KR100724082B1 - 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 담금액을 수용하기 위한 광학 전달 챔버;상기 담금액을 통하여 음파를 전파하기 위하여 상기 광한 전달 챔버와 동작가능하게 맞물린 적어도 하나의 메가소닉 판;상기 담금액을 상기 광학 전달 챔버에 공급하기 위하여 상기 광학 전달 챔버에 유체 연결되도록 형성되고 상기 적어도 하나의 메가소닉 판이 설치된 유입관; 및마스크 및 상기 담금액을 통하여 웨이퍼 상에 빛은 투과시키기 위하여 상기 광학 전달 챔버에 접하여 제공된 광학 시스템을 포함하는 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 담금액을 상기 광학 전달 챔버에 공급하기 위하여 상기 광학 전달 챔버와 유체 연결되도록 형성된 배출관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치.
- 제3항에 있어서,상기 광학 시스템은 상기 마스크를 통하여 레이저 빔을 방출하기 위한 레이저 및 상기 마스크로부터 회로 패턴 이미지를 수용하고 상기 담금액을 통하여 상기 웨이퍼 상에 회로 패턴 이미지를 전송하기 위한 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치.
- 제1항에 있어서,상기 적어도 하나의 메가소닉 판은 일반적으로 상기 광학 전달 챔버 주변에 형성된 환형 메가소닉 판을 포함하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치.
- 회로 패턴을 가진 마스크를 제공하는 단계;담금액을 광학 전달 챔버에 제공하는 단계;상기 담금액의 유입관에 설치된 적어도 하나의 메가소닉 판에 의해 생성된 음파를 상기 담금액을 통하여 전파시키는 단계; 및레이저 빔을 상기 마스크 및 상기 담금액을 각각 통과하여 상기 웨이퍼 상에 전달함에 의하여 감광 코팅된 웨이퍼를 노광시키는 단계를 포함하는 담금 리소그래피 공정에서 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 제6항에 있어서,담금액을 통하여 음파를 전파시키는 단계는 상기 감광 코팅된 웨이퍼를 노광시키기 전 또는 동안 상기 담금액을 통하여 음파를 전파시키는 것을 특징으로 하는 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 제6항에 있어서,상기 담금액은 암모니아, 과산화수소 및 물의 혼합액인 것을 특징으로 하는 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 제6항에 있어서,상기 담금액은 중성화된 물(deionized water) 또는 오존화된 물(ozonated water)인 것을 특징으로 하는 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 제6항에 있어서,상기 담금액에 계면 활성제가 제공되는 것을 특징으로 하는 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 제6항에 있어서,상기 담금액을 통하여 음파를 전파시키는 단계는 10㎑ 내지 1,000㎑의 메가소닉 파워에서 상기 담금액을 통하여 음파를 전파시키는 것을 특징으로 하는 담금액으로부터 마이크로버블들을 제거하는 방법.
- 광학 시스템, 상기 광학 시스템의 최종 대물렌즈 및 기판 사이에 제공된 광학 전달 챔버 및 상기 광학 전달 챔버에 맞물린 적어도 하나의 메가소닉 판을 포함하는 메가소닉 담금 리소그래피 노광 장치를 제공하는 단계;회로 패턴을 가진 마스크를 제공하는 단계;제1 액을 상기 광학 전달 챔버에 제공하는 단계;상기 제1 액을 통하여 음파를 전파시키는 단계;제2 액을 상기 광학 전달 챔버에 제공하는 단계; 및상기 광학 시스템 및 상기 제2 액을 통하여 웨이퍼 상에 광학 빔을 전달시킴에 의하여 감광 코팅된 웨이퍼를 노광시키는 단계를 포함하는 담금 리소그래피 공정.
- 제12항에 있어서,상기 제1 액은 암모니아, 과산화수소 및 물의 혼합액을 포함하는 것을 특징으로 하는 담금 리소그래피 공정.
- 제12항에 있어서,상기 제1 액은 중성화된 물 또는 오존화된 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 담금 리소그래피 공정.
- 제12항에 있어서,상기 제2 액은 중성화된 물 또는 계면 활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 담금 리소그래피 공정.
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JP2005223342A (ja) | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
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- 2005-11-18 KR KR1020050110654A patent/KR100724082B1/ko active IP Right Grant
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US20050048223A1 (en) | 2003-09-02 | 2005-03-03 | Pawloski Adam R. | Method and apparatus for elimination of bubbles in immersion medium in immersion lithography systems |
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