KR100725828B1 - 광확산판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정디스플레이의 백라이트 유닛이나 조명장치 등에 사용되는 광확산판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 1 베이스 수지와 광확산제를 포함하는 기재층과; 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 2 베이스 수지와 유리비드를 포함하는 표면층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 광확산판에 관한 것이며, 낮은 흡수성으로 높은 치수안정성을 가져 고온, 다습의 환경에서도 휨현상이 발생되지 않으며, 전광선 투과율을 비롯한 광특성과 휘도가 우수하고, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮은 광확산판을 제공한다.
액정디스플레이, 아크릴계 수지, 메틸아크릴레이트, 유리비드, 광확산판, 광확산제, 광안정제

Description

광확산판{Light-diffusion plate}
본 발명은 액정디스플레이의 백라이트 유닛이나 조명장치 등에 사용되는 광확산판에 관한 것이다.
종래 사용되고 있는 광확산판으로는 ① 표면에 물리적 요철을 부여하는 가공을 실시하여 얻어진 광확산판(일본,특허출원공개 평4-275501), ② 폴리에스테르 수지 등 투명기재 상에 미립자를 함유한 투명수지로 이루어지는 광확산층을 코팅하여 얻어진 광학산판(일본,특허출원공개 평6-59108), ③ 투명수지 중에 비드를 용융혼합하고, 이것을 압출성형하여 얻어진 광확산판(일본,특허출원공개 평6-123802), ④ 두 종류 이상의 투명한 열가소성 수지를 용융 혼련하여 생긴 해도구조를 갖는 광확산판(일본,특허출원공개 평9-311205) 등이 개시되어 있다.
상기 ① 및 ②의 광확산판은 표면에 형성된 요철 또는 코팅된 광확산층에 의해 광확산 효과를 얻는, 요컨대, 표면 광확산판이다. 한편, ③ 및 ④의 광확산판은 적어도 기재 내부에도 광확산 성분을 갖는 광확산판이다.
이들 중 상기 ②의 투명기재 필름 상에 광확산층을 코팅하여 얻어지는 광확 산판이 현재 일반적으로 보급되어 있다.
광확산판으로 주로 사용되고 있는 기존의 메틸메타크릴레이트 수지로 제조된 광확산판은 전광선 투과율 등의 광특성이 우수하나, 치수안정성이 낮아 냉음극 형광램프 및 LED와 같은 광원과 함께 사용되어 점등 및 소등에 의해 온도가 변화하며, 이러한 환경에서는 광확산판의 수분흡수율이 쉽게 변동될 수 있어 휨, 주름과 같은 변형, 이에 수반되는 크래킹 등의 문제점이 있다. 즉, 고온 다습한 환경에서 휨현상과 같은 변형이 발생되는 문제점이 있다(일본,특허출원공개 평07-100985, 일본특허출원공개 평08-198976).
이러한 문제점을 해결하기 위하여 흡수능력을 저하시킬 수 있는 메틸메타크릴레이트-스티렌수지가 적용된 다층시트(일본,특허출원공개 2004-37483, 한국특허공개 2003-95262)가 제안되었으나, 이에 사용된 수지는 본질적으로 내광성이 충분하지 못하여 사용조건에 따라서는 착색과 같은 열화의 문제를 가질 수 있다.
수지의 내광성을 향상시키는 공지의 방법 중 하나는 자외선 흡수제의 첨가이지만 수지의 내광성이 낮은 일부의 경우에는 그 효과가 충분하지 않다.
본 발명자들은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 높은 광투과성, 은폐성 및 무광택 표면으로 낮은 반사특성을 보여주면서도 특히 고온의 습한 조건에서도 낮은 흡수성으로 인한 높은 치수안정성을 보여주며 광원에 장시간 노출되어도 황변현상이 발생되지 않는 광확산판을 제공할 수 있음을 실험을 통하여 확인하고 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서 본 발명은 높은 치수안정성으로 고온, 다습의 환경에서도 휨현상이 발생되지 않으면서, 광특성이 우수하고 황변현상이 발생하지 않는 광확산판을 제공하고, 또한 무광택 표면으로 낮은 반사특성을 보이는 광확산판을 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 1 베이스 수지와 광확산제를 함유하는 기재층과; 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되고, 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 2 베이스 수지와 유리비드를 함유하는 표면층을 포함하는 광확산판을 제공한다.
상기 표면층의 유리비드는 평균 입경이 10 ~ 70 ㎛, 굴절률이 1.8 ~ 2.5 인 것을 특징으로 한다.
상기 표면층의 유리비드는 상기 제 2 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.5~50 중량부 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지며, 표면조도가 0.1~50㎛인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 아크릴계 수지는 메타크릴산알킬에스테르, 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산시크로알킬에스테르, 아크릴산시크로알킬에스테르, 메타크릴산아릴에스테르, 아크릴산아릴에스테르 중 선택된 단량체로부터 얻어진 단독 중합체 및 공중합체 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 한다.
상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 스티렌-아크릴계 공중합 수지는 메타크릴산알킬에스테르, 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산시크로알킬에스테르, 아크릴산시크로알킬에스테르, 메타크릴산아릴에스테르, 아크릴산아릴에스테르 중 선택된 1종 이상의 아크릴계 단량체와, 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 중 선택되는 1종 이상의 스티렌계 단량체와의 공중합체인 것을 특징으로 한다.
상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 스티렌계 수지는 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 중 선택된 단량체로부터 얻어진 단독 중합체 및 공중합체 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 한다.
상기 기재층의 광확산제는 상기 제 1 베이스 수지 100 중량부에 대하여 0.01~50 중량부 포함되는 것을 특징으로 한다.
상기 표면층은 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 100 중량부에 대하여 광확산제를 0.01~50 중량부 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 기재층 또는 표면층의 광확산제는 입경이 0.2~50㎛인 것을 특징으로 한다.
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이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 기재층 또는 표면층의 제 1 또는 제 2 베이스 수지로서는 광투과성, 내광성 등에 있어서 우수한 특성을 보이는 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상인 것으로 하며, 기재층의 제 1 베이스 수지와 표면층의 제 2 베이스 수지는 필요에 따라서 서로 같은 수지일 수도 있으며, 서로 다른 수지일 수도 있다.
특히, 본 발명에서 제 1 베이스 수지 또는 제 2 베이스 수지로 사용하는 아크릴계 수지는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트 등의 메타크릴산알킬에스테르; 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트 등의 아크릴산알킬에스테르; 시크로헥실메타크릴레이트, 2-메틸시크로헥실메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트 등의 메타크릴산시크로알킬에스테르; 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시크로헥실아크릴레이트 등의 아크릴산시크로알킬에스테르; 페닐메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트 등의 메타크릴산아릴에스테르; 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 등의 아크릴산아릴에스테르 중 선택된 단량체로부터 얻어진 단독중합체 및 공중합체 중 선택된 1종이상인 것이 바람직하다.
또한, 제 1 베이스 수지 또는 제 2 베이스 수지로 사용하는 스티렌-아크릴계 공중합 수지는 메타크릴산알킬에스테르, 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산시크로알킬에스테르, 아크릴산시크로알킬에스테르, 메타크릴산아릴에스테르, 아크릴산아릴에스테르 중 선택되는 1종 이상의 아크릴계 단량체와 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 중 선택되는 1종 이상의 스티렌계 단량체와의 공중합체인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 표면층에는 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 2 베이스 수지 이외에 유리비드가 포함된다.
상기 유리비드는 우수한 열적안정성을 가지고 있고, 또한 화학적 내구성 및 내후성이 뛰어난 수지이다. 따라서 높은 내열성으로 보온병, 열소독을 하는 의료기구, 약품용기 등에 적용되고 있다.
상기 유리비드는 외형이 둥근 구슬형태이므로 수지에서의 유동성과 분상성 향상, 조성물의 치수 안정화와 고충진에 따른 광확산판 표면의 강도 증가 및 내구성 향상을 꾀할수 있으며, 특히 재귀반사 특성으로 인하여 광확산판의 표면층에 적용하여 휘도를 증가시킬 수 있다.
한편, 상기 유리비드는 상기 표면층의 표면으로 돌출되어 엠보싱 형상을 가지게 됨으로써 무광택 표면 및 낮은 반사율을 가지는 효과를 꾀할 수 있다. 이 때, 상기 표면층의 표면조도는 약 0.1~50㎛가 적당하며, 조도가 50㎛ 초과하면 표면 충격강도가 불충분하며, 조도가 0.1㎛ 미만이면 무광택 효과가 떨어진다.
본 발명에 사용되는 유리비드는 실리카(SiO2), 보레이트(borate) 글래스, 알칼리 또는 알칼리 토금속을 포함하는 실리케이트(silicate)글래스 등의 산화물 유리에 무기입자들(Na2O,K2O, CaO, TiO2, BaO Fe2O3, TiO2)이 들어간 고굴절 유리비드이다. 또한 굴절률이 큰 중공유리비드도 사용가능하다.
상기 표면층에 포함되는 유리비드의 함량은 상기 제 2 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.5~50중량부이며, 바람직하게는 5~30중량부가 좋다. 유리비드의 양이 0.5중량부 미만이면 충분한 광확산판 출사층의 재귀반사의 특성을 얻을 수 없고, 50중량부 초과이면 광투과성에서 불리하다.
본 발명에서의 유리비드 입자의 크기는 10 ~ 70 um 사용 가능하며, 20 ~ 40 um의 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 유리비드의 입경이 10㎛ 미만인 경우 표면 조도가 낮아져 무광택 효과가 떨어지며, 70㎛ 초과일 경우 표면조도가 너무 커져 표면 충격강도가 저하되는 문제가 있다.
제 2 베이스 수지와 유리비드의 굴절율의 차이는 0.3 ~ 1.0정도인 것으로 굴절율은 1.8 ~ 2.5사이의 유리비드를 사용하는 것이 가능하다. 이러한 유리비드가 적용됨으로써 광확산 기능을 가지는 동시에 우수한 발수특성을 나타낸다.
상기 기재층에 포함되는 광확산제로는 보통 기재 수지와의 굴절률이 같지 않은 것으로써, 빛의 확산율을 높이기 위하여 사용되며, 이에는 다양한 유기 및 무기의 입자들이 사용된다. 이 때, 광확산제는 기재 수지와의 굴절율이 큰 경우에는 적 은 양으로도 광확산 효과가 발휘되고, 굴절율 차이가 적은 경우에는 상대적으로 많은 양이 포함되어야 한다.
대표적으로 사용되는 유기입자의 예로는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 이들의 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계 중합체 입자; 폴리에틸렌과 폴리프로필렌 등의 올레핀계 중합체 입자; 아크릴과 올레핀계의 공중합체 입자, 폴리스티렌계 중합체 입자, 단일중합체의 입자를 형성후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워서 만드는 다층다성분계 입자, 실록산계 중합체 입자 등이 있다.
한편, 무기계 광확산 입자의 예로는 탄산칼슘, 황산바륨, 산화규소, 수산화알루미늄, 산화티타늄, 산화지르코늄, 불화마그네슘, 탈크, 글래스, 마이카 등이 있다. 통상 무기입자에 비해 유기입자의 광확산성이 우수하며 필요하면 2종류 이상의 광확산 입자를 조합하여 사용할 수 있다.
또, 상기 기재층에 포함되는 광확산제는 상기 표면층에 더 포함될 수 있다. 상기 표면층에서 광확산제 및 유리비드를 더 포함함으로써 광확산 표과를 더욱 증대시킬 뿐만 아니라, 상기 광확산 입자가 유리비드와 마찬가지로 상기 표면층의 표 면으로 돌출되어 엠보싱 형상을 가지게 됨으로써 무광택 표면 및 낮은 반사율을 가지는 효과를 꾀할 수 있다. 이 때, 상기 표면층의 표면조도는 약 0.1~50㎛가 적당하며, 조도가 50㎛ 초과하면 표면 충격강도가 불충분하며, 조도가 0.1㎛ 미만이면 무광택 효과가 떨어진다.
본 발명의 기재층 또는 표면층에 사용되는 광확산제의 함량은 상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 표면층의 제 2 베이스 수지 100중량부에 대하여 각각 0.01 ~ 50중량부이며, 바람직하게는 0.5 ~ 20중량부이다. 광확산제의 양이 0.01중량부 미만이면 충분한 광확산 효과 및 은폐성을 기대하기 어렵고, 50중량부 초과이면 빛의 투과성이 좋지 않다. 이 때, 광확산제의 함량은 베이스 수지와의 굴절율 차이에 따라 결정될 수 있다.
한편, 본 발명에서는 기재층 또는 표면층에 광안정제가 첨가될 수도 있는데, 첨가될 수 있는 광안정제로서는 250nm ~ 380nm 범위에 극대 흡수 파장을 가지는 자외선 흡수제와 라디칼 스캐빈저로서 광안정 효과를 극대화시킬 수 있는 힌더드 아민류의 자외선 안정제가 바람직하다. 이들은 오랫동안 효력을 발휘할 수 있어야 하고, 증발되거나 추출되어 시트로부터 유리되거나 제거되지 않아야 되며, 기재와의 상용성이 좋은 흡수제를 선택해야 한다.
자외선 흡수제의 예는 시아노아크릴계, 살리실레이트계, 말론산 에스테르계, 옥살아닐리드계, 디케톤계, 하이드록시 벤조페논계, 하이드록시 벤조트리아졸계, 유기금속계 등을 들 수 있으며, 이들 중 선택된 2 이상을 조합하여 사용할 수 있 다.
자외선 안정제의 예는 피페리디닐 에스터류, 옥사졸리딘과 피페리디노옥사졸리딘류, 피페리디스피로아세탈류, 디아자사이클로알카논류 등이 있으며, 이들 중 선택된 2 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
광안정제의 함량은 상기 기재층 또는 표면층의 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.01중량부 ~ 5 중량부이고, 바람직하게는 0.1 중량부 ~ 2 중량부이다. 이들은 특히 표면층에 함유시킴으로써 기재층의 전광선 투과율 및 물성의 저하 없이 기대되는 광안정 효과를 얻을 수 있으며, 또한 원가절감의 효과를 가져올 수 있다. 또한, 표면층에는 유리비드가 포함되어 있어서 광안정제 함량을 낮추더라도 우수한 광안정 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 광확산판은 공지된 기술인 공압출성형, 적층, 열접착, 표면코팅 등의 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 광확산판은 옥내외의 각종 용도에 사용될 수 있다. 즉, 간판, 조명 간판, 조명 커버, 유리 진열장에 사용될 수 있고, 바람직하게는 디스플레이용 광확산판으로 사용될 수 있다. 디스플레이 광확산판의 대표적인 예로는 액정 디스플레이 백라이트 또는 에지 라이트형 백라이트용의 광확산판을 들 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예로 더욱 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실 시예로 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 - 20 및 비교예 1 - 12의 조성 및 조성비는 하기 [표 1]과 같으며, 실시예 1 - 10 및 비교예 1 - 6은 기재층의 일면에 표면층을 형성한 것이며, 실시예 11 - 20 및 비교예 7 - 12는 기재층의 양면에 표면층을 형성한 것이다.
이 때, 성형은 각각 1축의 스크류직경 135㎜, 60㎜에서 공압출하였으며, 성형온도는 250℃에서 수행하였고, 실시예 1 내지 10 및 비교예 1, 2는 기재층의 두께를 1.9㎜, 표면층의 두께는 0.1㎜로 하였으며, 실시예 11 내지 20 및 비교예 3, 4는 기재층의 두께를 1.8㎜, 표면층의 두께는 양면 모두 0.1㎜로 하였다.
기재층 표면층
제 1베이스 수지 광확산제 제2베이스 수지 유리비드 광확산제 광안정제
실시예1, 실시예11 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 10중량부 - 자외선흡수제 0.2중량부
실시예2, 실시예12 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 10중량부 MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
실시예3, 실시예13 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 30중량부 - 자외선흡수제 0.2중량부
실시예4, 실시예14 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 30중량부 MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
실시예5, 실시예15 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 50중량부 - 자외선흡수제 0.2중량부
실시예6, 실시예16 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 UB-12M 50중량부 MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
실시예7, 실시예17 MS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MS수지 100중량부 UB-12M 30중량부 - 자외선흡수제 0.2중량부
실시예8, 실시예18 MS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MS수지 100중량부 UB-12M 30중량부 MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
실시예9, 실시예19 PS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 PS수지 100중량부 UB-12M 30중량부 - 자외선흡수제 0.2중량부
실시예10, 실시예20 PS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 PS수지 100중량부 UB-12M 30중량부 MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
비교예1, 비교예7 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 - - 자외선흡수제 0.2중량부
비교예2, 비교예8 MM수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MM수지 100중량부 - MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
비교예3, 비교예9 MS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MS수지 100중량부 - - 자외선흡수제 0.2중량부
비교예4, 비교예10 MS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 MS수지 100중량부 - MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
비교예5, 비교예11 PS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 PS수지 100중량부 - - 자외선흡수제 0.2중량부
비교예6, 비교예12 PS수지 100중량부 실리콘비드 2중량부 PS수지 100중량부 - MM수지비드 5중량부 자외선흡수제 0.2중량부
* MM수지 : 메틸메타크릴레이트 수지 * MS수지 : 메틸메타크릴레이트-스티렌 공중합 수지 * PS수지 : 스티렌 수지 * 실리콘 비드 : 실리콘 수지 비드, 입경 2㎛ * MM수지 비드 : 메틸메타크릴레이트 수지 비드, 입경 10~30㎛ * 자외선 흡수제 : 2-(2'-Hydroxy-5'-methyl-phenyl)benzotriazole, TINUVIN P * 유리비드 : UB-12M (Glass bead, Unibeads Co. Ltd.), 굴절률 1.93
상기 실시예들과 비교예들에서 제조된 광확산판에 대하여 수분흡수율, 휨, 전광선 투과율, 헤이즈 및 노광후의 황변도를 측정한 결과 하기 [표 2]와 같다.
여기서 수분흡수율은 광확산판을 10 × 10 ㎝로 절단한 후 물속에서 25℃, 24시간 방치 후 무게 변화로부터 수분 흡수율을 측정하였으며, 휨은 시트를 20°크기의 백라이트에 장착한 후 60℃, 상대습도 75%에서 96시간 방치한 후 바닥에서부터 네 모서리의 뜨는 정도를 측정하였다.
전광선 투과율, 헤이즈는 ASTM D1003 방법에 의하여 측정하였다.
노광후의 황변도는 ASTM D1925 규격에 의해 램프는 FS-40 313/280를 장착한 Q-UV 테스터에서 40℃, 240시간 행한 후, ASTM D1003법에 의해 측정하였다.
휘도측정은 LCD TV용 32인치 BLU를 사용하여, 광확산판 위에 확산필름, 프리즘시트 그리고 DBEF필름을 올린 후, 휘도측정기 BM-7를 사용하였다. 휘도는 총 9 point를 측정하여 평균휘도를 구하였다.
구 분 수분흡수율 (%) 휨 (㎜) 전광선 투과율(%) 헤이즈(%) 노광 후의 황변도(△YI) 평균휘도 (cd/m2)
기재층의 일면에 표면층 형성 실시예 1 0.252 0.33 66.0 99.2 0.8 7300
실시예 2 0.263 0.34 66.0 99.4 0.8 7400
실시예 3 0.221 0.30 65.0 99.2 0.9 7600
실시예 4 0.210 0.29 65.0 99.4 0.9 7800
실시예 5 0.188 0.26 63.0 99.2 1.0 7500
실시예 6 0.198 0.27 63.0 99.4 1.0 7600
실시예 7 0.152 0.33 64.0 99.2 4.57 7600
실시예 8 0.154 0.34 64.0 99.4 4.60 7700
실시예 9 0.112 0.32 64.0 99.2 6.63 7700
실시예 10 0.114 0.31 64.0 99.4 6.58 7700
비교예 1 0.320 0.53 65.0 99.2 1.0 7300
비교예 2 0.325 0.53 65.0 99.4 0.93 7300
비교예 3 0.160 0.38 64.0 99.2 4.52 7200
비교예 4 0.165 0.39 63.0 99.4 4.48 7200
비교예 5 0.120 0.36 63.0 99.2 6.63 7100
비교예 6 0.125 0.37 62.0 99.4 6.58 7150
기재층의 양면에 표면층 형성 실시예 11 0.222 0.32 66.0 99.2 0.9 7200
실시예 12 0.253 0.33 66.0 99.4 0.9 7300
실시예 13 0.201 0.31 65.0 99.2 1.0 7500
실시예 14 0.210 0.28 65.0 99.4 1.0 7700
실시예 15 0.176 0.25 63.0 99.2 1.1 7400
실시예 16 0.194 0.26 63.0 99.4 1.3 7500
실시예 17 0.150 0.32 64.0 99.2 4.37 7500
실시예 18 0.144 0.32 64.0 99.4 4.63 7600
실시예 19 0.102 0.32 64.0 99.2 6.23 7600
실시예 20 0.104 0.33 64.0 99.4 6.28 7600
비교예 7 0.310 0.52 65.0 99.2 1.2 7200
비교예 8 0.315 0.51 65.0 99.4 0.92 7200
비교예 9 0.105 0.32 64.0 99.2 2.61 7100
비교예 10 0.115 0.36 63.0 99.4 2.41 7100
비교예 11 0.080 0.36 63.0 99.2 4.16 7050
비교예 12 0.072 0.34 62.0 99.4 3.68 7050
상기 물성평가 결과, 표면층에 유리비드를 포함하고 있지 않은 실시예 1 - 12의 경우 비교예 1 - 20에 비하여 수분흡수율이 낮아서 휨 현상이 적게 발생함을 알 수 있다. 한편, 실시예에서 MM수지, MS수지, PS수지 중에서 MM수지인 경우가 황변도가 가장 낮았으며, 실시예 4의 경우, 재귀반사 유리비드의 영향으로 평균휘도가 가장 증가함을 알 수 있다. 일반적으로 굴절율이 낮은 유리비드는 수분흡수율이 높지만, 표면이 코팅된 고굴절의 유리비드는 수분흡수율이 낮아서 광확산판의 휨특성에 영향을 덜 끼친다.
따라서 본 발명의 광확산판은 전광선 투과율 및 광확산성이 우수하면서 수분흡수율이 낮아 휨 현상 등 수분에 의한 변형에 강하며, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮고 빛의 재귀반사의 영향으로 휘도가 향상됨을 알 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 광확산판은 낮은 흡수성으로 높은 치수안정성을 가져 고온, 다습의 환경에서도 휨 현상이 발생되지 않으며, 전광선 투과율을 비롯한 광특성이 우수하고, 광원에 장시간 노출되어도 황변도가 낮은 광확산판을 제공하였다.

Claims (12)

  1. 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 1 베이스 수지와 광확산제를 함유하는 기재층과;
    상기 기재층의 적어도 일면에 형성되고, 아크릴계 수지, 스티렌-아크릴계 공중합 수지 및 스티렌계 수지 중 선택되는 1종 이상의 제 2 베이스 수지와 유리비드를 함유하는 표면층을 포함하는 광확산판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면층의 유리비드는 평균 입경이 10 ~ 70 ㎛, 굴절률이 1.8 ~ 2.5 인 것을 특징으로 하는 광확산판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면층의 유리비드는 상기 제 2 베이스 수지 100중량부에 대하여 0.5~50 중량부 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산판.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면층은 상기 유리비드의 돌출에 의한 엠보싱 형상을 가지며, 표면조도가 0.1~50㎛인 것을 특징으로 하는 광확산판.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 아크릴계 수지는 메타크릴산알킬에스테르, 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산시크로알킬에스테르, 아크릴산시크로알킬에스테르, 메타크릴산아릴에스테르, 아크릴산아릴에스테르 중 선택된 단량체로부터 얻어진 단독 중합체 및 공중합체 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 광확산판.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 스티렌-아크릴계 공중합 수지는 메타크릴산알킬에스테르, 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산시크로알킬에스테르, 아크릴산시크로알킬에스테르, 메타크릴산아릴에스테르, 아크릴산아릴에스테르 중 선택되는 1종 이상의 아크릴계 단량체와 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 중 선택되는 1종 이상의 스티렌계 단량체와의 공중합체인 것을 특징으로 하는 광확산판.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 기재층의 제 1 베이스 수지 또는 상기 표면층의 제 2 베이스 수지의 스티렌계 수지는 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 중 선택된 단량체로부터 얻어진 단독 중합체 및 공중합체 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 광확산판.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 광확산제는 상기 제 1 베이스 수지 100 중량부에 대하여 0.01~50 중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 광확산판.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면층은 상기 표면층의 제 2 베이스 수지 100 중량부에 대하여 광확산제를 0.01~50 중량부 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산판.
  10. 제 1 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 기재층 또는 표면층의 광확산제는 입경이 0.2~50㎛인 것을 특징으로 하는 광확산판.
  11. 삭제
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