KR100701669B1 - Method for fabricating color filter substrate in liquid crystal display panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 균일한 셀갭을 유지할 수 있는 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법에 관한 것이다. 이 방법은, 블랙 매트릭스가 구비된 컬러필터 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계; 상기 블랙 매트릭스와 대응되는 컬러필터층 부분 상에 안료 씨드를 각각 형성하는 단계; 상기 안료 씨드를 포함한 컬러필터층 상에 감광성 유기막을 형성하는 단계; 상기 감광성 유기막의 상부에 상기 안료 씨드와 대응되는 부분에 불투과부를 구비한 마스크를 배치시키는 단계: 상기 마스크를 이용하여 상기 감광성 유기막을 노광하는 단계; 및 상기 노광공정이 완료된 감광성 유기막을 현상하여, 상기 안료 씨드를 포함한 기저부와, 상기 기저부의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 기저부보다 작은 크기의 돌출부를 구비하는 컬럼 스페이서를 형성하는 단계;를 포함한다.The present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel capable of maintaining a uniform cell gap. The method includes forming a color filter layer on a color filter substrate provided with a black matrix; Forming pigment seeds on portions of the color filter layer corresponding to the black matrix, respectively; Forming a photosensitive organic layer on the color filter layer including the pigment seed; Disposing a mask having an opaque portion on a portion corresponding to the pigment seed on the photosensitive organic layer: exposing the photosensitive organic layer using the mask; And developing a photosensitive organic film on which the exposure process is completed, to form a column spacer including a base part including the pigment seed and a stepped step on the base part to form a multilayer structure, and having a protrusion having a smaller size than the base part. Include.

Description

액정패널의 컬러필터 기판 제조방법{Method for fabricating color filter substrate in liquid crystal display panel}Method for fabricating color filter substrate in liquid crystal display panel

도 1a 내지 도 1c는 종래기술에 따른 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.1A to 1C are cross-sectional views for each process for explaining a method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel according to the related art.

도 2는 도 1b의 A부분에 대한 평면도.FIG. 2 is a plan view of portion A of FIG. 1B; FIG.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.3A to 3E are cross-sectional views for each process for explaining a method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 컬러필터 기판을 포함하는 액정패널을 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a liquid crystal panel including a color filter substrate according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

30: 컬러필터 기판 31: 블랙 매트릭스30: color filter substrate 31: black matrix

32: 청색(B) 컬러필터층 33: 적색(R) 안료 씨드32: blue (B) color filter layer 33: red (R) pigment seed

34: 녹색(G) 안료 씨드 35: 감광성 유기막34: green (G) pigment seed 35: photosensitive organic film

36: 마스크 36a: 투과부36: mask 36a: transmissive portion

36b: 불투과부 35a: 기저부36b: impervious 35a: base

35b: 돌출부 37: 컬럼 스페이서35b: protrusion 37: column spacer

본 발명은 액정표시장치(LCD)용 컬러필터 기판의 제조방법에 관한 것이고, 특히, 균일한 셀갭을 유지할 수 있는 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal panel capable of maintaining a uniform cell gap.

액정표시장치는 투명전극이 형성된 두 장의 기판 사이에 수 개의 액정 분자들로 구성된 액정층을 개재시킨 후, 상기 투명전극들 사이에서 일어나는 전계에 의하여 액정 분자들의 배열을 변화시켜 빛의 투과량이 제어되도록 하는 것에 의해 소정의 화상을 표시하는 장치이다.The liquid crystal display device interposes a liquid crystal layer composed of several liquid crystal molecules between two substrates on which transparent electrodes are formed, and then changes the arrangement of liquid crystal molecules by an electric field generated between the transparent electrodes so that the amount of light transmitted is controlled. It is an apparatus which displays a predetermined image by doing.

이러한 액정표시장치에 있어서, 응답속도, 대비비, 시야각, 휘도 균일성 등의 특성은 액정층의 두께, 즉, 셀 갭과 밀접한 관련을 갖기 때문에, 액정표시장치의 화면품위를 향상시키기 위해서는 균일한 셀 갭을 유지시키는 것이 매우 중요하다. 특히, 액정표시장치가 대면적화 및 고품질화 되어가는 추세에서, 균일한 셀 갭의 유지는 더욱 중요시되고 있다. 현재 셀 갭 유지를 위한 방법으로서, 상부기판인 컬러필터 기판에 컬럼 스페이서(column spacer)를 형성하는 방법이 제안되었다. 이러한 컬럼 스페이서는 수지 등을 패터닝함으로써 형성된다.In such a liquid crystal display, characteristics such as response speed, contrast ratio, viewing angle, luminance uniformity, and the like are closely related to the thickness of the liquid crystal layer, that is, the cell gap. Maintaining the cell gap is very important. In particular, in the trend toward larger areas and higher quality of liquid crystal displays, maintaining a uniform cell gap is becoming more important. As a method for maintaining a cell gap, a method of forming a column spacer on a color filter substrate, which is an upper substrate, has been proposed. Such column spacers are formed by patterning a resin or the like.

도 1a 내지 도 1c는 종래기술에 따른 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다.1A to 1C are cross-sectional views illustrating processes of manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel according to the related art.

도 1a에 도시한 바와 같이, 블랙 매트릭스(11)가 형성된 컬러필터 기판(10) 상에 임의의 순서로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 안료(도시안됨)를 도포한 후, 각 각의 안료를 선택적으로 노광 및 현상하여 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 각각의 컬러필터층(12)을 형성한다. 이때, 도 1a에 도시한 컬러필터층(12)은 청색(B) 컬러필터층 부분을 나타낸다. 이어서, 이 컬러필터층(12) 상에 오버코팅층(13)을 형성한다. 한편, 오버코팅층(13) 상에는 공통전극(도시안됨)이 형성되는 것으로 이해될 수 있다.As shown in FIG. 1A, after applying the red (R), green (G), and blue (B) pigments (not shown) in any order on the color filter substrate 10 having the black matrix 11 formed thereon. The respective pigments are selectively exposed and developed to form the color filter layers 12 of red (R), green (G), and blue (B), respectively. At this time, the color filter layer 12 shown in FIG. 1A represents a blue (B) color filter layer portion. Subsequently, an overcoat layer 13 is formed on the color filter layer 12. Meanwhile, it may be understood that a common electrode (not shown) is formed on the overcoating layer 13.

도 1b에 도시한 바와 같이, 상기 공통전극 상에 감광성 유기막(14)을 형성한 다음, 이 감광성 유기막(14)의 상부에 하프톤(half tone) 마스크(15)를 배치시킨다. 하프톤 마스크(15)는 빛을 통과시키는 투과부(15a), 빛을 차단시키는 불투과부(15c), 및 투과부(15a)보다 낮고, 불투과부(15c)보다 높은 강도의 빛을 통과시키는 반투과부(15b)를 포함한다. 이러한 하프톤 마스크(15)의 상부에서 빛을 조사하여, 투과부(15a)에 대응되는 감광성 유기막(14) 부분을 높은 강도의 빛으로 노광시키고, 반투과부(15b)에 대응되는 부분을 낮은 강도의 빛으로 노광시키며, 불투과부(15c)에 대응되는 부분은 빛을 차단시킨다.As shown in FIG. 1B, a photosensitive organic film 14 is formed on the common electrode, and then a halftone mask 15 is disposed on the photosensitive organic film 14. The halftone mask 15 includes a transmissive portion 15a for passing light, an opaque portion 15c for blocking light, and a semi-transmissive portion for passing light of lower intensity than the transmissive portion 15a and higher than the opaque portion 15c. 15b). The upper portion of the halftone mask 15 is irradiated with light to expose a portion of the photosensitive organic layer 14 corresponding to the transmissive portion 15a with high intensity light, and a portion corresponding to the semi-transparent portion 15b with low intensity. The light is exposed to light, and the portion corresponding to the impermeable portion 15c blocks the light.

한편, 도 2는 도 1b의 하프톤 마스크(15)의 일부인 A 부분을 확대하여 도시한 일부 평면도로서, 상기 하프톤 마스크(15)는 빛을 차단하는 불투과부(15c)와, 이의 가장자리를 두르며 보다 낮은 강도의 빛을 통과시키는 반투과부(15b)와, 그 외의 영역을 이루며 높은 강도의 빛을 통과시킬 수 있는 투과부(15a)를 포함한다.2 is an enlarged plan view showing a portion A of the halftone mask 15 of FIG. 1B, wherein the halftone mask 15 includes an opaque portion 15c that blocks light and an edge thereof. And a transflective portion 15b for passing light of lower intensity, and a transmissive portion 15a for passing high intensity light in other areas.

도 1c에 도시한 바와 같이, 하프톤 마스크(15)를 제거한 후, 상기 노광공정이 완료된 감광성 유기막(14)을 현상한다. 이 현상공정이 완료됨에 따라, 투과부(15a)에 대응되는 부분의 감광성 유기막 부분은 완전히 제거되고, 반투과부(15b)에 대응되는 부분은 일정 두께로 남도록 제거되며, 불투과부(15c)에 대응되는 부분은 거의 제거되지 않는다. 따라서, 공통전극 상에 위치하는 기저부(14a)와, 이의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 상기 기저부(14a)보다 작은 크기의 돌출부(14b)를 포함하는 컬럼 스페이서(16)가 형성된다. 여기서, 기저부(14a)의 바닥 면적은 30 ×30㎛ 보다 크고, 돌출부(14b)의 말단 면적은 10 ×10㎛ 보다 작다.As shown in FIG. 1C, after removing the halftone mask 15, the photosensitive organic film 14 on which the exposure process is completed is developed. As this developing step is completed, the photosensitive organic film portion of the portion corresponding to the transmissive portion 15a is completely removed, and the portion corresponding to the transflective portion 15b is removed to remain at a predetermined thickness, corresponding to the opaque portion 15c. Almost no part is removed. Accordingly, a column spacer 16 is formed on the common electrode, and a column spacer 16 including a protrusion part 14b having a size smaller than that of the base part 14a is formed in a multi-layer structure by being stepped on the top thereof. Here, the bottom area of the base portion 14a is larger than 30 × 30 μm, and the distal area of the protrusion 14b is smaller than 10 × 10 μm.

상기 컬럼 스페이서(16)가 형성된 컬러필터 기판(10)은, 도면에 도시하지는 않았지만, 복수의 게이트라인과 데이터라인이 수직 교차하도록 배열되고, 각 화소마다 박막트랜지스터 및 화소전극이 구비된 어레이 기판과 액정층의 개재하에 합착된다. 이때, 컬럼 스페이서(16)의 돌출부(14b) 말단 부분이 어레이 기판과 접하게 되는데, 돌출부(14b)의 말단 면적이 10 ×10㎛ 보다 작기 때문에, 이 부분의 탄성 및 압력에 대한 복원력이 우수하다. 또한, 돌출부(14b)의 크기가 작아서 발생할 수 있는 파손의 단점을 기저부(14a)의 바닥 면적을 크게 함으로써 방지할 수 있다. 즉, 돌출부(14b)의 크기를 작게 하여 탄성은 배가 시키면서, 기저부(14a)의 크기를 크게 하여 강도를 높일 수 있는 스페이서가 상기 복층구조의 컬럼 스페이서(16)이다.Although not shown in the drawing, the color filter substrate 10 having the column spacer 16 is arranged such that a plurality of gate lines and data lines vertically intersect, and each pixel includes an array substrate having a thin film transistor and a pixel electrode. It adheres under the interposition of a liquid crystal layer. At this time, the distal end portion of the protrusion 14b of the column spacer 16 comes into contact with the array substrate. Since the distal end area of the protrusion 14b is smaller than 10 x 10 mu m, the elasticity and the restoring force with respect to the pressure are excellent. In addition, it is possible to prevent the disadvantage of breakage caused by the small size of the protrusion 14b by increasing the bottom area of the base 14a. That is, a spacer capable of increasing the strength by increasing the size of the base 14a while increasing the size of the base 14a by reducing the size of the protrusion 14b is the column spacer 16 of the multilayer structure.

그러나, 이러한 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법에 있어서는, 복층구조의 컬럼 스페이서(16) 형성 시에, 기저부(14a) 및 돌출부(14b)의 크기 및 높이가 하프톤 마스크(15)의 투과부(15a), 반투과부(15b) 및 불투과부(15c)에 의해 조절되는데, 이들의 간격을 조절하는 것이 용이하지 않아, 기저부(14a) 및 돌출부(14b)의 면적 및 높이를 조절하는데 어려움이 따르는 문제가 있다. 특히, 돌출부(14b)의 크기가 작고, 돌출부(14b)와 기저부(14a)간의 높이차가 클 경우, 패널 합착 공정중에 돌출부(14b)가 크게 눌려 탄성을 잃어 복원이 안될 수가 있고, 돌출부(14b)의 크기가 크고, 돌출부(14b)와 기저부(14a)간의 높이차가 작을 경우, 복층구조를 갖는 컬럼 스페이서(16)의 장점인 복원력 및 고강도 특성을 상실하게 되어, 결국 셀 갭을 균일하게 유지하기가 어려워진다.However, in the method of manufacturing a color filter substrate of such a liquid crystal panel, when the column spacer 16 having a multilayer structure is formed, the size and height of the base portion 14a and the protrusion 14b are the transmissive portion 15a of the halftone mask 15. ), The semi-permeable part 15b and the impermeable part 15c are not easily adjusted to adjust the spacing of the base part 14a and the protrusion part 14b. have. In particular, when the size of the protrusion 14b is small and the height difference between the protrusion 14b and the base 14a is large, the protrusion 14b may be largely pressed during the panel bonding process to lose elasticity, and thus, the protrusion 14b may not be restored. When the size of is large and the height difference between the protrusion part 14b and the base part 14a is small, it loses the restoring force and high strength characteristic which are the advantage of the column spacer 16 which has a multilayer structure, and it is difficult to maintain a uniform cell gap eventually. Becomes difficult.

따라서, 본 발명은 선행기술에 따른 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법에 내재되었던 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은, 우수한 복원력과 고강도를 갖는 컬럼 스페이서를 제작함으로써, 균일한 셀 갭을 유지할 수 있는 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention was created to solve the above problems inherent in the method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel according to the prior art, and an object of the present invention is to manufacture a column spacer having excellent resilience and high strength. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel capable of maintaining a uniform cell gap.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일면에 따라, 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법이 제공되고: 이 방법은, 블랙 매트릭스가 구비된 컬러필터 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계; 상기 블랙 매트릭스와 대응되는 컬러필터층 부분 상에 안료 씨드를 각각 형성하는 단계; 상기 안료 씨드를 포함한 컬러필터층 상에 감광성 유기막을 형성하는 단계; 상기 감광성 유기막의 상부에 상기 안료 씨드와 대응되는 부분에 불투과부를 구비한 마스크를 배치시키는 단계: 상기 마스크를 이용하여 상기 감광성 유기막을 노광하는 단계; 및 상기 노광공정이 완료된 감광성 유기막을 현상하여, 상기 안료 씨드를 포함한 기저부와, 상기 기저부의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 기저부보다 작은 크기의 돌출부를 구비하는 컬 럼 스페이서를 형성하는 단계;를 포함한다.In order to achieve the above object, according to an aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel, the method comprising: forming a color filter layer on a color filter substrate having a black matrix; Forming pigment seeds on portions of the color filter layer corresponding to the black matrix, respectively; Forming a photosensitive organic layer on the color filter layer including the pigment seed; Disposing a mask having an opaque portion on a portion corresponding to the pigment seed on the photosensitive organic layer: exposing the photosensitive organic layer using the mask; And developing a photosensitive organic film on which the exposure process is completed, to form a column spacer including a base part including the pigment seed and a stepped step on the base part to form a multilayer structure, and having a protrusion having a smaller size than the base part. It includes.

여기서, 상기 안료 씨드의 높이는 1~2 ㎛이다.Here, the height of the said pigment seed is 1-2 micrometers.

(실시예)(Example)

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상술하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다.3A to 3E are cross-sectional views of processes for describing a method of manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal panel according to the present invention.

도 3a에 도시한 바와 같이, 블랙 매트릭스(31)가 형성된 컬러필터 기판(30) 상에 청색(B) 안료(도시안됨)를 도포한 후, 이를 선택적으로 노광 및 현상하여 청색(B) 컬러필터층(32)을 형성한다. 이어서, 그로부터 얻어지는 결과물 상에 적색(R) 안료(도시안됨)를 도포한 후, 이를 선택적으로 노광 및 현상하여 청색(B) 컬러필터층(32) 상에 적색(R) 안료 씨드(33)를 형성한다. 그런다음, 결과물 상에 녹색(G) 안료(도시안됨)를 도포한 후, 이를 선택적으로 노광 및 현상하여 녹색(G) 안료 씨드(34)를 형성한다. 각각의 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)는 블랙 매트릭스(31)와 대응되는 컬러필터층(32) 부분 상에 교번적으로 형성된다.As shown in FIG. 3A, a blue (B) pigment (not shown) is applied onto the color filter substrate 30 on which the black matrix 31 is formed, and then selectively exposed and developed to the blue (B) color filter layer. To form 32. Subsequently, a red (R) pigment (not shown) is applied on the resultant obtained therefrom, and then selectively exposed and developed to form a red (R) pigment seed 33 on the blue (B) color filter layer 32. do. The green (G) pigment (not shown) is then applied onto the resultant, which is then selectively exposed and developed to form the green (G) pigment seed 34. Each of the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34 are alternately formed on the portion of the color filter layer 32 corresponding to the black matrix 31.

여기서, 상기 청색(B), 적색(R) 및 녹색(G) 안료는 모두 1~2 ㎛의 두께로 도포된다. 이에 따라, 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)의 높이는 1~2 ㎛가 되고, 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)의 폭은 이들의 노광 공정에서 사용되는 마스크에 의해 원하는 크기로 자유롭게 조절될 수 있다.Here, the blue (B), red (R) and green (G) pigments are all applied in a thickness of 1 to 2 ㎛. Accordingly, the heights of the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34 are 1 to 2 µm, and the widths of the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34 are the exposures thereof. It can be freely adjusted to the desired size by the mask used in the process.

도 3b에 도시한 바와 같이, 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)를 포함한 청색(B) 컬러필터층(32) 상에 감광성 유기막(35)을 형성한다. 감광성 유기막(35)은 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34) 부분에서 돌출되는 형태로 코팅된다. 다음으로, 감광성 유기막(35)의 상부에 상기 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)와대응되는 부분에 불투과부(36b)를 구비한 마스크(36)를 배치시킨다. 이때, 도면부호 36a는 투과부를 나타낸다. 그리고, 이러한 마스크(36)를 이용하여 감광성 유기막(35)을 노광한다. As shown in FIG. 3B, a photosensitive organic film 35 is formed on the blue (B) color filter layer 32 including the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34. The photosensitive organic layer 35 is coated in a form protruding from portions of the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34. Next, a mask 36 having an impervious portion 36b is disposed on a portion of the photosensitive organic film 35 corresponding to the red (R) and green (G) pigment seeds 33, 34. At this time, reference numeral 36a denotes a transmission portion. Then, the photosensitive organic film 35 is exposed using the mask 36.

도 3c에 도시한 바와 같이, 마스크(36)를 제거한 후, 상기 노광공정이 완료된 감광성 유기막(35)을 현상하여, 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)를 포함한 기저부(35a)와, 기저부(35a)의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 기저부(35a)보다 작은 크기의 돌출부(35b)를 구비하는 컬럼 스페이서(37)를 형성한다. 이와 같이 형성되는 컬럼 스페이서(37)의 높이는 3~4 ㎛이다.As shown in FIG. 3C, after the mask 36 is removed, the photosensitive organic film 35 on which the exposure process is completed is developed to form a base including red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34. A column spacer 37 is formed on the upper portion of the base portion 35a and formed in a multi-layered structure, and has a protrusion 35b having a smaller size than the base portion 35a. The height of the column spacer 37 formed in this way is 3-4 micrometers.

상기 컬럼 스페이서(37)의 돌출부(35b)와 기저부(35a)간의 높이차이는 적색(R) 및 녹색(G) 안료 씨드(33,34)의 높이, 및 감광성 유기막(35)의 도포 두께에 따라 결정되고, 돌출부(35b)의 상부 폭은, 두 가지 요인, 즉 감광성 유기막(35)의 노광시에 사용되는 마스크(36)와, 안료 씨드(33,34)의 폭에 의해 조절된다. 즉, 상기와 같은 안료 씨드(33,34)를 적용하여 복층구조의 컬럼 스페이서(37)를 형성함으로써, 종래에 복층구조의 컬럼 스페이서를 형성하기 위해 하프톤 마스크를 이용하는 것에 비해 넓은 공정마진을 확보할 수 있다. 따라서, 컬럼 스페이서(37)의 기저부(35a) 및 돌출부(35b)의 면적 및 높이 조절이 용이하므로, 컬럼 스페이서(37)의 복원력 및 고강도 특성을 향상시킬 수 있다.The height difference between the protrusion 35b and the base 35a of the column spacer 37 depends on the height of the red (R) and green (G) pigment seeds 33 and 34 and the coating thickness of the photosensitive organic film 35. Determined accordingly, the upper width of the protrusion 35b is adjusted by two factors, namely, the width of the mask 36 and the pigment seeds 33 and 34 used in the exposure of the photosensitive organic film 35. That is, by forming the column spacer 37 having a multilayer structure by applying the pigment seeds 33 and 34 as described above, a wide process margin is secured compared to using a halftone mask to form a column spacer having a multilayer structure. can do. Therefore, since the area and height of the base part 35a and the protrusion part 35b of the column spacer 37 can be easily adjusted, the restoring force and the high strength characteristics of the column spacer 37 can be improved.

또한, 안료 씨드(33,34)를 포함하는 복층구조의 컬럼 스페이서(37)는, 1~2 ㎛의 높이를 갖는 안료 씨드(33,34)를 형성한 후, 감광성 유기막(35)을 도포하고, 감광성 유기막(35)을 노광 및 현상하여 형성되므로, 감광성 유기막(35)의 도포량을 안료 씨드(33,34)의 두께만큼 감소시킬 수 있다. 한편, 상기와 같은 안료 씨드(33,34)를 포함하는 복층구조의 컬럼 스페이서(37)는 오버코팅층이 형성되지 않는 컬러필터 기판에 형성이 가능하다.In addition, the multi-layered column spacer 37 including the pigment seeds 33 and 34 forms the pigment seeds 33 and 34 having a height of 1 to 2 μm, and then applies the photosensitive organic film 35. In addition, since the photosensitive organic film 35 is formed by exposing and developing, the coating amount of the photosensitive organic film 35 can be reduced by the thickness of the pigment seeds 33 and 34. Meanwhile, the multilayer spacer 37 including the pigment seeds 33 and 34 as described above may be formed on a color filter substrate on which an overcoating layer is not formed.

도 4는 본 발명에 따른 컬러필터 기판을 포함하는 액정패널을 나타내는 단면도이다. 상기 컬럼 스페이서(37)가 형성된 컬러필터 기판(30)은, 도 4에 도시한 바와 같이, 복수의 게이트라인(41)과 데이터라인(도시안됨)이 수직 교차하도록 배열되고, 각 화소마다 박막트랜지스터(도시안됨) 및 화소전극(43)이 구비된 어레이 기판(40)과 액정층(50)의 개재하에 합착된다. 이때, 도 4의 도면부호 42는 게이트 절연막이고, 44는 보호막이다. 복층구조를 갖는 컬럼 스페이서(37)의 돌출부(35b) 말단 부분이 어레이 기판(40)과 접하게 된다. 이때, 안료 씨드(33,34)를 포함한 컬럼 스페이서(37)는 전술한 바와 같이, 우수한 복원력과 고강도를 가지므로, 셀 갭을 균일하게 유지할 수 있다.4 is a cross-sectional view showing a liquid crystal panel including a color filter substrate according to the present invention. As shown in FIG. 4, the color filter substrate 30 on which the column spacers 37 are formed is arranged such that a plurality of gate lines 41 and data lines (not shown) vertically intersect, and thin film transistors for each pixel. (Not shown) and the array substrate 40 provided with the pixel electrode 43 and the liquid crystal layer 50 are bonded to each other. At this time, reference numeral 42 in FIG. 4 is a gate insulating film, and 44 is a protective film. An end portion of the protruding portion 35b of the column spacer 37 having a multilayer structure comes into contact with the array substrate 40. At this time, since the column spacer 37 including the pigment seeds 33 and 34 has excellent restoring force and high strength, the cell gap can be maintained uniformly.

본 발명의 상기한 바와 같은 구성에 따라, 블랙 매트릭스와 대응되는 컬러필터층 부분 상에 안료 씨드를 각각 형성하고, 감광성 유기막을 도포하고 나서, 이 감광성 유기막을 선택적으로 노광 및 현상하여 안료 씨드를 포함한 기저부 및 그의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 기저부보다 작은 크기의 돌출부를 구 비하는 컬럼 스페이서를 형성함으로써, 상기 기저부 및 돌출부의 면적 및 높이 조절을 용이하게 하여, 컬럼 스페이서의 복원력 및 고강도 특성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 셀 갭을 균일하게 유지할 수 있다. 또한, 안료 씨드를 형성하는 것으로 인해, 감광성 유기막의 도포량을 감소시킬 수 있으므로, 재료비를 절감할 수 있다.According to the above-described configuration of the present invention, the pigment seeds are respectively formed on the color filter layer portion corresponding to the black matrix, the photosensitive organic film is applied, and then the photosensitive organic film is selectively exposed and developed to form a base including the pigment seed. And forming a column spacer having a multi-layer structure, which is stepped on the top thereof, and having a protrusion having a smaller size than the base, thereby facilitating the adjustment of the area and height of the base and the protrusion, thereby improving the resilience and high strength characteristics of the column spacer. Can be improved. Therefore, the cell gap can be kept uniform. In addition, by forming the pigment seed, the application amount of the photosensitive organic film can be reduced, thereby reducing the material cost.

본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니고 이하의 특허청구의 범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있다.While the invention has been shown and described with respect to certain preferred embodiments thereof, the invention is not so limited and it is intended that the invention be limited without departing from the spirit or field of the invention as set forth in the following claims It will be readily apparent to one of ordinary skill in the art that various modifications and variations can be made.

Claims (2)

액정패널의 컬러필터 기판 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the color filter substrate of the liquid crystal panel, 블랙 매트릭스가 구비된 컬러필터 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계;Forming a color filter layer on the color filter substrate provided with the black matrix; 상기 블랙 매트릭스와 대응되는 컬러필터층 부분 상에 안료 씨드를 각각 형성하는 단계;Forming pigment seeds on portions of the color filter layer corresponding to the black matrix, respectively; 상기 안료 씨드를 포함한 컬러필터층 상에 감광성 유기막을 형성하는 단계;Forming a photosensitive organic layer on the color filter layer including the pigment seed; 상기 감광성 유기막의 상부에 상기 안료 씨드와 대응되는 부분에 불투과부를 구비한 마스크를 배치시키는 단계:Disposing a mask having an opaque portion on a portion of the photosensitive organic layer corresponding to the pigment seed: 상기 마스크를 이용하여 상기 감광성 유기막을 노광하는 단계; 및Exposing the photosensitive organic film using the mask; And 상기 노광공정이 완료된 감광성 유기막을 현상하여, 상기 안료 씨드를 포함한 기저부와, 상기 기저부의 상부로 단차지게 얹혀져 복층구조를 이루며, 기저부보다 작은 크기의 돌출부를 구비하는 컬럼 스페이서를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법.Developing a photosensitive organic film on which the exposure process is completed, and forming a column spacer including a base part including the pigment seed and a stepped step on the base part to form a multilayer structure, and having a protrusion having a smaller size than the base part. The color filter substrate manufacturing method of the liquid crystal panel characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 안료 씨드의 높이는 1~2 ㎛인 것을 특징으로 하는 액정패널의 컬러필터 기판 제조방법.The pigment seed has a height of 1 ~ 2 ㎛ characterized in that the color filter substrate manufacturing method of the liquid crystal panel.
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