, 높은 밀도를 갖는 유리막을 형성할 수 있는 유리막 형성방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a method for forming a glass film which can be formed at high temperature in forming a silica glass film using polysilicon, but can be cured at room temperature without defects caused by impurities.

본 발명의 또 다른 목적은 폴리실리잔을 이용하여 실리카 유리막을 형성함에 있어서, 상온에서 경화시키되 내스크레치, 내마모, 지문 방지, 내화학성 및 모재 혹은 유리막 하부 코팅막의 수명을 향상시킬 수 있는 유리막 형성방법을 제공하는 데 있다.Yet another object of the present invention is to form a silica glass film using polysilicon, which may be cured at room temperature, but may be formed of a glass film which may improve scratch resistance, abrasion resistance, fingerprint prevention, chemical resistance, and life of the base material or the glass film undercoat. To provide a way.

본 발명의 상기 목적은 기판 상에 폴리실라잔을 코팅하는 단계 및 상기 폴리실라잔을 유전체장벽 플라즈마 방식의 상압 플라즈마 공정을 이용하여 경화시키는 단계를 포함하는 유리막 형성 방법에 의해 달성된다. 이때 상기 경화 단계의 공정 시간은 10 내지 20분 정도이며, 경화 단계의 공정온도는 50~120℃로서 매우 낮게 될 수 있고, 상압 플라즈마 공정의 공정가스는 아르곤 가스와 산소 가스를 사용한다.The object of the present invention is achieved by a method of forming a glass film comprising coating polysilazane on a substrate and curing the polysilazane using an atmospheric pressure plasma process using a dielectric barrier plasma method. The process time of the curing step is about 10 to 20 minutes, the process temperature of the curing step can be very low as 50 ~ 120 ℃, the process gas of the atmospheric pressure plasma process using argon gas and oxygen gas.

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본 발명에 따른 유리막 형성 방법은 유리막이 상온에서 형성되면서도 약 1시간 이내에 경화공정의 완료가 가능하다는 장점이 있다. 따라서, 폴리머 계열의 기판에도 고성능의 유리막을 짧은 시간에 코팅할 수 있게 된다.The glass film forming method according to the present invention has the advantage that the curing process can be completed within about 1 hour while the glass film is formed at room temperature. Therefore, a high performance glass film can be coated on a polymer substrate in a short time.

본 발명에 따른 유리막 형성 방법은 상온에서 경화공정이 수행되면서도, 불순물이 현저히 감소하고, 밀도가 높으므로 본 발명의 방법에 따른 유리막은 내스크래치, 내마모도, 방오 등의 특성 뿐만 아니라 화학적 안정성이 높아진다.In the glass film forming method according to the present invention, even though the curing process is performed at room temperature, impurities are significantly reduced and the density is high, so that the glass film according to the method of the present invention has high chemical stability as well as characteristics such as scratch resistance, abrasion resistance, and antifouling.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in this specification and claims are not to be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventors may appropriately define the concept of terms in order to best describe their invention. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

본 발명에서는 폴리실라잔을 기판에 코팅한 후 경화반응에 의해 실리카 유리막을 형성하는 방법을 이용한다. 폴리실라잔은 물 또는 산소와 반응하여 실리카유리로 전이되는 물질이며, 실리카유리로 전이되는 반응을 경화반응이라고 한다. 본 발명은 경화반응을 진행함에 있어서 상온에서 실행하되, 고온 경화의 효과를 얻을 수 있는 유리막 형성 방법에 관한 것으로서 유리막 형성 순서는 도 1 및 도 2에서와 같이 기판(140)을 전처리(S1)한 후 바로 폴리실라잔(110)을 코팅(S3)하거나, 혹은 원하는 색상과 질감을 얻기 위해 플라스틱과 같은 모재(130) 위에 소정의 물질로 1차 코팅을 형성(S2)한 후 그 1차 코팅된 물질(120) 위에 폴리실라잔(110)을 코팅(S3)한다. 이 후 폴리실라잔(110)에 대한 경화 공정(S4)을 실시한다. In the present invention, a method of forming a silica glass film by curing after coating polysilazane on a substrate is used. Polysilazane is a substance that reacts with water or oxygen to be transferred to silica glass, and the reaction that is transferred to silica glass is called a curing reaction. The present invention relates to a method of forming a glass film which can be carried out at room temperature in the curing reaction and obtains the effect of high temperature curing. The glass film forming procedure is performed by pretreating the substrate 140 as shown in FIGS. 1 and 2. Immediately after coating the polysilazane 110 (S3), or to form a primary coating (S2) of a predetermined material on the base material 130, such as plastic to obtain the desired color and texture (S2) The polysilazane 110 is coated on the material 120 (S3). Thereafter, the curing process S4 for the polysilazane 110 is performed.

본 발명에 있어서 폴리실라잔의 경화 방법으로는 상압 플라즈마 경화 또는 가압 가습 경화 또는 스팀 경화가 적용된다. 상압 플라즈마 경화에서는 고온경화와 유사하게 폴리실라잔과 산소나 산소 이온을 반응시키되 플라즈마에 의해 산화반응이 촉진된다. 가압 가습 경화 또는 스팀 경화는 폴리실라잔과 물(H2O)이 반응하는 방법이며, 가압 가습 또는 스팀에 의해 그 반응이 촉진된다. 위 경화 방식은 모두 기판의 온도를 40~130℃ 까지만 증가시키기 때문에 모재 혹은 1차 코팅재료의 선택이 자유롭다.In the present invention, as the method for curing polysilazane, atmospheric pressure plasma curing or pressure humidification curing or steam curing is applied. In atmospheric plasma curing, polysilazane reacts with oxygen or oxygen ions similarly to high temperature curing, but oxidation reaction is promoted by plasma. Pressurized humidification curing or steam curing is a method in which polysilazane and water (H 2 O) react, and the reaction is accelerated by pressurized humidification or steam. All of the above curing methods increase the temperature of the substrate only up to 40 ~ 130 ℃, it is free to choose the base material or primary coating material.

상압 플라즈마를 이용하여 경화할 경우 사용되어지는 방식으로는 유전체장벽 플라즈마가 바람직하며 대면적일 경우는 평판타입(도 3) 또는 병렬로 배열된 제트건 타입(도 4)이, 입체구조물일 경우는 제트건 타입이 바람직하다. In the case of curing using atmospheric pressure plasma, a dielectric barrier plasma is preferable, and in the case of a large area, a flat plate type (FIG. 3) or a jet gun type arranged in parallel (FIG. 4) is a three-dimensional structure. Gun type is preferred.

상압 플라즈마 이용하는 경우 플라즈마 발생 전원으로는 AC, DC, RF가 모두 이용될 수 있다. 인가 전원은 50~500W이고, 공정가스로는 Ar(0.5~100 slm), O2(10~500sccm)를 사용하며 더욱 안정적인 방전을 유도하기 위해 He(10~100 sccm)을 유입시킬 수도 있다. 경화공정 진행시 샘플과 전극과의 거리는 1~15 mm 정도로 하는 것이 바람직하다. 상압 플라즈마 이용하는 경화 단계의 공정 시간은 10 내지 20분 정도가 소요된다.In the case of using atmospheric pressure plasma, AC, DC, and RF may be used as the plasma generating power source. Applied power is 50 ~ 500W, and process gas uses Ar (0.5 ~ 100 slm), O 2 (10 ~ 500sccm) and He (10 ~ 100 sccm) can be introduced to induce more stable discharge. In the curing process, the distance between the sample and the electrode is preferably about 1 to 15 mm. The process time of the curing step using the atmospheric pressure plasma takes about 10 to 20 minutes.

가압 가습 경화를 사용하는 경우에는 40~130℃, 0.1~1.5 kgf/cm2 정도가 효과적이다. 스팀 경화의 경우는 3~15cm 떨어진 곳에 샘플을 두고 처리하며 이때 측정되는 샘플 표면온도는 50~80℃ 였다.When pressure humidification hardening is used, 40-130 degreeC and 0.1-1.5 kgf / cm <2> are effective. In the case of steam curing, the sample was placed at a distance of 3 to 15 cm, and the sample surface temperature measured at this time was 50 to 80 ° C.

[적용예][Application Example]

환경 규제에 따라 6가 크롬 키패드를 대체하기 위해 3가 크롬을 ABS 키패드 모재에 코팅하는 종래의 방법은 3가 크롬의 불안정성 및 핀홀 등으로 인해 내산성이나 내마모도가 매우 낮은 단점이 있다. 이 경우 3가 크롬을 코팅한 후 그 위에 글래스 코팅을 하고 본 발명에서 제안하는 경화 방법을 이용하면 내산성, 내마도 도, 절연 특성 등이 현격하게 증가된다. 그 공정 순서는 다음과 같다. 먼저 모재에 대하여 세척 및 알카리 탈지 등의 전처리 단계를 거쳐, 무전해/전해 도금을 이용하여 3가 크롬을 코팅하고, 다시 탈지 및 수세를 거쳐 건조시켜 불순물 및 수분을 제거한다. 이 후 글래스 코팅막을 스프레이나 디핑(dipping) 방식으로 0.1~5㎛로 코팅한다. 코팅된 유리막을 상압 플라즈마, 가압 가습, 스팀을 이용하여 경화시킨다.According to environmental regulations, the conventional method of coating trivalent chromium on the ABS keypad base material to replace the hexavalent chromium keypad has a disadvantage in that the acid resistance or the wear resistance is very low due to the instability and pinhole of the trivalent chromium. In this case, if the trivalent chromium is coated and then glass-coated thereon and the curing method proposed in the present invention is used, acid resistance, wear resistance, insulation properties, etc. are significantly increased. The process sequence is as follows. First, the base metal is subjected to pretreatment steps such as washing and alkali degreasing, to coat trivalent chromium using electroless / electrolytic plating, and then dried by degreasing and washing to remove impurities and moisture. After that, the glass coating film is coated with a spray or dipping method to 0.1 ~ 5㎛. The coated glass film is cured using atmospheric pressure plasma, pressurized humidification and steam.

[실험예]Experimental Example

스크래치 테스트(1kg 하중인가, 30회/min) 결과 3일동안 상온경화의 경우 20회를 넘기지 못하고 모재가 드러난 것에 반해 상압 플라즈마 경화를 하였을 경우 1000회 이상 슬라이딩 후에도 모재가 들어나지 않았다.Scratch test (1kg load, 30 times / min) as a result of 3 days at room temperature curing, while the base metal was revealed, the base material did not appear even after sliding more than 1000 times when atmospheric pressure plasma curing.

도 1은 본 발명의 유리막 형성 방법에 따라 유리막이 형성된 예시도,1 is an exemplary view in which a glass film is formed according to the glass film forming method of the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 유리막 형성 방법의 순서도,2 is a flowchart of a glass film forming method according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 유리막 형성 방법 중 상압 플라즈마를 이용할 경우의 평판타입 플라즈마 장치 개념도,3 is a conceptual diagram of a flat plate type plasma apparatus when using atmospheric pressure plasma in the method of forming a glass film according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 유리막 형성 방법 중 상압 플라즈마를 이용할 경우의 제트건 타입 플라즈마 장치 개념도이다.4 is a conceptual diagram of a jet gun type plasma apparatus when using atmospheric pressure plasma in the method of forming a glass film according to the present invention.

Claims (11)

기판 상부에 폴리실라잔을 코팅하는 단계; 및Coating polysilazane on the substrate; And 상기 폴리실라잔을 유전체장벽 플라즈마 방식의 상압 플라즈마 공정을 이용하여 경화하는 단계Curing the polysilazane using an atmospheric pressure plasma process using a dielectric barrier plasma method 를 포함하는 유리막 형성 방법.Glass film forming method comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경화 단계의 공정 시간은 10분 내지 20분인 유리막 형성 방법.Process time of the curing step is a glass film forming method of 10 minutes to 20 minutes. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경화 단계의 공정온도는 50℃ 내지 120℃인 유리막 형성 방법.Process temperature of the curing step is 50 ℃ to 120 ℃ glass film forming method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상압 플라즈마 공정의 공정가스는 아르곤 가스와 산소 가스인 유리막 형성 방법.The process gas of the atmospheric pressure plasma process is an argon gas and an oxygen gas. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상압 플라즈마 공정은 평판형 상압 플라즈마 장치 또는 제트건형 상압 플라즈마 장치를 사용하는 유리막 형성 방법.The atmospheric pressure plasma process is a glass film forming method using a plate type atmospheric pressure plasma apparatus or a jet gun type atmospheric pressure plasma apparatus. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 기판은 플라스틱 재료이거나 플라스틱 상에 소정의 박막이 형성된 것인 유리막 형성 방법.Wherein the substrate is a plastic material or a predetermined thin film is formed on the plastic.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101308857B1 (en) * 2011-06-13 2013-09-13 (주)엘지하우시스 Method of manufacturing bezel for display panel using mold casting and the bezel for display panel using the same
KR102116834B1 (en) 2013-04-03 2020-05-29 주식회사 동진쎄미켐 A coating composition comprising bis-type silane compound
GB201411822D0 (en) * 2014-07-02 2014-08-13 Pilkington Group Ltd Planarisation of a coating
US11008431B2 (en) * 2016-03-31 2021-05-18 Lg Chem, Ltd. Method for preparing a barrier film
KR102075884B1 (en) 2019-05-08 2020-02-11 주식회사 성우 Copper slab casting device
KR102075894B1 (en) 2019-05-10 2020-02-11 주식회사 성우 Copper casting method
KR102348370B1 (en) 2020-01-05 2022-01-06 황영민 Coating Composition With Good Chemical Resistance And Coating Film Using The Same
KR102348386B1 (en) 2020-01-05 2022-01-06 황영민 Coating Composition With Good Printabiity And Coating Film Using The Same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000246830A (en) * 1999-02-26 2000-09-12 Gunze Ltd Silica-coated plastic film and production thereof
JP2001089126A (en) * 1999-09-21 2001-04-03 Gunze Ltd Method for coating with thick-film silicon dioxide
KR20060021990A (en) * 2004-09-06 2006-03-09 한국화학연구원 Surface treatment method of polyimide film using atmospheric plasma

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000246830A (en) * 1999-02-26 2000-09-12 Gunze Ltd Silica-coated plastic film and production thereof
JP2001089126A (en) * 1999-09-21 2001-04-03 Gunze Ltd Method for coating with thick-film silicon dioxide
KR20060021990A (en) * 2004-09-06 2006-03-09 한국화학연구원 Surface treatment method of polyimide film using atmospheric plasma

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