KR100790847B1 - Composite for paste including Carbon nano tube and electron emitting device using the same and Manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

탄소나노튜브를 포함하는 접착용 복합체 및 이를 이용한 전자방출소자 및 그제조방법이 개시된다. 개시된 접착용 복합체는, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함한다. 개시된 전자방출소자는, 웰 내의 캐소드 전극 상에 위치하고, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 접착용 복합체로 형성된 전자방출팁을 구비한다. 본 발명은 안정성과 내구성이 뛰어난 전자방출소자를 제공하며, 대면적에서 균일한 전자방출을 할 수 있도록 하여 전자방출소자를 이용하는 장치의 전체적인 성능을 향상시킨다.Disclosed are a bonding composite including carbon nanotubes, an electron-emitting device using the same, and a method of manufacturing the same. The disclosed adhesive composite comprises 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass and 1-20 weight percent binder. The disclosed electron emitting device is located on a cathode electrode in a well and formed of an adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass and 1-20 weight percent binder. It is provided. The present invention provides an electron emitting device having excellent stability and durability, and enables uniform electron emission in a large area to improve the overall performance of the device using the electron emitting device.

탄소나노튜브, 전자방출소자, FEDCarbon nanotube, electron emitting device, FED

Description

탄소나노튜브를 포함하는 접착용 복합체 및 이를 이용한 전자방출소자 및 그 제조방법{Composite for paste including Carbon nano tube and electron emitting device using the same and Manufacturing method thereof}Adhesive composite containing carbon nanotubes and electron emitting device using same and manufacturing method therefor {Composite for paste including Carbon nano tube and electron emitting device using the same and Manufacturing method}

도 1은 종래의 탄소나노튜브를 이용한 전자방출소자를 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view showing an electron emitting device using a conventional carbon nanotube,

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총의 일부를 나타낸 사시도,2 is a perspective view showing a part of an electron gun using an electron-emitting device according to an embodiment of the present invention;

도 3은 도 2의 전자방출소자의 단면을 나타낸 단면도,3 is a cross-sectional view showing a cross section of the electron-emitting device of FIG.

도 4a 내지 도 4k는 본 발명에 따른 전자방출소자의 제조방법을 나타낸 도면,4A to 4K are views showing a method of manufacturing an electron emitting device according to the present invention;

도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총을 나타낸 정면도,5 is a front view showing an electron gun using the electron-emitting device according to the first embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총에 의해 나타난 전자 방출 이미지를 나타낸 도면,6 is a view showing an electron emission image shown by an electron gun using the electron-emitting device according to the first embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총에서 형광체 스크린에 1.2kV의 애노드 전압을 인가하고 게이트 전극에 인가되는 전압을 변화시키며 방출되는 전류를 측정한 그래프FIG. 7 is a graph of measuring an emitted current by applying an anode voltage of 1.2 kV to a phosphor screen and changing a voltage applied to a gate electrode in an electron gun using an electron emitting device according to a first embodiment of the present invention;

도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총을 나타낸 정면도,8 is a front view showing an electron gun using the electron-emitting device according to the second embodiment of the present invention;

도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총에 의해 나타난 전자 방출 이미지를 나타낸 도면,9 is a view showing an electron emission image shown by an electron gun using the electron-emitting device according to the second embodiment of the present invention;

도 10은 본 발명의 제2실시예에 따른 전자방출소자를 이용한 전자총에서 형광체 스크린에 500V의 애노드 전압을 인가하고 게이트 전극에 인가되는 전압을 변화시키며 방출되는 전류를 측정한 그래프FIG. 10 is a graph of an anode voltage of 500 V applied to a phosphor screen in an electron gun using an electron emitting device according to a second exemplary embodiment of the present invention, and a voltage measured by changing a voltage applied to a gate electrode;

<도면의 주요부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>

11, 21 : 기판 12 : 음극11, 21: substrate 12: cathode

13, 27 : 게이트 절연층 13a, 27a : 게이트 웰13, 27: gate insulating layer 13a, 27a: gate well

14, 29 : 게이트 전극 15 : 탄소나노튜브 분말14, 29: gate electrode 15: carbon nanotube powder

23 : 캐소드 전극(인듐틴옥사이드막) 23: cathode electrode (indium tin oxide film)

25 : 아몰퍼스 실리콘 30 : 감광제25 amorphous silicon 30 photosensitive agent

31 : 접착용 복합체 35 : 캐소드 전극판31: bonding composite 35: cathode electrode plate

37 : 전자총 37: electron gun

본 발명은 접착용 복합체 및 이를 이용한 전계 방출 표시소자(FED; Field Emission Display)등에 사용되는 전자방출소자 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 탄소나노튜브(CNT; Carbon Nano Tube)를 이용한 접착용 복합체 및 전자방출소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electron-emitting device and a method for manufacturing the same, an adhesive composite, and a field emission display (FED) using the same, and more particularly, using a carbon nanotube (CNT) The present invention relates to a bonding composite, an electron-emitting device, and a manufacturing method thereof.

전자방출소자는 차세대 평판 표시 소자로서 주목받고 있는 FED의 전자방출원으로 사용되고 있다. FED는 고화질, 고효율 및 저소비 전력을 장점으로 가진다. The electron emitting device is used as an electron emitting source of the FED which is drawing attention as a next generation flat panel display device. FED has the advantages of high quality, high efficiency and low power consumption.

이러한 FED의 성능은 특히 전자방출소자의 가공기술과 안정성에 의존한다. The performance of this FED depends in particular on the processing technology and stability of the electron-emitting device.

기존의 금속팁을 이용한 전자방출소자에서, 전자방출소자를 구비하는 진공관 제작시 시일링을 위해 부착되는 고분자물질이 완전히 연소되지 못하고 진공관 내부에 잔류하여 FED가 동작할 때 천천히 방출되어 금속표면에 흡착된다. 이로 인해 금속팁에서 방출되는 전자수가 감소하여 FED의 성능을 전체적으로 떨어뜨린다. 또한 이러한 고분자 물질은 금속팁을 산화시켜 금속팁의 수명을 단축시키는 단점이 있다. 또한 이러한 고분자 물질은 금속팁을 산화시켜 금속팁의 수명을 단축시키는 단점이 있다. In the electron-emitting device using a conventional metal tip, when manufacturing a vacuum tube with an electron-emitting device, the polymer material attached for sealing is not completely burned and remains inside the vacuum tube and is slowly released when the FED operates to be adsorbed on the metal surface. do. This reduces the number of electrons emitted from the metal tip, which degrades the overall performance of the FED. In addition, the polymer material has a disadvantage in that the metal tip is oxidized to shorten the life of the metal tip. In addition, the polymer material has a disadvantage in that the metal tip is oxidized to shorten the life of the metal tip.

상기 문제점을 극복하기 위하여, 고전자방출율과 안정성을 가진 탄소나노튜브를 전자방출소자에 이용하고자 하는 노력이 있어왔다.In order to overcome the above problems, there have been efforts to use carbon nanotubes having high electron emission rate and stability in electron emitting devices.

탄소나노튜브는 탄소가 육각형의 벌집무늬를 이루고 있는 구조이며 흑연면이 나노크기의 직경으로 둥글게 말린 형태이다. 이러한 탄소나노튜브는 특유의 물리적, 전기적, 화학적 특성으로 인해 최근에 각종 첨단 기술에 이용되고 있다.Carbon nanotubes have a hexagonal honeycomb structure, and the graphite surface is rounded to a nano size diameter. These carbon nanotubes are recently used in various advanced technologies due to their unique physical, electrical, and chemical properties.

디스플레이 기술분야의 탄소나노튜브를 이용하는 전자방출소자를 제조하는 방법에는, 미국특허 제6232706호에 개시된 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Chemical Vapour Deposition)과, 미국특허 제6239547호에 개시된 페이스트를 이용하는 방법과, 국내특허공개 제2001-0017543호에 개시된 전기영동법을 이용하여 제 조하는 방법이 있다.Method for manufacturing an electron-emitting device using carbon nanotubes in the field of display technology, the plasma chemical vapor deposition (Plasma Chemical Vapor Deposition) disclosed in US Pat. No. 6162706, the method using the paste disclosed in US Pat. There is a method of manufacturing using the electrophoresis method disclosed in Korean Patent Publication No. 2001-0017543.

상기 플라즈마 화학기상증착법은, 니켈촉매가 존재하는 반응기의 두 전극 사이에 아세틸렌 가스를 주입시키며, 직류 또는 고주파 전계에 의해 상기 가스를 글로우(glow) 방전시킨 다음 플라즈마로 변형시켜 그 에너지에 의해 전극상에 탄소나노튜브를 성장시키는 방법이다.In the plasma chemical vapor deposition method, an acetylene gas is injected between two electrodes of a reactor in which a nickel catalyst is present, and the gas is glow discharged by a direct current or a high frequency electric field and then transformed into a plasma to form an electrode on the electrode. To grow carbon nanotubes.

상기 페이스트를 이용하는 전자방출소자 제조방법은, 탄소나노튜브를 레이저 어블레이션(ablation) 또는 아크방전을 이용해 탄소나노튜브분말로 만들고 이를 전도성 또는 비전도성의 페이스트와 혼합하여 프린팅하는 방법이다.The method of manufacturing an electron-emitting device using the paste is a method of printing carbon nanotubes into carbon nanotube powders using laser ablation or arc discharge and mixing them with conductive or non-conductive pastes.

상기 전기영동법을 이용하는 전자방출소자 제조방법은, 수용액상에 분산된 탄소나노튜브를 전기영동법을 이용하여 전극에 성장시키는 방법이다.The electron-emitting device manufacturing method using the electrophoresis method is a method of growing carbon nanotubes dispersed in an aqueous solution on the electrode using the electrophoresis method.

도 1은 국내특허 제2001-17543호에 개시된 전기영동법을 이용한 전자방출소자를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an electron-emitting device using the electrophoresis method disclosed in Korean Patent No. 2001-17543.

도 1을 참조하면, 종래의 전자방출소자에는 기판(11)상에 형성된 음극(12)과, 상기 음극(12)상에 부착되며 탄소나노튜브분말로 형성된 팁(15)이 형성된 박막(12a)과, 상기 팁을 에워싸도록 형성된 게이트 절연층(13)과, 팁(15)의 상부에 전자방출이 가능하도록 하는 개구부(14a)를 가지도록 게이트 절연층(13)상에 형성된 게이트 전극(14)이 구비되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional electron emitting device includes a cathode 12 formed on a substrate 11 and a thin film 12a attached to the cathode 12 and having a tip 15 formed of carbon nanotube powder. And the gate insulating layer 13 formed on the gate insulating layer 13 to have the gate insulating layer 13 formed to surround the tip, and the opening 14a to enable electron emission on the tip 15. ) Is provided.

상기 전계방출소자의 팁(15)은, 탄소나노튜브 분말용액이 담긴 용액에 박막(12a)과 전극판을 설치하여 외부전원의 음극을 박막(12a)에, 외부전원의 양극을 전극판에 접속시켜 전압을 인가함으로써 양이온으로 대전된 탄소나노튜브 분말 의 입자가 전기력에 의해 음극인 박막(12a)상에 부착되는 원리를 이용한 전기영동법에 의해 형성된다. 상기 박막(12a)은 기판(11)으로 대치되어 기판(11)상에 직접 탄소나노튜브를 성장시킬 수 있다.The tip 15 of the field emission device is provided with a thin film 12a and an electrode plate in a solution containing carbon nanotube powder solution to connect the negative electrode of the external power source to the thin film 12a and the positive electrode of the external power source to the electrode plate. By applying a voltage, the particles of the carbon nanotube powder charged with the cation are formed by electrophoresis using the principle of attaching on the thin film 12a as the cathode by electric force. The thin film 12a may be replaced with the substrate 11 to grow carbon nanotubes directly on the substrate 11.

종래의 플라즈마 화학기상증착법은, 탄소나노튜브가 기판상에 수직으로 정렬되는 특성은 양호하나 대면적에서 균일한 전자 방출이 어렵다. 또한, 이 방법에서 탄소나노튜브의 성장이 500-600도 이상의 고온에서 이루어지므로 기판의 온도를 높이기 위해서 유리기판 대신 실리콘 기판이나 고온용 수정유리기판을 사용해야 하므로 단가가 높아지는 단점이 있다.Conventional plasma chemical vapor deposition has good characteristics that carbon nanotubes are vertically aligned on a substrate, but uniform electron emission in a large area is difficult. In addition, in this method, since the growth of carbon nanotubes is performed at a high temperature of 500-600 degrees or higher, a silicon substrate or a quartz glass substrate for high temperature should be used instead of a glass substrate to increase the temperature of the substrate.

종래의 페이스트를 이용한 전자방출소자 제조방법은, 분말상태의 탄소나노튜브를 은페이스트 또는 고분자 화합물등과 혼합하여 350-500도 정도의 고온에서 열처리를 하여 탄소나노튜브 및 금속의 산화가 일어나므로 탄소나노튜브와 금속장치의 수명이 줄어든다. 또한 이 방법은 장치제조시 열처리시간이 길어지며 잔류하는 고분자성분으로 인해 잔류가스가 많이 발생하여 전체적으로 전자방출소자의 수명이 줄어드는 단점이 있다. In the conventional method of manufacturing an electron-emitting device using a paste, carbon nanotubes in a powder form are mixed with silver paste or a high molecular compound and heat-treated at a high temperature of about 350-500 ° C to cause oxidation of carbon nanotubes and metals. The lifetime of nanotubes and metal devices is reduced. In addition, this method has a disadvantage in that the heat treatment time is increased during manufacturing of the device, and the remaining polymer is generated due to the remaining polymer component, thereby reducing the lifetime of the electron-emitting device as a whole.

따라서, 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로서, 대면적에서 균일한 전자방출을 할 수 있으며 안정성과 내구성이 뛰어난 전자방출소자를 형성할 수 있는 접착용 복합체와 이를 이용한 전자방출소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to improve the problems of the prior art described above, and the adhesive composite which can form a uniform electron emission in a large area and excellent electron emission device with stability and durability and It is to provide an electron-emitting device and a manufacturing method using the same.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체를 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides an adhesive composite comprising 5-40 weight percent of carbon nanotubes, 5-50 weight percent of water glass, and 1-20 weight percent of a binder.

여기서, 상기 복합체는 5-40중량 퍼센트의 흑연을 더 포함할 수 있다.Here, the composite may further comprise 5-40% by weight graphite.

상기 탄소나노튜브와 물유리와 결합제로 이루어진 복합체 또는 탄소나노튜브와 물유리와 결합제와 흑연으로 이루어진 복합체는 10-40중량 퍼센트의 물을 더 포함할 수 있다. The composite made of carbon nanotubes and water glass and a binder or the composite made of carbon nanotubes and water glass, a binder and graphite may further include 10-40% by weight of water.

여기서, 상기 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나이다.Here, the complex preferably further comprises an additive of 1-6% by weight so that the hydrogen ion concentration (pH) of the complex is 10-14. The additive is any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution.

상기 탄소나노튜브는 10나노미터 내지 10마이크로미터의 크기인 것이 바람직하다.The carbon nanotubes preferably have a size of 10 nanometers to 10 micrometers.

상기 물유리는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2이며, n은 2.2-3.9인 것이 바람직하다.The water glass is Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 , n is preferably 2.2-3.9.

상기 흑연은 100나노미터 내지 5마이크로미터의 크기인 것이 바람직하다.Preferably, the graphite has a size of 100 nanometers to 5 micrometers.

상기 결합제는, 유기카르본산군과 유기술폰산군과 에스테르군과 무기산군과 그 염군과 수소산 소금과 유기산 화합물군 중의 하나의 물질이다.The binder is one of an organic carboxylic acid group, an organic technical group, an ester group, an inorganic acid group, a salt group, a hydrochloric acid salt, and an organic acid compound group.

상기 결합제는, 유기카르본산군과 유기술폰산군과 에스테르군과 무기산군과 그 염군과 수소산 소금과 유기산 화합물군 중 적어도 둘 이상의 물질을 혼합한 물 질이다.The binder is a material in which at least two or more substances of the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, the salt group, the hydrochloric acid salt and the organic acid compound group are mixed.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 또한, The present invention also to achieve the above technical problem,

기판과, 상기 기판 상에 소정 형태로 패터닝된 캐소드 전극과, 상기 캐소드 전극이 일부 노출되도록 상기 캐소드 전극을 에워싸게 적층된 저항층과, 노출된 상기 캐소드 전극이 위치하는 웰이 마련되도록 상기 저항층 상에 소정 형태로 패터닝된 게이트 절연층 및, 상기 게이트 절연층 상에 마련된 게이트 전극을 구비하는 전자방출소자에 있어서, A resistive layer provided with a substrate, a cathode electrode patterned in a predetermined shape on the substrate, a resistive layer stacked around the cathode electrode to partially expose the cathode electrode, and a well at which the exposed cathode electrode is provided; An electron emitting device comprising a gate insulating layer patterned in a predetermined shape on a gate, and a gate electrode provided on the gate insulating layer.

상기 웰 내의 상기 캐소드 전극 상에 위치하고, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 접착용 복합체로 형성된 전자방출팁을 구비하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자를 제공한다.Positioned on the cathode electrode in the well and having an electron-emitting tip formed of an adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass, and 1-20 weight percent binder. An electron emitting device is provided.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 또한, The present invention also to achieve the above technical problem,

기판 상에 캐소드 전극을 형성한 다음 소정 형태로 패터닝하는 제1단계;Forming a cathode on the substrate and patterning the cathode in a predetermined form;

상기 캐소드 전극 상에 저항층, 절연층 및 게이트 전극을 순서대로 증착한 다음 패터닝하여 상기 캐소드 전극이 일부 노출되도록 웰을 형성하는 제2단계;A second step of depositing a resistive layer, an insulating layer, and a gate electrode on the cathode in order and then patterning the well to form a well so that the cathode is partially exposed;

상기 웰을 향하는 상기 저항층, 절연층 및 게이트 전극의 측면과 상기 게이트 전극의 상면에 감광제를 형성하는 제3단계;Forming a photoresist on side surfaces of the resistance layer, the insulating layer, and the gate electrode facing the well, and an upper surface of the gate electrode;

상기 웰에 노출된 캐소드 전극과 상기 감광제 상을 도포하도록, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 접착용 복합체를 인쇄하는 제4단계; 및 Printing an adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass and 1-20 weight percent binder to apply the cathode electrode and the photosensitive agent phase exposed to the wells Step 4; And                     

상기 감광제를 제거하여 상기 캐소드 전극 상에 상기 접착용 복합체를 잔류시킴으로써 전자방출팁을 형성하는 제5단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법을 제공한다.And a fifth step of forming an electron emitting tip by removing the photosensitive agent and leaving the adhesive composite on the cathode electrode.

상기 제4단계에서 상기 접착용 복합체를 인쇄한 다음 50도 이상의 온도에서 건조시키는 것이 바람직하다.In the fourth step, it is preferable to print the adhesive composite and then to dry at a temperature of 50 degrees or more.

상기 접착용 복합체는 5-40중량 퍼센트의 흑연을 더 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the adhesive composite further includes 5-40 weight percent graphite.

상기 접착용 복합체는 10-40중량 퍼센트의 물을 더 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the adhesive composite further includes 10-40 weight percent of water.

상기 접착용 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the adhesive composite further includes 1-6% by weight of an additive so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14.

상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나이다.The additive is any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution.

상기 탄소나노튜브는 10나노미터 내지 10마이크로미터의 크기이며, 상기 물유리는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2이며, n은 2.2-3.9인 것이 바람직하다.The carbon nanotubes are 10 nanometers to 10 micrometers in size, and the water glass is Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 , and n is preferably 2.2-3.9.

또한, 상기 흑연은 100나노미터 내지 5마이크로미터의 크기인 것이 바람직하다.In addition, the graphite is preferably a size of 100 nanometers to 5 micrometers.

상기 결합제는, 유기카르본산군과 유기술폰산군과 에스테르군과 무기산군과 그 염군과 수소산 소금과 유기산 화합물군 중의 하나의 물질이다. The binder is one of an organic carboxylic acid group, an organic technical group, an ester group, an inorganic acid group, a salt group, a hydrochloric acid salt, and an organic acid compound group.                     

상기 결합제는, 유기카르본산군과 유기술폰산군과 에스테르군과 무기산군과 그 염군과 수소산 소금과 유기산 화합물군 중 적어도 둘 이상의 물질을 혼합한 물질이다.The binder is a substance in which at least two or more substances of the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, the salt group, the hydrochloric acid salt and the organic acid compound group are mixed.

상기 캐소드 전극은 도전성의 투명물질이며, 바람직하게는 인듐틴옥사이드막이다. The cathode electrode is a conductive transparent material, preferably an indium tin oxide film.

상기 저항층은 아몰퍼스 실리콘이다.The resistive layer is amorphous silicon.

상기 게이트 절연층은 이산화규소이며, 상기 게이트 전극은 크롬이다.The gate insulating layer is silicon dioxide, and the gate electrode is chromium.

본 발명은, 기존의 필드에미션 디스플레이(field emission display)보다 낮은 전압에서 구동되며 C60과 유사한 구조를 가져 내구성이 우수하고 전기 전도성이 뛰어난 탄소나노튜브 또는 탄소나노튜브 및 흑연을, 물유리와 혼합하여 마련된 탄소나노튜브 및 물유리 또는 탄소나노튜브, 흑연 및 물유리 복합체를 포토공정(Photo lithography)을 이용하여 형성시킨 전극을 전자방출소자로 사용한다. The present invention is a carbon nanotube or carbon nanotube and graphite, which is driven at a lower voltage than a conventional field emission display and has a structure similar to C 60 and has excellent durability and excellent electrical conductivity, and is mixed with water glass. Carbon nanotubes and water glass or carbon nanotubes, graphite, and water glass composites prepared by using photolithography are used as electron-emitting devices.

상기 복합체를 사용하여 제조된 전자방출소자는, 대면적에서 균일한 전자방출 특성을 얻을 수 있으며, 전자방출소자의 수명과 안정성을 향상시킨다.The electron-emitting device manufactured using the composite can obtain a uniform electron-emitting characteristic at a large area, and improves the lifetime and stability of the electron-emitting device.

이하 본 발명에 따른 접착용 복합체 및 이를 이용한 전자방출소자 및 그 제조방법의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 여기서, 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 동일한 부호가 사용되고 있음에 유의해야 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, an adhesive composite, an electron-emitting device using the same, and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail. Here, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used for the same components, even if displayed on different drawings.                     

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전자방출소자를 사용하는 전자총을 나타낸 도면이다. 도 2를 참조하면, 전자총(37)은 한 픽셀에 아홉 개의 전자방출팁(31')을 포함하며 전자방출팁(31')이 위치하는 기판(21)의 하부에 일렬로 배열되어 있는 캐소드 전극판(35)이 형성되어 있다. 2 is a view showing an electron gun using an electron-emitting device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the electron gun 37 includes nine electron emission tips 31 ′ in one pixel, and the cathode electrodes are arranged in a line below the substrate 21 on which the electron emission tips 31 ′ are located. The plate 35 is formed.

도 3은 도 2의 전자방출소자의 단면을 나타낸 도면이다.3 is a cross-sectional view of the electron-emitting device of FIG. 2.

도 3을 참조하면, 각 전자방출소자는 기판(21)과, 기판(21)위에 일렬로 적층된 캐소드 전극(23)과, 캐소드 전극(23)이 노출되도록 캐소드 전극(23)을 에워싸는 저항층(25)과, 기판(21)상에 캐소드 전극(23) 상에 위치하며 전자를 방출하는 탄소나노튜브와 물유리를 포함하는 접착용 복합체로 형성된 전자방출팁(31')과, 전자방출팁(31')이 위치하는 웰(27a)을 마련하도록 전자방출팁(31')의 주변에 형성된 게이트 절연층(27) 및 게이트 절연층(27)상에 마련된 게이트 전극(29)을 구비한다.Referring to FIG. 3, each electron-emitting device includes a substrate 21, a cathode electrode 23 stacked in a row on the substrate 21, and a resistance layer surrounding the cathode electrode 23 so that the cathode electrode 23 is exposed. (25), an electron emitting tip 31 'formed of an adhesive composite including carbon nanotubes and water glass emitting electrons and positioned on the cathode electrode 23 on the substrate 21, and an electron emitting tip ( A gate insulating layer 27 formed around the electron emission tip 31 ′ and a gate electrode 29 provided on the gate insulating layer 27 are provided to provide a well 27 a at which the 31 ′ is positioned.

캐소드 전극(23)은 도전성의 투명물질인 인듐틴옥사이드(In2O3.SnO2)막이며, 도 2에 도시된 캐소드 전극판(35)에 연결된다. 저항층(25)은 아몰퍼스 실리콘(Amorphous silicon)으로 형성되며 인듐틴옥사이드막의 저항을 조절하는 기능을 한다.The cathode electrode 23 is an indium tin oxide (In 2 O 3 .SnO 2 ) film, which is a conductive transparent material, and is connected to the cathode electrode plate 35 shown in FIG. 2. The resistive layer 25 is formed of amorphous silicon and functions to control the resistance of the indium tin oxide film.

여기서, 캐소드 전극(23)은 전기적으로 도전성이어야 하며 포토공정을 사용하는 제조공정 중 요구되는 후면노광공정을 위해 투명한 물질이어야 한다. 다만 캐소드 전극(23)에 형성된 전자방출소자(30)의 각각의 호울에서 균일한 전자방출이 되도록 아몰퍼스 실리콘과 같은 저항층(25)을 도시된 바와 같이 형성시켜 전자방출 소자의 성능을 향상시킬 수 있다.Here, the cathode electrode 23 should be electrically conductive and a transparent material for the back exposure process required during the manufacturing process using the photo process. However, the resistive layer 25 such as amorphous silicon may be formed as shown to improve uniform electron emission in each hole of the electron emission device 30 formed on the cathode electrode 23, thereby improving the performance of the electron emission device. have.

게이트 절연층(27)으로는 이산화규소(SiO2)를 사용하며, 게이트 전극은 크롬(Cr)을 사용한다.Silicon dioxide (SiO 2) is used as the gate insulating layer 27, and chromium (Cr) is used as the gate electrode.

본 발명에 의한 전자방출소자에서 캐소드 전극(23)으로부터 전자가 주입되면 이 전자가 접착용 복합체 내에 포함된 탄소나노튜브로부터 방출된다. 본 발명에서 채용되는 접착용 복합체는 탄소나노튜브와 물유리와 결합제로 이루어진 복합체, 또는 탄소나노튜브와 흑연과 물유리와 결합제로 이루어진 복합체가 있다. When electrons are injected from the cathode electrode 23 in the electron emission device according to the present invention, the electrons are emitted from the carbon nanotubes included in the bonding composite. The adhesive composite employed in the present invention is a composite made of carbon nanotubes and water glass and a binder, or a composite made of carbon nanotubes and graphite and water glass and a binder.

사용되는 탄소나노튜브는, 단층 또는 다층 탄소나노튜브의 두께, 종류 및 길이에 상관없이 균일한 크기의 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 10나노미터에서 10마이크로미터 정도의 것이 탄소나노튜브 및 물유리 복합체 형성에 유리하다.Carbon nanotubes to be used are preferably of uniform size regardless of the thickness, type and length of single- or multi-layered carbon nanotubes, most preferably 10 nanometers to 10 micrometers of carbon nanotubes and water glass composite It is advantageous for formation.

탄소나노튜브의 길이를 조절할 때는 강산(HNO3:H2SO4=3:1)을 사용하여 반응시켜 길이를 잘게 자른 다음 필드플럭스플로우(field flux flow)의 분리법을 사용하여 5마이크론(micron)이하, 바람직하게는 1마이크론 이하 크기의 것을 추출하여 사용한다. 또는, 탄소나노튜브를 알코올에 분산하여 봉초음파 장치(sonifier)에 10 내지 30분정도 처리하여 탄소나노튜브를 자를 수도 있다. 여기서, 필드플럭스플로부 분리법이란, 관과 유체의 마찰력에 의해 유체의 속도가 달라지는 원리에 의해 유체에 분산되어 있는 탄소나노튜브를 유체의 흐름에 따라 그 크기별로 분리되는 방법이다. To adjust the length of the carbon nanotubes, react with a strong acid (HNO 3 : H 2 SO 4 = 3: 1) to finely cut the length, and then use 5 micron separation using a field flux flow separation method. Below, preferably, one having a size of 1 micron or less is extracted and used. Alternatively, the carbon nanotubes may be dispersed in alcohol and treated with a sonicator for about 10 to 30 minutes to cut the carbon nanotubes. Here, the field flux flow separation method is a method of separating carbon nanotubes dispersed in a fluid by their size according to the flow of the fluid by the principle that the velocity of the fluid is changed by the frictional force between the tube and the fluid.

흑연은 입자크기가 100나노미터 내지 5마이크로미터 이하의 크기를 가진 것 이 사용된다. 흑연은 복합체에 전도성을 띄게 하고 결합제의 역할도 한다.Graphite has a particle size of 100 nanometers or less and 5 micrometers or less. Graphite makes the composite conductive and also acts as a binder.

물유리(alkali metal silicate)는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2 이고 여기서 n은 2,2-3.9 인 것을 주로 사용하나 종류에는 제한이 없다.Water glass (alkali metal silicate) is Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 where n is 2,2-3.9 mainly used, but there is no limitation on the type.

결합제는 포름산, 초산, 프로피온산으로 이루어진 유기카르본산군과, 벤젠 술폰산, 톨루엔 술폰산으로 이루어진 유기술폰산군과, 포름산 메틸, 초산 에틸로 이루어진 에스테르군과, 염산, 황산, 질산, 붕산, 염소산, 메타인산, 피로포스포릭산, 폴리인산, 차아인산, 아인산, 과인산, 차아인산 칼륨, 아인산칼륨으로 이루어진 무기산군과, 그 염군과, 황산수소칼륨, 탄산수소나트륨으로 이루어진 수소산 소금과, 인산 알루미늄, 옥시 카르본산 알루미늄염으로 이루어진 유기산 화합물군 중의 적어도 하나의 물질을 사용한다. 즉 상기 물질의 각각 또는 상기 물질의 적어도 둘이상의 물질을 혼합하여 결합제로서 사용할 수 있다. The binder is an organic carboxylic acid group consisting of formic acid, acetic acid, and propionic acid, an organic technical acid group consisting of benzene sulfonic acid and toluene sulfonic acid, an ester group consisting of methyl formate and ethyl acetate, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, chloric acid, metaphosphate , Inorganic acid group consisting of pyrophosphoric acid, polyphosphoric acid, hypophosphorous acid, phosphorous acid, superphosphoric acid, potassium hypophosphite, potassium phosphite, salt group thereof, hydrochloric acid salt consisting of potassium hydrogen sulfate and sodium bicarbonate, aluminum phosphate, oxycarb At least one substance in the group of organic acid compounds composed of the aluminum acid salt is used. That is, each of the materials or at least two or more materials of the materials may be mixed and used as a binder.

탄소나노튜브와 물유리를 포함하는 복합체 또는 탄소나노튜브와 흑연과 물유리를 포함하는 복합체를 제조하는 경우 그 혼합비는 다음과 같다. 탄소나노튜브를 5-40중량 퍼센트(%) 또는 흑연을 5-40중량 퍼센트 또는 흑연 및 탄소나노튜브를 5-40중량 퍼센트로 혼합한다. 물유리는 5-50 중량 퍼센트, 물은 10-50 중량 퍼센트를 사용하며, 결합제는 1-20중량 퍼센트를 혼합하여 접착용 복합체를 제조한다. When preparing a composite including carbon nanotubes and water glass or a composite including carbon nanotubes and graphite and water glass, the mixing ratio is as follows. 5-40 weight percent of carbon nanotubes or 5-40 weight percent of graphite or 5-40 weight percent of graphite and carbon nanotubes. Water glass uses 5-50 weight percent, water uses 10-50 weight percent, and the binder is mixed 1-20 weight percent to prepare an adhesive composite.

상기 접착용 복합체에서, 물유리와 결합제는 50도 이상의 고온에서 졸(sol)상태에서 겔(gel)상태로 변화하면서 경화되어 탄소나노튜브 또는 탄소나노튜브 및 흑연을 인듐틴옥사이드막에 결합시키는 접착제의 역할을 한다. 접착용 복합체의 분 산성을 조절하기 위하여 수산화칼륨(KaOH), 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화암모늄(NH4OH) 수용액을 1-3% 정도 첨가하여 수소이온농도 pH를 10-14사이에서 조절한다.In the adhesive composite, the water glass and the binder are cured by changing from a sol state to a gel state at a high temperature of 50 degrees or more to bond carbon nanotubes or carbon nanotubes and graphite to an indium tin oxide film. Play a role. In order to control the dispersion of the adhesive complex, the pH of the hydrogen is adjusted between 10-14 by adding 1-3% aqueous solution of potassium hydroxide (KaOH), sodium hydroxide (NaOH) or ammonium hydroxide (NH 4 OH). .

도 4a 내지 도 4k는 본 발명의 실시예에 따른 접착용 복합체 및 이를 이용한 전자방출소자의 제조방법의 공정도이다. 4A to 4K are flowcharts illustrating a method of manufacturing an adhesive composite and an electron emitting device using the same according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 전자방출소자를 제조하기 위하여, 먼저 도 4a와 같이 캐소드 전극(23)으로서 인듐틴옥사이드막을 기판(21)상에 적층한다. In order to manufacture the electron emission device according to the exemplary embodiment of the present invention, an indium tin oxide film is first stacked on the substrate 21 as the cathode electrode 23 as shown in FIG. 4A.

다음으로. 도 4b에 도시된 바와 같이, 유리 기판(21)상에 캐소드 전극(23)을 도포하여 패터닝(patterning)하는데, 패터닝은 포토공정에 의해 이루어진다. to the next. As shown in FIG. 4B, the cathode electrode 23 is applied and patterned on the glass substrate 21, and the patterning is performed by a photo process.

포토공정은 캐소드 전극(23)상에 감광제(photoresist)를 도포하는 단계, 패터닝하고자 하는 형상이 있는 마스크를 캐소드 전극(23)의 상부에 위치시킨 다음 후면노광시키는 단계, 현상액으로 노광된 감광제 부분을 제거하는 현상단계, 감광제가 제거된 부분의 캐소드 전극(23)을 식각공정을 통해 제거하는 단계, 및 남아있는 감광제를 제거하고 세정하는 단계로 이루어진다. The photo process includes applying a photoresist on the cathode electrode 23, placing a mask having a shape to be patterned on top of the cathode electrode 23, and then exposing the photoresist to the back surface, and then removing the photoresist portion exposed to the developer. The developing step includes removing the cathode electrode 23 of the portion from which the photosensitive agent has been removed through an etching process, and removing and cleaning the remaining photosensitive agent.

상기와 같이 캐소드 전극(23)이 패터닝된 다음, 도 4c에 도시된 바와 같이 상기 캐소드 전극(23)을 에워싸도록 아몰퍼스 실리콘(Amorphous silicon)으로 이루어지는 저항층(25)을 적층시킨다. After the cathode electrode 23 is patterned as described above, as shown in FIG. 4C, the resistive layer 25 made of amorphous silicon is stacked to surround the cathode electrode 23.

다음으로, 도 4d에 도시된 바와 같이, 캐소드 전극(23)과 저항층(25)상에 절연층을 형성하는 물질인 이산화규소(SiO2)로 이루어지는 게이트 절연층(27)을 적층 하며, 도 4e에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(25)을 형성하는 크롬을 순서대로 박막형태로 증착한다. Next, as shown in FIG. 4D, a gate insulating layer 27 made of silicon dioxide (SiO 2 ), which is a material for forming an insulating layer on the cathode electrode 23 and the resistance layer 25, is stacked. As shown in 4e, chromium forming the gate electrode 25 is sequentially deposited in a thin film form.

도 4f는 도 4b에서 설명된 포토공정에 의해 게이트 전극(29)을 제거하는 단계를 나타낸 도면이다. 감광제의 도포, 노광 및 현상 단계는 도 4b의 단계에서 설명된 바와 같으나, 식각단계에서는 건식식각(dry etching)공정을 이용한다. FIG. 4F is a view showing the step of removing the gate electrode 29 by the photo process described in FIG. 4B. The application, exposure and development steps of the photosensitizer are as described in the step of FIG. 4B, but the etching step uses a dry etching process.

도 4g는 도 4b와 같은 포토공정에 의해 게이트 절연층(27)을 제거하는 단계를 나타낸다. 포토공정의 다른 과정은 도 4b에 설명된 바와 같으나, 식각단계에서는 습식식각(wet etching)공정을 이용한다. 습식식각공정이란 용액속의 화학물질이 식각대상물과 화학반응을 하여 반응결과 생성된 물질이 식각대상물로부터 이탈됨으로써 식각이 이루어지는 공정이다. FIG. 4G illustrates a step of removing the gate insulating layer 27 by a photo process as shown in FIG. 4B. Another process of the photo process is as described in FIG. 4B, but the wet process uses a wet etching process. The wet etching process is a process in which chemical substances in a solution are chemically reacted with an etching target to etch away from the etching target.

이산화규소는 본질적으로 실리콘 원자가 산소 원자들에 의해 사면체 형태로 둘러싸여 있는 구조를 하고 있다. 이산화규소를 식각시키기 위해서 사용되는 용액은 일반적으로 불소(F)를 포함한 완충HF용액이다. 불소는 산소보다 더 작은 이온 반경을 가지며 Si-O(1.62Å)보다 작은 Si-F(1.40Å)결합을 이룰 뿐 아니라 결합에너지도 Si-O의 절반에 해당하기 때문에 이산화규소의 산소를 대체하여 규소와 결합한다. 이와 같은 원리에 의해 이산화규소가 식각된다. Silicon dioxide is essentially a structure in which silicon atoms are surrounded in tetrahedral form by oxygen atoms. The solution used to etch silicon dioxide is generally a buffered HF solution containing fluorine (F). Fluoride has a smaller ion radius than oxygen and forms Si-F (1.40Å) bonds smaller than Si-O (1.62Å), and the bonding energy is half that of Si-O. Combined with silicon. By this principle, silicon dioxide is etched.

도 4h는 저항층(25)인 아몰퍼스 실리콘을 제거하는 단계를 나타낸 도면이다. 아몰퍼스 실리콘은 게이트 절연층(27)에서와 같은 포토공정에 의해 패터닝된다. 식각공정은 건식 식각공정에 의한다. 상기의 패터닝시 캐소드 전극(23)에 단락(short)이 생기지 않도록 단차가 형성되도록 한다. 4H is a diagram illustrating a step of removing amorphous silicon, which is the resist layer 25. Amorphous silicon is patterned by a photo process as in the gate insulating layer 27. The etching process is a dry etching process. In the patterning, a step is formed so that a short does not occur in the cathode electrode 23.                     

건식 식각에는, 이온충격에 의한 스퍼터링을 이용한 물리적인 이온식각법이나, 플라즈마 속에서 발생된 반응물질들의 화학작용에 의한 화학적 식각법, 또는 이온, 전자, 광자 등에 의해 이루어지는 화학작용으로서 물리적, 화학적 두 현상이 동시에 적용되는 식각방법이 있는데, 본 발명에서는 이온식각법을 이용한다. 즉, 게이트 전극(29)인 크롬에 상당량의 에너지를 가지는 이온, 중성원자 혹은 중성분자들을 식각 표면에 충돌시킴으로써 크롬 원자가 결합에너지를 이겨 게이트 전극(29)의 표면으로부터 이탈되도록 하는 스퍼터링에 의해 게이트 전극(29)이 식각되도록 한다.Dry etching includes physical ion etching using sputtering by ion bombardment, chemical etching by chemical reaction of reactants generated in plasma, or chemical action performed by ions, electrons, photons, etc. There is an etching method in which the phenomenon is applied at the same time, the present invention uses the ion etching method. That is, the gate electrode is sputtered by impinging ions, neutral atoms, or neutrons having a considerable amount of energy on the chromium, which is the gate electrode 29, on the etching surface, thereby causing chromium atoms to overcome the binding energy to be released from the surface of the gate electrode 29. Allow (29) to be etched.

도 4i는 이와 같이 형성된 삼극부의 게이트 전극(29) 및 게이트 전극(29)의 웰(27a)을 향한 옆면에 감광제를 도포하는 단계를 나타내고 있다. 도 4i를 참조하면, 상기 삼극부에 감광제를 도포하고 건조한 다음 노광 및 현상하여 게이트 웰(27a)이 형성되도록 감광제를 제거한다. FIG. 4I shows a step of applying a photosensitive agent to the gate electrode 29 and the side surface facing the well 27a of the gate electrode 29 formed in this way. Referring to FIG. 4I, a photoresist is applied to the triode, dried, exposed to light, and developed to remove the photoresist to form a gate well 27a.

다음 단계는, 도 4j에서 도시된 바와 같이, 캐소드 전극(23)상의 포토레지스트 위에 본 발명에 의해 제조된 접착용 복합체(31)를 인쇄한 다음 이를 50도 이상의 온도에서 건조시킨다. The next step is to print the adhesive composite 31 produced by the present invention on the photoresist on the cathode electrode 23, as shown in Fig. 4j, and then dry it at a temperature of 50 degrees or more.

마지막으로, 아세톤으로 감광제를 용해시키면 도 4k에 도시된 바와 같이, 상기 접착용 복합체(31)의 일부는 감광제의 제거와 동시에 리프트 오프(lift off)되며 기판(21)상의 웰(27a) 내부로 노출된 캐소드 전극(23) 상에 잔여부분이 고정부착되어 전자방출팁(31')이 형성된다. Finally, when the photosensitive agent is dissolved in acetone, as shown in FIG. 4K, a part of the adhesive composite 31 is lifted off simultaneously with the removal of the photosensitive agent and into the well 27a on the substrate 21. The remaining portion is fixedly attached to the exposed cathode electrode 23 to form the electron emission tip 31 ′.

본 발명의 실시예에 따른 접착용 복합체의 제1구현예로서, 탄소나노튜브 15g 또는 탄소나노튜브 10g 및 흑연 5g을 10ml의 증류수에 분산하고 여기에 물유리 25g(n=3.4)을 혼합한 다음 수산화암모늄(NH4OH)을 1중량 퍼센트 첨가하여 수소이온농도(pH)를 13으로 조정하여 제조한 접착용 복합체를 이용하여 상기의 제조방법으로 전자방출소자를 제조할 수 있다. As a first embodiment of the adhesive composite according to an embodiment of the present invention, 15 g of carbon nanotubes or 10 g of carbon nanotubes and 5 g of graphite are dispersed in 10 ml of distilled water, mixed with 25 g of water glass (n = 3.4), and then hydrated. The electron-emitting device can be manufactured by the above-described method using an adhesive composite prepared by adding 1 weight percent of ammonium (NH 4 OH) to adjust the hydrogen ion concentration (pH) to 13.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 접착용 복합체의 제1구현예를 사용한 본 발명의 제1실시예에 따른 전자방출소자를 구비하는 삼극 전자총을 나타낸 정면도이다. 5 is a front view showing a three-pole electron gun having an electron-emitting device according to a first embodiment of the present invention using a first embodiment of the adhesive composite according to an embodiment of the present invention.

도 6은 상기 전자총에 의해 형광체가 발광하는 모습을 나타낸 도면이며, 도 7은 상기 전자총이 마련된 형광 디스플레이 장치에서 형광 스크린의 전압을 1.2kV로 고정시키고 게이트 전극에 인가되는 전압을 변화시켜 가며 방출되는 전류를 측정한 그래프이다. 6 is a view showing a state in which the phosphor emits light by the electron gun, Figure 7 is fixed in the fluorescent display device provided with the electron gun is fixed to the voltage of the fluorescent screen to 1.2kV and is emitted while changing the voltage applied to the gate electrode This is a graph measuring current.

도 5를 참조하면, 도 4e와 같은 구조의 삼극부를 준비하여 감광제를 4-5마이크로미터로 도포하여 노광한 다음 인듐틴옥사이드막을 제외한 부분은 포토레지스트가 남아있도록 처리하여 준비된 접착용 복합체를 인쇄한다. 인쇄한 후 60도에서 3분 건조한 다음 아세톤 용액에 담그어 감광제와 그 위에 남은 탄소나노튜브 및 물유리를 제거하고 기판상의 인듐옥사이드막 사이에 접착용 복합체만이 남도록 처리하여 도시된 바와 같은 전자방출소자를 가지는 전자총을 형성시킨다. Referring to FIG. 5, a three-pole portion having a structure as shown in FIG. 4E is prepared, the photosensitive agent is coated with 4-5 micrometers to be exposed, and then the portion except the indium tin oxide film is treated so that photoresist remains to print the prepared adhesive composite. . After printing, dried at 60 ° C for 3 minutes and immersed in acetone solution to remove the photoresist, carbon nanotubes and water glass remaining on it, and treating only the adhesive composite between the indium oxide film on the substrate. Branches form an electron gun.

도 5의 전자총에서 전자방출소자는 한 픽셀에 아홉 개가 형성되어 있으며, 전자방출소자의 중심부에는 본 발명의 실시예에 따른 접착용 복합체가 형성되어 있 으며, 이 주변을 아몰퍼스 실리콘이 에워싸고 있다. 픽셀의 주변으로 게이트 크롬이 마련되어 게이트 전극을 이루고 있는 것을 볼 수 있다.In the electron gun of FIG. 5, nine electron-emitting devices are formed in one pixel, and an adhesive composite according to an embodiment of the present invention is formed in the center of the electron-emitting device, and is surrounded by amorphous silicon. It can be seen that the gate chrome is formed around the pixel to form the gate electrode.

도 6을 참조하면, 도 5에서 도시된 전자방출소자를 이용하여 게이트 전압 80V, 애노드 전압 1.2kV 일 때 형광체가 전자를 방출하는 이미지를 볼 수 있다. Referring to FIG. 6, an image in which a phosphor emits electrons at a gate voltage of 80 V and an anode voltage of 1.2 kV using the electron emission device illustrated in FIG. 5 can be seen.

도 7을 참조하면, 도 5에 도시된 전자방출소자를 이용하는 형광 디스플레이 장치에서, 애노드 전압을 1.2kV로 고정하고 게이트 전압을 변화시켜 가며 구동하였을 때 전자총에서 나오는 전류를 측정한 그래프이다. 도시된 바와 같이, 게이트 전압, 50V에서 전류가 흐르기 시작하므로 이 전압에서 전자방출소자에서 전자방출이 시작되는 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 7, in the fluorescent display device using the electron-emitting device illustrated in FIG. 5, the current from the electron gun is measured when the anode voltage is fixed at 1.2 kV and the gate voltage is changed. As shown, since the current starts to flow at the gate voltage, 50V, it can be seen that electron emission starts at the electron-emitting device at this voltage.

도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 전자방출소자를 구비하는 전자총을 나타낸 도면이다.8 is a view showing an electron gun including an electron-emitting device according to a second embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 전자총은 도 5의 전자총과 그 구조와 구성물질에 있어 동일하지만 한 픽셀에 배열된 전자방출소자의 개수가 25개로 증가하였으며 호울의 크기가 5μm로 감소되었다는 점에 차이가 있다. Although the electron gun shown in FIG. 8 is the same in the electron gun of FIG. 5 and its structure and materials, the number of electron-emitting devices arranged in one pixel is increased to 25 and the size of the hole is reduced to 5 μm.

도 9는 도 8에 도시된 전자총의 전자방출이미지를 나타낸 사진으로 도 6과 비교해볼 때 더 밝은 것을 알 수 있어 발광균일도가 개선되었음을 알 수 있다.FIG. 9 is a photograph showing an electron emission image of the electron gun shown in FIG. 8, which is brighter than that of FIG. 6, indicating that the emission uniformity is improved.

도 10은 도 8의 전자방출소자의 전압에 대한 전류관계를 나타낸 그래프로 도 7의 그래프와 비교해 볼 때 애노드 전압이 500V일 때 전자방출전압이 45V에서 25V로 낮아져 전자방출소자의 성능이 개선되었음을 알 수 있다.FIG. 10 is a graph showing the current relationship with respect to the voltage of the electron-emitting device of FIG. 8. Compared with the graph of FIG. 7, the electron-emitting voltage is lowered from 45V to 25V when the anode voltage is 500V. Thus, the performance of the electron-emitting device is improved. Able to know.

도 5에서 개시된 제1구현예 이외에, 제2구현예로는 탄소나노튜브 12g 과 흑 연 2g을 100ml 증류수에 분산한 용액에 수산화나트륨 1중량 퍼센트를 첨가하여 수소이온농도를 13으로 유지시키고 여기에 물유리 30g을 혼합한 접착용 복합체를 제조할 수 있으며, 이를 본 발명의 실시예에 따른 전자방출소자 제조방법에 의한 제조순서에 따라 처리하여 전자방출소자를 제조할 수 있다.In addition to the first embodiment disclosed in FIG. 5, the second embodiment adds 1 wt.% Of sodium hydroxide to a solution of 12 g of carbon nanotubes and 2 g of graphite in 100 ml of distilled water to maintain a hydrogen ion concentration of 13. The adhesive composite may be prepared by mixing 30 g of water glass, and may be processed in the manufacturing procedure according to the method of manufacturing an electron emitting device according to an embodiment of the present invention to manufacture an electron emitting device.

본 발명의 실시예에 따른 접착용 복합체와 이를 이용한 전자방출소자의 제조방법은 안정성과 내구성이 뛰어난 전자방출소자를 제공할 수 있으며 대면적에서 균일한 전자방출을 할 수 있다는 장점이 있다. 또한 이로 인하여 본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조된 전자방출소자를 사용하는 장치는 고온 열처리가 필요하지 않고 전자방출소자의 안정성과 내구성으로 인해 전체적인 성능이 향상된다. The adhesive composite according to an embodiment of the present invention and a method of manufacturing an electron emitting device using the same can provide an electron emitting device having excellent stability and durability, and can have uniform electron emission in a large area. Therefore, the device using the electron-emitting device manufactured by the method according to the embodiment of the present invention does not require high temperature heat treatment, and the overall performance is improved due to the stability and durability of the electron-emitting device.

상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다, 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. While many details are set forth in the foregoing description, they should be construed as illustrative of preferred embodiments, rather than to limit the scope of the invention.

예를 들어 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상에 의해 물유리 대신에 저온에서 경화되면서 접착성을 나타내는 비슷한 성질의 다른 물질을 사용하여 삼극부 전자총을 제조할 수 있을 것이다. 때문에 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.For example, a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs may manufacture a tripolar electron gun using other materials of similar properties that exhibit adhesiveness while being cured at low temperature instead of water glass according to the technical idea of the present invention. There will be. Therefore, the scope of the present invention should not be defined by the described embodiments, but should be determined by the technical spirit described in the claims.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 접착용 복합체 및 이를 이용한 전자방출소자 및 그 제조방법의 장점은 안정성과 내구성이 뛰어나며, 대면적에서 균일한 전자방출을 할 수 있어 상기 전자방출소자를 이용한 장치의 성능이 전체적으로 향상 된다는 것이다.As described above, the adhesive composite according to the present invention and the advantages of the electron-emitting device using the same and its manufacturing method are excellent in stability and durability, it is possible to uniform electron emission in a large area of the device using the electron-emitting device Performance is improved overall.

Claims (48)

5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.An adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass, and 1-20 weight percent binder. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 5-40중량 퍼센트의 흑연을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.Adhesive composite further comprising 5-40% by weight of graphite. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 10-40중량 퍼센트의 물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.Adhesive composite further comprises 10-40% by weight of water. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.Adhesive composite, characterized in that it further comprises 1-6% by weight of additives so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.Adhesive composite, characterized in that it further comprises 1-6% by weight of additives so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The additive is an adhesive composite, characterized in that any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The additive is an adhesive composite, characterized in that any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탄소나노튜브는 10나노미터 내지 10마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The carbon nanotubes are adhesive composite, characterized in that the size of 10 nanometers to 10 micrometers. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 물유리는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2이며, n은 2.2-3.9인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The water glass is Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 , n is a composite for bonding, characterized in that 2.2-3.9. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 흑연은 100나노미터 내지 5마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The graphite is an adhesive composite, characterized in that the size of 100 nanometers to 5 micrometers. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The binder is an adhesive composition, characterized in that at least one of an organic carboxylic acid group, an organic group, an ester group, an ester group, an inorganic acid group, or a salt group thereof, a hydrochloric acid salt, and an organic acid compound group. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 적어도 둘 이상의 물질을 혼합한 물질인 것을 특징으로 하는 접착용 복합체.The binder is an adhesive material, characterized in that the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, or a salt group thereof, a hydrochloric acid salt, and at least two or more substances of the organic acid compound group. Complex. 기판과, 상기 기판 상에 소정 형태로 패터닝된 캐소드 전극과, 상기 캐소드 전극이 일부 노출되도록 상기 캐소드 전극을 에워싸게 적층된 저항층과, 노출된 상기 캐소드 전극이 위치하는 웰이 마련되도록 상기 저항층 상에 소정 형태로 패터닝된 게이트 절연층 및, 상기 게이트 절연층 상에 마련된 게이트 전극을 구비하는 전자방출소자에 있어서, A resistive layer provided with a substrate, a cathode electrode patterned in a predetermined shape on the substrate, a resistive layer stacked around the cathode electrode to partially expose the cathode electrode, and a well at which the exposed cathode electrode is provided; An electron emitting device comprising a gate insulating layer patterned in a predetermined shape on a gate, and a gate electrode provided on the gate insulating layer. 상기 웰 내의 상기 캐소드 전극 상에 위치하고, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 접착용 복합체로 형성된 전자방출팁을 구비하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자.Positioned on the cathode electrode in the well and having an electron-emitting tip formed of an adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass, and 1-20 weight percent binder. An electron-emitting device characterized in that. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 접착용 복합체는 5-40중량 퍼센트의 흑연을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The adhesive composite is an electron emitting device, characterized in that it further comprises 5-40% by weight of graphite. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, The method according to claim 13 or 14, 상기 접착용 복합체는 10-40중량 퍼센트의 물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The adhesive composite is an electron emitting device, characterized in that further comprises 10-40% by weight of water. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,The method according to claim 13 or 14, 상기 접착용 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The adhesive composite further comprises an additive of 1-6% by weight so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 접착용 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The adhesive composite further comprises an additive of 1-6% by weight so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The additive is an electron-emitting device, characterized in that any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The additive is an electron-emitting device, characterized in that any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 탄소나노튜브는 10나노미터 내지 10마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The carbon nanotubes are electron emitting devices, characterized in that the size of 10 nanometers to 10 micrometers. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 물유리는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2이며, n은 2.2-3.9인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The water glass is Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 , n is an electron emitting device, characterized in that 2.2-3.9. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 흑연은 100나노미터 내지 5마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The graphite is an electron emitting device, characterized in that the size of 100 nanometers to 5 micrometers. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 하나의 물질인 것을 특 징으로 하는 전자방출소자.The binder is an electron-emitting device, characterized in that the material of one of the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, or its salt group, the hydrochloric acid salt, and the organic acid compound group. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 적어도 둘 이상의 물질을 혼합한 물질인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The binder is an electron-emitting material, characterized in that a mixture of at least two or more of the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, or its salt group, the hydrochloric acid salt, and the organic acid compound group device. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 캐소드 전극은 도전성의 투명물질인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.The cathode electrode is an electron emitting device, characterized in that the conductive transparent material. 제 25 항에 있어서,The method of claim 25, 상기 캐소드 전극은 인듐틴옥사이드막인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.And said cathode electrode is an indium tin oxide film. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 저항층은 아몰퍼스 실리콘인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.And the resistive layer is amorphous silicon. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 게이트 절연층은 이산화규소인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.And the gate insulating layer is silicon dioxide. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 게이트 전극은 크롬인 것을 특징으로 하는 전자방출소자.And the gate electrode is chromium. 기판 상에 캐소드 전극을 형성한 다음 소정 형태로 패터닝하는 제1단계;Forming a cathode on the substrate and patterning the cathode in a predetermined form; 상기 캐소드 전극 상에 저항층, 절연층 및 게이트 전극을 순서대로 증착한 다음 패터닝하여 상기 캐소드 전극이 일부 노출되도록 웰을 형성하는 제2단계;A second step of depositing a resistive layer, an insulating layer, and a gate electrode on the cathode in order and then patterning the well to form a well so that the cathode is partially exposed; 상기 웰을 향하는 상기 저항층, 절연층 및 게이트 전극의 측면과 상기 게이트 전극의 상면에 감광제를 형성하는 제3단계;Forming a photoresist on side surfaces of the resistance layer, the insulating layer, and the gate electrode facing the well, and an upper surface of the gate electrode; 상기 웰에 노출된 캐소드 전극과 상기 감광제 상을 도포하도록, 5-40중량 퍼센트의 탄소나노튜브와 5-50중량 퍼센트의 물유리와 1-20중량 퍼센트의 결합제를 포함하는 접착용 복합체를 인쇄하는 제4단계; 및Printing an adhesive composite comprising 5-40 weight percent carbon nanotubes, 5-50 weight percent water glass and 1-20 weight percent binder to apply the cathode electrode and the photosensitive agent phase exposed to the wells Step 4; And 상기 감광제를 제거하여 상기 캐소드 전극 상에 상기 접착용 복합체를 잔류시킴으로써 전자방출팁을 형성하는 제5단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.And a fifth step of forming an electron emitting tip by removing the photosensitive agent and remaining the adhesive composite on the cathode electrode. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 접착용 복합체는 5-40중량 퍼센트의 흑연을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The adhesive composite is an electron emitting device manufacturing method characterized in that it further comprises 5-40% by weight of graphite. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서, 32. The method of claim 30 or 31 wherein 상기 접착용 복합체는 10-40중량 퍼센트의 물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The adhesive composite is an electron emitting device manufacturing method characterized in that it further comprises 10-40% by weight of water. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,32. The method of claim 30 or 31 wherein 상기 접착용 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The adhesive composite is an electron emitting device manufacturing method characterized in that it further comprises an additive of 1-6% by weight so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 32 항에 있어서,The method of claim 32, 상기 접착용 복합체는 상기 복합체의 수소이온농도(pH)가 10-14가 되도록 1-6중량 퍼센트의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The adhesive composite is an electron emitting device manufacturing method characterized in that it further comprises an additive of 1-6% by weight so that the hydrogen ion concentration (pH) of the composite is 10-14. 제 33 항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The additive is a method of manufacturing an electron emitting device, characterized in that formed by any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 첨가제는 수산화칼륨, 수산화나트륨 또는 수산화암모늄 수용액 중의 어느 하나로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The additive is a method of manufacturing an electron emitting device, characterized in that formed by any one of potassium hydroxide, sodium hydroxide or ammonium hydroxide aqueous solution. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 탄소나노튜브는 10나노미터 내지 10마이크로미터의 크기로 형성하는 것 을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The carbon nanotube is an electron emitting device manufacturing method, characterized in that formed in the size of 10 nanometers to 10 micrometers. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 물유리는 Na2O-nSiO2 또는 K2O-nSiO2으로 형성하며, n은 2.2-3.9인 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The water glass is formed of Na 2 O-nSiO 2 or K 2 O-nSiO 2 , n is a method of manufacturing an electron emitting device, characterized in that 2.2-3.9. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 흑연은 100나노미터 내지 5마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The graphite is an electron emitting device manufacturing method, characterized in that the size of 100 nanometers to 5 micrometers. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.Wherein said binder is one of an organic carboxylic acid group, an organic technical acid group, an ester group, an inorganic acid group, or a salt group thereof, a hydrochloric acid salt, and an organic acid compound group. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 결합제는 유기카르본산군과, 유기술폰산군과, 에스테르군과, 무기산군과, 또는 그 염군과, 수소산 소금과, 유기산 화합물군 중의 적어도 둘 이상의 물질을 혼합한 물질인 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The binder is an electron-emitting material, characterized in that a mixture of at least two or more of the organic carboxylic acid group, the eutechonic acid group, the ester group, the inorganic acid group, or its salt group, the hydrochloride salt, and the organic acid compound group. Device manufacturing method. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 캐소드 전극은 도전성의 투명물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.And said cathode electrode is formed of a conductive transparent material. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 캐소드 전극은 인듐틴옥사이드막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.And said cathode electrode is formed of an indium tin oxide film. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 저항층은 아몰퍼스 실리콘으로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.And the resistive layer is formed of amorphous silicon. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 게이트 절연층은 이산화규소로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.And the gate insulating layer is formed of silicon dioxide. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 게이트 전극은 크롬으로 형성하는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법. And the gate electrode is formed of chromium. 제 30 항에 있어서,The method of claim 30, 상기 제4단계에서 상기 접착용 복합체를 인쇄한 다음 50도 이상의 온도에서 건조시키는 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.Printing the adhesive composite in the fourth step and then drying at a temperature of 50 degrees or more electron emitting device manufacturing method. 제 30 항에 있어서, The method of claim 30, 상기 소정 형태는 스트라이프 형태인 것을 특징으로 하는 전자방출소자 제조방법.The predetermined form is an electron emitting device manufacturing method characterized in that the stripe form.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100955496B1 (en) * 2009-07-09 2010-04-30 주식회사 동진쎄미켐 Conductive composition for forming electrode of solar cell

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100584671B1 (en) * 2004-01-14 2006-05-30 (주)케이에이치 케미컬 Process for the preparation of carbon nanotube or carbon nanofiber electrodes by using sulfur or metal nanoparticle as a binder and electrode prepared thereby
KR101107134B1 (en) * 2005-08-26 2012-01-31 삼성에스디아이 주식회사 Electron emission element, electron emission device and method of manufacturing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07291610A (en) * 1994-04-28 1995-11-07 Res Dev Corp Of Japan Fullerene complex
JP2000036243A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Ise Electronics Corp Manufacture of electron emitting source
KR20000020870A (en) * 1998-09-24 2000-04-15 손욱 Composition for field emitter of field emission display
KR20030038044A (en) * 2001-11-08 2003-05-16 삼성에스디아이 주식회사 A carbon nanotube emitter composition for field emision device and preparation method of the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07291610A (en) * 1994-04-28 1995-11-07 Res Dev Corp Of Japan Fullerene complex
JP2000036243A (en) * 1998-07-17 2000-02-02 Ise Electronics Corp Manufacture of electron emitting source
KR20000020870A (en) * 1998-09-24 2000-04-15 손욱 Composition for field emitter of field emission display
KR20030038044A (en) * 2001-11-08 2003-05-16 삼성에스디아이 주식회사 A carbon nanotube emitter composition for field emision device and preparation method of the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100955496B1 (en) * 2009-07-09 2010-04-30 주식회사 동진쎄미켐 Conductive composition for forming electrode of solar cell
WO2011005026A2 (en) * 2009-07-09 2011-01-13 주식회사 동진쎄미켐 Composition for forming conductive electrodes
WO2011005026A3 (en) * 2009-07-09 2011-04-28 주식회사 동진쎄미켐 Composition for forming conductive electrodes

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