KR100702970B1 - 이원 접속 방식을 가지는 반도체 패키지 및 그 제조 방법 - Google Patents

이원 접속 방식을 가지는 반도체 패키지 및 그 제조 방법 Download PDF

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    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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Abstract

본 발명은 이원 접속 방식을 가지는 반도체 패키지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 칩의 전력/접지 패드와 신호 패드를 각각 다른 전기적 접속 방식을 이용하여 패키지 기판에 연결한다. 전력/접지 패드는 솔더 범프, 금 범프 등과 같이 길이에 비하여 단면적이 큰 제1 접속부재를 통하여 패키지 기판에 연결되므로, 인덕턴스를 줄여 전력/접지 배선의 동시 스위칭 잡음을 감소시키고, 전력/접지 패드를 칩 윗면에 골고루 분포시켜 전력 전달 특성을 향상시킬 수 있다. 신호 패드는 전도성 와이어, 빔 리드 등과 같이 길이에 비하여 단면적이 작은 제2 접속부재를 통하여 패키지 기판에 연결되므로, 커패시턴스와 용량성 부하를 줄여 신호 전달 특성을 향상시키고, 제2 접속부재와 외부접속 단자를 동일 배선층에 연결하여 신호 배선 상의 비아를 제거할 수 있다.
패키지, 와이어 본딩, 플립 칩 본딩, 전력/접지 패드, 신호 패드

Description

이원 접속 방식을 가지는 반도체 패키지 및 그 제조 방법{semiconductor package having dual interconnection form and manufacturing method thereof}
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 패키지의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 2a 내지 도 2c는 제1 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 주요 단계별로 나타내는 부분 사시도들이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 패키지의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 반도체 패키지의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 반도체 패키지의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 반도체 패키지의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
<도면에 사용된 참조 번호의 설명>
100, 200, 300, 400, 500: 반도체 패키지
110, 510: 반도체 칩 111, 112, 511, 512: 입출력 패드
120, 420: 패키지 기판 121, 421: 절연층
122, 422: 배선층 123: 비아
124, 424: 보호층 125: 슬롯
130, 230, 330: 제1 접속부재 140, 440: 제2 접속부재
150, 250: 매개물 160, 161: 밀봉수지
170: 외부접속 단자
본 발명은 반도체 패키지 기술에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로는 반도체 칩과 패키지 기판을 전기적으로 접속할 때 반도체 칩의 전력/접지 패드와 신호 패드가 각각 서로 다른 접속 방식에 의하여 패키지 기판에 연결되는 이원 접속 방식의 반도체 패키지 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
웨이퍼 상에 제조된 반도체 소자를 실제 제품으로 사용하려면, 반도체 소자를 칩 단위로 절단하여 웨이퍼로부터 분리한 후 패키지 조립(package assembly)을 거쳐야 한다. 반도체 패키지는 반도체 칩을 기계적으로 지지, 고정하고 외부 환경으로부터 보호할 뿐만 아니라, 반도체 칩에 전기적 접속 경로와 열 방출 경로를 제공한다. 오늘날의 패키지 기술은 반도체 제품의 가격, 성능, 신뢰성 등을 좌우할 만큼 그 중요성이 매우 커지고 있다.
초기의 반도체 패키지는 반도체 칩과 외부 시스템을 기계적, 전기적으로 상 호 연결하는 패키지 기판으로서 리드 프레임(lead frame)을 이용하는 것이 보편적이었다. 그런데 입출력 핀 수가 갈수록 증가하고 동작 속도가 점점 빨라짐에 따라 리드 프레임 유형의 패키지는 한계에 이르렀다. 그래서 그에 대한 대안으로 개발된 것이 볼 그리드 어레이(ball grid array; BGA) 패키지이다.
볼 그리드 어레이 패키지는 패키지 기판으로 리드 프레임 대신 인쇄회로기판을 이용하며, 외부 시스템과의 연결 단자로 리드 프레임의 외부 리드 대신 솔더 볼(solder ball)을 이용한다. 외부 리드들이 선 배열되는 것과 달리, 솔더 볼들은 인쇄회로기판의 표면에 면 배열되기 때문에, 입출력 핀 수 및 동작 속도의 증가 추세에 적절히 부응할 수 있다.
특히, 최근에는 인쇄회로기판이 반도체 칩의 윗면에 직접 배치된 형태의 볼 그리드 어레이 패키지가 주목을 받고 있다. 이러한 유형의 패키지는 입출력 패드가 있는 칩 윗면 쪽에 인쇄회로기판을 배치함으로써 칩과 기판 사이의 전기적 접속 경로를 더욱더 줄일 수 있는 이점이 있다. 한편, 이와 같은 패키지에서 칩과 기판간의 전기적 접속 방식은 와이어 본딩(wire bonding)이거나 또는 플립 칩 본딩(flip chip bonding)이 주류를 이룬다. 그러나 두 접속 방식은 각각 나름대로의 단점을 가지고 있다.
와이어 본딩 방식은 가늘고 긴 전도성 와이어를 이용한다. 따라서 인덕턴스가 크고, 이로 인하여 전력/접지 배선에 동시 스위칭 잡음(simultaneous switching noise; SSN)과 같은 문제를 초래한다. 또한, 와이어 본딩 방식은 전력/접지 패드가 칩 중앙 또는 가장자리에 국한하여 위치해야 하므로 전력 전달(power delivery) 특 성이 떨어진다.
반면에, 플립 칩 본딩 방식은 단면적이 넓고 높이가 낮은 전도성 범프를 이용한다. 따라서 커패시턴스가 크고 용량성 부하(capacitive loading)에 의하여 신호 전달 특성을 저하시킨다. 또한, 플립 칩 본딩 방식은 전도성 범프와 솔더 볼이 인쇄회로기판의 서로 다른 배선층에 위치하기 때문에 신호 배선에 비아(via)가 필요하며, 이는 임피던스 불연속(discontinuity) 요인이 된다.
날로 가속화되어 가는 반도체 소자의 고속화 및 저전력화 추세에 따라, 반도체 패키지에도 전기적 측면이 점점 중요해지고 있다. 그러나 지금까지 설명한 바와 같이 기존의 와이어 본딩과 플립 칩 본딩은 각각 나름의 단점이 있으며, 전력/접지 측면과 신호 측면 모두를 만족시키지 못하고 있는 실정이다.
따라서 본 발명의 목적은 전력/접지 측면과 신호 측면에서 모두 전기적 특성을 향상시킬 수 있는 새로운 구조의 반도체 패키지 및 그 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 이원 접속 방식을 가지는 반도체 패키지와 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 반도체 패키지는 반도체 칩, 패키지 기판, 제1 접속부재, 제2 접속부재, 외부접속 단자를 포함하여 구성된다. 반도체 칩은 윗면에 형성된 입출력 패드를 가지며, 입출력 패드는 전력/접지 패드와 신호 패드로 이루어진다. 패키 지 기판은 반도체 칩의 윗면 쪽에 위치하고, 윗면과 밑면 및 두 면 사이에 형성된 배선층을 가진다. 제1 접속부재는 패키지 기판의 밑면을 통하여 반도체 칩의 전력/접지 패드와 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결한다. 제2 접속부재는 패키지 기판의 윗면을 통하여 반도체 칩의 신호 패드와 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결한다. 외부접속 단자는 패키지 기판의 윗면을 통하여 패키지 기판의 배선층에 형성된다. 특히, 제1 접속부재는 길이에 비하여 단면적이 크고, 제2 접속부재는 길이에 비하여 단면적이 작은 것이 특징이다.
본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 제1 접속부재는 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되고 패키지 기판의 배선층에 접합되는 솔더 범프일 수 있다. 이 경우, 본 발명의 반도체 패키지는 매개물을 더 포함할 수 있으며, 매개물은 반도체 칩의 윗면과 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되고 솔더 범프를 둘러싼다. 매개물은 언더필 물질, 접착 물질, 비전도성 페이스트 중의 어느 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 제1 접속부재는 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되는 금 범프와, 반도체 칩의 윗면과 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되어 금 범프와 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결하는 이방성 전도 물질을 포함할 수 있다. 이방성 전도 물질은 이방성 전도 필름 또는 이방성 전도 페이스트일 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 제1 접속부재는 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되는 금 스터드 범프와, 패키지 기판의 배선층에 형성되고 금 스터드 범프에 접합되는 솔더 물질을 포함할 수 있다. 이 경우, 본 발명의 반도체 패 키지는 매개물을 더 포함할 수 있으며, 매개물은 반도체 칩의 윗면과 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되고 금 스터드 범프와 솔더 물질을 둘러싼다. 매개물은 언더필 물질, 접착 물질, 비전도성 페이스트 중의 어느 하나일 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 제2 접속부재는 한쪽 끝이 반도체 칩의 신호 패드에 접합되고 반대쪽 끝이 패키지 기판의 배선층에 접합되는 전도성 와이어일 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 제2 접속부재는 패키지 기판의 배선층으로부터 연장되고 한쪽 끝이 반도체 칩의 신호 패드에 접합되는 빔 리드일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 반도체 패키지에 있어서, 반도체 칩의 신호 패드는 반도체 칩의 윗면 중앙 또는 가장자리를 따라 열을 지어 배열될 수 있으며, 반도체 칩의 전력/접지 패드는 반도체 칩의 윗면 전체에 흩어져 배열될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은, (a) 윗면에 형성된 입출력 패드를 가지며, 입출력 패드는 전력/접지 패드와 신호 패드로 이루어지고, 길이에 비하여 단면적이 큰 제1 접속부재가 전력/접지 패드 위에 형성된 반도체 칩을 제공하는 단계와, (b) 윗면과 밑면 사이에 형성된 배선층을 가지는 패키지 기판을 제공하는 단계와, (c) 반도체 칩의 윗면과 패키지 기판의 밑면이 서로 마주보도록 반도체 칩과 패키지 기판을 접합하여, 제1 접속부재를 패키지 기판의 밑면을 통하여 패키지 기판의 배선층에 전기적으로 연결하는 단계와, (d) 길이에 비하여 단면적이 작은 제2 접속부재를 패키지 기판의 윗면을 통하여 반도체 칩의 신호 패드와 패키지 기판의 배선층에 전기적으로 연결하는 단계와, (e) 패키지 기판의 윗면을 통하여 패키지 기판의 배선층에 외부접속 단자를 형성하는 단계를 포함하여 구성된다.
본 발명에 따른 반도체 패키지 제조 방법은, (c) 단계 전 또는 후에 제1 접속부재를 둘러싸도록 반도체 칩의 윗면과 패키지 기판의 밑면 사이에 매개물을 개재하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
실시예를 설명함에 있어서 본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려져 있고 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. 이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 보다 명확히 전달하기 위함이다. 마찬가지의 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다.
제1 실시예
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 패키지(100)의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(100)는 반도체 칩(110), 패키지 기판(120), 제1 접속부재(130), 제2 접속부재(140), 매개물(150), 밀봉수지(160, 161), 외부접속 단자(170)로 이루어진다.
반도체 칩(110)은 예컨대 디램(DRAM)과 같은 메모리 칩으로, 윗면에 형성된 다수의 입출력 패드(111, 112)들을 포함한다. 입출력 패드는 전력/접지 패드(111)와 신호 패드(112)로 이루어진다. 신호 패드(112)는 칩 윗면의 중앙을 따라 열을 지어 배열되며, 전력/접지 패드(111)는 칩 윗면 전체에 흩어져 배열된다.
패키지 기판(120)은 반도체 칩(110)의 윗면 쪽에 위치한다. 패키지 기판(120)은 통상적인 인쇄회로기판으로, 절연층(121)의 양면에 배선층(122)이 형성되고, 위아래 배선층(122)이 절연층(121)을 관통하는 비아(123)를 통하여 연결된 구성을 가진다. 패키지 기판(120)의 밑면과 윗면에는 각각 보호층(124)이 배선층(122)을 덮고 있으며, 배선층(122)의 일부 영역들은 전기적 연결을 위하여 외부로 노출된다.
본 발명의 반도체 패키지(100)는 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120) 사이의 전기적 연결이 이원 접속 방식에 의하여 이루어지는 것이 특징이다. 즉, 반도체 칩(110)의 전력/접지 패드(111)와 신호 패드(112)를 패키지 기판(120)에 전기적으로 연결하는 방식이 서로 다르다. 이하, 전력/접지 패드(111)를 패키지 기판(120)에 연결하는 구성요소를 제1 접속부재(130), 신호 패드(112)를 패키지 기판(120)에 연결하는 구성요소를 제2 접속부재(140)라 칭한다.
제1 접속부재(130)는 전력/접지 패드(111)를 패키지 기판(120)의 밑면을 통하여 배선층(122)에 전기적으로 연결한다. 본 실시예에서 제1 접속부재(130)는 솔더 범프(solder bump)이다. 솔더 범프(130)는 전력/접지 패드(111)에 형성되고 나서 배선층(122)에 접합된다. 솔더 범프(130)를 비롯하여 제1 접속부재는 길이에 비 하여 단면적이 큰 것이 특징이다. 따라서 인덕턴스가 작기 때문에 전력/접지 배선의 동시 스위칭 잡음을 줄일 수 있다. 더욱이, 제1 접속부재는 전력/접지 패드(111)의 위치를 제약하지 않으므로, 전술한 바와 같이 전력/접지 패드(111)를 칩 윗면 전체에 분포시켜 전력 전달 특성을 향상시킬 수 있다.
제2 접속부재(140)는 신호 패드(112)를 패키지 기판(120)의 윗면을 통하여 배선층(122)에 전기적으로 연결한다. 본 실시예에서 제2 접속부재(140)는 전도성 와이어(conductive wire)이다. 전도성 와이어(140)는 한쪽 끝이 신호 패드(112)에 접합되고 반대쪽 끝이 배선층(122)에 접합된다. 전도성 와이어(140)를 비롯하여 제2 접속부재는 길이에 비하여 단면적이 작은 것이 특징이다. 따라서 커패시턴스가 작기 때문에 용량성 부하를 줄여 신호 전달 특성을 향상시킬 수 있다. 더욱이, 전도성 와이어(140)와 외부접속 단자(170)는 동일 층에 있는 배선층(122)에 연결되기 때문에, 신호 배선 상에 비아가 필요하지 않다.
매개물(150)은 반도체 칩(110)의 윗면과 패키지 기판(120)의 밑면 사이에 개재되어 기계적인 접합력을 제공한다. 또한, 매개물(150)은 솔더 범프(130)를 둘러싸서 솔더 범프(130)를 고정하고 보호한다. 매개물(150)은 통상적으로 사용되는 언더필 물질(underfill material), 접착 물질(adhesive material), 비전도성 페이스트(non-conductive paste) 중의 어느 하나이다.
두 부분으로 나뉘어 형성된 밀봉수지(160, 161)는 각각 반도체 칩(110)의 외곽을 둘러싸고 전도성 와이어(140)를 밀봉한다. 칩 외곽을 둘러싸는 밀봉수지(160)는 칩 밑면을 노출시키고 칩 측면만 둘러쌀 수 있으며, 노출된 칩 밑면에는 방열판 이 설치될 수 있다.
외부접속 단자(170)는 패키지 기판(120)의 윗면을 통하여 노출된 배선층(122)에 형성된다. 외부접속 단자(170)는 예컨대 솔더 볼이다.
이상 설명한 반도체 패키지(100)는 다음과 같은 방법으로 제조할 수 있다. 이하, 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 반도체 패키지의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 2a 내지 도 2c는 패키지 제조 방법을 주요 단계별로 나타내는 부분 사시도들이다. 이하의 제조 방법에 대한 설명으로부터 반도체 패키지의 구조 또한 보다 명확해질 것이다.
먼저, 도 2a에 도시된 바와 같이, 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120)을 제공한다. 반도체 칩(110)의 입출력 패드 중에서 전력/접지 패드(111)에는 솔더 범프(130)가 형성되어 있다. 전술한 바와 같이, 신호 패드(112)는 칩 윗면의 중앙을 따라 열을 지어 배열되어 있고, 전력/접지 패드(111)는 칩 윗면 전체에 흩어져 배열되어 있다.
패키지 기판(120)은 중앙을 따라 길게 뚫린 슬롯(125, slot)을 포함한다. 슬롯(125)은 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120)을 접합하였을 때 반도체 칩(110)의 신호 패드(112)를 노출시키기 위한 것이다. 패키지 기판(120)의 윗면과 밑면은 각각 보호층(124)으로 덮여 있다. 그러나 패키지 기판(120)의 윗면에는 배선층의 일부인 와이어 패드(122a, wire pad)가 슬롯(125)의 양쪽 가장자리를 따라 외부로 노출되어 있고, 마찬가지로 배선층의 일부인 볼 패드(122b, ball pad)가 골고루 분포하면서 외부로 노출되어 있다. 도면에 나타나지는 않았지만, 패키지 기판(120)의 밑면에도 역시 배선층의 일부인 범프 패드(bump pad)가 노출되어 있다.
이어서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120)을 접합한다. 이 때, 반도체 칩(110)의 전력/접지 패드(도 2a의 111)에 형성된 솔더 범프(도 2a의 130)와 패키지 기판(120)의 밑면에 노출된 범프 패드도 서로 접합을 이룬다. 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120) 사이에는 매개물(도 1의 150)을 개재할 수 있는데, 매개물이 언더필 물질일 때는 칩/기판 접합 후에, 매개물이 접착 물질이나 비전도성 페이스트일 때는 칩/기판 접합 전에 형성할 수 있다.
계속해서, 패키지 기판(120)의 슬롯(125)을 통하여 노출된 반도체 칩(110)의 신호 패드(112)에 전도성 와이어(140)의 한쪽 끝을, 슬롯(125)에 인접하여 패키지 기판(120)의 윗면에 노출된 와이어 패드(122a)에 전도성 와이어(140)의 반대쪽 끝을 각각 접합한다.
이어서, 도 2c에 도시된 바와 같이, 반도체 칩(도 2b의 110)의 외곽을 둘러싸고 전도성 와이어(도 2b의 140)를 밀봉하도록 밀봉수지(160, 161)를 형성한다. 두 군데의 밀봉수지(160, 161)는 몰딩(molding) 방법에 의해 동시에 형성할 수도 있고, 또는 디스펜싱(dispensing) 방법에 의해 별도로 형성할 수도 있다.
계속해서, 패키지 기판(120)의 윗면에 노출된 볼 패드(도 2b의 122b)에 솔더 볼(170)을 형성함으로써 패키지 제조 공정을 완료한다.
제2 실시예
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 패키지(200)의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시예의 구성요소들 중에서 전술한 제1 실시예의 구 성요소와 동일한 것에는 동일한 참조 번호를 사용하며, 그에 대한 설명은 생략한다.
도 3을 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(200)는 제1 접속부재로서 제1 실시예의 솔더 범프(도 1의 130) 대신에 금 범프(230, gold bump)를 이용하는 것이 특징이다.
금 범프(230)는 반도체 칩(110)의 전력/접지 패드(111)에 형성된다. 그런데 일반적으로 패키지 기판(120)의 배선층(122) 소재로 이용되는 구리는 금 범프(230)와 접합력이 좋지 않다. 따라서 금 범프(230)와 배선층(122) 사이에 이방성 전도 물질(250, anisotropic conductive material)을 삽입하는 것이 바람직하다. 이방성 전도 물질(250)은 수지 절연물(251) 안에 다수의 전도성 입자(252)들이 분포된 것으로, 필름 또는 페이스트 형태로 반도체 칩(110)과 패키지 기판(120) 사이에 개재된다. 따라서 이방성 전도 물질(250)은 전술한 제1 실시예의 매개물(도 1의 150) 역할도 겸할 수 있다.
제3 실시예
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 반도체 패키지(300)의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시예의 구성요소들 중에서 전술한 실시예들의 구성요소와 동일한 것에는 동일한 참조 번호를 사용하며, 그에 대한 설명은 생략한다.
도 4를 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(300)는 제1 접속부재로서 전술한 실시예들의 솔더 범프(도 1의 130) 또는 금 범프(도 3의 230) 대신에 금 스터드 범프(330, gold stud bump)를 이용하는 것이 특징이다.
금 스터드 범프(330)는 반도체 칩(110)의 전력/접지 패드(111)에 와이어 볼을 형성한 후 절단하여 만들 수 있다. 이 때, 패키지 기판(120)의 배선층(122)에는 미리 솔더 물질(331)을 도포하여 금 스터드 범프(330)와 접합시키는 것이 바람직하다. 본 실시예의 반도체 패키지(300)는 제1 실시예와 마찬가지로 언더필 물질, 접착 물질, 비전도성 페이스트 등의 매개물(150)을 더 포함할 수 있다.
제4 실시예
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 반도체 패키지(400)의 구조를 부분적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시예의 구성요소들 중에서 전술한 실시예들의 구성요소와 동일한 것에는 동일한 참조 번호를 사용하며, 그에 대한 설명은 생략한다.
도 5를 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(400)는 제2 접속부재로서 전술한 실시예들의 전도성 와이어(도 1의 140) 대신에 빔 리드(440, beam lead)를 이용하는 것이 특징이다. 전기적 접속 방식도 전도성 와이어를 이용한 와이어 본딩 방식 대신에 빔 리드를 이용한 탭(TAB; tape automated bonding) 방식을 사용한다.
패키지 기판(420)은 필름 형태의 절연층(421) 위에 형성된 배선층(422)이 형성되고 보호층(424)으로 덮인 구성을 가진다. 빔 리드(440)는 배선층(422)으로부터 연장되고 한쪽 끝이 반도체 칩(110)의 신호 패드(112)에 접합된다.
제5 실시예
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 반도체 패키지(500)의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 본 실시예의 구성요소들 중에서 전술한 실시예들의 구성요소와 동일한 것에는 동일한 참조 번호를 사용하며, 그에 대한 설명은 생략한다.
도 6을 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(500)는 반도체 칩(510)의 신호 패드(512)가 칩 윗면의 중앙이 아니라 가장자리를 따라 배열되는 것이 특징이다. 전력/접지 패드(511)는 앞선 실시예들과 마찬가지로 칩 윗면 전체에 흩어져 배열된다.
지금까지 여러 실시예들을 통하여 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 패키지 및 그 제조 방법은 반도체 칩과 패키지 기판 사이의 전기적 연결이 이원 접속 방식에 의하여 이루어진다. 반도체 칩의 전력/접지 패드는 솔더 범프, 금 범프 등과 같이 길이에 비하여 단면적이 큰 제1 접속부재를 통하여 패키지 기판에 연결되고, 신호 패드는 전도성 와이어, 빔 리드 등과 같이 길이에 비하여 단면적이 작은 제2 접속부재를 통하여 패키지 기판에 연결된다.
따라서 전력/접지 측면에서는 인덕턴스가 작기 때문에 전력/접지 배선의 동시 스위칭 잡음을 줄일 수 있고, 전력/접지 패드가 특정 위치에 국한되지 않으므로 전력 전달 특성을 향상시킬 수 있다. 반면에, 신호 측면에서는 커패시턴스가 작기 때문에 용량성 부하를 줄여 신호 전달 특성을 향상시킬 수 있고, 제2 접속부재와 외부접속 단자를 동일 배선층에 연결하여 신호 배선 상의 비아를 제거할 수 있다.
이와 같이 반도체 칩과 패키지 기판을 전기적으로 접속할 때 반도체 칩의 전력/접지 패드와 신호 패드를 각각 서로 다른 전기적 접속 방식을 이용하여 패키지 기판에 연결시킴으로써, 반도체 패키지의 전기적 성능을 극대화할 수 있고 반도체 소자의 고속화, 저전력화 추세에 효과적으로 부응할 수 있다.

Claims (16)

  1. 윗면에 형성된 입출력 패드를 가지며, 상기 입출력 패드는 전력/접지 패드와 신호 패드로 이루어지는 반도체 칩;
    상기 반도체 칩의 윗면 쪽에 위치하고, 윗면과 밑면 및 두 면 사이에 형성된 배선층을 가지는 패키지 기판;
    상기 패키지 기판의 밑면을 통하여 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드와 상기 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결하는 제1 접속부재;
    상기 패키지 기판의 윗면을 통하여 상기 반도체 칩의 신호 패드와 상기 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결하는 제2 접속부재; 및
    상기 패키지 기판의 윗면을 통하여 상기 패키지 기판의 배선층에 형성된 외부접속 단자를 포함하며,
    상기 제1 접속부재는 길이에 비하여 단면적이 크고, 상기 제2 접속부재는 길이에 비하여 단면적이 작은 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 접속부재는 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되고 상기 패키지 기판의 배선층에 접합되는 솔더 범프인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  3. 제2항에 있어서, 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되고 상기 솔더 범프를 둘러싸는 매개물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  4. 제3항에 있어서, 상기 매개물은 언더필 물질, 접착 물질, 비전도성 페이스트 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 접속부재는 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되는 금 범프와, 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되어 상기 금 범프와 상기 패키지 기판의 배선층을 전기적으로 연결하는 이방성 전도 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  6. 제5항에 있어서, 상기 이방성 전도 물질은 이방성 전도 필름 또는 이방성 전도 페이스트인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1 접속부재는 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드에 형성되는 금 스터드 범프와, 상기 패키지 기판의 배선층에 형성되고 상기 금 스터드 범프에 접합되는 솔더 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  8. 제7항에 있어서, 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면 사이에 개재되고 상기 금 스터드 범프와 상기 솔더 물질을 둘러싸는 매개물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  9. 제8항에 있어서, 상기 매개물은 언더필 물질, 접착 물질, 비전도성 페이스트 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제2 접속부재는 한쪽 끝이 상기 반도체 칩의 신호 패드에 접합되고 반대쪽 끝이 상기 패키지 기판의 배선층에 접합되는 전도성 와이어인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  11. 제1항에 있어서, 상기 제2 접속부재는 상기 패키지 기판의 배선층으로부터 연장되고 한쪽 끝이 상기 반도체 칩의 신호 패드에 접합되는 빔 리드인 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  12. 제1항에 있어서, 상기 반도체 칩의 신호 패드는 상기 반도체 칩의 윗면 중앙을 따라 열을 지어 배열되며, 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드는 상기 반도체 칩의 윗면 전체에 흩어져 배열되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  13. 제1항에 있어서, 상기 반도체 칩의 신호 패드는 상기 반도체 칩의 윗면 가장자리를 따라 열을 지어 배열되며, 상기 반도체 칩의 전력/접지 패드는 상기 반도체 칩의 윗면 전체에 흩어져 배열되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.
  14. (a) 윗면에 형성된 입출력 패드를 가지며, 상기 입출력 패드는 전력/접지 패드와 신호 패드로 이루어지고, 길이에 비하여 단면적이 큰 제1 접속부재가 상기 전력/접지 패드 위에 형성된 반도체 칩을 제공하는 단계;
    (b) 윗면과 밑면 사이에 형성된 배선층을 가지는 패키지 기판을 제공하는 단계;
    (c) 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면이 서로 마주보도록 상기 반도체 칩과 상기 패키지 기판을 접합하여, 상기 제1 접속부재를 상기 패키지 기판의 밑면을 통하여 상기 패키지 기판의 배선층에 전기적으로 연결하는 단계;
    (d) 길이에 비하여 단면적이 작은 제2 접속부재를 상기 패키지 기판의 윗면을 통하여 상기 반도체 칩의 신호 패드와 상기 패키지 기판의 배선층에 전기적으로 연결하는 단계; 및
    (e) 상기 패키지 기판의 윗면을 통하여 상기 패키지 기판의 배선층에 외부접속 단자를 형성하는 단계를 포함하는 반도체 패키지 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 (c) 단계 전에 상기 제1 접속부재를 둘러싸도록 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면 사이에 매개물을 개재하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조 방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 (c) 단계 후에 상기 제1 접속부재를 둘러싸도록 상기 반도체 칩의 윗면과 상기 패키지 기판의 밑면 사이에 매개물을 개재하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조 방법.
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