JPH07225975A - 情報記録再生装置、プローブ走査型顕微鏡、微細加工装置 - Google Patents
情報記録再生装置、プローブ走査型顕微鏡、微細加工装置Info
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- JPH07225975A JPH07225975A JP1711694A JP1711694A JPH07225975A JP H07225975 A JPH07225975 A JP H07225975A JP 1711694 A JP1711694 A JP 1711694A JP 1711694 A JP1711694 A JP 1711694A JP H07225975 A JPH07225975 A JP H07225975A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プローブを記録媒体表面に沿って走査させな
がら情報の記録再生を行なう情報記録再生装置等におい
て、実用上十分な速度でのプローブ走査を実現する。 【構成】 光源101から出射した直線偏光の光束は、
偏波面保存型光ファイバ102を通り、前記光の波長よ
りも小さな微小開口部104を有する金属マスク103
を経てエバネッセント波の形態をとる。ここで、金属マ
スク,光磁気記録媒体は導体であるので、その双方に電
極を取り付けて容量距離センサ130に接続することに
より、両者間の容量cから距離dを感知することができ
る。 【効果】 金属マスク103の光磁気記録媒体105に
正対した部分の面積が微小開口部104の面積に比べて
大きいため、高精度かつ高帯域な前記距離dの情報を得
ることができる。この距離dの情報をアクチュエータ1
14に帰還させて微小開口部104の位置を制御するこ
とにより、高速プローブ走査が可能になる。
がら情報の記録再生を行なう情報記録再生装置等におい
て、実用上十分な速度でのプローブ走査を実現する。 【構成】 光源101から出射した直線偏光の光束は、
偏波面保存型光ファイバ102を通り、前記光の波長よ
りも小さな微小開口部104を有する金属マスク103
を経てエバネッセント波の形態をとる。ここで、金属マ
スク,光磁気記録媒体は導体であるので、その双方に電
極を取り付けて容量距離センサ130に接続することに
より、両者間の容量cから距離dを感知することができ
る。 【効果】 金属マスク103の光磁気記録媒体105に
正対した部分の面積が微小開口部104の面積に比べて
大きいため、高精度かつ高帯域な前記距離dの情報を得
ることができる。この距離dの情報をアクチュエータ1
14に帰還させて微小開口部104の位置を制御するこ
とにより、高速プローブ走査が可能になる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、情報記録媒体に対し、
相対的に走査される情報記録再生用プローブを用いて情
報の記録再生を行う情報記録再生装置に関する。さらに
本発明は上記情報記録再生用プローブを表面情報検出用
プローブとして用いることにより、試料の表面近傍の情
報を探査するプローブ走査型顕微鏡に関する。さらにま
た本発明は上記プローブを加工用に用いることにより、
試料の表面を加工する微細加工装置に関する。
相対的に走査される情報記録再生用プローブを用いて情
報の記録再生を行う情報記録再生装置に関する。さらに
本発明は上記情報記録再生用プローブを表面情報検出用
プローブとして用いることにより、試料の表面近傍の情
報を探査するプローブ走査型顕微鏡に関する。さらにま
た本発明は上記プローブを加工用に用いることにより、
試料の表面を加工する微細加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】1ミクロン以下の径を有するプローブを
用いた情報記録再生装置及びプローブ走査型顕微鏡で
は、プローブと媒体表面との距離を検知する手段及びそ
の距離を制御する手段を有する。これに関しては、アプ
ライド・フィジックス・レターズ(Applied P
hysics Letters)第61巻の2の第14
2頁より第144頁に記載された技術を挙げることがで
きる。以下に該技術について説明する。
用いた情報記録再生装置及びプローブ走査型顕微鏡で
は、プローブと媒体表面との距離を検知する手段及びそ
の距離を制御する手段を有する。これに関しては、アプ
ライド・フィジックス・レターズ(Applied P
hysics Letters)第61巻の2の第14
2頁より第144頁に記載された技術を挙げることがで
きる。以下に該技術について説明する。
【0003】図2に光ファイバを用いた情報記録再生装
置の一例を示す。光源201から出射した直線偏光の光
束は、光ファイバ202を通り、前記光の波長よりも小
さな微小開口部204を有する金属マスク203を経て
エバネッセント波の形態をとる。通常、光波は波長より
も小さな微小開口部204を通過することができない
が、微小開口部204と光磁気記録媒体205との距離
dが十分小さい場合にのみ、微小開口部204を通過し
て光磁気記録媒体205、透明基板206を伝播してい
くことができる。従って、前記距離dを正確に検出制御
することが非常に重要となる。
置の一例を示す。光源201から出射した直線偏光の光
束は、光ファイバ202を通り、前記光の波長よりも小
さな微小開口部204を有する金属マスク203を経て
エバネッセント波の形態をとる。通常、光波は波長より
も小さな微小開口部204を通過することができない
が、微小開口部204と光磁気記録媒体205との距離
dが十分小さい場合にのみ、微小開口部204を通過し
て光磁気記録媒体205、透明基板206を伝播してい
くことができる。従って、前記距離dを正確に検出制御
することが非常に重要となる。
【0004】透明基板206を伝播した光はレンズ20
7で集光され、ビームスプリッタ208を透過し、レン
ズ209で絞りこまれる。前記レンズ209の集光点2
10には、針穴212を有する遮光物211が置かれて
いる。前記光ファイバ202の微小開口部204の位置
が変化すると、針穴212と集光点210との相対位置
が変化し、光検出器213に到達する光量が変化する。
ここで、アクチュエータ214を用い、金属マスク20
3が付着している光ファイバ202の先端部分を固有共
振周波数f2付近で光磁気記録媒体205の表面と平行
に振動させた場合、光ファイバ202の先端部分の振動
状態は、光ファイバ202が光磁気記録媒体205から
受ける力に応じて微小変化する。光ファイバ202が光
磁気記録媒体205から受ける力は、光ファイバ202
と光磁気記録媒体205との距離dに対し逆比例の関係
にあるため、前記距離dは光検出器213の出力を信号
処理回路215で処理することにより検出することがで
きる。また、信号処理回路215の出力をサーボ回路2
16に帰還してアクチュエータ214を制御することに
より、前記距離dを一定に保つことができる。
7で集光され、ビームスプリッタ208を透過し、レン
ズ209で絞りこまれる。前記レンズ209の集光点2
10には、針穴212を有する遮光物211が置かれて
いる。前記光ファイバ202の微小開口部204の位置
が変化すると、針穴212と集光点210との相対位置
が変化し、光検出器213に到達する光量が変化する。
ここで、アクチュエータ214を用い、金属マスク20
3が付着している光ファイバ202の先端部分を固有共
振周波数f2付近で光磁気記録媒体205の表面と平行
に振動させた場合、光ファイバ202の先端部分の振動
状態は、光ファイバ202が光磁気記録媒体205から
受ける力に応じて微小変化する。光ファイバ202が光
磁気記録媒体205から受ける力は、光ファイバ202
と光磁気記録媒体205との距離dに対し逆比例の関係
にあるため、前記距離dは光検出器213の出力を信号
処理回路215で処理することにより検出することがで
きる。また、信号処理回路215の出力をサーボ回路2
16に帰還してアクチュエータ214を制御することに
より、前記距離dを一定に保つことができる。
【0005】記録は、光源201の出力を増大し光磁気
記録媒体205を局所的に加熱して行なう。再生は、ビ
ームスプリッタ208で反射された光の偏光面回転成分
をアナライザ217によって抽出し、レンズ218で集
光したものを光検出器219で検出することにより行な
う。アクセスは、アクチュエータ220で光磁気記録媒
体205の付着した透明基板206を位置決めすること
によって行なう。情報記録再生装置としての統一的な制
御は、コントローラ2が外部のデータバス1とやりとり
しながら行なう。
記録媒体205を局所的に加熱して行なう。再生は、ビ
ームスプリッタ208で反射された光の偏光面回転成分
をアナライザ217によって抽出し、レンズ218で集
光したものを光検出器219で検出することにより行な
う。アクセスは、アクチュエータ220で光磁気記録媒
体205の付着した透明基板206を位置決めすること
によって行なう。情報記録再生装置としての統一的な制
御は、コントローラ2が外部のデータバス1とやりとり
しながら行なう。
【0006】また、再生出力をアクセス位置情報を用い
て地図化すれば、同様の構成でプローブ走査型顕微鏡と
して用いることができる。
て地図化すれば、同様の構成でプローブ走査型顕微鏡と
して用いることができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、コンピュータの
外部記憶装置などでは、記録再生の高密度化と高速化が
望まれている。従来のプローブを用いた情報記録再生装
置あるいはプローブ走査型顕微鏡では、記録再生の高密
度化については検討されているものの、高速化という観
点からは実用に程遠いレベルにある。
外部記憶装置などでは、記録再生の高密度化と高速化が
望まれている。従来のプローブを用いた情報記録再生装
置あるいはプローブ走査型顕微鏡では、記録再生の高密
度化については検討されているものの、高速化という観
点からは実用に程遠いレベルにある。
【0008】例えば、サブミクロンサイズのプローブを
記録媒体と接触状態で走査させる場合、媒体に損傷を与
えることなく高速にプローブを走査させることは不可能
である。また、媒体と非接触のプローブに共振周波数前
後の振動を与え、プローブ媒体間の距離を一定に保ちな
がら走査する場合も、プローブの共振周波数でプローブ
の走査可能速度が制限されてしまう。その理由は、プロ
ーブ媒体間の微弱な力を感知するためにやわらかいプロ
ーブが必要だということと、プローブの共振周波数を上
げるためにプローブの剛性を上げる必要があるというこ
とが二律背反の関係にあるからである。さらに、媒体と
非接触のプローブに共振周波数前後の振動を与える前述
の方式においては、プローブ媒体間の距離を検知するた
めには少なくとも固有振動の10周期程度の時間が必要
である。現在実用化されているプローブの共振周波数が
50キロヘルツ程度であることと考え合わせると、5キ
ロビット毎秒以上の情報記録再生速度は望めない。以上
のように、従来の方式では、十分にプローブ走査速度あ
るいは記録再生速度を十分に上げられないという問題が
あった。
記録媒体と接触状態で走査させる場合、媒体に損傷を与
えることなく高速にプローブを走査させることは不可能
である。また、媒体と非接触のプローブに共振周波数前
後の振動を与え、プローブ媒体間の距離を一定に保ちな
がら走査する場合も、プローブの共振周波数でプローブ
の走査可能速度が制限されてしまう。その理由は、プロ
ーブ媒体間の微弱な力を感知するためにやわらかいプロ
ーブが必要だということと、プローブの共振周波数を上
げるためにプローブの剛性を上げる必要があるというこ
とが二律背反の関係にあるからである。さらに、媒体と
非接触のプローブに共振周波数前後の振動を与える前述
の方式においては、プローブ媒体間の距離を検知するた
めには少なくとも固有振動の10周期程度の時間が必要
である。現在実用化されているプローブの共振周波数が
50キロヘルツ程度であることと考え合わせると、5キ
ロビット毎秒以上の情報記録再生速度は望めない。以上
のように、従来の方式では、十分にプローブ走査速度あ
るいは記録再生速度を十分に上げられないという問題が
あった。
【0009】本発明の目的は、サブミクロンサイズない
しナノメートルサイズのプローブを記録媒体表面に沿っ
て走査させながら情報の記録再生を行なう情報記録再生
装置ないしプローブ走査型顕微鏡ないし微細加工装置に
おいて、十分な速度でのプローブ走査あるいは記録再生
を実現することにある。
しナノメートルサイズのプローブを記録媒体表面に沿っ
て走査させながら情報の記録再生を行なう情報記録再生
装置ないしプローブ走査型顕微鏡ないし微細加工装置に
おいて、十分な速度でのプローブ走査あるいは記録再生
を実現することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的は、信号記録再
生用プローブよりも有効検知面積の大きなサーボ用プロ
ーブを用いることや、プローブの機械的固有振動の周期
程度以下の時定数で位置決めサーボ用信号を得る手段を
有することにより達成される。
生用プローブよりも有効検知面積の大きなサーボ用プロ
ーブを用いることや、プローブの機械的固有振動の周期
程度以下の時定数で位置決めサーボ用信号を得る手段を
有することにより達成される。
【0011】
【作用】情報記録再生装置の情報記録再生用のプローブ
に有効検知面積の大きなサーボ用プローブを複合させる
ことにより、サーボ用信号の信号対雑音比が大きく向上
し、サーボ信号帯域を大きく取ることができる。また、
情報記録再生装置のプローブから機械的固有振動の周期
程度以下の時定数でサーボ信号を得ることにより、任意
のタイミングで記録再生を行なうことができる。以上に
よって、超高密度記録が可能なプローブ走査型の情報記
録再生装置においても、実用化されている磁気ディスク
ドライブなどと同等以上の速度で記録再生が可能にな
る。またプローブ走査型顕微鏡ないし微細加工装置の走
査時間が大幅に短縮される。
に有効検知面積の大きなサーボ用プローブを複合させる
ことにより、サーボ用信号の信号対雑音比が大きく向上
し、サーボ信号帯域を大きく取ることができる。また、
情報記録再生装置のプローブから機械的固有振動の周期
程度以下の時定数でサーボ信号を得ることにより、任意
のタイミングで記録再生を行なうことができる。以上に
よって、超高密度記録が可能なプローブ走査型の情報記
録再生装置においても、実用化されている磁気ディスク
ドライブなどと同等以上の速度で記録再生が可能にな
る。またプローブ走査型顕微鏡ないし微細加工装置の走
査時間が大幅に短縮される。
【0012】
【実施例】以下、図面を用いて説明する。
【0013】図1は本発明による情報記録再生装置の一
実施例を示す図である。まず、プローブの位置制御方法
について説明する。波長780ナノメートルの光源10
1から出射した直線偏光の光束は、偏波面保存型光ファ
イバ102を通り、前記光の波長よりも小さな直径50
ナノメートルの微小開口部104を有する金属マスク1
03を経てエバネッセント波の形態をとる。通常、光波
は波長よりも小さな微小開口部104を通過することが
できないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105
との距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104
を通過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝
播していくことができる。従って、前記距離dを正確に
検出制御することが非常に重要となる。
実施例を示す図である。まず、プローブの位置制御方法
について説明する。波長780ナノメートルの光源10
1から出射した直線偏光の光束は、偏波面保存型光ファ
イバ102を通り、前記光の波長よりも小さな直径50
ナノメートルの微小開口部104を有する金属マスク1
03を経てエバネッセント波の形態をとる。通常、光波
は波長よりも小さな微小開口部104を通過することが
できないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105
との距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104
を通過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝
播していくことができる。従って、前記距離dを正確に
検出制御することが非常に重要となる。
【0014】ここで、金属マスク103は導体である。
また、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄
−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−
コバルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導
体である。従って、金属マスク103と光磁気記録媒体
105の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130
に接続することにより、両者間の容量cから距離dを感
知することができる。この距離dの情報をアクチュエー
タ114に帰還させて微小開口部104の位置を制御
し、距離dを一定に保つ。ここで、金属マスク103の
光磁気記録媒体105に正対した部分の面積を500ナ
ノメートルx500ナノメートル程度にすると、該面積
が微小開口部104の面積に比べて2桁程度も大きいた
め、高い信号対雑音比が得られ、高精度な前記距離dの
情報を高速に得ることができる。サーボ帯域が信号品質
で決まるような場合、サーボ帯域は信号対雑音比の二乗
に比例して高くとれるので、本実施例では従来比で4桁
程度サーボ帯域を拡大することができ、記録再生時の走
査速度も4桁程度高速化できる。また記録密度を一定と
して転送速度を見積もれば、従来の5キロビット毎秒か
ら50メガビット毎秒までの高速化が可能となる。情報
記録再生装置3を使用しないときは、コントローラ2か
らの命令により、アクチュエータ114は微小開口部1
04を光磁気記録媒体105から遠ざけて、衝突の危険
を避ける。
また、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄
−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−
コバルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導
体である。従って、金属マスク103と光磁気記録媒体
105の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130
に接続することにより、両者間の容量cから距離dを感
知することができる。この距離dの情報をアクチュエー
タ114に帰還させて微小開口部104の位置を制御
し、距離dを一定に保つ。ここで、金属マスク103の
光磁気記録媒体105に正対した部分の面積を500ナ
ノメートルx500ナノメートル程度にすると、該面積
が微小開口部104の面積に比べて2桁程度も大きいた
め、高い信号対雑音比が得られ、高精度な前記距離dの
情報を高速に得ることができる。サーボ帯域が信号品質
で決まるような場合、サーボ帯域は信号対雑音比の二乗
に比例して高くとれるので、本実施例では従来比で4桁
程度サーボ帯域を拡大することができ、記録再生時の走
査速度も4桁程度高速化できる。また記録密度を一定と
して転送速度を見積もれば、従来の5キロビット毎秒か
ら50メガビット毎秒までの高速化が可能となる。情報
記録再生装置3を使用しないときは、コントローラ2か
らの命令により、アクチュエータ114は微小開口部1
04を光磁気記録媒体105から遠ざけて、衝突の危険
を避ける。
【0015】次に、記録過程について詳細に説明する。
【0016】図9は前記記録過程を示す図である。通
常、光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱
は、光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍
の光磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行な
う。光磁気記録媒体105中のキュリー温度以上まで光
照射加熱された部分150は、一旦磁化を失い、温度降
下の過程で外部磁界Hの方向に倣う。以上のように、前
記光照射加熱された部分150が磁区として記録され
る。該磁区径は約50ナノメートルとなる。磁界印加系
は磁性材で形成された金属マスク103の周囲に電磁コ
イル132を巻くことによって構成され、磁界ドライバ
131で駆動される。磁性材で構成された金属マスク1
03は磁気コアとして働くため、効率の高い磁界印加が
可能となる。また、電磁コイル132は微小な部分に巻
かれるため、自己インダクタンスの低減、即ち磁界反転
時間の短縮が図られる。これは、磁界変調型の光磁気オ
ーバライトを高速化する上でも都合が良い。記録制御回
路133は光源101に光照射の命令を出すと同時に、
磁界ドライバ131に磁界の印加の命令を出すことによ
り、光磁気記録媒体105上への磁区パターンを記録す
る。
常、光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱
は、光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍
の光磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行な
う。光磁気記録媒体105中のキュリー温度以上まで光
照射加熱された部分150は、一旦磁化を失い、温度降
下の過程で外部磁界Hの方向に倣う。以上のように、前
記光照射加熱された部分150が磁区として記録され
る。該磁区径は約50ナノメートルとなる。磁界印加系
は磁性材で形成された金属マスク103の周囲に電磁コ
イル132を巻くことによって構成され、磁界ドライバ
131で駆動される。磁性材で構成された金属マスク1
03は磁気コアとして働くため、効率の高い磁界印加が
可能となる。また、電磁コイル132は微小な部分に巻
かれるため、自己インダクタンスの低減、即ち磁界反転
時間の短縮が図られる。これは、磁界変調型の光磁気オ
ーバライトを高速化する上でも都合が良い。記録制御回
路133は光源101に光照射の命令を出すと同時に、
磁界ドライバ131に磁界の印加の命令を出すことによ
り、光磁気記録媒体105上への磁区パターンを記録す
る。
【0017】次に再生過程について詳細に説明する。
【0018】図10は前記再生過程を示す図である。偏
波面保存型光ファイバ102を伝播する直線偏光は、微
小開口部104近傍の光磁気記録媒体105を通過す
る。このとき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録媒
体中の磁化方向Mに応じて右回りRまたは左回りLに回
転する。さらに、透明基板106を伝播した光はレンズ
107で集光される。この光の偏波面回転成分をアナラ
イザ117によって抽出し、レンズ118で集光したも
のを光検出器119で検出することにより、微小開口部
104近傍の光磁気記録媒体105の磁化情報mを検出
する。前記磁化情報mはコントローラ2に送られてデジ
タル情報化される。
波面保存型光ファイバ102を伝播する直線偏光は、微
小開口部104近傍の光磁気記録媒体105を通過す
る。このとき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録媒
体中の磁化方向Mに応じて右回りRまたは左回りLに回
転する。さらに、透明基板106を伝播した光はレンズ
107で集光される。この光の偏波面回転成分をアナラ
イザ117によって抽出し、レンズ118で集光したも
のを光検出器119で検出することにより、微小開口部
104近傍の光磁気記録媒体105の磁化情報mを検出
する。前記磁化情報mはコントローラ2に送られてデジ
タル情報化される。
【0019】アクセスは、アクチュエータ120で光磁
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。
【0020】情報記録再生装置3としての統一的な制御
は、コントローラ2が外部のデータバス1とやりとりし
ながら行なう。以上によって、本発明によれば、記録ビ
ットサイズが50ナノメートルx50ナノメートルで、
転送速度が50メガビット毎秒という高速超高密度の情
報記録再生装置が実現される。
は、コントローラ2が外部のデータバス1とやりとりし
ながら行なう。以上によって、本発明によれば、記録ビ
ットサイズが50ナノメートルx50ナノメートルで、
転送速度が50メガビット毎秒という高速超高密度の情
報記録再生装置が実現される。
【0021】図3は本発明によるプローブ走査型顕微鏡
の一実施例を示す図である。プローブの位置制御と再生
の構成は図1と同じものである。インタフェース4はコ
ンピュータ5からの命令に応じて、光源101の制御と
アクチュエータ114の監視を行なうと同時に、プロー
ブ媒体間のスキャンを司るアクチュエータ120を制御
しながら、アクチュエータ114の変位情報及び光磁気
記録膜105上の磁化情報mを取り込む。コンピュータ
5はアクチュエータ120の位置情報とアクチュエータ
114の変位情報を合成して、光磁気記録媒体105の
凹凸マップ6を出力する。さらに、コンピュータ5はア
クチュエータ120の位置情報と磁化情報mを合成し
て、光磁気記録媒体105の磁化情報マップ7を出力す
る。以上、本発明によれば、図1での説明と同様の原理
で、高速高精度のプローブ走査型顕微鏡が実現される。
の一実施例を示す図である。プローブの位置制御と再生
の構成は図1と同じものである。インタフェース4はコ
ンピュータ5からの命令に応じて、光源101の制御と
アクチュエータ114の監視を行なうと同時に、プロー
ブ媒体間のスキャンを司るアクチュエータ120を制御
しながら、アクチュエータ114の変位情報及び光磁気
記録膜105上の磁化情報mを取り込む。コンピュータ
5はアクチュエータ120の位置情報とアクチュエータ
114の変位情報を合成して、光磁気記録媒体105の
凹凸マップ6を出力する。さらに、コンピュータ5はア
クチュエータ120の位置情報と磁化情報mを合成し
て、光磁気記録媒体105の磁化情報マップ7を出力す
る。以上、本発明によれば、図1での説明と同様の原理
で、高速高精度のプローブ走査型顕微鏡が実現される。
【0022】図4は、本発明によるプローブ走査型顕微
鏡の別の一実施例を示す図である。変位センサ401は
単一モード光ファイバ402に一定強度のレーザ光を送
り出し、単一モード光ファイバ402端面からの戻り光
強度を検知するものである。単一モード光ファイバ40
2端面及び該端面と正対するカンチレバー403表面が
ファブリペロー共振器を構成するため、前記戻り光強度
はカンチレバー403の変位に応じて変化する。
鏡の別の一実施例を示す図である。変位センサ401は
単一モード光ファイバ402に一定強度のレーザ光を送
り出し、単一モード光ファイバ402端面からの戻り光
強度を検知するものである。単一モード光ファイバ40
2端面及び該端面と正対するカンチレバー403表面が
ファブリペロー共振器を構成するため、前記戻り光強度
はカンチレバー403の変位に応じて変化する。
【0023】図12は磁気力検出過程を示す図である。
カンチレバー403のプローブ404は該先端部の軸方
向に磁化した微小な磁石である。基板406につけられ
た磁化膜405上の磁化パターンに応じてプローブ40
4は外力を受ける。すなわち、プローブ404の磁化方
向と磁化膜405上の磁化Mの方向が対向している場合
には、プローブ404は斥力RFを受ける。同様に両者
の磁化方向が揃っている場合には、プローブ404は引
力AFを受ける。カンチレバー403は非常にやわらか
いばねであり、前記外力の向きや大きさに応じて微小に
変形する。前記変形に応じて生じるカンチレバー403
の変位を変位センサ401で検出するのである。この場
合、外力の印加に伴ってカンチレバーの共振周波数の変
化を検出する場合とは異なり、カンチレバーの変位自体
は該カンチレバーの固有振動の周期程度の時定数で検出
することができ、情報検出信号の高帯域化が可能とな
る。変位センサ401の出力はプローブ404近傍の磁
化膜405の磁化情報mとなる。
カンチレバー403のプローブ404は該先端部の軸方
向に磁化した微小な磁石である。基板406につけられ
た磁化膜405上の磁化パターンに応じてプローブ40
4は外力を受ける。すなわち、プローブ404の磁化方
向と磁化膜405上の磁化Mの方向が対向している場合
には、プローブ404は斥力RFを受ける。同様に両者
の磁化方向が揃っている場合には、プローブ404は引
力AFを受ける。カンチレバー403は非常にやわらか
いばねであり、前記外力の向きや大きさに応じて微小に
変形する。前記変形に応じて生じるカンチレバー403
の変位を変位センサ401で検出するのである。この場
合、外力の印加に伴ってカンチレバーの共振周波数の変
化を検出する場合とは異なり、カンチレバーの変位自体
は該カンチレバーの固有振動の周期程度の時定数で検出
することができ、情報検出信号の高帯域化が可能とな
る。変位センサ401の出力はプローブ404近傍の磁
化膜405の磁化情報mとなる。
【0024】ここで、プローブ404に生じる磁力の大
きさは、プローブ404と磁化膜405の距離によって
も変化する。従って、前記の距離を一定に保つことが重
要である。まず、プローブ404の位置制御方法につい
て説明する。ここで、カンチレバー403とプローブ4
04は導体である。また、磁化膜405としては、テル
ビウム−鉄−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、
プラチナ−コバルト多層膜媒体などが測定可能であり、
いずれも導体である。従って、カンチレバー403と磁
化膜405の双方に電極を取り付けて容量距離センサ4
30に接続することにより、両者間の容量cからプロー
ブ404と磁化膜405間の距離を検知することができ
る。これにより、高精度な前記距離の情報dをカンチレ
バー403の変位とは独立にに得ることができる。この
距離の情報dをアクチュエータ414に帰還させてプロ
ーブ404の位置を制御し、前記距離を一定に保つ。
きさは、プローブ404と磁化膜405の距離によって
も変化する。従って、前記の距離を一定に保つことが重
要である。まず、プローブ404の位置制御方法につい
て説明する。ここで、カンチレバー403とプローブ4
04は導体である。また、磁化膜405としては、テル
ビウム−鉄−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、
プラチナ−コバルト多層膜媒体などが測定可能であり、
いずれも導体である。従って、カンチレバー403と磁
化膜405の双方に電極を取り付けて容量距離センサ4
30に接続することにより、両者間の容量cからプロー
ブ404と磁化膜405間の距離を検知することができ
る。これにより、高精度な前記距離の情報dをカンチレ
バー403の変位とは独立にに得ることができる。この
距離の情報dをアクチュエータ414に帰還させてプロ
ーブ404の位置を制御し、前記距離を一定に保つ。
【0025】インタフェース4はコンピュータ5からの
命令に応じて、プローブ媒体間のスキャンを司るアクチ
ュエータ420を制御しながら、アクチュエータ414
の変位と等価な情報d及び磁化膜405上の磁化情報m
を取り込む。コンピュータ5はアクチュエータ420の
位置情報とアクチュエータ414の変位と等価な情報d
を合成して、磁化膜405の凹凸マップ6を出力する。
さらに、コンピュータ5はアクチュエータ420の位置
情報と磁化情報mを合成して、磁化膜405の磁化情報
マップ7を出力する。以上により、本発明によれば高速
走査が可能なプローブ走査型顕微鏡が実現する。
命令に応じて、プローブ媒体間のスキャンを司るアクチ
ュエータ420を制御しながら、アクチュエータ414
の変位と等価な情報d及び磁化膜405上の磁化情報m
を取り込む。コンピュータ5はアクチュエータ420の
位置情報とアクチュエータ414の変位と等価な情報d
を合成して、磁化膜405の凹凸マップ6を出力する。
さらに、コンピュータ5はアクチュエータ420の位置
情報と磁化情報mを合成して、磁化膜405の磁化情報
マップ7を出力する。以上により、本発明によれば高速
走査が可能なプローブ走査型顕微鏡が実現する。
【0026】図5は、本発明による情報記録再生装置の
別の一実施例を示したものである。プローブの位置制御
と再生の構成は図4と同様である。再生時、インタフェ
ース2はプローブ媒体間のスキャンを司るアクチュエー
タ420を制御しながら、アクチュエータ414の変位
情報及び熱磁気記録膜505上の磁化情報mを取り込
む。
別の一実施例を示したものである。プローブの位置制御
と再生の構成は図4と同様である。再生時、インタフェ
ース2はプローブ媒体間のスキャンを司るアクチュエー
タ420を制御しながら、アクチュエータ414の変位
情報及び熱磁気記録膜505上の磁化情報mを取り込
む。
【0027】図11は電界による記録過程を示す図であ
る。記録時、インタフェース2はアクチュエータ420
を用いて位置決めした後、電源431をオンしてプロー
ブ404と熱磁気記録膜505の間に電圧をかけ、電流
Iを流す。該電流のジュール熱により、プローブ404
近傍の熱磁気記録膜505の温度が上昇し、磁化が周囲
の磁化からの反磁界により反転して記録される。このと
き外部から該熱磁気記録膜505に磁界Hを印加しても
良い。情報記録再生装置3としての統一的な制御は、コ
ントローラ2が外部のデータバス1とやりとりしながら
行なう。
る。記録時、インタフェース2はアクチュエータ420
を用いて位置決めした後、電源431をオンしてプロー
ブ404と熱磁気記録膜505の間に電圧をかけ、電流
Iを流す。該電流のジュール熱により、プローブ404
近傍の熱磁気記録膜505の温度が上昇し、磁化が周囲
の磁化からの反磁界により反転して記録される。このと
き外部から該熱磁気記録膜505に磁界Hを印加しても
良い。情報記録再生装置3としての統一的な制御は、コ
ントローラ2が外部のデータバス1とやりとりしながら
行なう。
【0028】図6は、本発明による情報記録再生装置の
別の一実施例を示したものである。まず、プローブの位
置制御方法について説明する。光源101から出射した
直線偏光の光束は、偏波面保存型光ファイバ102を通
り、前記光の波長よりも小さな微小開口部104を有す
る金属マスク103を経てエバネッセント波の形態をと
る。前記微小開口部104は、鏡面部601にて折り返
されたるレンズ107の焦点近傍にある。通常、光波は
波長よりも小さな微小開口部104を通過することがで
きないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105と
の距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を
通過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝播
していくことができる。従って、前記距離dを正確に検
出制御することが非常に重要となる。
別の一実施例を示したものである。まず、プローブの位
置制御方法について説明する。光源101から出射した
直線偏光の光束は、偏波面保存型光ファイバ102を通
り、前記光の波長よりも小さな微小開口部104を有す
る金属マスク103を経てエバネッセント波の形態をと
る。前記微小開口部104は、鏡面部601にて折り返
されたるレンズ107の焦点近傍にある。通常、光波は
波長よりも小さな微小開口部104を通過することがで
きないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105と
の距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を
通過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝播
していくことができる。従って、前記距離dを正確に検
出制御することが非常に重要となる。
【0029】ここで、金属マスク103は導体である。
また、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄
−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−
コバルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導
体である。従って、金属マスク103と光磁気記録媒体
105の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130
に接続することにより、両者間の容量cから距離dを感
知することができる。金属マスク103の光磁気記録媒
体105に正対した部分の面積が微小開口部104の面
積に比べて大きいため、高精度な前記距離dの情報を高
速に得ることができる。この距離dの情報をアクチュエ
ータ114に帰還させて微小開口部104の位置を制御
し、距離dを一定に保つ。情報記録再生装置3を使用し
ないときは、コントローラ2からの命令により、アクチ
ュエータ114は微小開口部104を光磁気記録媒体1
05から遠ざけて、衝突の危険を避ける。
また、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄
−コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−
コバルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導
体である。従って、金属マスク103と光磁気記録媒体
105の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130
に接続することにより、両者間の容量cから距離dを感
知することができる。金属マスク103の光磁気記録媒
体105に正対した部分の面積が微小開口部104の面
積に比べて大きいため、高精度な前記距離dの情報を高
速に得ることができる。この距離dの情報をアクチュエ
ータ114に帰還させて微小開口部104の位置を制御
し、距離dを一定に保つ。情報記録再生装置3を使用し
ないときは、コントローラ2からの命令により、アクチ
ュエータ114は微小開口部104を光磁気記録媒体1
05から遠ざけて、衝突の危険を避ける。
【0030】次に、記録過程について説明する。通常、
光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱は、
光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍の光
磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行なう。
磁界印加系は磁性材で形成された金属マスク103の周
囲に電磁コイル132を巻くことによって構成され、磁
界ドライバ131で駆動される。磁性材で構成された金
属マスク103は磁気コアとして働くため、効率の高い
磁界印加が可能となる。また、電磁コイル132は微小
な部分に巻かれるため、自己インダクタンスの低減、即
ち磁界反転時間の短縮が図られる。これは、磁界変調型
の光磁気オーバライトを高速化する上でも都合が良い。
記録制御回路133は光源101に光照射の命令を出す
と同時に、磁界ドライバ131に磁界の印加の命令を出
すことにより、光磁気記録媒体105上への磁区パター
ンを記録する。
光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱は、
光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍の光
磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行なう。
磁界印加系は磁性材で形成された金属マスク103の周
囲に電磁コイル132を巻くことによって構成され、磁
界ドライバ131で駆動される。磁性材で構成された金
属マスク103は磁気コアとして働くため、効率の高い
磁界印加が可能となる。また、電磁コイル132は微小
な部分に巻かれるため、自己インダクタンスの低減、即
ち磁界反転時間の短縮が図られる。これは、磁界変調型
の光磁気オーバライトを高速化する上でも都合が良い。
記録制御回路133は光源101に光照射の命令を出す
と同時に、磁界ドライバ131に磁界の印加の命令を出
すことにより、光磁気記録媒体105上への磁区パター
ンを記録する。
【0031】次に再生過程について説明する。偏波面保
存型光ファイバ102を伝播する直線偏光は、微小開口
部104近傍の光磁気記録媒体105を通過する。この
とき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録媒体105
中の磁化方向に応じて回転する。さらに、透明基板10
6を伝播した前記直線偏光は鏡面部601で反射され
る。前記直線偏光は、再び透明基板106を伝播し、光
磁気記録媒体105に到達する。このとき、前記直線偏
光が照射される面積は、透明基板106往復の伝播によ
り微小開口部104の面積に比べて十分大きくなる。光
磁気記録媒体105上で、前記直線偏光が照射される面
積当たりに占める上向き下向きの磁区の割合は記録に際
し略一定にしておく。これにより、前記直線偏光は復路
において光磁気記録媒体105の巨視的な影響を受ける
ことなくレンズ107で集光される。この光の偏波面回
転成分をアナライザ117によって抽出し、レンズ11
8で集光したものを光検出器119で検出することによ
り、微小開口部104近傍の光磁気記録媒体105の磁
化情報mを検出する。前記磁化情報mはコントローラ2
に送られてデジタル情報化される。
存型光ファイバ102を伝播する直線偏光は、微小開口
部104近傍の光磁気記録媒体105を通過する。この
とき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録媒体105
中の磁化方向に応じて回転する。さらに、透明基板10
6を伝播した前記直線偏光は鏡面部601で反射され
る。前記直線偏光は、再び透明基板106を伝播し、光
磁気記録媒体105に到達する。このとき、前記直線偏
光が照射される面積は、透明基板106往復の伝播によ
り微小開口部104の面積に比べて十分大きくなる。光
磁気記録媒体105上で、前記直線偏光が照射される面
積当たりに占める上向き下向きの磁区の割合は記録に際
し略一定にしておく。これにより、前記直線偏光は復路
において光磁気記録媒体105の巨視的な影響を受ける
ことなくレンズ107で集光される。この光の偏波面回
転成分をアナライザ117によって抽出し、レンズ11
8で集光したものを光検出器119で検出することによ
り、微小開口部104近傍の光磁気記録媒体105の磁
化情報mを検出する。前記磁化情報mはコントローラ2
に送られてデジタル情報化される。
【0032】アクセスは、アクチュエータ120で光磁
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。情報記録再生装置3としての
統一的な制御は、コントローラ2が外部のデータバス1
とやりとりしながら行なう。
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。情報記録再生装置3としての
統一的な制御は、コントローラ2が外部のデータバス1
とやりとりしながら行なう。
【0033】図7は、本発明による情報記録再生装置の
別の実施例を示す図である。この実施例では、多数のプ
ローブを用いたパラレル記録再生について説明する。各
チャネルのデータ用プローブは、偏波面保存型光ファイ
バ102の先端を光の波長よりも小さな微小開口部10
4を有する金属マスク103によって封じたものであ
る。プローブモジュール710は、微小開口部104を
直線上に多数個ならべたものと、前記微小開口部104
と同一平面上にある金属電極720とからなる。各チャ
ネル毎に、偏波面保存型光ファイバ102のプローブモ
ジュール710とは反対側の端部には記録再生ユニット
701が接続されている。記録再生ユニット701は、
偏波面保存型光ファイバ102の延長上に接続された直
線偏光を発生する光源101と、別の偏波面保存型光フ
ァイバ705と、偏波面保存型光ファイバ102および
偏波面保存型光ファイバ705を結合する方向性結合器
702と、偏波面保存型光ファイバ705の両端に接続
された光検出器703および704とからなる。
別の実施例を示す図である。この実施例では、多数のプ
ローブを用いたパラレル記録再生について説明する。各
チャネルのデータ用プローブは、偏波面保存型光ファイ
バ102の先端を光の波長よりも小さな微小開口部10
4を有する金属マスク103によって封じたものであ
る。プローブモジュール710は、微小開口部104を
直線上に多数個ならべたものと、前記微小開口部104
と同一平面上にある金属電極720とからなる。各チャ
ネル毎に、偏波面保存型光ファイバ102のプローブモ
ジュール710とは反対側の端部には記録再生ユニット
701が接続されている。記録再生ユニット701は、
偏波面保存型光ファイバ102の延長上に接続された直
線偏光を発生する光源101と、別の偏波面保存型光フ
ァイバ705と、偏波面保存型光ファイバ102および
偏波面保存型光ファイバ705を結合する方向性結合器
702と、偏波面保存型光ファイバ705の両端に接続
された光検出器703および704とからなる。
【0034】まず、プローブの位置制御方法について説
明する。光源101から出射した直線偏光の光束は、方
向性結合器702により、光源モニタ732用の光検出
器704に向かう光と、偏波面保存型光ファイバ102
を通り、前記微小開口部104に向かう光とに分配され
る。微小開口部104に向かう光は、金属マスク103
を経てエバネッセント波の形態をとる。通常、光波は波
長よりも小さな微小開口部104を通過することができ
ないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105との
距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を通
過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝播し
ていくことができる。従って、前記距離dを正確に検出
制御することが非常に重要となる。
明する。光源101から出射した直線偏光の光束は、方
向性結合器702により、光源モニタ732用の光検出
器704に向かう光と、偏波面保存型光ファイバ102
を通り、前記微小開口部104に向かう光とに分配され
る。微小開口部104に向かう光は、金属マスク103
を経てエバネッセント波の形態をとる。通常、光波は波
長よりも小さな微小開口部104を通過することができ
ないが、微小開口部104と光磁気記録媒体105との
距離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を通
過して光磁気記録媒体105、透明基板106を伝播し
ていくことができる。従って、前記距離dを正確に検出
制御することが非常に重要となる。
【0035】ここで、金属電極720は導体である。ま
た、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄−
コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−コ
バルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導体
である。従って、金属電極720と光磁気記録媒体10
5の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130に接
続することにより、両者間の容量cから距離dを感知す
ることができる。金属電極720の光磁気記録媒体10
5に正対した部分の面積が微小開口部104の面積に比
べて大きいため、高精度な前記距離dの情報を高速に得
ることができる。この距離dの情報を低域通過フィルタ
730によって濾波したものをアクチュエータ114に
帰還させて微小開口部104の位置を制御し、距離dを
一定に保つ。ここで、プローブモジュール710をスラ
イダの形状とすることにより、プローブモジュール71
0と光磁気記録媒体105との相対速度が大きい場合に
は、両者間の距離を略一定に保つことができる。これに
より、前記距離dを一定に保つためのサーボ系の負担が
軽減され若しくは不要となる。
た、光磁気記録媒体105としては、テルビウム−鉄−
コバルトなどの希土類遷移金属合金膜や、プラチナ−コ
バルト多層膜媒体などが使用可能であり、いずれも導体
である。従って、金属電極720と光磁気記録媒体10
5の双方に電極を取り付けて容量距離センサ130に接
続することにより、両者間の容量cから距離dを感知す
ることができる。金属電極720の光磁気記録媒体10
5に正対した部分の面積が微小開口部104の面積に比
べて大きいため、高精度な前記距離dの情報を高速に得
ることができる。この距離dの情報を低域通過フィルタ
730によって濾波したものをアクチュエータ114に
帰還させて微小開口部104の位置を制御し、距離dを
一定に保つ。ここで、プローブモジュール710をスラ
イダの形状とすることにより、プローブモジュール71
0と光磁気記録媒体105との相対速度が大きい場合に
は、両者間の距離を略一定に保つことができる。これに
より、前記距離dを一定に保つためのサーボ系の負担が
軽減され若しくは不要となる。
【0036】情報記録再生装置3を使用しないときは、
コントローラ2からの命令により、アクチュエータ11
4は微小開口部104を光磁気記録媒体105から遠ざ
けて、衝突の危険を避ける。
コントローラ2からの命令により、アクチュエータ11
4は微小開口部104を光磁気記録媒体105から遠ざ
けて、衝突の危険を避ける。
【0037】図8は、本実施例の光磁気記録媒体105
上の凹部パターンとプローブモジュール710との関係
を模式的に示したものである。プローブモジュール71
0は図8中を向かって右方向に光磁気記録媒体105に
対し相対的に走査されるものとする。凹部721はサー
ボや記録再生のタイミング抽出用に付けられた溝状の凹
部であり、凹部722はサンプルサーボ方式のトラッキ
ングサーボ用に設けられたウォブルピット状の凹部であ
る。金属電極720と光磁気記録媒体105間の距離は
容量距離センサ130によって検出され、その低域成分
は前述のように距離サーボに用いられている。ここで、
その高域成分を高域通過フィルタ731によって抽出す
ることにより、凹部721及び凹部722を検出するこ
とができる。凹部722を用いたトラッキングサーボで
は、各微小開口部104を個別に正確に位置付けること
は困難であるが、光ディスクの技術を用いて簡単に前記
凹部を光磁気記録媒体上に形成可能という特徴および、
位置決めサーボ引き込み範囲が個別のトラック幅の数倍
以上とれて高速走査に適するという特徴を有する。
上の凹部パターンとプローブモジュール710との関係
を模式的に示したものである。プローブモジュール71
0は図8中を向かって右方向に光磁気記録媒体105に
対し相対的に走査されるものとする。凹部721はサー
ボや記録再生のタイミング抽出用に付けられた溝状の凹
部であり、凹部722はサンプルサーボ方式のトラッキ
ングサーボ用に設けられたウォブルピット状の凹部であ
る。金属電極720と光磁気記録媒体105間の距離は
容量距離センサ130によって検出され、その低域成分
は前述のように距離サーボに用いられている。ここで、
その高域成分を高域通過フィルタ731によって抽出す
ることにより、凹部721及び凹部722を検出するこ
とができる。凹部722を用いたトラッキングサーボで
は、各微小開口部104を個別に正確に位置付けること
は困難であるが、光ディスクの技術を用いて簡単に前記
凹部を光磁気記録媒体上に形成可能という特徴および、
位置決めサーボ引き込み範囲が個別のトラック幅の数倍
以上とれて高速走査に適するという特徴を有する。
【0038】次に、記録過程について説明する。通常、
光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱は、
光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍の光
磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行なう。
磁界印加系はプローブモジュール710近傍の偏波面保
存型光ファイバ102の束の周囲に電磁コイル132を
巻くことによって構成され、磁界ドライバ131で駆動
される。記録制御回路133は光源101に光照射の命
令を出すと同時に、磁界ドライバ131に磁界の印加方
向及び強度の命令を出す。以上により、光磁気記録媒体
105上への磁区パターンの記録及び消去が可能にな
る。ここで、光学系740は常に、プローブモジュール
710近傍の光磁気記録媒体105を、透明基板106
側から照明する。各微小開口部104が凹部721を通
過する際、各微小開口部104と光磁気記録媒体105
との結合効率が変化し、それぞれの微小開口部104が
凹部721の端を通過する通過時刻tを検出することが
できる。前記通過時刻tを元に記録を行なうことによ
り、精度の高い記録が可能になる。
光磁気記録には熱と磁界の印加が必要である。加熱は、
光源101の出力を増大し、微小開口部104近傍の光
磁気記録媒体105を局所的に光照射加熱して行なう。
磁界印加系はプローブモジュール710近傍の偏波面保
存型光ファイバ102の束の周囲に電磁コイル132を
巻くことによって構成され、磁界ドライバ131で駆動
される。記録制御回路133は光源101に光照射の命
令を出すと同時に、磁界ドライバ131に磁界の印加方
向及び強度の命令を出す。以上により、光磁気記録媒体
105上への磁区パターンの記録及び消去が可能にな
る。ここで、光学系740は常に、プローブモジュール
710近傍の光磁気記録媒体105を、透明基板106
側から照明する。各微小開口部104が凹部721を通
過する際、各微小開口部104と光磁気記録媒体105
との結合効率が変化し、それぞれの微小開口部104が
凹部721の端を通過する通過時刻tを検出することが
できる。前記通過時刻tを元に記録を行なうことによ
り、精度の高い記録が可能になる。
【0039】次に、再生過程について説明する。半導体
レーザ711から発せられる直線偏光はレンズ709で
コリメートされ、二分の一波長板708で偏光面を回転
される。二分の一波長板708の出射側での偏光面は、
プローブモジュール710近傍の偏波面保存型光ファイ
バ102を通過可能な偏光面に対し、90度±K(Kは
微小角)の角度をなしている。前記直線偏光はレンズ7
07で絞りこまれた後、透明基板106を経由して微小
開口部104全体と正対する光磁気記録膜105を照明
する。光磁気記録膜105から滲出するエバネッセント
波は、微小開口部104と光磁気記録媒体105との距
離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を通過
して偏波面保存型光ファイバ102中を伝播していくこ
とができる。
レーザ711から発せられる直線偏光はレンズ709で
コリメートされ、二分の一波長板708で偏光面を回転
される。二分の一波長板708の出射側での偏光面は、
プローブモジュール710近傍の偏波面保存型光ファイ
バ102を通過可能な偏光面に対し、90度±K(Kは
微小角)の角度をなしている。前記直線偏光はレンズ7
07で絞りこまれた後、透明基板106を経由して微小
開口部104全体と正対する光磁気記録膜105を照明
する。光磁気記録膜105から滲出するエバネッセント
波は、微小開口部104と光磁気記録媒体105との距
離dが十分小さい場合にのみ、微小開口部104を通過
して偏波面保存型光ファイバ102中を伝播していくこ
とができる。
【0040】前述の如く、光磁気記録媒体105を照明
する直線偏光は、微小開口部104近傍の光磁気記録媒
体105を通過した後、微小開口部104から進入して
いく。このとき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録
媒体中の磁化方向に応じて回転する。この光の偏波面回
転成分を、アナライザとして作用する偏波面保存型光フ
ァイバ102によって抽出する。該偏波面回転成分は、
該偏波面保存型光ファイバ102と方向性結合器702
を介して結合された、別の偏波面保存型光ファイバ70
5に取り付けられた光検出器703により検出される。
これにより、各微小開口部104近傍の光磁気記録媒体
105の磁化情報mがそれぞれ検出される。
する直線偏光は、微小開口部104近傍の光磁気記録媒
体105を通過した後、微小開口部104から進入して
いく。このとき、前記直線偏光の偏波面は、光磁気記録
媒体中の磁化方向に応じて回転する。この光の偏波面回
転成分を、アナライザとして作用する偏波面保存型光フ
ァイバ102によって抽出する。該偏波面回転成分は、
該偏波面保存型光ファイバ102と方向性結合器702
を介して結合された、別の偏波面保存型光ファイバ70
5に取り付けられた光検出器703により検出される。
これにより、各微小開口部104近傍の光磁気記録媒体
105の磁化情報mがそれぞれ検出される。
【0041】プローブモジュール710から集められる
前記磁化情報mは、同期回路733により、各微小開口
部104が凹部721の端を通過する時刻tで同期化さ
れ、コントローラ2に送られて地図情報化される。前記
地図情報から記録データを復調することができる。ここ
で、図8に示すように、記録のチャネル数を全記録再生
用プローブ数の半分程度以下にする事により、再生時の
トラッキング誤差がトラック幅と比較して大きな場合で
も、正確なデータを復調することができる。また、個別
のトラック幅に比較して大きなトラッキング誤差が許容
されるため、前述のように高速走査が可能となる。
前記磁化情報mは、同期回路733により、各微小開口
部104が凹部721の端を通過する時刻tで同期化さ
れ、コントローラ2に送られて地図情報化される。前記
地図情報から記録データを復調することができる。ここ
で、図8に示すように、記録のチャネル数を全記録再生
用プローブ数の半分程度以下にする事により、再生時の
トラッキング誤差がトラック幅と比較して大きな場合で
も、正確なデータを復調することができる。また、個別
のトラック幅に比較して大きなトラッキング誤差が許容
されるため、前述のように高速走査が可能となる。
【0042】アクセスは、アクチュエータ120で光磁
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。情報記録再生装置3としての
統一的な制御については、コントローラ2が外部のデー
タバス1とやりとりしながら行なう。
気記録媒体105の付着した透明基板106を位置決め
することによって行なう。情報記録再生装置3としての
統一的な制御については、コントローラ2が外部のデー
タバス1とやりとりしながら行なう。
【0043】以上の説明は光磁気記録媒体または磁性体
を中心とした議論であったが、媒体が相変化型記録媒体
のようなものを用いる場合でも、マークの記録や表面情
報の検出を行なうことができる。
を中心とした議論であったが、媒体が相変化型記録媒体
のようなものを用いる場合でも、マークの記録や表面情
報の検出を行なうことができる。
【0044】図13は相変化型記録媒体への記録過程を
示したものである。通常、相変化記録には熱の印加が必
要である。加熱は、光源101の出力を増大し、微小開
口部104近傍の相変化型記録媒体1305を局所的に
光照射加熱して行なう。相変化型記録媒体1305中の
融点以上まで光照射加熱された部分は、一旦溶融し、急
激な温度降下の過程でアモルファス状態Aとなる。
示したものである。通常、相変化記録には熱の印加が必
要である。加熱は、光源101の出力を増大し、微小開
口部104近傍の相変化型記録媒体1305を局所的に
光照射加熱して行なう。相変化型記録媒体1305中の
融点以上まで光照射加熱された部分は、一旦溶融し、急
激な温度降下の過程でアモルファス状態Aとなる。
【0045】図14は相変化型記録媒体の再生過程を示
す図である。相変化型記録媒体1305のアモルファス
部分と結晶部分とでは、組成が同じでも構造が異なるた
め、光学定数が異なる。このため、微小開口部104と
相変化型記録媒体1305との距離が一定であっても、
前記微小開口部104と前記相変化型記録媒体1305
との光学的結合効率は、アモルファス状態Aと結晶状態
Xとで変化する。該光学的結合効率の変化に応じ、相変
化型記録媒体1305を透過する光強度は変化するた
め、記録データ再生または表面情報検出が可能となる。
す図である。相変化型記録媒体1305のアモルファス
部分と結晶部分とでは、組成が同じでも構造が異なるた
め、光学定数が異なる。このため、微小開口部104と
相変化型記録媒体1305との距離が一定であっても、
前記微小開口部104と前記相変化型記録媒体1305
との光学的結合効率は、アモルファス状態Aと結晶状態
Xとで変化する。該光学的結合効率の変化に応じ、相変
化型記録媒体1305を透過する光強度は変化するた
め、記録データ再生または表面情報検出が可能となる。
【0046】図15は微細加工装置の一実施例を示した
ものである。結晶へき開面等の原子オーダで非常に平坦
な被加工表面805上に原子単位で凹凸をつけるような
微細加工方法について示す。
ものである。結晶へき開面等の原子オーダで非常に平坦
な被加工表面805上に原子単位で凹凸をつけるような
微細加工方法について示す。
【0047】先ず、プローブの位置制御方法について説
明する。プローブはサーボ用のファイバ干渉計801の
一部をなす光ファイバ802と微細加工用の金属探針8
04からなっている。波長780ナノメートルのレーザ
光源を有するファイバ干渉計801から出射した光束
は、単一モード型の光ファイバ802を通り、光ファイ
バ802の導波方向に対し垂直に形成された端面から出
射される。該光ファイバ802の端面と被加工表面80
5とは略平行であり、かつ互いの距離は数ミクロン程度
に設定されている。この場合、被加工表面805で反射
された光と該光ファイバ802の出射端面で反射された
光とは干渉を起こし、両者間の距離の変化をファイバ干
渉計801で非常に高精度に検出することができる。単
一モード型光ファイバ802の導波コアの直径は約2ミ
クロン有るので、被加工表面805に水平な面内の分解
能も同様に約2ミクロン程度となる。ところが、ファイ
バ干渉計801は垂直距離変化に対し数百分の1ナノメ
ートルもの高分解能を有している。原子の直径が10分
の1ナノメートル乃至1ナノメートルで有ることを考え
れば、ファイバ干渉計801は1原子層の10分の1以
下の垂直距離変化を検出できることになる。ファイバ干
渉計801の垂直距離情報は垂直位置決めサーボ系80
3に送られ、被加工表面805と光ファイバ802の端
面との距離を1原子層の10分の1以下の垂直距離精度
で一定に保つ。
明する。プローブはサーボ用のファイバ干渉計801の
一部をなす光ファイバ802と微細加工用の金属探針8
04からなっている。波長780ナノメートルのレーザ
光源を有するファイバ干渉計801から出射した光束
は、単一モード型の光ファイバ802を通り、光ファイ
バ802の導波方向に対し垂直に形成された端面から出
射される。該光ファイバ802の端面と被加工表面80
5とは略平行であり、かつ互いの距離は数ミクロン程度
に設定されている。この場合、被加工表面805で反射
された光と該光ファイバ802の出射端面で反射された
光とは干渉を起こし、両者間の距離の変化をファイバ干
渉計801で非常に高精度に検出することができる。単
一モード型光ファイバ802の導波コアの直径は約2ミ
クロン有るので、被加工表面805に水平な面内の分解
能も同様に約2ミクロン程度となる。ところが、ファイ
バ干渉計801は垂直距離変化に対し数百分の1ナノメ
ートルもの高分解能を有している。原子の直径が10分
の1ナノメートル乃至1ナノメートルで有ることを考え
れば、ファイバ干渉計801は1原子層の10分の1以
下の垂直距離変化を検出できることになる。ファイバ干
渉計801の垂直距離情報は垂直位置決めサーボ系80
3に送られ、被加工表面805と光ファイバ802の端
面との距離を1原子層の10分の1以下の垂直距離精度
で一定に保つ。
【0048】光ファイバ802の端面付近には、先端が
単原子から成る微細な金属探針804が取り付けられて
いる。コンピュータ5はインタフェース4を介して垂直
位置決めサーボ系803に司令を送り、金属探針804
の先端と被加工表面805との間隔を10分の1ナノメ
ートル程度に位置付ける。この時、コンピュータ5が前
記間隔を認識する方法について説明する。コンピュータ
5はインタフェース4を介して電源808の出力電圧を
比較的低く設定する。電源808の出力の一端は金属探
針804に接続されている。また電源808の他方の一
端は電流計809を介してステージ806上の被加工表
面805に接続されている。金属探針804の先端と被
加工表面805との間隔が2分の1ナノメートル程度以
下で、かつ両者の間に低電界が印加されている場合、両
者の間にはトンネル電流が流れる。このトンネル電流を
電流計809でモニタすることにより、コンピュータ5
は金属探針804の先端と被加工表面805との間隔を
知ることができる。以上のようなトンネル走査型顕微鏡
の原理を用いて金属探針804の先端と被加工表面80
5との間隔を一度設定してしまえば、相対精度が高いフ
ァイバ干渉計801を初期化したことになり、原子オー
ダの垂直位置決めがこれ以後可能になる。
単原子から成る微細な金属探針804が取り付けられて
いる。コンピュータ5はインタフェース4を介して垂直
位置決めサーボ系803に司令を送り、金属探針804
の先端と被加工表面805との間隔を10分の1ナノメ
ートル程度に位置付ける。この時、コンピュータ5が前
記間隔を認識する方法について説明する。コンピュータ
5はインタフェース4を介して電源808の出力電圧を
比較的低く設定する。電源808の出力の一端は金属探
針804に接続されている。また電源808の他方の一
端は電流計809を介してステージ806上の被加工表
面805に接続されている。金属探針804の先端と被
加工表面805との間隔が2分の1ナノメートル程度以
下で、かつ両者の間に低電界が印加されている場合、両
者の間にはトンネル電流が流れる。このトンネル電流を
電流計809でモニタすることにより、コンピュータ5
は金属探針804の先端と被加工表面805との間隔を
知ることができる。以上のようなトンネル走査型顕微鏡
の原理を用いて金属探針804の先端と被加工表面80
5との間隔を一度設定してしまえば、相対精度が高いフ
ァイバ干渉計801を初期化したことになり、原子オー
ダの垂直位置決めがこれ以後可能になる。
【0049】ファイバ干渉計801を用いて垂直位置決
めを行なう利点は、数十キロヘルツという高帯域で、2
ミクロン平方という比較的広い範囲の平均距離が、2ミ
クロン程度離れた点から10分の1原子層以下の精度で
検出できるという点である。従って、垂直位置決めサー
ボ系803は被加工表面805上に形成された一原子層
程度の微細な凹凸に影響されることなく前記平均距離変
化に追従していくことができる。
めを行なう利点は、数十キロヘルツという高帯域で、2
ミクロン平方という比較的広い範囲の平均距離が、2ミ
クロン程度離れた点から10分の1原子層以下の精度で
検出できるという点である。従って、垂直位置決めサー
ボ系803は被加工表面805上に形成された一原子層
程度の微細な凹凸に影響されることなく前記平均距離変
化に追従していくことができる。
【0050】次に微細加工方法について説明する。金属
探針804は前述のように被加工表面805から2分の
1ナノメートル程度離れた位置で垂直距離サーボをかけ
られている。コンピュータ5はインタフェース4を介し
て水平位置決め用のアクチュエータ807を制御し、金
属探針804の位置を被加工表面805上の加工箇所に
位置付ける。さらにコンピュータ5はインタフェース4
を介して垂直位置決めサーボ系803に司令を送り、金
属探針804の先端と被加工表面805との間隔を、一
時的に原子サイズとほぼ等しい10分の1ナノメートル
程度まで近づけ、加工に備える。前記加工箇所におい
て、コンピュータ5はインタフェース4を介して電源8
08に司令を出して金属探針804の被加工表面805
に対する電圧を制御する。前記金属探針804への電圧
印加によって金属探針804の先端周辺には局所的に非
常に強い電場が生じ、印加電圧の大小や極性の正負によ
って該局所電場を制御することができる。
探針804は前述のように被加工表面805から2分の
1ナノメートル程度離れた位置で垂直距離サーボをかけ
られている。コンピュータ5はインタフェース4を介し
て水平位置決め用のアクチュエータ807を制御し、金
属探針804の位置を被加工表面805上の加工箇所に
位置付ける。さらにコンピュータ5はインタフェース4
を介して垂直位置決めサーボ系803に司令を送り、金
属探針804の先端と被加工表面805との間隔を、一
時的に原子サイズとほぼ等しい10分の1ナノメートル
程度まで近づけ、加工に備える。前記加工箇所におい
て、コンピュータ5はインタフェース4を介して電源8
08に司令を出して金属探針804の被加工表面805
に対する電圧を制御する。前記金属探針804への電圧
印加によって金属探針804の先端周辺には局所的に非
常に強い電場が生じ、印加電圧の大小や極性の正負によ
って該局所電場を制御することができる。
【0051】通常、被加工表面805上の原子は該表面
の物体側のみ他の原子と結合しているため、電気的な偏
りを生じている。そのため、金属探針804の先端付近
の局所電場によって、被加工表面805上の原子に対し
局所的な外力を与えることができる。この外力を制御す
ることにより、被加工表面805上を原子オーダで加工
することができるわけである。また、被加工表面805
を形成する物質によって表面原子が非常に電離しやすい
場合も有る。この場合は、金属探針804周辺の局所電
場を用いて、被加工表面805上の特定原子を狙って抜
き取ることも可能である。また逆に金属探針804上の
原子を飛ばせば被加工表面805上の特定箇所に原子を
付着させることも可能である。
の物体側のみ他の原子と結合しているため、電気的な偏
りを生じている。そのため、金属探針804の先端付近
の局所電場によって、被加工表面805上の原子に対し
局所的な外力を与えることができる。この外力を制御す
ることにより、被加工表面805上を原子オーダで加工
することができるわけである。また、被加工表面805
を形成する物質によって表面原子が非常に電離しやすい
場合も有る。この場合は、金属探針804周辺の局所電
場を用いて、被加工表面805上の特定原子を狙って抜
き取ることも可能である。また逆に金属探針804上の
原子を飛ばせば被加工表面805上の特定箇所に原子を
付着させることも可能である。
【0052】さらに、金属探針804の先端を直接被加
工表面805上にあてて機械的に加工することもでき
る。ここで、ファイバ干渉計801は、光ファイバ80
2の端面と被加工表面805の往復の光路差を用いてい
るため、ダイナミックレンジが4分の1波長程度即ち2
00ナノメートル程度とれる。従って、数ナノメートル
程度までの凹凸を被加工表面805上に形成する場合で
も、本実施例は十分に対応することができる。以上本発
明によれば、原子層オーダで平坦な被加工表面805に
対し、非常に高速に位置決めが可能でしかも原子レベル
までの超精密加工が可能な微細加工装置が実現される。
工表面805上にあてて機械的に加工することもでき
る。ここで、ファイバ干渉計801は、光ファイバ80
2の端面と被加工表面805の往復の光路差を用いてい
るため、ダイナミックレンジが4分の1波長程度即ち2
00ナノメートル程度とれる。従って、数ナノメートル
程度までの凹凸を被加工表面805上に形成する場合で
も、本実施例は十分に対応することができる。以上本発
明によれば、原子層オーダで平坦な被加工表面805に
対し、非常に高速に位置決めが可能でしかも原子レベル
までの超精密加工が可能な微細加工装置が実現される。
【0053】また、以上の実施例では媒体側を移動させ
てアクセスするものについて説明したが、反対にプロー
ブ部全体を移動させてアクセスする場合も同様である。
この場合、媒体をディスク形状にして回転させることも
できる。
てアクセスするものについて説明したが、反対にプロー
ブ部全体を移動させてアクセスする場合も同様である。
この場合、媒体をディスク形状にして回転させることも
できる。
【0054】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、サブミクロ
ンサイズないしナノメートルサイズのプローブを記録媒
体表面に沿って高速で走査させることにより、超高密度
高速の情報記録再生が可能な情報記録再生装置ないしプ
ローブ走査型顕微鏡、さらには微細加工装置が実現され
る。
ンサイズないしナノメートルサイズのプローブを記録媒
体表面に沿って高速で走査させることにより、超高密度
高速の情報記録再生が可能な情報記録再生装置ないしプ
ローブ走査型顕微鏡、さらには微細加工装置が実現され
る。
【図1】本発明による情報記録再生装置の一実施例を示
す図である。
す図である。
【図2】光ファイバを用いた情報記録再生装置の従来の
例を示す。
例を示す。
【図3】本発明によるプローブ走査型顕微鏡の一実施例
を示す図である。
を示す図である。
【図4】本発明によるプローブ走査型顕微鏡の別の一実
施例を示す図である。
施例を示す図である。
【図5】本発明による情報記録再生装置の別の一実施例
を示す図である。
を示す図である。
【図6】本発明による情報記録再生装置の別の一実施例
を示したものである。
を示したものである。
【図7】本発明による情報記録再生装置の別の実施例を
示す図である。
示す図である。
【図8】光磁気記録媒体上の凹部パターンとプローブモ
ジュールとの関係を模式的に示したものである。
ジュールとの関係を模式的に示したものである。
【図9】図9は光磁気記録過程を示す図である。
【図10】光磁気再生過程を示す図である。
【図11】電界による記録過程を示す図である。
【図12】磁気力検出過程を示す図である。
【図13】相変化型記録媒体への記録過程を示したもの
である。
である。
【図14】相変化型記録媒体の再生過程を示す図であ
る。
る。
【図15】本発明による微細加工装置の一実施例を示す
図である。
図である。
101…光源,102…偏波面保存型光ファイバ,10
3…金属マスク,104…微小開口部,105…光磁気
記録媒体,130…容量距離センサ,114…アクチュ
エータ。
3…金属マスク,104…微小開口部,105…光磁気
記録媒体,130…容量距離センサ,114…アクチュ
エータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 37/28 Z (72)発明者 新谷 俊通 埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式会 社日立製作所基礎研究所内
Claims (22)
- 【請求項1】光学的、磁気的、静電的、電気的、或は機
械的信号を記録可能な情報記録媒体に対し、プローブを
非接触で該情報記録媒体表面に沿って走査させて記録再
生を行なう情報記録再生装置において、前記プローブは
情報記録マークを記録かつ/または検知する第1のプロ
ーブと、該第1のプローブよりも有効検知面積の大きな
位置決めサーボ用第2のプローブとが一体化して成るプ
ローブであることを特徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項2】プローブを非接触で試料表面に沿って走査
させて該試料表面を観察するプローブ走査型顕微鏡にお
いて、前記プローブは光学的、磁気的、静電的、電気
的、或は機械的信号を検知可能な第1のプローブと、該
第1のプローブよりも有効検知面積の大きな位置決めサ
ーボ用第2のプローブとが一体化して成るプローブであ
ることを特徴とするプローブ走査型顕微鏡。 - 【請求項3】光学的、磁気的、静電的、電気的、或は機
械的信号を記録可能な情報記録媒体に対し、プローブを
非接触で該情報記録媒体表面に沿って走査させて記録再
生を行なう情報記録再生装置において、前記プローブは
1ミクロン以下の有効検知径を有する情報記録再生用第
1のプローブと位置決めサーボ用第2のプローブを一体
化して成るプローブであり、該プローブの機械的固有振
動の周期程度以下の時定数で1ビットの情報及びサーボ
信号を得る手段を有することを特徴とする情報記録再生
装置。 - 【請求項4】プローブを非接触で試料表面に沿って走査
させて該試料表面を観察するプローブ走査型顕微鏡にお
いて、前記プローブは1ミクロン以下の有効検知径を有
する表面情報検出用第1のプローブと位置決めサーボ用
第2のプローブを一体化して成るプローブであり、該プ
ローブの機械的固有振動の周期程度以下の時定数で1点
の表面情報を得る手段を有することを特徴とするプロー
ブ走査型顕微鏡。 - 【請求項5】請求項1に記載の情報記録再生装置におい
て、該情報記録媒体上を滑走するスライダを配置し、前
記スライダ上に該プローブを搭載することを特徴とする
情報記録再生装置。 - 【請求項6】光学的、磁気的、静電的、電気的、或は機
械的信号を記録可能な情報記録媒体に対し、略等間隔で
直線上に並んだ少なくとも3個の情報記録再生用プロー
ブを有し、前記情報記録再生用プローブの数の2分の1
を越えない数の記録再生チャネルを有し、前記情報記録
再生プローブ一本当たりの幅よりもサーボ引き込み範囲
の大きなトラッキングサーボ手段を有することを特徴と
する情報記録再生装置。 - 【請求項7】光学的、磁気的、静電的、電気的、或は機
械的信号を記録可能な情報記録媒体に対し、略等間隔で
直線上に並んだ少なくとも3個の情報記録再生用プロー
ブを有し、前記情報記録再生用プローブの数の2分の1
を越えない数の記録再生チャネルを有し、情報記録の度
にトラッキングサーボ情報も更新して記録することを特
徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項8】光学的、磁気的、静電的、電気的、或は機
械的信号を記録可能な情報記録媒体に対し、情報記録再
生用プローブを配置した情報記録再生装置において、ト
ラッキングサーボ用マークとタイミング検出用マークの
内、少なくとも一方がプローブとは反対側へのエンボス
孔あるいは溝であることを特徴とする情報記録再生装
置。 - 【請求項9】請求項1に記載の情報記録再生装置におい
て、信号記録再生用プローブが微小な光ファイバ端開口
部であり、サーボ用プローブが前記光ファイバ端開口部
周辺の導体コーティング部を用いた容量検出用プローブ
であることを特徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項10】請求項2に記載のプローブ走査型顕微鏡
において、サーボ用プローブとして容量検出用プローブ
を用いることを特徴とするプローブ走査型顕微鏡。 - 【請求項11】請求項2に記載のプローブ走査型顕微鏡
において、信号記録再生用プローブが微小な光ファイバ
端開口部であり、サーボ用プローブが前記光ファイバ端
開口部周辺の導体コーティングを用いた容量検出用プロ
ーブであることを特徴とするプローブ走査型顕微鏡。 - 【請求項12】請求項9に記載の情報記録再生装置にお
いて、光ファイバ端開口部周辺の導体コーティング部の
直近に磁界印加手段を具備することを特徴とする情報記
録再生装置。 - 【請求項13】請求項12に記載の情報記録再生装置に
おいて、光ファイバ端開口部周辺の導体コーティングが
磁性体であることを特徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項14】請求項1に記載の情報記録再生装置にお
いて、直線上に並んだ少なくとも2本の光ファイバ端を
情報記録再生用プローブとして用い、前記光ファイバ端
のそれぞれから光を独立に出射する手段、媒体を照明す
る手段、照明された媒体から前記光ファイバ端へのエバ
ネッセント光を独立に検出する手段を具備することを特
徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項15】請求項9、12、13、14に記載の情
報記録再生装置において、信号光検出用かつ/または媒
体照明用のレンズを、記録媒体表面に対して光ファイバ
端と同じ側または反対側の少なくとも一方に有すること
を特徴とする情報記録再生用装置。 - 【請求項16】請求項1に記載の情報記録再生装置にお
いて、電流で記録媒体を加熱する手段を具備することを
特徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項17】請求項1に記載の情報記録再生装置にお
いて、記録再生用トラック1チャネル分の幅よりも幅広
のサーボ用マークを用いたトラッキング手段を具備する
ことを特徴とする情報記録再生装置。 - 【請求項18】被加工試料に対し、プローブを非接触で
該試料表面に沿って走査させて該試料表面を加工する微
細加工装置において、前記プローブは試料表面を加工す
る第1のプローブと、該第1のプローブよりも有効検知
面積の大きな位置決めサーボ用第2のプローブとが一体
化して成るプローブであることを特徴とする微細加工装
置。 - 【請求項19】請求項18に記載の微細加工装置におい
て、試料表面を加工する第1のプローブが導電性の物質
から成ることを特徴とする微細加工装置。 - 【請求項20】請求項18に記載の微細加工装置におい
て、位置決めサーボ用の第2のプローブが光ファイバ端
面から成ることを特徴とする微細加工装置。 - 【請求項21】請求項18に記載の微細加工装置におい
て、試料表面を加工する第1のプローブが導電性の物質
から成ることとり、サーボ用の第2のプローブが光ファ
イバ端面から成ることを特徴とする微細加工装置。 - 【請求項22】被加工試料に対し、プローブを用いて該
試料表面を微細に切削加工する微細加工装置において、
前記プローブは試料表面を切削加工する第1のプローブ
と、該第1のプローブよりも有効検知面積が大きく該試
料表面とは非接触の位置決めサーボ用第2のプローブと
が一体化して成るプローブであることを特徴とする微細
加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1711694A JPH07225975A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 情報記録再生装置、プローブ走査型顕微鏡、微細加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1711694A JPH07225975A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 情報記録再生装置、プローブ走査型顕微鏡、微細加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07225975A true JPH07225975A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11935071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1711694A Pending JPH07225975A (ja) | 1994-02-14 | 1994-02-14 | 情報記録再生装置、プローブ走査型顕微鏡、微細加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07225975A (ja) |
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- 1994-02-14 JP JP1711694A patent/JPH07225975A/ja active Pending
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