KR100708490B1 - 방현필름 및 그 제조방법 - Google Patents

방현필름 및 그 제조방법 Download PDF

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정우철
조성흔
심재현
라종규
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주식회사 두산
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Abstract

본 발명은 방현필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 투명 기재, 상기 투명기재 상에 위치하는 수지층, 상기 수지층에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자, 및 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자를 포함하는 것을 특징으로 하며, 저렴한 제조비용으로 공정수율을 확보하면서 극대화된 방현성과 낮은 반사율을 제공한다.
방현필름, 마이크로셀, 나노입자, 계면활성제, 가상 나노입자 집합체

Description

방현필름 및 그 제조방법{Anti-glare film and method of manufacturing the same}
도1은 종래의 방현필름의 개략적인 단면도이다.
도2는 종래의 또 다른 방현필름의 개략적인 단면도이다.
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.
도4는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다.
도5는 본 발명에 따른 나노입자 및 가상 나노입자 집합체가 분산된 수지도료의 모식도이다.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현필름의 제조 공정의 흐름도이다.
도7a, 도7b는 각각 종래의 제조방법에 따른 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.
도8a, 도8b는 각각 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 통해 제조된 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.
≪도면의 주요부분에 대한 부호의 설명≫
100, 200 : 방현필름 102, 202 : 투명기재
103 : 미립자 105 : 큰 미립자
104, 204 : 수지층 203 : 나노입자
205 : 가상 나노입자 집합체 210 : 계면활성제
214 : 수지도료 215 : 마이크로셀
본 발명은 방현 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CRT 또는 LCD 디스플레이의 전면에 배치되어 이들 디스플레이 외부로 진입하는 광을 확산시켜 눈부심을 방지하거나 최소화하는 방현필름 및 그 제조방법에 관한 발명이다.
일반적으로 CRT 디스플레이는 내부에 형광체가 발광하여 디스플레이의 전면으로 출사하고, 액정 디스플레이에서는 액정 화상을 조명하기 위하여 백라이팅으로 배면에서 발광하여 디스플레이 전면으로 향해 광을 출사하도록 되어 있다.
디스플레이를 실내에서 사용하는 경우, 형광등의 조명광이 디스플레이 표면으로 입사하여 그 광이 반사하면서 화면이 눈부시게 되고, 형광등이 비치거나 하기 때문에 문자인식이 어렵게 된다.
이를 방지하기 위해서, 도1에 도시된 바와 같이, 투명기재(102) 상에, 큰 미립자(105)가 분산된 수지도료(104)를 도포하여 요철을 가진 층을 형성하고, 상기와 같은 방법으로 제조된 방현필름(100)을 디스플레이 전면에 배치함으로써, 화면의 눈부심을 완화하고 디스플레이로부터 선명한 화질을 구현하는 기술은 종래로부터 많이 행하여져 왔다.
또한, 보다 선명하고 깨끗한 디스플레이를 얻기 위해 저굴절과 고굴절물질이 적층의 형태로 코팅된 반사방지필름을 방현필름 상부에 추가로 설치하는 경우도 있고 상기의 방현필름 표면위에 저굴절 물질을 코팅하여 반사율을 낮추는 기술도 사용되고 있다.
그러나, 반사방지필름을 추가로 설치하는 경우는 디스플레이 투과율을 저하시켜 화질을 손실시키고 제조원가 상승과 같은 문제점을 발생시킨다.
한편, 방현필름표면에 저굴절물질을 추가로 코팅하는 기술 또한 공정수율을 떨어뜨리고 제조원가 상승과 같은 문제점이 여전히 남아있게 된다.
방현성은 외부와 접하는 표면의 거칠기(Roughness)에 비례한다.
즉, 표면의 요철이 크고, 많을 수록 외부광의 산란효과가 증대되므로 방현성을 향상 시킬 수 있다.
표면의 요철을 크게 만들어 주기 위해서는 수지도료에 함유된 입자의 크기를 키우거나 입자의 함량을 높여주어야 가능하다.
그러나, 입자의 크기가 커지거나 입자의 함량이 높아질 경우 방현성은 향상되지만, 헤이즈(haze)가 상승하므로 디스플레이 내부에서 출사되는 이미지의 선명도를 저하시키는 문제점이 야기될 수 있다.
또한, 수지도료 내의 입자들이 커지고 함량이 높아짐에 따라 도포액내의 입자들이 쉽게 침전되므로 수지도료의 균일성 불량과 같은 문제점이 발생될 수 있다.
따라서, 위에서 언급한 방현성 저하 및 헤이즈 상승의 문제점을 해결하기 위 해, 도2에 도시된 바와 같이, 2종 이상 크기의 미립자(103, 105)를 혼합하여 사용하는 경우도 있다.
그러나, 2종 이상 크기의 미립자를 혼합하여 사용하는 경우, 사용자가 만족할 만한 수준까지 헤이즈(haze)와 방현성을 구현할 수는 있지만, 반사방지기능을 보다 향상시키기 위해서는, 방현필름의 표면 위에 반사방지층을 추가로 요구한다.
이는 별도의 코팅 공정을 거쳐야 하므로, 제조원가의 상승과 공정수율의 저하와 같은 문제점이 여전히 해소되지 못한다.
따라서, 최근에는 방현필름의 개발에 있어서 공정수율 저하 및 원가상승을 야기시키지 않으면서 반사율을 낮추는 기술인 하이브리드 방식의 필름 개발이 당업자로부터 요구되어 지고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 수지층에 형성되는 방현층으로서 나노 입자를 사용하여 가상의 마이크로 셀 내에 상기 나노입자가 군집된 비교적 큰 가상 나노입자 집합체를 형성하는 동시에 잔여 나노 입자를 분산시키도록 하여, 2종 이상의 입자의 크기를 사용하는 형태를 취하도록 함으로써, 공정 수율과 원가 상승에 영향을 주지 않으면서 방현성과 저반사성을 동시에 충족할 수 있도록 하는 방현 필름 및 그 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 방현필름은, 투명 기재, 상기 투명 기재 상에 위치하는 수지층, 상기 수지층에 분산된 나노입자로서 다수의 제1입자, 및 상기 수지층에 분산된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자를 포함한다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 투명기재는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 투명기재는 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제1입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚인 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제2입자의 크기는 약 50㎚ 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제2입자는 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.3중량부 내지 1.7중량부인 것을 특징으로 하는 것이다.
한편, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법은, 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 마이크로 셀을 형성하는 단계, 상기 마이크로 셀이 형성된 수지도료에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하는 단계, 상기 수지도료를 투명기재의 상부에 코팅하는 단계, 상기 수지도료가 코팅된 투명기재를 건조로에 통과시켜서 용매를 제거하는 단계, 및 상기 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 코팅된 수지도료를 경화시키는 단계를 포함한다.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 용매는 속건성 용매 및 지건성 용매를 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지도료에 투입되는 나노입자는 실리카 계열이고, 입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지도료가 투명기재에 코팅되어 형성되는 수지층의 높이는 약 2 ~ 8㎛인 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지는 각각의 중합체를 형성하는 모노머, 올리고머를 포함하여 2종 이상 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 것이다.
이하, 본 발명에 대한 도면을 참조하여 실시예를 더욱 상세히 설명한다.
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.
도3을 참조하면, 본 발명에 따른 방현필름(200)은 투명기재(202), 상기 투명기재(202) 상에 위치하는 수지층(204), 상기 수지층(204)에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자(203), 및 상기 수지층(204)에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀(micro cell)을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자(203)가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자(205)를 포함한다.
상기 가상 나노입자 집합체(205)는 투명기재(202) 상부에 방현성 요철을 형성시킴으로써 방현성 필름에서 표면 요철로 기능하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.
또한, 수지층(204) 내에 분산된 나노입자(203)는 수지층(204)이 갖고 있는 본래의 굴절률값과 차이를 갖으면서 일부의 수지층(204)과 나노입자(203)가 나노 단위로 교대 배열됨으로써 수지층(204) 내부로 굴절률 차이를 발생시키고, 이는 광학 간섭원리에 의해서 상기 방현 필름(200)의 반사율을 저하시키게 된다.
상기 투명기재(202)는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트 등이 바람직하고, 특히 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰이 더욱 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 투명한 기재라면 어느 것이든 사용 가능하다.
상기 투명기재(202)는 80%이상의 투과율을 가지며, 바람직하게는 85% 이상의 투과율을 갖는다.
여기서, 상기 나노입자로서의 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합 형태로 사용되는 것이 바람직하고, 실리카 계열의 나노입자인 것이 더욱 바람직하며, 상기 제1입자의 크기는 1㎚ ∼ 50㎚ 범위인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 계면활성제(210)에 의한 마이크로 셀의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 제2입자의 크기는 50㎚∼20㎛ 범위인 것이 바람직하다.
도4는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다.
상기 마이크로 셀(215)은 수지를 용매에 용해시키고, 계면 활성제를 투입한 후 고속 혼합 교반하여 내부에 빈 공간(cavity)을 포함한 형태로 제조된다.
상기 마이크로 셀(215)의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 마이크로 셀(215)의 양은 계면 활성제의 농도에 의존한다..
이때, 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.1 중량부~ 2 중량부가 바람직하며, 약 0.3중량부 ~ 1.7중량부가 더욱 바람직하다.
계면활성제가 0.1 중량부 보다 낮을 경우는 충분한 방현성을 나타낼만한 마이크로 셀을 형성하기 어렵고, 2 중량부 보다 많을 경우는 수지도료의 점도상승 및 혼합공정에서 발생되는 기포로 인하여 공정상의 문제점이 발생하게 된다.
상기 마이크로 셀(215)이 형성된 수지도료에 나노입자(203)를 투입한 후 저 속 교반하게 되면 친수성을 띠는 나노입자(203)가 마이크로 셀 내부의 빈 공간으로 진입하여 수집됨으로써 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly, 205)를 형성하게 된다.
도5는 상기 마이크로 셀(215)을 포함하고 있는 수지도료(214)를 나타내며, 상기 마이크로 셀(215) 내부로 진입하지 못한 잔여 나노입자는 수지 도료 내에 무질서하게 분산되어 있게 된다.
여기서, 상기 수지도료의 용매는 속건성 및 지건성 용매를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용하게 된다.
본 발명에 따른 방현필름을 제조하는데 사용되는 수지도료는 각각의 중합체를 형성하는 모노머, 올리고머 등을 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 아크릴 모노머, 특히 다관능성 모노머를 첨가하여 표면 경도를 높이는 것이 더욱 바람직하다.
상기 용매의 선택은 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 초산에틸, 초산엔부틸, 시클로헥사논, 메탄올, 에탄올, n-부탄올, 이소프로판올 등 자유롭게 선택할 수 있으나 용매의 비점과 같은 자료를 통해 증발성능을 고려하여 1종 이상 선택하는 것이 바람직하다.
도3에서, 상기 나노입자는 수지도료(214)를 투명기재(202)에 코팅한 후 건조공정을 진행하면, 나노입자가 군집하여 뭉쳐진 가상 나노입자 집합체(205)는 상기 방현필름(200) 상부에서 방현성 요철로 형성됨으로써 방현필름에 사용하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.
또한, 상기 가상나노입자 집합체(205)는 표면요철을 가진 불규칙적인 덩어리 형태를 띄므로, 매끈한 구형입자에 비해 더욱 큰 거칠기를 구현할 수 있게 된다.
따라서, 본 발명 실시예에 따른 방현필름은 제1입자(203)와 제2입자(205)와 같이 2종 이상의 입자크기를 사용하면서, 가상의 입자인 제2입자(205)의 표면요철로 인해 외부광 산란에 의한 방현성이 극대화된다.
여기서, 나노입자로서의 제1입자(203)는 굴절율이 낮은 물질을 사용할 수록 반사율을 더욱 낮출 수 있게 된다.
다음으로, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법에 대하여 설명한다.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법의 흐름도를 나타낸다.
도6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 제조 과정은, 먼저 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 계면 활성제(210)에 의해서 마이크로 셀(215)을 형성하는 단계를 진행한다(S10).
다음으로, 상기 마이크로 셀(215)이 형성된 수지도료(214)에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하는 단계이다(S20).
이 단계에서, 마이크로 셀(215)의 빈 공간 내로 진입한 나노입자(203)가 모여서 가상 나노입자 집합체(205)를 형성하고, 나머지 잔여 나노 입자(203)는 용액(214) 내에서 불규칙하게 분산하게 된다.
다음에, 상기 나노입자(203)가 포함된 수지도료를 투명기재(202)의 상부에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)로 코팅하는 단계이다(S30).
여기서, 상기 코팅되어 형성된 수지층(204)은 약 2 ~ 8㎛가 바람직하며, 약 3 ~ 5㎛가 더욱 바람직하다.
상기 가상의 나노입자 집합체인 다수의 제2입자(205)는 상기 수지층(204)의 표면에 위치하도록 하는 것이 바람직하다.
그 후, 상기 수지도료가 코팅된 투명기재(202)를 건조로를 통과시켜서 용매를 제거하는 단계를 진행한다(S40).
상기 건조 과정에서 용매가 증발될 경우, 속건성 용매가 먼저 증발하면서 상기 마이크로 셀(215) 내부로 다수의 나노입자가 진입하여 형성된 가상 나노입자 집합체인 다수의 제2입자(205)가 수지층에 먼저 고정되고, 이후 지건성 용매가 증발되면서 수지도료 내부에 무질서하게 분산된 잔여 나노입자(203)들이 수지층(204) 내에 고정되게 된다.
이때, 속건성 용매가 증발하는 속도가 빨라질수록 상기 제2입자는 수지층 표면으로 돌출되는 경향이 크게 된다.
마지막으로, 상기 용매가 제거된 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 방현성 수지층(204)을 포함하는 방현필름(200)을 제조하게 된다.
도7a, 도7b는 각각 종래의 제조방법에 따른 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.
도8a, 도8b는 각각 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 통해 제조된 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.
이하, 바람직한 실시예와 비교예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로써 이에 한정하는 것은 아니다.
<실시예 1>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%, 티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 Micro-Gravure를 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<실시예 2>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 카르복실기를 가진 공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<실시예 3>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 5,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<실시예 4>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크 릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 카르복실기를 갖는 공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 5,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 Micro-Gravure를 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<실시예 5>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용 액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%, 티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로 그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 55℃-70℃-80℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<비교예 1>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액을 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨 후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<비교예 2>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3.6 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.4중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<비교예 3>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 34.6중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 34.5중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 마이크로입자(MX-300, 소켄) 4.4 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨 후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
<실시예 6>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 15.4중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 36.0중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.
상기 실시예와 비교예로부터 제조된 수지도료 및 방현필름에 대한 평가는 아래와 같은 방법으로 실시한다.
(1) 수지도료의 안정성
10ml vial에 약 8ml을 넣고 1시간동안 방치한후 액의 침전 여부를 평가한다. 침전이 발생할 경우 상층에 맑은 부분이 형성된다.
침전 및 기포가 발생하지 않을수록 액안정성은 우수하다.
결과 표기 : 우수, 보통, 취약
(2) 헤이즈(Haze) & 전광선투과율 (Total Transmittance)
분광광도계를 이용하여 값을 측정한다.
결과 표기 : 헤이즈(%), 전광선투과율(%)
(3) 반사율
제작된 방현필름의 뒷면에 습윤성 및 점착성이 뛰어난 검은필름을 기포가 발생하지 않도록 붙인후 반사율 측정기기를 이용하여 5˚반사율을 측정한다.
결과 표기 : 반사율(%)
(4) 방현성
필름을 수평한 표면위에 완전 밀착시킨후 외부의 형광등을 반사시켜 비춰본 후 형광등의 형태가 원만하게 관찰되는지의 정도를 살펴본다.
형광등의 형태가 안보일수록 방현성은 높다.
결과 표기 : 높음, 중간, 낮음
<표 1>
수지도료 안정성 헤이즈 (%) 투과율 (%) 반사율 (%) 방현성
실시예1 우수 43 91 0.90 높음
실시예2 우수 40 90 1.25 중간
실시예3 보통 45 91 0.81 높음
실시예4 보통 41 90 0.95 높음
실시예5 우수 47 91 0.72 높음
실시예6 우수 44 91 0.70 높음
비교예1 우수 5 92 4.23 낮음
비교예2 취약(기포) 52 86 1.00 높음
비교예3 취약(침전) 44 89 2.51 높음
상기 표1에서 보는 바와 같이 바람직한 실시예와 비교예를 통해 본 발명의 평가결과를 도출할 수 있었다.
나노입자와 그 입자로 형성된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)를 코팅층으로 갖는 방현필름(도8a, 도8b)인 실시예1 부터 실시예6까지는 미립자를 사용하여 제작한 방현필름(도7a, 도7b)인 비교예3과 비교했을 때 유사한 헤이즈값 조건하에서 투과율이 높고 반사율이 현저히 낮아 방현필름의 기능 뿐만 아니라 반사방지필름의 보조역할도 가능하게 해줄 수 있음을 확인할 수 있다.
또한, 계면활성제가 추가되지 않는 비교예1의 경우는 마이크로 셀(205)이 형성되지 않아 헤이즈값은 낮고 반사율이 높아 방현성이 저하되는 것을 알 수 있다.
또한, 계면활성제가 과량으로 투입된 비교예2의 경우는 수지도료의 점도상승 및 혼합공정에서 다량의 기포가 발생되는 것을 알 수 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명되었지 만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
본 발명에 따르면, 방현성 필름으로서 2종 이상의 크기 입자를 사용하는 것처럼 가상의 입자 자체가 갖는 요철로서 방현성을 극대화하고 작은 입자에 의한 반사율을 낮추는 효과를 발휘한다.
또한, 본 발명에 따르면, 방현필름의 제작에 있어서 공정 수율을 떨어뜨리지 않고 저렴한 제조 비용을 확보하면서도 반사율이 저하된 방현필름을 제공하는 효과가 있다.

Claims (13)

  1. 투명 기재;
    상기 투명 기재 상에 위치하는 수지층;
    상기 수지층에 분산된 나노입자로서 다수의 제1입자; 및
    상기 수지층에 분산된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자를 포함하는 방현필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 투명기재는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방현필름.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 투명기재는 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방현필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 방현필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2입자의 크기는 약 50㎚ 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2입자는 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 방현필름.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.3중량부 내지 1.7중량부인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  9. 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 마이크로 셀을 형성하는 단계;
    상기 마이크로 셀이 형성된 수지도료에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하는 단계;
    상기 수지도료를 투명기재의 상부에 코팅하는 단계;
    상기 수지도료가 코팅된 투명기재를 건조로에 통과시켜서 용매를 제거하는 단계; 및
    상기 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 코팅된 수지도료를 경화시키는 단계를 포함하는 방현필름의 제조방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 용매는 속건성 용매 및 지건성 용매를 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 수지도료에 투입되는 나노입자는 실리카 계열이고, 입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  12. 제 9 항에 있어서,
    상기 수지도료가 투명기재에 코팅되어 형성되는 수지층의 높이는 약 2 ~ 8㎛ 인 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  13. 제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 수지는 각각의 중합체를 형성하는 모노머, 올리고머를 포함하여 2종 이상 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
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CN104955782A (zh) * 2013-01-31 2015-09-30 日本板硝子株式会社 带低反射涂层的玻璃板及其制造方法
KR101763427B1 (ko) 2010-09-30 2017-07-31 동우 화인켐 주식회사 방현성 반사방지 필름의 제조방법
KR20190121997A (ko) * 2018-04-19 2019-10-29 효성화학 주식회사 트리아세틸셀룰로오스 필름

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005316450A (ja) 2004-03-29 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd 防眩性積層体
JP2005316413A (ja) 2004-03-29 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd 防眩性積層体
KR20050117123A (ko) * 2004-06-09 2005-12-14 옵티맥스 테크놀러지 코포레이션 방현성 및 반사 방지성 필름의 형성 방법
KR20060027527A (ko) * 2004-09-23 2006-03-28 주식회사 대하맨텍 올리고머/실리카 나노복합체를 포함하여 이루어지는난반사 코팅제

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005316450A (ja) 2004-03-29 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd 防眩性積層体
JP2005316413A (ja) 2004-03-29 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd 防眩性積層体
KR20050117123A (ko) * 2004-06-09 2005-12-14 옵티맥스 테크놀러지 코포레이션 방현성 및 반사 방지성 필름의 형성 방법
KR20060027527A (ko) * 2004-09-23 2006-03-28 주식회사 대하맨텍 올리고머/실리카 나노복합체를 포함하여 이루어지는난반사 코팅제

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101037429B1 (ko) 2008-12-23 2011-05-30 주식회사 효성 방현필름 및 그 제조방법
KR101763427B1 (ko) 2010-09-30 2017-07-31 동우 화인켐 주식회사 방현성 반사방지 필름의 제조방법
CN104955782A (zh) * 2013-01-31 2015-09-30 日本板硝子株式会社 带低反射涂层的玻璃板及其制造方法
KR20190121997A (ko) * 2018-04-19 2019-10-29 효성화학 주식회사 트리아세틸셀룰로오스 필름
KR102076566B1 (ko) 2018-04-19 2020-02-12 효성화학 주식회사 트리아세틸셀룰로오스 필름

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