KR100830101B1 - Light Emitting Device - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 전계발광소자는, 기판; 기판 상에 위치하여 상호 교차하는 제1전극과 제2전극에 공급된 신호에 의해 발광하는 발광부들을 포함하는 픽셀부; 제1전극 상에 위치하는 발광부들의 영역에서 오픈부를 갖고 픽셀부의 외곽을 둘러싸도록 기판 상에 위치하는 절연막; 기판 상에 위치하며 제1전극과 제2전극에 각각 전기적으로 연결된 데이터배선과 스캔배선; 및 픽셀부의 외곽을 둘러싸는 절연막 상에 위치하며 발광부들의 방향으로 다수의 패턴이 돌출된 영역을 갖는 더미 패턴을 포함한다.Electroluminescent device according to the invention, the substrate; A pixel unit including light emitting parts disposed on a substrate and emitting light by a signal supplied to a first electrode and a second electrode which cross each other; An insulating layer on the substrate having an open portion in an area of the light emitting portions positioned on the first electrode and surrounding the periphery of the pixel portion; Data and scan wirings on the substrate and electrically connected to the first and second electrodes, respectively; And a dummy pattern positioned on the insulating layer surrounding the outside of the pixel portion and having a region in which a plurality of patterns protrude in the direction of the light emitting portions.
전계발광소자, 인디케이터, 패턴 Electroluminescent Devices, Indicators, Patterns
Description
도 1a는 종래 전계발광소자의 평면도.Figure 1a is a plan view of a conventional electroluminescent device.
도 1b는 도 1a의 "Z1"영역의 확대도.FIG. 1B is an enlarged view of the region "Z1" in FIG. 1A.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도.Figure 2a is a plan view of an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.
도 2b는 도 2a의 "Z2"영역의 확대도.FIG. 2B is an enlarged view of the area "Z2" in FIG. 2A.
도 2c는 도 2a의 다른 실시예에 따른 "Z2"영역의 확대도.FIG. 2C is an enlarged view of a "Z2" region according to another embodiment of FIG. 2A.
도 2d는 도 2a의 돌출된 영역 그룹핑에 대한 예시도.2D is an illustration of the projected area grouping of FIG. 2A.
도 2e는 도 2a의 도시된 더미 패턴의 실시예시도.2E is an exemplary view of the dummy pattern shown in FIG. 2A.
도 3은 본 발명의 제1변형 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도.3 is a plan view of an electroluminescent device according to a first modified embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 제2변형 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도.4 is a plan view of an electroluminescent device according to a second modified embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명><Explanation of symbols on main parts of the drawings>
210: 기판 220a, 220b: 스캔배선들210:
230: 데이터배선들 240: 절연막230: data wirings 240: insulating film
250R, 250G, 250B: 적색, 녹색, 청색 발광부250R, 250G, 250B: Red, Green, Blue Light Emitting Part
260: 격벽 270: 더미 패턴260: partition 270: dummy pattern
P: 픽셀부P: pixel part
본 발명은 전계발광소자에 관한 것이다.The present invention relates to an electroluminescent device.
전계발광표시장치에 사용되는 전계발광소자는 두 개의 전극 사이에 발광층이 형성된 자발광소자였다. 전계발광소자는 발광층의 재료에 따라 무기전계발광소자와 유기전계발광소자로 구분될 수 있다.The electroluminescent device used in the electroluminescent display device was a self-light emitting device having a light emitting layer formed between two electrodes. The electroluminescent device can be classified into an inorganic electroluminescent device and an organic electroluminescent device according to the material of the light emitting layer.
그리고 전계발광소자는 빛이 방출되는 방향에 따라 전면발광(Top-Emission) 방식, 배면발광(Bottom-Emission) 방식 및 양면발광(Dual-Emission) 방식으로 구분될 수 있고, 구동방식에 따라서는 수동매트릭스형(Passive Matrix)과 능동매트릭스형(Active Matrix)으로 구분될 수 있다.The EL device may be classified into a top emission method, a bottom emission method, and a dual emission method according to a direction in which light is emitted. It can be divided into a matrix type (Passive Matrix) and an active matrix type (Active Matrix).
도 1a는 종래 전계발광소자의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 "Z1"영역의 확대도 이다.1A is a plan view of a conventional electroluminescent device, and FIG. 1B is an enlarged view of the "Z1" region of FIG. 1A.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 종래 전계발광소자(100)는, 기판(110) 상에 픽셀부(P)가 형성되어 있고, 픽셀부(P)에 전기적으로 연결된 스캔배선(120a, 120b) 및 데이터배선(130)이 형성되어 있다.1A and 1B, in the conventional
일반적으로, 픽셀부(P)에는 스캔배선(120a, 120b) 및 데이터배선(130)과 전기적으로 연결된 두 개의 전극에 구동신호가 공급되면 발광하는 발광부(150R, 150G, 150B)가 격벽(160)에 의해 분리 형성되어 있다.In general, the pixel portion P includes
종래에는 유기 발광층 또는 금속 전극층 형성시, 기판(110) 상에 형성된 얼라인 키(170)를 이용하여 미 도시된 섀도 마스크와 배열하고 증착공정을 수행하여 유기 발광층 또는 금속 전극층을 증착하였다.Conventionally, when the organic light emitting layer or the metal electrode layer is formed, the organic light emitting layer or the metal electrode layer is deposited by arranging with a shadow mask (not shown) using the
그러나 종래 전계발광소자(100)는 유기 발광층 또는 금속 전극층을 증착할 때, 이들의 위치를 식별하는데 어려움이 있었다.However, the conventional
먼저, 유기 발광층의 경우 더미 패턴(또는 더미 픽셀)이 형성되어 있을 때 유기 발광층을 형성할 위치를 가늠하기 어려운 문제가 있었다.First, in the case of the organic light emitting layer, when the dummy pattern (or the dummy pixel) is formed, it is difficult to determine the position at which the organic light emitting layer is to be formed.
그리고 금속 전극층의 경우 기판(110) 상에 형성된 스캔배선(120a, 120b)과 전기적으로 연결되도록 금속 전극층을 형성해야 하는데, 예를 들면 첫번째 스캔배선이 어느 위치에 형성되어 있는지 가늠하기 어려운 문제가 있었다.In the case of the metal electrode layer, the metal electrode layer must be formed to be electrically connected to the
설명을 덧붙여, 이와 같은 문제는 소자가 대형화될 시 섀도 마스크와의 배열부터 유기 발광층 또는 금속 전극층을 형성하기 위한 위치 선정까지 그 곤란성이 증가하여 증착의 오류가 증가하는 문제를 유발할 수 있다.In addition, this problem may cause a problem of increased deposition error due to an increase in difficulty from arrangement with a shadow mask to positioning to form an organic light emitting layer or a metal electrode layer when the device is enlarged.
상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 품질과 신뢰성을 향상시킴은 물론 생산 수율을 증가시킬 수 있는 전계발광소자를 제공하는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide an electroluminescent device capable of improving the quality and reliability as well as increasing the production yield.
상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명에 따른 전계발광소자는, 기판; 기판 상에 위치하여 상호 교차하는 제1전극과 제2전극에 공급된 신호에 의해 발광하는 발광부들을 포함하는 픽셀부; 제1전극 상에 위치하는 발광부들의 영역에서 오픈부를 갖고 픽셀부의 외곽을 둘러싸도록 기판 상에 위치하는 절연막; 기판 상에 위치하며 제1전극과 제2전극에 각각 전기적으로 연결된 데이터배선과 스캔배선; 및 픽셀부의 외곽을 둘러싸는 절연막 상에 위치하며 발광부들의 방향으로 다수의 패턴이 돌출된 영역을 갖는 더미 패턴을 포함한다.In order to solve the above problems, the electroluminescent device according to the present invention includes a substrate; A pixel unit including light emitting parts disposed on a substrate and emitting light by a signal supplied to a first electrode and a second electrode which cross each other; An insulating layer on the substrate having an open portion in an area of the light emitting portions positioned on the first electrode and surrounding the periphery of the pixel portion; Data and scan wirings on the substrate and electrically connected to the first and second electrodes, respectively; And a dummy pattern positioned on the insulating layer surrounding the outside of the pixel portion and having a region in which a plurality of patterns protrude in the direction of the light emitting portions.
더미 패턴은, 픽셀부의 어느 한쪽 모서리 영역에 위치하는 발광부와 이웃하는 발광부의 위치를 2개 이상 구분하여 지시하도록 각각 단차를 두고 데이터배선 방향으로 돌출 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed to protrude in the data wiring direction with a step so as to distinguish and indicate two or more positions of the light emitting portion and the neighboring light emitting portion located at one corner region of the pixel portion.
더미 패턴은, 픽셀부의 어느 한쪽 모서리 영역에 위치하는 첫 번째 발광부부터 n 번째 발광부까지의 위치를 구분하도록 발광부들이 위치하는 방향으로 돌출 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed to protrude in a direction in which the light emitting parts are positioned to distinguish a position from the first light emitting part to the nth light emitting part located at one corner area of the pixel part.
더미 패턴은, 스캔배선의 위치를 1개 이상 구분하여 지시하도록 스캔배선들의 주사선 방향으로 단차를 갖고 돌출 형성될 수 있다.The dummy pattern may protrude and have a step in the scanning line direction of the scan wirings so as to distinguish one or more positions of the scan wirings.
더미 패턴은, 픽셀부의 첫 번째 스캔배선의 주사선부터 n 번째 스캔배선들의 주사선까지 구분하도록 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed to distinguish from the scan line of the first scan line of the pixel portion to the scan line of the nth scan line.
스캔배선은, 홀수 짝수 형태로 상호 교번하여 배선될 수 있다.The scan wirings may be alternately wired in an odd even form.
더미 패턴의 돌출된 영역은, 2개 이상으로 그룹핑(grouping)되어 일정 형상의 단차 구조가 연속될 수 있다.The protruding regions of the dummy pattern may be grouped into two or more so that a stepped structure having a predetermined shape may be continuous.
더미 패턴의 돌출된 영역에는, 글자, 모양 또는 기호 중 어느 하나 이상이 표시될 수 있다.One or more of letters, shapes, or symbols may be displayed on the protruding regions of the dummy pattern.
더미 패턴은, 절연막의 모서리 영역 또는 모서리 영역을 포함하며 일부 개방된 영역을 갖고 모서리 영역을 잇도록 형성될 수 있다.The dummy pattern may include a corner region or a corner region of the insulating layer, and may be formed to have corner regions with some open regions.
더미 패턴은, 절연막의 각 모서리를 잇는 폐곡선을 형성할 수 있다.The dummy pattern can form a closed curve connecting each corner of the insulating film.
더미 패턴은, 절연막의 경계선에 걸쳐지도록 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed to span the boundary line of the insulating film.
더미 패턴은, 더미 패턴의 모서리 영역의 폭이 타 영역의 폭보다 더 두껍게 형성될 수 있다.In the dummy pattern, the width of the edge area of the dummy pattern may be thicker than the width of the other area.
더미 패턴의 모서리 영역은, 픽셀부보다 기판의 테두리에 인접하도록 형성될 수 있다.The corner region of the dummy pattern may be formed to be adjacent to the edge of the substrate rather than the pixel portion.
더미 패턴은, 기판 상에 보호막을 형성하기 위한 위치를 지시하는 인디케이터(indicator)일 수 있다.The dummy pattern may be an indicator indicating a position for forming a protective film on the substrate.
기판의 테두리에 인접한 더미 패턴의 모서리 영역에는, 글자, 모양 또는 기호 중 어느 하나 이상이 표시될 수 있다.One or more of letters, shapes, or symbols may be displayed in the corner region of the dummy pattern adjacent to the edge of the substrate.
더미 패턴은, 기판 상에 유기 또는 무기물, 금속층을 형성하기 위해 섀도 마스크의 얼라인 키와 배열되는 위치를 지시하는 얼라인 키일 수 있다.The dummy pattern may be an alignment key indicating a position arranged with an alignment key of a shadow mask to form an organic, inorganic or metal layer on the substrate.
더미 패턴은, 제1전극, 발광부들 또는 제2전극 중 어느 하나 이상과 동일한 재료로 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed of the same material as any one or more of the first electrode, the light emitting parts, or the second electrode.
더미 패턴은, 기판 상에 형성되는 실란트의 유입을 방지하도록 다층으로 형성될 수 있다.The dummy pattern may be formed in multiple layers to prevent the introduction of the sealant formed on the substrate.
발광부들은, 유기물로 형성된 발광층을 포함할 수 있다.The light emitting units may include a light emitting layer formed of an organic material.
<일 실시예><Example 1>
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 "Z2"영역의 확대도 이다.FIG. 2A is a plan view of an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of the "Z2" region of FIG. 2A.
도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전계발광소자(200)는, 기판(210) 상에 미 도시된 제1전극과 제2전극이 위치하고, 제1전극과 제2전극에 공급된 신호에 의해 발광하는 발광부들(250R,250G,250B)을 포함하는 픽셀부(P)가 형성된다.As shown in FIGS. 2A and 2B, in the
자세히 설명하면, 기판(210) 상에는 제1전극 상에 위치하는 발광부들(250R,250G,250B) 상에 오픈부를 갖고 픽셀부(P)의 외곽을 둘러싸도록 절연막(240)이 형성된다. 이에 따라, 발광부들(250R,250G,250B)은 제1전극 상에 형성된 절연막(240)의 오픈부 내에 형성될 수 있다. 그리고 제2전극은 격벽(260)에 의해 분리 형성될 수 있다.In detail, the insulating
미 도시된 제1전극(예: 애노드전극)과 제2전극(예: 캐소드전극) 중 어느 하나 이상은 투명도전층(예: ITO)으로 형성될 수 있고, 다른 하나는 금속(예: Al)으로 형성될 수 있으나 발광방식에 따라 다른 재질과 다른 형태로 형성될 수도 있다.At least one of the illustrated first electrode (eg, anode) and second electrode (eg, cathode) may be formed of a transparent conductive layer (eg, ITO), and the other may be made of metal (eg, Al). It may be formed, but may be formed in a different form from other materials depending on the light emitting method.
발광부들(250R,250G,250B)은 발광층의 하부와 상부에 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층, 전자주입층 중 어느 하나 이상이 포함될 수 있고, 발광층은 유기 발광층으로 형성되나 이에 한정되진 않는다.The
픽셀부(P)는 다수개의 단위 픽셀이 형성된 발광영역으로 정의되고, 여기서 단위 픽셀(Pixel)은 적색, 녹색 및 청색 등을 발광하는 서브픽셀들인 발광부들(250R,250G,250B)을 포함한다. 그러나 발광부들(250R,250G,250B)의 발광 색은 앞서 기재한 적색, 녹색 및 청색 등에 한정되지 않으며, 단위 픽셀은 둘 이상의 서브픽셀들로 구성될 수 있음은 물론이다.The pixel unit P is defined as a light emitting area in which a plurality of unit pixels are formed, and the unit pixel Pixel includes light emitting
또한, 기판(210) 상에는 픽셀부(P)에 형성된 제1전극과 제2전극에 각각 전기적으로 연결된 스캔배선들(220a, 220b)과 데이터배선들(230)이 형성된다. 이들은 미 도시된 구동장치(예: 드라이버 IC)로부터 공급된 데이터신호 및 스캔신호와 같은 구동신호를 제1전극과 제2전극에 전달한다.In addition, the
이와 같이 형성된 전계발광소자(200)는 도시되어 있진 않지만 기판(210)의 테두리 영역에 접착제(예: 실란트)를 형성하고 보호기판으로 밀봉하여 소자를 제작하고, 구동장치를 전기적으로 연결하여 원하는 영상을 표현할 수 있는 표시장치로 형성할 수 있게 된다.Although not shown, the
한편, 본 발명에 따른 전계발광소자(200)는 픽셀부(P)의 외곽을 둘러싸고 있는 절연막(240) 상에서 발광부들(250R,250G,250B)의 방향으로 다수의 패턴이 돌출된 영역(271)을 갖는 더미 패턴(270)을 포함한다. 이때, 더미 패턴(270)은, 절연막(240)의 외곽 경계선에 걸쳐지도록 형성되어 절연막(240)의 외곽영역이 접착력을 상실하여 말려 올라가는 현상을 저지할 수 있게 된다. 또한, 더미 패턴(270)의 모서리 영역의 폭은 타 영역의 폭보다 더 두껍게 형성될 수 있다.Meanwhile, in the
이러한, 더미 패턴(270)은 절연막(240)의 모서리 영역에서 발광부들(250R,250G,250B)의 위치를 2개 이상 구분하여 지시하도록 각각 단차를 두고 발광부들(250R,250G,250B)이 형성된 데이터배선(230) 방향으로 돌출 형성된다. 여기서, 더미 패턴(270)은 픽셀부(P)의 어느 한쪽 모서리 영역에 위치하는 첫 번째 단위 픽셀에 포함된 적색(250R), 녹색(250G) 및 청색(250B)) 발광부들부터 n 번째 발광부들까지의 위치를 구분하도록 형성될 수 있다.In the
한편, 도 2c는 도 2a의 다른 실시예에 따른 "Z2"영역의 확대도를 나타낸다.2C is an enlarged view of the “Z2” region according to another embodiment of FIG. 2A.
도 2c에 도시되어 있듯이 더미 패턴(270)은, 절연막(240) 상에 위치하며 발광부들(250R,250G,250B)의 방향으로 다수의 패턴이 돌출된 영역(272)을 갖는 더미 패턴(270)을 포함한다. 앞서 설명한 돌출된 영역(271)은 발광부들(250R,250G,250B)의 위치를 2개 이상 구분하여 지시하도록 각각 단차를 두고 돌출 형성된다. 이에 덧붙여, 돌출된 영역(272)은 스캔배선의 위치를 1개 이상 구분하여 지시하도록 각각 단차를 두고 스캔배선들(220a, 220b)의 주사선 방향으로 돌출 형성될 수 있다. 여기서, 더미 패턴(270)의 돌출된 영역(272)은, 픽셀부(P)의 어느 한쪽 모서리 영역에 위치하는 첫 번째 스캔배선의 주사선부터 n 번째 스캔배선의 주사선까지 구분하도록 형성될 수 있다.As illustrated in FIG. 2C, the
여기서, 스캔배선들(220a, 220b)은 홀수 짝수 형태로 상호 교번하여 배선될 수 있는다. 이러한 경우, 더미 패턴(270)의 돌출된 영역(272)은, 교번하여 배선된 스캔배선들(220a, 220b)을 구분하여 지시할 수 있도록 기판(210)의 어느 한쪽 방향과 다른 한쪽 방향으로 교번하여 돌출 형성된다.Here, the
덧붙여, 더미 패턴의 돌출된 영역(271,272)에는, 글자, 모양 또는 기호 중 어느 하나 이상을 표시하여 각각 발광부들(250R,250G,250B)과 스캔배선들(220a, 220b)의 주사선을 용이하게 구분할 수 있도록 한다.In addition, one or more of letters, shapes, or symbols may be displayed on the protruding
한편, 도 2d는 도 2a의 돌출된 영역 그룹핑에 대한 예시도를 나타낸다.2D shows an exemplary view of the projected area grouping of FIG. 2A.
도 2d에 도시되어 있듯이 더미 패턴(270)의 돌출된 영역(271,272)은, 돌출된 영역(271,272)을 각각 2개 이상으로 그룹핑(grouping)하여 일정 형상 예를 들면, (A), (B), (C) 와 같이 단차 구조가 연속되도록 형성될 수도 있다.As illustrated in FIG. 2D, the protruding
이와 같이 그룹핑을 하여 형성할 경우, 구분하고자 하는 영역 간의 혼돈이 발생하지 않게 되어 각 발광부들(250R,250G,250B) 또는 스캔배선들(220a, 220b)의 주사선을 용이하게 구분할 수 있게 된다. 그리고 이와 같이 그룹핑을 하게 되면 소자가 대형화될 경우 더욱 용이하게 위치를 구분할 수 있게 된다.In the case of forming the grouping as described above, the chaos between the regions to be divided does not occur, so that the scanning lines of the
한편, 앞서 설명한 바와 같은 더미 패턴(270)은, 제1전극, 발광부들250R,250G,250B) 또는 제2전극 중 어느 하나 이상과 동일한 재료로 형성된다. 즉, 이는 더미 패턴(270)이 소자를 제조하는 공정 중에서 다른 추가 공정 없이 현재 프로세싱하는 공정에서 형성할 수 있음을 의미하며, 단층 또는 다층으로 선택 형성 가능함을 의미한다.Meanwhile, the
만약, 더미 패턴(270)을 제1전극을 이용하여 단층으로 형성해 두었을 경우, 더미 패턴(270)은 기판(210) 상에 유기 또는 무기물과 금속층을 형성하기 위해 섀도 마스크의 얼라인 키와 배열되는 위치를 지시하는 얼라인 키의 역할을 할 수도 있게 된다. If the
이는 종래 섀도 마스크의 얼라인 키와 배열하기 위하여 기판 상에 형성하였던 얼라인 키의 위치에 더미 패턴(270)이 형성되어 있기 때문이다.This is because the
도 2e는 도 2a의 도시된 더미 패턴의 실시예시도를 나타낸다.FIG. 2E illustrates an exemplary embodiment of the dummy pattern shown in FIG. 2A.
도 2e를 참조하면, 더미 패턴(270)은 기판(270) 상에 미 도시된 보호막을 형성하기 위한 위치를 지시하는 인디케이터(indicator)로써의 역할을 형성하기 위한 위치를 지시하는 인디케이터(indicator) 역할을 할 수도 있다.Referring to FIG. 2E, the
더미 패턴(270)이 인디케이터 역할을 하기 위해서는 더미 패턴(270)의 모서리 영역이 타 영역보다 더 두껍게 형성해야 한다, 따라서, 더미 패턴(270)은 픽셀부(P)보다 기판(210)의 테두리에 인접되도록 두껍게 형성한다. 그리고 기판(210)의 테두리에 인접된 더미 패턴(270)의 모서리 영역에는 글자, 모양 또는 기호 중 어느 하나 이상을 표시하여 인디케이터 역할을 효과적으로 수행할 수 있도록 한다.In order for the
따라서, 본 발명에 따른 전계발광소자(200)의 더미 패턴(270)은 기판(210)(거시적으로는 모 기판으로 해석)과 미 도시된 섀도 마스크의 얼라인 키와 상호 배열을 용이하게 하는 얼라인 키로서의 역할을 할 수 있게 되어 증착 공정을 용이하게 실시 가능토록 한다.Accordingly, the
이와 같이 본 발명에 따른 더미 패턴(270)은 소자를 제조하는 공정에서 일어날 수도 있는 오류를 최대한 방지할 수 있는 중요한 역할을 할 수 있게 된다.As such, the
도 3은 본 발명의 제1변형 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도이다.3 is a plan view of an electroluminescent device according to a first modified embodiment of the present invention.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전계발광소자(300)는, 기판(310) 상에 미 도시된 제1전극과 제2전극이 위치하고, 제1전극과 제2전극에 공급된 신호에 의해 발광하는 발광부들(미도시)을 포함하는 픽셀부(P)가 형성된다.As shown in FIG. 3, in the
또한, 기판(310) 상에는 픽셀부(P)에 형성된 제1전극과 제2전극에 각각 전기적으로 연결된 스캔배선들(320a, 320b)과 데이터배선들(330)이 형성된다. 이들은 미 도시된 구동장치(예: 드라이버 IC)로부터 공급된 데이터신호 및 스캔신호와 같은 구동신호를 제1전극과 제2전극에 전달한다.In addition, the
제1변형 실시예에 따른 더미 패턴(370)은, 앞서 설명한 일 실시예의 모든 태양을 적용할 수 있다. 다만 제1변형 실시예의 더미 패턴(370)은, 절연막(340)의 모서리 영역 또는 모서리 영역을 포함하며 일부 개방된 영역을 갖고 모서리 영역을 잇도록 형성된 것에 차이점을 두고 있다.The
여기서, 더미 패턴(370)은 절연막(340)의 모서리의 경계선에 걸쳐지도록 형성하여 절연막(340)의 외곽영역이 접착력을 상실하여 말려 올라가는 현상을 더욱 효과적으로 저지할 수 있게 된다. 제1변형 실시예에 따른 더미 패턴(370) 또한, 절연막(340)의 모서리 영역이 타 영역보다 더 두껍게 형성될 수 있다.In this case, the
도 4는 본 발명의 제2변형 실시예에 따른 전계발광소자의 평면도이다.4 is a plan view of an electroluminescent device according to a second modified embodiment of the present invention.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전계발광소자(400)는, 기판(410) 상에 미 도시된 제1전극과 제2전극이 위치하고, 제1전극과 제2전극에 공급된 신호에 의해 발광하는 발광부들(미도시)을 포함하는 픽셀부(P)가 형성된다.As shown in FIG. 4, in the
또한, 기판(410) 상에는 픽셀부(P)에 형성된 제1전극과 제2전극에 각각 전기적으로 연결된 스캔배선들(420a, 420b)과 데이터배선들(430)이 형성된다. 이들은 미 도시된 구동장치(예: 드라이버 IC)로부터 공급된 데이터신호 및 스캔신호와 같 은 구동신호를 제1전극과 제2전극에 전달한다.In addition,
제2변형 실시예에 따른 더미 패턴(370)은, 앞서 설명한 일 실시예의 모든 태양을 적용할 수 있다. 다만 제2변형 실시예의 더미 패턴(470)은, 절연막(440)의 각 모서리 영역을 잇는 폐곡선 형태로 형성된다.The
이 경우, 발광부들을 형성할 때 사용되는 유기물 또는 무기물 등을 이용하여 더미 패턴(470)을 다층으로 형성했을 때의 일례로, 이와 같이 픽셀부(P)의 모서리 영역을 잇는 폐곡선 형태는 내부 또는 외부로부터 침투된 수분이나 산소를 저지하거나 흡습할 수 있는 효과를 갖게 된다.In this case, when the
더미 패턴(470)의 흡습 효과는, 이를 구성하는 재료(유기물 또는 무기물)와 수분이나 산소 등이 상호 반응하여 액체가 고체에 녹아 들어가듯 어느 정도의 고용도를 갖게 되는 고용체(Solid solution) 현상인 고용화에 의해 수분이나 산소 등을 흡습할 수 있게 되는 물성에 따른 것이다.The moisture absorption effect of the
이러한 더미 패턴(470)은 발광부들과 동일한 공정에서 패턴될 수 있기 때문에 별도의 추가 공정이 필요치 않고, 적용 가능성이 매우 높다. 특히, 발광부들을 형성할 때 진공 챔버 내에서 가열된 증착 소스가 마스크의 표면에 증착되어 버려지는 것이 아니라 이를 활용할 수 있어 재료의 활용성을 높일 수 있게 된다.Since the
또한, 제2변형 실시예에 따른 더미 패턴(470)은 폐곡선 형태로 형성되어 있기 때문에 수분이나 산소를 흡습함과 동시에 실란트의 유입을 방지하는 차단막 역할을 할 수 있게 된다. 여기서, 더미 패턴(470)은 절연막(440)의 모서리 영역의 폭이 타 영역의 폭보다 더 두껍게 형성하면, 수분이나 산소의 침투율이 높은 모서리 영역의 차단효과를 높일 수 있게 된다.In addition, since the
이 경우 더미 패턴(470)은 유기물 또는 무기물과 금속층 등에 의해 다층으로 형성되어 일정 높이를 갖도록 형성하거나, 증착 공정 중 어느 하나의 공정(예: 금속층 형성시)에서 두께를 두껍게 형성하는 방법 등이 제시될 수 있다.In this case, the
이상 각각의 실시예들에서 설명한 바와 같이 본 발명은 품질과 신뢰성을 향상시킴은 물론 생산 수율을 증가시킬 수 있는 전계발광소자를 제공하는 효과가 있다.As described in each of the above embodiments, the present invention has an effect of providing an electroluminescent device capable of improving quality and reliability as well as increasing production yield.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, the technical configuration of the present invention described above may be modified in other specific forms by those skilled in the art to which the present invention pertains without changing its technical spirit or essential features. It will be appreciated that it may be practiced. Therefore, the embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all aspects. In addition, the scope of the present invention is shown by the claims below, rather than the above detailed description. Also, it is to be construed that all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts are included in the scope of the present invention.
상술한 바와 같이 본 발명은, 품질과 신뢰성을 향상시킴은 물론 생산 수율을 증가시킬 수 있는 전계발광소자를 제공하는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of providing an electroluminescent device capable of improving the quality and reliability as well as increasing the production yield.
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