KR100710145B1 - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 액정주입 후 액정과 실(seal)재와의 반응으로 발생되는 얼룩을 방지하기 위한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 액정표시장치는 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성된 제 1기판, 칼라필터 패턴이 형성된 제 2기판, 상기 제 1기판상의 액티브영역 주변을 따라 형성된 실(seal)재, 상기 실재의 내측에 상응하는 상기 제 2기판상에 형성된 상기 실재와 액정과의 반응 방지를 위한 반응방지막, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 봉입된 액정을 포함하여 구성되고, 본 발명의 액정표시장치의 제조방법은 액티브 영역이 정의된 TFT 기판 및 칼라필터기판을 준비하는 단계, 상기 액티브영역 주변을 따라 상기 TFT기판상 실재를 패터닝하는 단계, 상기 실재의 내측에 상응하는 상기 칼라필터 기판상에 상기 실재와 액정과의 반응을 방지하기 위한 반응방지막을 형성하는 단계, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
반응방지막, 실(seal)
Description
도 1은 종래기술에 따른 액정표시장치의 구조단면도
도 2는 종래기술에 따른 액정표시장치의 구조평면도
도 3은 본 발명 제 1실시예에 따른 액정표시장치의 구조평면도
도 4는 본 발명 제 1실시예에 따른 액정표시장치의 구조단면도
도 5는 본 발명 제 2실시예에 따른 액정표시장치의 구조평면도
도 6a 내지 6c는 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서 칼라필터기판의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
301 : 실(seal)영역 302 : 반응방지막
303a : 박막트랜지스터기판 303b : 칼라필터기판
본 발명은 디스플레이장치에 관한 것으로, 특히 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
액정표시장치의 제조공정은 크게 TFT공정, 칼라필터공정, LCD 공정, 모듈공정으로 나누어진다. TFT 공정은 반도체 제작공정과 유사하며, 증착(deposition) 및 사진식각(photolithography), 식각(etching)공정을 반복하여 절연기판위에 박막트랜지스터 배열을 제작하는 공정이며, 칼라필터공정은 블랙매트릭스가 형성된 절연기판 위에 염료나 안료를 사용하여 적, 녹, 청색의 칼라필터층을 제작한 후 공통전극용 ITO를 형성하는 공정이다. LCD 공정은 TFT 공정이 완료된 절연기판과 칼라필터 공정이 완료된 절연기판을 두 기판 사이에 일정한 틈이 유지되도록 합착한 후 그 틈 사이로 액정을 주입하여 LCD 셀을 만드는 공정이다. 모듈공정은 신호처리를 위한 회로부를 제작하고 TFT-LCD 패널과 신호처리 회로부를 실장기술을 통해 서로 연결한 후 기구물을 부착하여 모듈을 제작하는 공정이다.
상기 액정표시장치의 제조공정 중에서 본 발명과 관련있는 LCD 공정기술을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
LCD 공정은 다음과 같은 단위공정으로 이루어져 있다. 첫째, 배향막 형성 공정으로서, 액정분자의 균일한 배향을 형성하여 정상적인 액정구동이 가능하게 하고 균일한 디스플레이 특성을 갖게 한다. 둘째, 러빙(Rubbing)공정으로서, 천을 이용하여 배향막에 일정한 방향으로 문질러 줌으로써 액정분자들이 러빙방향으로 정렬한다. 셋째, 셀갭(Cell gap)형성 공정으로서, TFT기판과 칼라필터기판을 일정한 간격으로 유지시키는 공정으로서 실(seal)재에 스페이서(spacer)를 산포시킨다. 넷째, 조립공정으로서, TFT기판과 칼라필터기판을 합착시키는 공정으로서 수 마이크로미터의 정밀도가 요구되며 공정진행시 테이블의 평탄도, 가압시 상하면의 평행 도, 공간적인 압력 및 온도의 균일도가 요구된다. 다섯째, 셀 커팅공정으로서, seal 패턴 경화공정이후에 기판에서 각각의 셀로 절단하여 분리하는 공정으로 유리보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜으로 유리표면에 커팅라인을 형성하는 스크라이브(scribe)공정과 힘을 가하여 절단하는 절단공정으로 이루어진다. 여섯째으로서, 액정주입공정, 일반적으로 셀 내외의 압력차를 이용하여 액정을 주입하는 진공주입법이 널리 이용되며 액정 주입이 완료된 셀의 주입구에 액정이 흘러나오지 않게 막아주는 공정이 부가된다. 일곱째, 편광필름부착공정으로서, 액정이 주입된 셀은 광학적 및 전기적 신호를 가해 검사한 후 셀의 양면에 편광판을 부착하는 것으로 액정 분자의 복굴절에 의한 빛의 편광특성을 이용하는 TN-LCD에서 편광판 부착은 필수적인 공정이다.
이하에서 종래기술에 따른 액정표시장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래기술에 따른 액정표시장치의 구조단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 두 장의 절연기판(101, 101a)을 대향시켜 그 사이에 액정(111)을 봉입한 것으로, 상판에는 색상을 표현하기 위한 적, 청, 녹색의 칼라필터층(102)이 형성되고, 하판에 형성된 화소전극을 제외한 부분으로 빛의 투과를 차단하기 위한 블랙매트릭스(103)가 매트릭스 형태로 형성된다.
그리고, 칼라필터층(102)과 블랙매트릭스(103)에 걸쳐 공통전극(105)이 형성되며, 상기 공통전극 형성 전에 보호막(Over coat)(104)을 형성하는 것도 가능하다.
하판에는 게이트라인으로부터 연장되는 게이트전극(106)과, 상기 게이트라인과 교차 배치되는 데이터라인으로부터 연장되는 소스전극(107)과 드레인전극(108)으로 구성되는 박막트랜지스터가 일정한 간격을 갖고 형성된다. 그리고, 드레인전극(108)과 비아홀을 통해 연결되는 화소전극이 형성되며 하판의 배면에는 백라이트(112)가 구비된다.
또, 칼라필터기판과 박막트랜지스터기판 사이에는 셀갭(Cell gap)을 유지하도록 스페이서(Spacer)(109)가 산포되어 있으며, 액정(111)주입 후 상기 두 기판을 밀봉하기 위해 도 2에 도시된 바와 같이, 액티브영역(201) 둘레를 따라 실(seal)(202)이 도포되어 있다.
참고적으로, 도 2는 실런트(Sealant)와 액정과의 반응에 의해 액정주입구(205) 및 실(202)주변에 얼룩(203)이 생긴 모습을 보여준다.
그러나 상기와 같은 종래 액정표시장치는 다음과 같은 문제점이 있었다.
액정표시장치를 동작시켰을 때, 이온성 유기분자물들인 액정과 실런트(sealant)가 반응을 하여 실(seal) 주변 및 액정주입구에 얼룩이 생기게 된다(도 2 참조). 이로 인해 생산수율 및 제품의 신뢰성에 상당한 영향을 미치게 된다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 상기 액정과 실런트(sealant)의 반응을 방지하고 동시에 셀갭유지의 기능을 효과적으로 수행함으로써, 제품의 신뢰도 및 수율 향상을 도모할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방 법을 제공하는데 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정표시장치는 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성된 제 1기판, 칼라필터 패턴이 형성된 제 2기판, 상기 제 1기판상의 액티브영역 주변을 따라 형성된 실(seal)재, 상기 실재의 내측에 상응하는 상기 제 2기판상에 형성된 상기 실과 액정과의 반응 방지를 위한 반응방지막, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 봉입된 액정을 포함하여 구성되고, 본 발명의 액정표시장치의 제조방법은 액티브 영역이 정의된 TFT 기판 및 칼라필터기판을 준비하는 단계, 상기 액티브 영역 주변을 따라 상기 TFT 기판상에 실재를 패터닝하는 단계, 상기 실재의 내측에 상응하는 상기 칼라필터 기판상에 상기 실재와 액정과의 반응을 방지하기 위한 반응방지막을 형성하는 단계, 상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 TFT기판과 칼라필터기판을 구비한 액정표시장치의 구조는 일반적으로 TFT기판이 하판, 칼라필터 기판이 상판으로 구성되는 것이 보통이나, 칼라필터위에 박막트랜지스터를 형성하거나 그 역의 형태로 형성하는 것도 가능하다.
본 발명에 따른 액정표시장치는 칼라필터기판의 반응방지막을 제외한 모든 구조가 종래와 동일하므로 이하에서는 박막트랜지스터 및 칼라필터기판의 세부구조 및 제조방법에 대한 설명은 생략한다.
도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정표시장치의 TFT기판과 칼라필터기판의 합착시 평면도이고 도 4는 도 3의 B-B` 선에 따른 단면도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 액정 패널(303)의 액티브영역 주변을 따라 실(seal)재(301)가 형성되고, 상기 실(seal)영역 내측에서 상기 실(seal)재(301)와 평행하게 형성된 반응방지막(302)으로 구성되며, 상기 반응방지막(302)은 액정주입구(304) 부위에서 오픈된 형태를 갖는다.
여기서, 상기 실재(301)는 액정 패널(303)을 구성하는 TFT 기판상에 형성되며, 상기 TFT기판과 대향하는 칼라필터 기판상에는 반응방지막(302)이 형성된다. 이 때, 상기 반응방지막(302)은 실재(301)와 이후에 형성될 액정과의 이온화 반응을 방지하기 위한 것이다.
도 3에 도시한 바와 같이, 패널(303)의 액티브 영역 주변을 따라 TFT기판과 칼라필터기판을 합착하기 위한 실재(301)가 형성되고, 상기 실재(301) 내측에 상기 실재(301)와 대략적으로 평행하게 액정과 실재(301)와의 반응을 방지하기 위한 반응방지막(302)이 형성된다.
이 때, 상기 반응방지막(302)의 물질은 통상 게이트 배선 물질과 같은 도전성 재료이다.
도 3은 액정 주입을 위한 별도의 액정주입구를 갖는 구조로서, 상기와 같은 구조에서는 상기 반응방지막(302) 및 실재(301)는 액정주입구(304)부위에서 오픈된 구조를 갖는다.
도 4는 도 3의 B-B` 선에 따른 단면도로서, TFT 기판(303a)과 칼라필터기판(303b)이 실재(301)에 의해 합착되며 상기 실재(301)의 내측에는 합착된 두 기판사이에 봉입될 액정과의 반응을 방지하기 위한 반응방지막(302)이 형성된다. 이와 같은, 도전성재료의 반응방지막(302)은 도 4에 도시된 바와 같이 실재와 동일한 높이를 갖도록 형성되어 TFT 기판(303a) 및 칼라필터기판(303b) 간의 갭을 유지시킨다.
도 5는 본 발명의 제 2실시예에 따른 액정표시장치의 평면도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 패널(503)의 액티브영역 주변을 따라 TFT기판과 칼라필터기판을 합착하기 위한 실(seal)재(501)가 형성되며, 상기 실재(501) 내측에서 상기 실재(501)와 대략적으로 평행하게 액정과 실재(501)와의 반응을 방지할 목적으로 반응방지막(502)이 형성된다. 이 때, 상기 실재(501) 및 반응방지막(502)은 오픈영역이 없는 폐곡형상을 갖는다.
이와 같은 구조는 액정을 적하방식으로 주입한 경우이며, 액정주입구가 없기 때문에 실재(501) 및 반응방지막(502)을 폐곡형상으로 구성할 수 있고, 특히 액정 주입구 부위에서 발생할 수 있는 오염등을 방지할 수 있다.
이하 도 6a 내지 6c를 참조하여 본 발명의 액정표시장치 제조방법을 설명한다.
도 6a 내지 6c는 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서 칼라필터기판의 제조방법를 설명하기 위한 공정단면도이다.
도 6a에 도시된 바와 같이, 절연기판(601) 위에 스퍼터링(Sputtering) 공정을 이용하여 블랙매트릭스 물질을 증착한 후, 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 이용한 패터닝 공정으로 일정한 간격의 블랙매트릭스(602)를 형성한다. 이어, 상기 블랙매트릭스(602)간의 공간에 칼라필터층(603)을 패터닝하여 형성한다.
도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 블랙매트릭스(602)와 칼라필터(603)가 적층된 절연기판(601)위에 도전성재료의 투명전도막(604)을 스퍼터링 공정을 이용하여 형성한다.
도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 투명전도막(604) 상에 게이트 배선물질과 같은 도전성재료를 증착한 후 TFT 기판의 실(seal)영역의 내측에 상응하는 위치에 일체형의 반응방지막(605)을 패터닝한다.
이 때, 상기 반응방지막(605)은 액정과 실과의 이온화반응을 억제할 뿐 아니라, 스페이서(spacer) 역할을 겸하도록 형성함으로써, 별도의 스페이서 산포공정을 수행할 필요가 없다.
이후, 도면에는 도시되지 않았지만, 반응방지막(605)이 형성된 칼라필터 기판과 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성된 TFT기판을 도 3과 같이 합착한 다음, 액정을 주입하거나 도 5와 같이 액정을 적하방식으로 주입한 후에 두 기판을 합착하면 본 발명에 따른 액정표시장치 제조공정이 완료된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 액정표시장치와 그 제조방법은 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 액정표시장치는 액정과 실(seal)재 사이의 이온화반응을 방지하여 실재 주변에 얼룩이 형성되지 않도록 함으로서 생산수율 및 제품의 신뢰도 향상을 꾀할 수 있으며, 칼라필터기판에 반응방지막(Column Spacer)이 스페이서(Spacer) 역할을 겸하도록 형성함으로써 기존의 스페이서 산포 공정을 수행하지 않아도 되므로 공정 수를 간소화하여 그에 따른 공정시간을 단축시킬 수 있다.
Claims (8)
- 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성된 제 1기판;칼라필터 패턴이 형성된 제 2기판;상기 제 1기판상의 액티브영역 주변을 따라 형성된 실(seal)재;상기 실재의 내측에 상응하는 상기 제 2기판 상에 게이트 배선물질과 같은 도전성재료로 상기 실재와 동일한 높이를 갖도록 형성되어 상기 제 1 및 제 2 기판간의 갭을 유지시킴과 아울러 상기 실재와 액정과의 반응을 방지하는 반응방지막;상기 제 1기판과 제 2기판 사이에 봉입된 액정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 반응방지막은 폐곡형상인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 반응방지막은 액정주입구 부분이 오픈된 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
- 삭제
- 액티브 영역이 정의된 TFT기판 및 칼라필터 기판을 준비하는 단계;상기 액티브 영역 주변을 따라 상기 TFT기판상에 실재를 패터닝하는 단계;상기 실재의 내측에 상응하는 상기 칼라필터 기판상에 게이트 배선물질과 같은 도전성 재료로 상기 실재와 동일한 높이를 갖도록 형성되어 상기 제 1 및 제 2 기판간의 갭을 유지시킴과 아울러 상기 실재와 액정과의 반응을 방지하기 위한 반응방지막을 형성하는 단계;상기 제 1기판과 제 2기판사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
- 제 5항에 있어서, 상기 액정층은 적하방식으로 형성하거나 액정주입구를 통해 주입하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
- 제 5항에 있어서, 상기 반응방지막은 폐곡형상으로 형성하거나 액정주입구 부위에서 오픈된 형상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
- 삭제
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|---|---|---|---|---|
| JPH04143733A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Pioneer Electron Corp | 光導電型液晶ライトバルブ |
| KR19980020937A (ko) * | 1996-09-13 | 1998-06-25 | 엄길용 | 이중 실패턴을 구비하는 액정표시장치 |
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