KR100839571B1 - 광학 소자, 광학 헤드 및 신호 재생 방법 - Google Patents

광학 소자, 광학 헤드 및 신호 재생 방법 Download PDF

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Abstract

렌즈의 광축과 대략 직교하는 렌즈면에, 이 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재(導電材)가 매입(埋入)되어 있는 광학 소자를 제공한다. 이 광학 소자는 광 기록 매체에 재생광을 조사(照射)하여 신호를 재생하는 광학 헤드에 사용한다. 광학 소자에 매입된 도전재와 광 기록 매체 표면의 도전 재료와의 전자(電磁) 상호 작용에 의한 광의 미약한 위상 변화를 검출하는 것을 이 광학 헤드의 기본 원리로 하고, 예를 들면, 광 기록 매체로부터의 복귀광의 간섭을 이용하여 신호를 재생한다. 또는, 도전재에 고주파의 전류를 흐르게하고, 광 기록 매체 표면의 도전체와 도전재와의 상호 작용을 고주파와 동기한 신호를 꺼냄으로써 검출하여, 광 기록 매체에 기록된 신호를 재생한다.
광학 스폿, 광축, 렌즈면, 광 기록 매체, 고주파.

Description

광학 소자, 광학 헤드 및 신호 재생 방법 {OPTICAL ELEMENT, OPTICAL HEAD AND SIGNAL REPRODUCING METHOD}
도 1은 금속을 매입(埋入)한 SIL의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 2는 금속을 매입한 SIL의 다른 예를 나타내는 모식도이다.
도 3은 미소(微小) Si를 매입한 SIL의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 4는 투명 도전체(導電體)를 매입한 SIL의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 5는 초반구(超半球) 렌즈의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 6은 SIM의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 7은 도전재(導電材)를 선형(線形)으로 하여 SIL에 매입한 예를 나타내는 모식도이다.
도 8은 광학 헤드의 한 구성예를 나타내는 모식도이다.
도 9는 SIM을 탑재한 광학 헤드의 일례를 나타내는 개략 측면도이다.
도 10은 도 9에 나타낸 광학 헤드의 광 기록 매체 대향면을 나타내는 개략 평면도이다.
도 11은 광학 헤드에 탑재되는 SIL의 일례를 나타내는 모식도이다.
본 발명은 광학 스폿보다 미소(微小)한 마크(mark)를 검출할 수 있는 새로운 광학 소자에 관한 것이며, 광학 소자를 사용하는 광학 헤드 및 광학 헤드를 사용하는 신호 재생 방법에 관한 것이다.
광 기록의 분야에서는, 고밀도(高密度)의 신호 기록이 요구되고 있으며, 이와 같은 요구에 부응하기 위해 여러가지의 기록 재생 방식이 제안되어 있다.
예를 들면, 광 기록 매체에 재생광을 조사하여 신호를 재생하는 광학 헤드의 기술 분야에서는, 고밀도의 신호를 기록 및/또는 재생하기 위해 솔리드 이머션 렌즈(solid immersion lense : 이하, "SIL"이라고 함)나 솔리드 이머션 미러(solid immersion mirror : 이하, "SIM"이라고 함) 등을 광학 소자로서 사용하며, 근접장(近接場)(near field)에서의 삼출광(渗出光)을 이용하여, 이제까지의 광학계를 크게 상회하는 고NA(numerical aperture)에서의 재생을 가능하게 하는 기술이 개발되어 있다.
한편, 간섭 현미경을 사용, 그 선단에 금속침을 배치하여 피검사체 표면 형상을 측정하는 방법이 제안되어 있다.
이 금속침의 선단부는 100nm의 직경 정도로 날카롭게 하고 있으며, 그 부분이 피검사체의 표면에 아주 얇게 코팅(coating)된 Cr과 전자(電磁) 상호 작용을 일으킨다. 그 상호 작용의 크기는 침 선단과 Cr 코팅과의 거리에 의존한다.
이 때, 침 선단 부분에 광을 집광하면, 집광된 광은 상기 전자 상호 작용에 의해 광파(光波)의 위상이 어긋난다. 그 양은 10-8/√Hz의 오더이지만, 침 선단과 떨어진 장소의 광과의 위상차 간섭 효과를 이용하여 검출하는 것이 가능하다.(F. Zenhausern, M.P.O' Boyle, and H.K.Wickeramasinghe: "Apertureless Near-field Optical Microscope" Appl. phys. Lett. 65(13), 2 September 1994)(Y.Martin, S.Rshton, and H.K.Wickramasinghe: "Optical Data Storage Read Out at 256 Gbits/sq. in" Appl. Phys. Lett. 71(1), 7 July 1997 참조)
상기 원리를 응용하면, 상기 SIL 및 SIM보다 높은 해상도로 신호의 검출이 기대되지만, 광 기록의 분야에서는, 아직 실용에 이르지 못하고 있다. 예를 들면, 이 원리를 효과적으로 실현하기 위해서는 캔틸레버(cantilever)를 광학 디스크의 표면으로부터 항상 일정한 거리에 있게 해야한다. 상기 문헌에 기재된 기술로에서는, 캔틸레버의 배후로부터 재생광과는 다른 레이저광을 조사하고, 레이저광의 움직임에 따라 서보 컨트롤하여 침 선단과 디스크 사이의 거리가 수십nm로 되도록 컨트롤하고 있다. 그러나, 캔틸레버의 움직임이 느리기 때문에, 고속으로 판독할 수 없다.
그러므로, 본 발명의 목적은 상기한 종래 기술의 결점을 극복하여, 상기 원리를 광 기록 분야에 용이하게 도입 가능하게 하는 것이다.
더욱 구체적으로는, 광학계에 의해 집광되는 광학 스폿보다 미소한 마크를 검출할 수 있는 광학 소자, 광학 소자를 사용하는 광학 헤드 및 광학 헤드를 사용하는 신호 재생 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 광축과 대략 직교하는 렌즈면에, 이 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재가 매입되어 있는 광학 소자를 제공하는 것이다.
또, 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 슬라이더에 광학 소자가 탑재되어 이루어지고, 광 기록 매체에 재생광을 조사(照射)하여 신호를 재생하는 광학 헤드에 있어서, 상기 광학 소자는 광축과 대략 직교하는 렌즈면에, 이 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재가 매입되어 광학 소자를 가지는 광학 헤드를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명에 의해 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 동일 광원으로부터의 레이저광을 분기(分岐)하여 광학 소자에 입사하고, 그 초점 평면에 2개의 광학 스폿을 형성하는 공정; 한 쪽의 광학 스폿에 대응하는 위치에 이 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재를 배치하는 공정; 및 상기 도전재를 배치한 광학 스폿을 검출광, 다른 쪽의 광학 스폿을 참조광으로 하고, 이들 광 기록 매체로부터의 복귀광의 간섭을 이용하여 신호를 재생하는 공정을 포함하는 신호 재생 방법을 제공하는 것이다.
또, 본 발명에 의해 상기 목적을 달성하기 위해, 레이저광을 광학 소자에 입사하고, 그 광학 스폿 위치에 도전재를 배치하여 이 도전재에 고주파의 전류를 흐르게 하는 공정; 및 광 기록 매체 표면의 도전체(導電體)와 상기 도전재와의 상호 작용을 상기 고주파와 동기한 신호를 꺼냄으로써 검출하여, 광 기록 매체에 기록된 신호를 재생하는 공정을 포함하는 신호 재생 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 광학 소자에 매입된 도전재와 광 기록 매체 표면의 도전 재료와의 전자 상호 작용에 의한 광의 미약한 위상 변화를 검출하는 것을 기본 원리로 하는 것이다.
상기 도전재는 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 것이며, 따라서, 광학 스폿보다 미소한 마크가 검출된다.
또한, 상기 도전재는 광학 소자에 일체적으로 매입되어 있으며, 따라서 광학 헤드는 번잡한 서보 기구가 불필요하여, 고속 판독이 가능하다.
이하, 본 발명을 적용한 광학 소자나 광학 헤드, 신호 재생 방법에 대하여, 도면을 참조하면서 상세히 설명한다.
도 1 내지 도 4는 모두 반구 렌즈에 도전체를 매입한 광학 소자의 예를 나타낸 것이다. 이들은 SIL을 사용한 근접장에서의 위상 검출 가능한 전형적인 렌즈 형상의 예이다.
예를 들면, 도 1에 나타낸 광학 소자에서는, 반구 렌즈(L)의 광축 중심에 원추형의 금속(M)이 도전재로서 매입되어 있다. 도 2는 반구 렌즈(L)의 선단으로 향해 단계적으로 직경이 작아지는 금속(M)이 도전재로서 반구 렌즈(l)에 매입된 광학 소자를 나타내고 있다.
도 3은 반구 렌즈(L)에 직경 수백nm 정도의 미세한 반(半)금속(S)(예를 들면, Si)이 매입된 광학 소자의 일례를 나타내고 있다. 도 4는 반구 렌즈(L)의 광축 중심에 원추형의 투명 도전체(T)가 도전재로서 매입된 광학 소자의 일례를 나타내 고 있다.
상기 어느 광학 소자에서도, 도전재(금속(M), 반금속(S) 및 투명 도전체(T))의 선단 직경은 반구 렌즈(L)에 의해 초점면(F)에서 집광되는 광학 스폿의 직경보다 작은 직경을 가지며, 이 선단이 반구 렌즈(L)의 초점면(F)의 광학 스폿 내에 면하도록 매입되어 있다.
그리고, 상기 각 광학 소자와 같은 SIL의 경우, 반구 렌즈(L)에 대하여 광선은 수직으로 입사한다. 이 때, 반구 하면(초점면(F))에서의 광학 스폿 직경은 1.22 ×(파장/NA(개구수))에 의존하며, NA는 nSin θ(n: 굴절률)이다.
상기 광학 소자의 구성에서, 도전재(금속(M), 반금속(S) 또는 투명 도전체(T))는 반구 렌즈(L)에 입사하는 광선을 방해하지 않는 형상, 즉 광선이 굴절되거나, 반사에 의해 광선 궤적이 영향받지 않는 형상으로 형성되어야 한다.
이에 따라, 광축 중심부는 렌즈에 광이 입사되기 전에 금속 또는 반금속에 의해 차폐되기 때문에, 렌즈 하면(초점면(F))의 광학 스폿은 초해상(超解像)의 광학 스폿으로 된다.
투명 도전체(T)는 원추 형상일 때 또한 광의 궤적을 흐트러 뜨리지 않는다.
사용 파장의 절반 정도의 형상 오차는 광선을 흐트러 뜨리지 않고, 따라서 허용될 수 있으므로, 예를 들면 직경 수백nm의 금속구(metal ball)를 매입할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 SIL에 한정되지 않고, 도 5에 나타낸 초반구 렌즈(super SIL) 및 도 6에 나타낸 SIM에도 적용 가능하며, 나아가서는, 대물 렌즈 등에도 적용 가능하다.
상기 광학 소자를 사용하여, 예를 들면 광 디스크의 요철(凹凸) 핏(pit)을 판독하는 경우, 광학 소자에 매입된 도전재와 광 디스크의 표면에 코트된 기록층(예를 들면, Cr)과의 전자(電磁) 상호 작용을 일으킨다. 그 작용은 도전재와 광 디스크의 Cr 표면과의 거리에 의존한다.
침 선단 부분(도전재의 선단 부분)에 광을 집광하면, 집광된 광은 상기 전자 상호 작용에 의해 광파(光波)의 위상이 어긋난다. 이것을 참조광과의 위상차 간섭 효과를 이용하여 검출함으로써, 도전재의 선단 직경을 해상도로 하는 판독이 가능하여, 집광한 광학 스폿보다 미소한 요철 핏을 재생할 수 있다. 보다 구체적으로는, 동일 광원으로부터의 레이저 광을 분기하여 상기 광학 소자에 입사하고, 광학 소자의 초점 평면에 2개의 광학 스폿을 형성하는 동시에, 한 쪽의 광학 스폿에 대응하는 위치에 광학 스폿의 직경보다 직경 또는 폭이 작은 도전재를 배치하여, 도전재를 배치한 광학 스폿을 검출광, 다른 쪽의 광학 스폿을 참조광으로 하고, 이들 광 기록 매체로부터의 복귀광의 간섭을 이용하여 신호를 재생한다.
관측되는 위상차(
Figure 112001008430820-pat00001
)는 다음 식으로 표현된다.
Figure 112001008430820-pat00002
Figure 112001008430820-pat00014
: 프로브(probe)의 선단 직경
Figure 112001008430820-pat00015
: 렌즈의 개구율
Figure 112001008430820-pat00016
: 자화율(磁化率)
여기에서, Si의 자화율(
Figure 112001008430820-pat00003
)은
Figure 112001008430820-pat00017
이며, 상기 위상차(
Figure 112001008430820-pat00018
)는 광 디스크의 표면에 코트된 Cr의
Figure 112001008430820-pat00019
와의 적(積)에 의존한다.
따라서, Cr 및 Si 이외에
Figure 112001008430820-pat00020
나
Figure 112001008430820-pat00021
와 같이, 자화율(
Figure 112001008430820-pat00022
)의 허수 부분이 큰 도전 재료를 상기 도전재(금속(M), 반금속(S) 또는 투명 도전체(T))로서 사용하는 것이 바람직하다.
그러한 도전재의 하나로서, 도 7에 나타낸 것 같이, SIL의 초점면(F)에 광학 스폿(P)을 가로지르는 폭 수백nm의 와이어(W)를 배치해도 된다. 이 경우에, 와이어(W)의 양단에 전극(D1, D2)을 형성하고, 상기 와이어(W)에 전류가 흐르도록 하면, 상기 전자 상호 작용을 증폭할 수 있다.
예를 들면, 레이저광을 SIL에 입사하는 동시에, 와이어(W)에 고주파의 전류를 흐르게 하고, 고주파와 동기한 신호를 꺼내 광 기록 매체 표면의 도전체와 상기 와이어(W)와의 상호 작용을 검출하여, 광 기록 매체에 기록된 신호를 고감도로 재생할 수 있다.
상기 레이저광 편향면의 방향과 전류의 방향을 서로 대략 직교 또는 대략 평행으로 배치함으로써, 광 기록 매체에서의 기록층 편향면의 변화를 고정밀도로 검출하는 것이 가능하게 된다.
또한, 광학 소자를 와이어(W)와 직교하는 방향으로 이동하면서 신호를 재생함으로써, 와이어(W)의 선 폭을 해상도로 하는 신호 재생이 가능하다.
다음에, 상기와 같은 광학 소자를 사용한 광학 헤드에 대하여 설명하고, 이 것을 이용한 신호 재생 방법에 대하여 설명한다.
도 8을 참조하여, 슬라이더와 광학 소자를 일체화하고, 이것에 도전재를 매입한 본 발명의 광학 헤드의 일례를 설명한다.
이 광학 헤드는 렌즈를 겸하는 유리 슬라이더(1)에 금속(2)을 매입하여 이루어지는 것이며, 레이저 다이오드(LD)로부터 출사되는 레이저광을 빔 스플리터(BS) 및 집광 렌즈(L1)를 통해 유리 슬라이더(1)로 인도하여, 광 기록 매체(3)의 표면에 집광함으로써, 광 기록 매체(3)로부터 신호를 재생한다.
이 실시예에서, 레이저 다이오드(LD)로부터의 레이저광은 빔 스플리터(BS)와 집광 렌즈(L1) 사이에 배치된 월러스톤 프리즘(Wallaston prism)(4)에 의해 약간의 각도로 분기되어, 한 쪽은 검출광(HK)으로서 상기 금속(2)의 선단 위치에 집광되고, 다른 쪽은 상기 금속(2)이 집광 스폿으로부터 벗어나는 위치에 참조광(HS)으로서 집광된다.
도 8에서는, 상기 집광 렌즈(L1)와 유리 슬라이더(1)가 서로 떨어져 있는 것 같이 도시되어 있지만, 이들은 일체화할 필요가 있다.
광 기록 매체(3)로부터의 복귀광은 상기 빔 스플리터(BS)에 의해 포토디텍터(PD)로 인도된다. 복귀광은 또한 월러스톤 프리즘(5)에 의해 분기된다.
이상과 같은 광학 헤드를 사용하여 광 기록 매체(3)의 신호를 재생할 때에는, 검출광(HK)과 참조광(HS)의 위상차를 간섭 측정에 의해 검출한다.
상기 금속(2)의 선단이 광 기록 매체의 핏의 볼록부와 대향하는 위치에 있을 때와, 핏의 오목부와 대향하는 위치에 있을 때, 금속(2)의 선단과 광 기록 매체 표 면의 기록층(도전재층) 사이의 차이가 변화된다. 그 결과, 전자 상호 작용의 강도가 변화되어, 위상의 어긋남이 약간 변한다.
이 위상 어긋남의 변화를 상기 간섭 측정에 의해 검출하여, 핏(신호)을 재생한다.
도 9 및 도 10은 SIM을 탑재한 광학 헤드의 일례를 나타낸다. 도시한 것과 같이, 이 광학 헤드에서는, 유리 슬라이더(21)의 위에 SIM(22)이 탑재되고, 접착층에 의해 고정되어 있다.
상기 유리 슬라이더(21)는 서스펜션(23)에 의해 지지되어, 광 디스크 구동 장치 등에 장착되어 있다.
유리 슬라이더(21)는 두께 291㎛이며, 부상량 60nm에서의 부상(浮上)이 실현된다.
유리 슬라이더(21)는 광 기록 매체의 대향측(21a)을 가진다. 대향측(21a)은 레일면(24), 프런트 스텝부(25), 및 진공 채널(26)로 형성되며, 레일면(24)이 볼록면이고, 프런트 스텝부(25)가 레일면(24)에서 0.35㎛ 오목하게 들어가고, 진공 채널(26)은 레일면(24)에서 3㎛ 정도 오목하게 들어가 있다.
따라서, 상기 레일면(24)이 부상 시에 광 디스크 표면에 가장 근접한 부분으로 된다.
상기 진공 채널(26)의 대략 중앙부에는, 레일면(24)과 동일 높이를 가지고 SIM(22)의 하면(초점면)이 면하는 센터 아일랜드(27)가 형성되어 있으며, 여기에 폭 300nm의 Si 와이어(28)가 설치되어 있다.
Si 와이어(28), 검출광 스폿(29) 및 참조광 스폿(30)은 도시한 것과 같이 위치하고 있다. 즉, Si 와이어(28)는 검출광 스폿(29)을 가로질러 배선되어 있고, 참조광 스폿(30)은 Si 와이어(28)로부터 벗어나 위치하고 있다.
또, Si 와이어(28)의 양단에는, 리드선(31, 32)이 접속되어 있어, 각각 Si 와이어(28)에 전류를 흐르게 할 수 있다. 유리 슬라이더(21)의 부상에 영향을 주지 않도록, 리드선(31, 32)은 진공 채널의 하면에 배치되어 있고, Si 와이어(28)를 배선하기 위한 300nm 폭의 홈은 레일면인 센터 아일랜드(27)의 중심에 형성되어 있다.
상기 Si 와이어(28)의 작성 방법으로서는, 예를 들면 유리 슬라이더(21)의 형성 후, 패터닝에 의해 폭 300nm, 깊이 500nm의 홈을 형성하고, Si를 스퍼터에 의해 피복한 후, 리프트오프법(lift-off method)에 의해 홈부 이외의 Si를 제거하여, 표면 키스랩(kiss-lapping) 연마를 행하는 방법 등을 들 수 있다.
SIL 슬라이더의 경우도 동일한 구성을 채용할 수 있다. 도 11은 사용할 SIL의 일례를 나타내는 것이며, 이 예에서는, 반구 렌즈(41)는 유리 기판(42)에 매입된 것을 사용하고, 이것을 집광 렌즈 기판(43)과 일체화하고 있다.
상기 광학 헤드에서는, 광학계는 월러스톤 프리즘에 의해 약간의 각도로 분기된 평행광을 렌즈에 입사시키고, 렌즈에 의해 집광된 스폿은 슬라이더 하면에 광 스폿을 형성한다.
슬라이더 하면에서, 스폿 사이즈는 SIM 슬라이더의 예에서는 0.6㎛(NA = 1.3에 대응)였다. SIL 슬라이더의 경우에는, 0.7㎛(NA = 1.0에 대응)였다.
2개의 스폿은 각각 약 2㎛ 떨어지게 하여 배치했다. 광 디스크는 유리 기판에 핏 길이 50nm의 요철이 형성되어 있고, 표면에 Cr을 두께 50nm가 되도록 피복했다.
이 광 디스크 상에서 슬라이더를 40nm(선속(線速) 10m/s) 부상시켰다.
리드선에는 100MHz 내지 4GHz(f0)의 고주파(데이터 레이트보다 충분히 높은 주파수)를 가지는 미소 전류를 흐르게 하고, 2개의 분기된 광과의 차동(差動)을 고주파(f0)와 동기시켜 신호를 얻음으로써, 광 디스크 상의 50nm의 마크 길이에 대응한 랜덤 패턴의 검출이 가능했다.
마찬가지로, 본 발명에 의하면, 전술한 기판에 형성된 요철에 의해 정보가 기록되어 있는 광 디스크뿐만 아니라, 상(相) 변화형 광 디스크에서도 기록 마크를 검출할 수 있다. 상 변화형 광 디스크에서는, 각각 굴절률이 상이한 기록 마크가 GeSbTe 등의 상 변화 재료에 의해 형성된 신호 기록층에 광열적으로(photo-thermally) 형성된다. 상 변화형 광 디스크에서의 이 굴절률의 상위는 자화율(
Figure 112001008430820-pat00023
)의 상위를 의미하고 있다. 따라서, 본 발명에 의해, 전술한 것과 동일한 방법으로 상 변화형 광 디스크에 형성된 미소 핏 길이의 기록 마크를 검출할 수 있었다.
마찬가지로, 도전체를 퍼멀로이(Permalloy)와 같은 고투자율(高透磁率)의 재료, 또는 철과 같은 강자성체(强磁性體)로 형성함으로써, 광자기 또는 자기 기록 매체의 미소 자구(磁區)를 검출하는 것이 가능했다.
예를 들면, 퍼멀로이를 폭 200nm로 슬라이더 하면에 배치하고, 이것에 고주 파 전류를 흐르게 하여, 발생한 국부 미소 자계가 광 디스크 상의 상향 자구와 하향 자구에 의해, 자계 분포에 아주 약간의 변화를 발생시킨다. 이 자계 분포의 변화는 광과의 상호 작용에 의한 광의 위상 변화로서 검출된다.
이상과 같이, 근접장(near-field) 광학계에 의해 작게 조여진 스폿을 사용하고, 광학 스폿보다 더욱 작은 도전재를 광 디스크에 배치함으로써, 광 디스크 상의 10nm 정도의 요철 및 자성 기록 매체의 미소 자구의 검출이 가능하다.
이상의 설명에서도 명백한 것 같이, 본 발명에 의하면, 광학 스폿보다 미소한 마크를 검출할 수 있다.
또한, 본 발명은 이와 같이 번잡한 서보 컨트롤 기구가 불필요하게 되어, 고속 판독을 실현할 수 있다.

Claims (14)

  1. 광축과 직교하는 렌즈면에, 상기 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재(導電材)가 매입(埋入)되어 있으며,
    상기 도전재는 렌즈 광축 상에 축 대칭으로 매입되고, 상기 도전재의 선단이 상기 렌즈면에서의 상기 광학 스폿의 직경보다 작은 직경을 가지고, 상기 렌즈면에 면해 있는 광학 소자.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 도전재는 선형(線形)으로 되고, 상기 광학 스폿을 가로지르도록 상기 렌즈면에 매입되어 있는 광학 소자.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 렌즈는 반구(半球) 렌즈, 초반구 렌즈 또는 대물 렌즈로부터 선택되는 1종인 광학 소자.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 도전재는 금속, 반금속 및 렌즈재와 상이한 굴절률을 가지는 투명 도전 재 중 어느 하나로 이루어지는 광학 소자.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 도전재에는 전류를 흐르게 하기 위한 전극이 형성되어 있는 광학 소자.
  7. 슬라이더에 광학 소자가 탑재되어 이루어지고, 광 기록 매체에 재생광을 조사(照射)하여 신호를 재생하는 광학 헤드에 있어서,
    상기 광학 소자는 광축과 직교하는 렌즈면에, 이 렌즈면에서의 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재가 매입되어 있으며,
    상기 도전재는 렌즈 광축 상에 축 대칭으로 매입되고, 상기 도전재의 선단이 상기 렌즈면에서의 상기 광학 스폿의 직경보다 작은 직경을 가지고, 상기 렌즈면에 면해 있는 광학 헤드.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 광학 소자는 반구 렌즈, 초반구 렌즈 및 대물 렌즈로부터 선택되는 1종인 광학 헤드.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 광학 소자는 슬라이더와 일체화되어 있는 광학 헤드.
  10. 제7항에 있어서,
    신호 검출용 광학 소자와 참조용 광학 소자를 구비하고, 상기 신호 검출용 광학 소자에 상기 도전재가 매입되어 있는 광학 헤드.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 도전재에 전류를 흐르게 하기 위한 전극이 형성되어 있는 광학 헤드.
  12. 동일 광원으로부터의 레이저광을 분기(分岐)하여 광학 소자에 입사하고, 상기 광학 소자의 초점 평면에 2개의 광학 스폿을 형성하는 공정;
    한 쪽의 광학 스폿에 대응하는 위치에 상기 광학 스폿의 직경보다 작은 직경 또는 폭을 가지는 도전재를 배치하는 공정; 및
    상기 도전재를 배치한 광학 스폿을 검출광, 다른 쪽의 광학 스폿을 참조광으로 하고, 광 기록 매체로부터의 복귀광의 간섭을 이용하여 신호를 재생하는 공정
    을 포함하는 신호 재생 방법.
  13. 레이저광을 광학 소자에 입사하고, 광학 스폿 위치에 도전재를 배치하여 상기 도전재에 고주파의 전류를 흐르게 하는 공정; 및
    광 기록 매체 표면의 도전체(導電體)와 상기 도전재와의 상호 작용을 상기 고주파와 동기한 신호를 꺼냄으로써 검출하여, 상기 광 기록 매체에 기록된 신호를 재생하는 공정
    을 포함하는 신호 재생 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 레이저광의 편향면의 방향과 전류의 방향을 서로 직교 또는 평행으로 하는 신호 재생 방법.
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