KR100809596B1 - 기판 세정 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 제1 방향으로 연장되고 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 반송되는 기판을 향해 세정액을 분사하는 제1 세정노즐과, 상기 제1 방향으로 연장되고 상기 세정액을 상기 제1 방향으로 이동하는 상태에서 상기 기판으로 분사하는 제2 세정노즐을 포함한다. 본 발명에 의하면, 기판의 모서리와 같이 세정 취약점에 세정액을 집중적으로 분사하는 세정노즐이 구비되므로써 세정 처리 공정의 불량을 없애거나 최소화 할 수 있는 효과가 있다.
기판 세정 처리, 노즐, 평판 기판
Description
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 사시도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
100,200; 기판 세정 장치 110,210; 기판
112,212; 기판의 상판 114,214; 기판의 하판
120,220; 제1 세정노즐 122,222,272,282; 파이프
124,146,224,246,274,282; 분사부 140,240; 제2 세정노즐
142,242; 가이드 144,244; 이동부
161-164,261-264; 기판 모서리 270; 제3 세정노즐
280; 제4 세정노즐
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기판에 세정액을 제공하여 기판을 세정하는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
액정 디스플레이 소자 또는 플라즈마 디스플레이 소자 등에 쓰이는 기판을 가공하기 위해선 에칭이나 증착 공정 등 여러가지 처리 공정을 진행한 이후에 세정 처리를 하는 것이 거의 필수적이다. 기판에 대한 세정 처리가 불량한 경우에는 기판 처리 공정의 불량은 물론이거니와 세정 처리되지 아니한 오염물로 인해 기판 처리 장치를 오염시켜 이로 인해 기판을 재오염시키는 문제점이 있다.
예를 들어, 액정 디스플레이 소자의 기판은 상판과 하판이 접합되는데, 기판 모서리를 따라 형성되는 상판과 하판과의 접합부와 같이 기판 세정 처리의 취약점이 있을 수 있다. 이에 따라, 기판 세정 처리의 취약점에 대한 기판 세정 처리의 불량을 없애거나 최소화 할 수 있는 기판 세정 장치의 채택되어 사용될 수 있는 기판 세정 장치의 요구 내지는 필요성이 있다.
본 발명은 상술한 요구 내지는 필요성에 부응하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 기판 세정 처리의 불량을 없애거나 최소화 할 수 있는 기판 세정 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판 세정 처리의 취약점에 대해 집중적으로 세정액을 제공하여 세정 처리할 수 있는 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는, 제1 방향으로 연장되고, 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 반송되는 기판을 향해 세정액을 분사하는 제1 세정노즐과; 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 세정액 을 상기 제1 방향으로 이동하는 상태에서 상기 기판으로 분사하는 제2 세정노즐을 포함한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제2 세정노즐은, 상기 제1 방향으로 연장된 가이드와; 상기 제1 방향으로 이동 가능하게 상기 가이드에 결합된 이동부와; 상기 이동부에 결합되어 상기 기판으로 상기 세정액을 분사하는 분사부를 포함한다.
본 실시예에 있어서, 상기 세정액을 상기 분사부로 제공하는 유연성있는 세정액 공급라인을 더 포함한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 기판의 좌측 모서리를 향해 상기 세정액을 분사하는 제3 세정노즐과; 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 기판의 우측 모서리를 향해 상기 세정액을 분사하는 제4 세정노즐을 더 포함한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제3 및 제4 세정노즐 중 어느 하나 또는 모두는, 상기 제2 방향으로 연장된 파이프와, 상기 파이프에 배치되고 상기 파이프의 길이방향으로 배열된 다수개의 분사부를 포함한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1 세정노즐은 상기 제1 방향으로 연장된 파이프와, 상기 파이프에 배치되고 상기 파이프의 길이방향으로 배열된 다수개의 분사부를 포함한다. 상기 제1 세정노즐은 상기 제2 방향으로 배향된 다수개의 세정노즐을 포함한다.
본 발명에 의하면, 기판의 모서리와 같이 세정 취약점에 세정액을 집중적으로 분사하는 세정노즐이 구비됨으로써 기판 세정 처리의 양호성이 확보된다.
이하, 본 발명에 따른 기판 세정 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
(제1 실시예)
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 사시도이다.
도 1을 참조하면, 본 제1 실시예의 기판 세정 장치(100)는 기판(110)에 대해 세정액을 분사하여 기판(110)을 세정하는 제1 세정노즐(120)이 구비된다. 제1 세정노즐(120)은 기판(110)의 반송방향(A)과 대체로 직교하는 방향(B)으로 연장된 파이프(122)와 파이프(122)의 길이방향(B)으로 대체로 등간격으로 배열된 다수개의 분사부(124)를 포함하여 이루어진다. 제1 세정노즐(120)은 기판(110) 상부에 다수개 마련되는데 기판(100)의 반송방향(A)과 동일한 방향으로 배향되어 배치된다.
기판(110)이 반송방향(A)으로 반송되면서 또는 정지된 상태에서 제1 세정노즐(120)의 분사부(124)를 통해 기판(110)에 세정액을 제공함으로써 기판(110)이 세정된다. 기판(110)은 액정 디스플레이 소자의 유리 기판과 같은 평판 기판일 수 있다. 기판(110)이 상판(112)과 하판(114)이 접합되어 구성되는 경우 상판(112)과 하 판(114)과의 접합부인 기판(110)의 전면 모서리(161)와 후면 모서리(162)에는 세정액이 좌측 모서리(163)와 우측 모서리(164)에 비해 덜 제공될 수 있다. 본 제1 실시예의 기판 세정 장치(100)에는 상술한 세정 취약점인 기판(110)의 전후면 모서리(161,162)로 세정액을 집중적으로 제공하는 제2 세정노즐(140)이 더 구비된다.
제2 세정노즐(140)은 기판(110)의 반송방향(A)과 대체로 직교하는 방향(B)으로 연장된 가이드(142)와, 가이드(142)의 연장방향(B)으로 이동가능하게 설치된 노드리스 실린더와 같은 이동부(144)와, 이동부(144)의 하부에 배치되어 세정액이 분사되는 분사부(146)와, 분사부(146)로 세정액을 제공하는 세정액 공급라인(148)을 포함하여 구성된다. 세정액 공급라인(148)은 이동부(144)의 위치 이동에 따라 유연하게 움직일 수 있는 재질로 구성되는 것이 바람직하다 할 것이다. 세정액의 분사압력을 높이기 위해 세정액 공급라인(148)으로 세정액 이외에 고압의 에어가 같이 유입되도록 할 수 있다.
제2 세정노즐(140)은 기판(110)의 상부에 위치하도록, 가령 제1 세정노즐(120)과 동일하거나 유사한 높이에 설치될 수 있다. 제2 세정노즐(140)은 제1 세정노즐(120)과 동일한 배향이 되도록 배치될 수 있는데, 제1 세정노즐(140)의 전방 또는 후방에 오도록 배치될 수 있다. 본 제1 실시예에서는 제2 세정노즐(140)이 제1 세정노즐(120)의 전방에 하나만 구비되어 있지만, 필요에 따라 제1 세정노즐(120)의 전방과 후방에 각각 하나씩 또는 다수개 설치될 수 있다.
기판(110)의 전면 모서리(161)가 제2 세정노즐(140) 하부에 위치하게 되면 이동부(144)가 좌우방향(B)으로 이동하면서 기판(110)의 전면 모서리(161)를 향해 세정액을 집중적으로 제공한다. 이때, 기판(110)은 정지된 상태일 수 있고 또는 반송방향(A)으로 반송되는 상태에 있을 수 있다. 후자와 같이 기판(110)이 반송되는 상태인 경우 반송속도를 적절히 조절하여 기판(110)의 전면 모서리(161)에 세정액이 충분히 제공될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 기판(110)의 후면 모서리(162)에 대한 세정도 이와 마찬가지이다.
(제2 실시예)
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 사시도이다. 본 제2 실시예의 기판 세정 장치는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 세정 장치와 대동소이하므로 이하에선 제1 실시예의 기판 세정 장치와 상이한 점에 대해서 상세히 설명하고 동일한 점에 대해선 개략적으로 설명하거나 생략하기로 한다.
도 2를 참조하면, 본 변형 실시예의 기판 세정 장치(200)는 기판(210)으로 세정액을 분사하는 다수개의 제1 세정노즐(220)이 포함된다. 다수개의 제1 세정노즐(220)은 기판(210)의 반송방향(A)으로 배향되어 설치된다. 각각의 제1 세정노즐(220)은 반송방향(A)과 대체로 직교하는 방향(B)으로 연장된 파이프(222)와, 파이프(222)의 길이방향(B)으로 대체로 등간격으로 배열된 다수개의 분사부(224)를 포함하여 구성된다. 기판(210)은 상판(212)과 하판(214)이 접합하여 이루어진 액정 디스플레이 소자의 유리기판과 같은 것일 수 있다.
기판 세정 장치(200)는 기판(210)에서 세정 취약점인 전면 모서리(261)와 후면 모서리(262)에 대해 세정액을 집중적으로 분사하는 제2 세정노즐(240)을 갖는 다. 제2 세정노즐(240)은 기판(210)의 반송방향(A)과 대체로 직교하는 방향(B)으로 연장된 가이드(242)와, 가이드(242)에 위치 이동가능하게 결합된 이동부(244)와, 이동부(244)의 하부에 배치되어 세정액을 분사하는 분사부(246)와, 분사부(246)에 세정액을 공급하는 유연성있는 세정액 공급라인(248)을 포함하여 구성된다.
기판 세정 장치(200)는 또한 기판(210)의 좌우측 모서리(263,264) 각각에 세정액을 집중적으로 분사하는 제3 세정노즐(270)과 제4 세정노즐(280)을 더 포함한다. 기판(210)의 좌측 모서리(263)를 향해 세정액을 분사하는 제3 세정노즐(270)은 기판(210)의 반송방향(A)으로 연장된 파이프(272)와, 파이프(272)의 길이방향(A)으로 대체로 등간격으로 배열된 다수개의 분사부(274)를 포함하여 구성된다. 제3 세정노즐(270)은 기판(210)이 반송방향(A)으로 반송되는 상태 또는 정지된 상태에서 기판(210)의 좌측 모서리(263)로 세정액을 집중적으로 분사한다. 기판(210)의 우측 모서리(264)를 향해 세정액을 분사하는 제4 세정노즐(280)은 기판(210)의 반송방향(A)으로 연장된 파이프(282)와, 파이프(282)의 길이방향(A)으로 대체로 등간격으로 배열된 다수개의 분사부(284)를 포함하여 구성된다. 제4 세정노즐(280)은 기판(210)이 반송방향(A)으로 반송되는 상태 또는 정지된 상태에서 기판(210)의 우측 모서리(264)로 세정액을 집중적으로 분사한다.
이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 기판의 모서리와 같이 세정 취약점에 세정액을 집중적으로 분사하는 세정노즐이 구비되므로써 세정 처리 공정의 불량을 없애거나 최소화 할 수 있는 효과가 있다.
Claims (7)
- 제1 방향으로 연장되고, 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 반송되는 기판을 향해 세정액을 분사하는 제1 세정노즐과;상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 세정액을 상기 제1 방향으로 이동하는 상태에서 상기 기판으로 분사하는 제2 세정노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 세정노즐은,상기 제1 방향으로 연장된 가이드와;상기 제1 방향으로 이동 가능하게 상기 가이드에 결합된 이동부와;상기 이동부에 결합되어 상기 기판으로 상기 세정액을 분사하는 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제2항에 있어서,상기 세정액을 상기 분사부로 제공하는 유연성있는 세정액 공급라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 방향으로 연장되고 상기 기판의 좌측 모서리를 향해 상기 세정액을 분사하는 제3 세정노즐과;상기 제2 방향으로 연장되고 상기 기판의 우측 모서리를 향해 상기 세정액을 분사하는 제4 세정노즐;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제4항에 있어서,상기 제3 및 제4 세정노즐 중 어느 하나 또는 모두는, 상기 제2 방향으로 연장된 파이프와, 상기 파이프에 배치되고 상기 파이프의 길이방향으로 배열된 다수개의 분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제1 세정노즐은, 상기 제1 방향으로 연장된 파이프와, 상기 파이프에 배치되고 상기 파이프의 길이방향으로 배열된 다수개의 분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제6항에 있어서,상기 제1 세정노즐은 상기 제2 방향으로 배향된 다수개의 세정노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100940793B1 (ko) * | 2008-05-30 | 2010-02-11 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0290523A (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 | Hitachi Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2004057930A (ja) | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 角形基板の端縁部処理装置 |
KR20060000609A (ko) * | 2004-06-29 | 2006-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 제조를 위한 기판세정장치 |
KR20070003161A (ko) * | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 세정장치 |
-
2007
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0290523A (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 | Hitachi Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2004057930A (ja) | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 角形基板の端縁部処理装置 |
KR20060000609A (ko) * | 2004-06-29 | 2006-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 제조를 위한 기판세정장치 |
KR20070003161A (ko) * | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 세정장치 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100940793B1 (ko) * | 2008-05-30 | 2010-02-11 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
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