KR100700827B1 - Laser induced thermal imaging appratus and preparing method of organic light emitting device using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일측면에 따른 레이저 레이저 열전사 장치는 전사층이 수용되는 어셉터기판, 및 상기 어셉터기판 상에 제공되는 전사층을 구비하며 영구자석을 포함하는 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되며, 상기 도너필름의 영구자석과 자기력을 형성하는 전자석이 포함된 기판스테이지; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 및 적어도 상기 기판스테이지를 내부에 포함하는 챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a laser thermal transfer apparatus and a method of manufacturing an organic light emitting device using the same. The laser laser thermal transfer apparatus according to an aspect of the present invention includes an acceptor substrate having a transfer layer and a transfer layer provided on the acceptor substrate, and a donor film including a permanent magnet is sequentially transported and stacked. A substrate stage including an electromagnet forming a permanent magnet and a magnetic force of the donor film; A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; And a chamber including at least the substrate stage therein.
레이저 열전사법, 라미네이팅, 도너필름, 영구자석,전자석 Laser Thermal Transfer, Laminating, Donor Film, Permanent Magnet, Electromagnet
Description
도 1은 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치의 부분단면도.1 is a partial cross-sectional view of a laser thermal transfer apparatus according to the prior art.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 일측면에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도.2A to 2D are cross-sectional views of the laser thermal transfer donor film according to one aspect of the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 측면에 따른 레이저 열전사 장치의 구조도.3 is a structural diagram of a laser thermal transfer apparatus according to another aspect of the present invention.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일실시예에 따른 기판스테이지의 평면도. 4A and 4B are plan views of a substrate stage according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명에 따른 레이저 열전사 장치에 적용된 레이저 발진기의 개략도.5 is a schematic view of a laser oscillator applied to a laser thermal transfer apparatus according to the present invention.
도 6a 내지 도 6h는 본 발명의 또 다른 측면에 따른 유기발광소자의 제조방법을 설명하는 단면도.6A to 6H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting device according to another aspect of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
200, 300, 400, 500 : 도너필름 600 : 레이저 발진기200, 300, 400, 500: donor film 600: laser oscillator
610 : 챔버 620 : 기판스테이지610: chamber 620: substrate stage
625 : 전자석 621, 623 : 장착홈625:
670 : 도너필름 680 : 어셉터기판670: donor film 680: acceptor substrate
본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 어셉터기판과 도너필름을 자력에 의해 라미네이팅하는 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a laser thermal transfer device and a method for manufacturing an organic light emitting device using the same, and more particularly, to a laser thermal transfer device for laminating an acceptor substrate and a donor film by magnetic force and a method for manufacturing an organic light emitting device using the same. It is about.
본 발명의 적용분야는 특정 산업분야에 한정되는 것은 아니고, 다양하게 적용될 수 있지만, 유기발광소자 제작시 유기 발광층등을 형성하는 데 유용할 것으로 예상된다. 유기발광소자는 제 1 전극과 제 2 전극사이에 발광층을 형성하고, 전극 사이에 전압을 인가함으로써, 발광층에서 정공과 전자가 합쳐짐으로써 자체발광하는 소자이다. 이하에서는 유기발광소자에 사용되는 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용한 레이저 열전사법 및 장치를 기준으로 본 발명의 종래기술 및 본 발명의 구성등이 설명될 것이나 이에 한정되는 것은 아니다.The field of application of the present invention is not limited to a specific industrial field and may be applied in various ways, but it is expected to be useful for forming an organic light emitting layer and the like in manufacturing an organic light emitting device. The organic light emitting device is a device which emits self by emitting light by forming a light emitting layer between the first electrode and the second electrode and applying a voltage between the electrodes so that holes and electrons are combined in the light emitting layer. Hereinafter, the prior art of the present invention and the configuration of the present invention will be described based on the laser thermal transfer donor film used in the organic light emitting device, and the laser thermal transfer method and apparatus using the same, but is not limited thereto.
레이저 열전사법은 기재기판, 광열변환층, 및 전사층을 포함하는 도너기판에 레이저를 조사시켜 기재기판을 통과한 레이저를 광열변환층에서 열로 변화시켜 광열변환층을 변형팽창시킴으로써, 인접한 전사층을 변형팽창시켜, 어셉터기판에 전사층이 접착되어 전사되게 하는 방법이다.In the laser thermal transfer method, a donor substrate including a base substrate, a photothermal conversion layer, and a transfer layer is irradiated with a laser to transform a laser that has passed through the substrate substrate from a photothermal conversion layer to heat to deform and expand the photothermal conversion layer, thereby forming an adjacent transfer layer. It deforms and expands, and the transfer layer adheres to the acceptor substrate so as to be transferred.
레이저 열전사법을 실시할 경우, 전사가 이루어지는 챔버 내부는 발광소자 형성시의 증착공정과 동조되도록 하기위하여 진공상태가 이루어지는 것이 바람직하나, 종래에 진공상태에서 행하여 지는 경우 도너기판과 어셉터기판 사이에 이물질 이나 공간이 생기게 되어 전사층의 전사가 잘 이루어지지 않는 문제점이 있다. 따라서, 레이저 열전사법에 있어서, 도너기판과 어셉터기판을 라미네이팅시키는 방법은 중요한 의미를 가지며 이를 해결하기 위한 여러가지 방안이 연구되고 있다. In the case of performing the laser thermal transfer method, it is preferable that a vacuum state is formed in the chamber where the transfer is performed so as to be synchronized with the deposition process at the time of forming the light emitting element, but in the case of the conventional vacuum process, between the donor substrate and the acceptor substrate. There is a problem that the transfer of the transfer layer is not made because foreign matter or space is generated. Therefore, in the laser thermal transfer method, a method of laminating a donor substrate and an acceptor substrate has an important meaning, and various methods for solving the problem have been studied.
도 1은 상술한 문제점을 해결하기 위한 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치의 부분단면도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사 장치(10)는 챔버(11) 내부에 위치하는 기판스테이지(12) 및 챔버(11) 상부에 위치한 레이저 조사장치(13)를 포함하여 구성된다.1 is a partial cross-sectional view of a laser thermal transfer apparatus according to the prior art for solving the above problems. According to this, the laser
기판스테이지(12)는 챔버(11)로 도입되는 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 각각 순차적으로 위치시키기위한 스테이지이다.The
이 때, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)이 그 사이에 이물질이나 공간없이 라미네이팅되게 하기 위하여, 이 경우 레이저 열전사가 이루어지는 챔버(11)내부를 진공으로 유지하지 않고, 기판스테이지(12) 하부에 호스(16)를 연결하여 진공펌프(P)로 빨아들여서, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 합착시킨다. At this time, in order to allow the acceptor substrate 14 and the
그러나 이러한 종래기술에 있어서도 어셉터기판(14)과 도너필름(15) 사이의 이물질(1)과 공간이 발생하는 것을 완전히 방지하지 못하고, 더욱이 챔버(11) 내부의 진공상태를 유지하지 못하게 됨으로써, 제품의 신뢰성과 수명에 좋지 못한 영향을 미치는 것으로 알려져 있다.However, even in such a prior art, the
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 레이저 열전사가 진공상태에서 이루어지면서도, 어셉터기판과 도너기판사이에 이물질이나 공간이 생기지 않게 하는 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용한 레이저 열전사법 및 장치를 제공한다. The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a laser thermal transfer donor film that does not generate foreign matter or space between the acceptor substrate and the donor substrate while the laser thermal transfer is performed in a vacuum state; It provides a laser thermal transfer method and apparatus using the same.
본 발명의 일측면은 기재기판과 전사층 사이에 광열변환층을 포함하는 레이저 열전사용 도너필름에 있어서, 도너필름 내에는 영구자석이 포함되는 것을 특징으로 한다. One aspect of the present invention is a laser thermal transfer donor film including a photothermal conversion layer between a substrate and a transfer layer, characterized in that the donor film includes a permanent magnet.
본 발명의 다른 측면에 따른 열전사장치는 전사층이 수용되는 어셉터기판, 및 어셉터기판 상에 제공되는 전사층을 구비하며 영구자석을 포함하는 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되며, 도너필름의 영구자석과 자기력을 형성하는 전자석이 포함된 기판스테이지; 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 및 적어도 기판스테이지를 내부에 포함하는 챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The thermal transfer device according to another aspect of the present invention includes an acceptor substrate on which a transfer layer is accommodated, and a transfer layer provided on the acceptor substrate, and a donor film including a permanent magnet is sequentially transferred and stacked, A substrate stage including an electromagnet forming a permanent magnet and a magnetic force; A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; And a chamber including at least the substrate stage therein.
본 발명의 다른 측면에 따르면 전사층을 구비하는 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 전사층을 어셉터기판에 전사시키는 레이저 열전사법에 있어서, 적어도 하나의 전자석을 내장한 기판스테이지 상에 상기 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계; 상기 어셉터기판 상에 제 항 내지 제 항 중 어느 한 항의 레이저 열전사 도너필름을 위치시키는 도너필름 이송단계; 상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및 상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판에 상기 전사층을 전사하는 전사단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, in a laser thermal transfer method in which a donor film having a transfer layer is irradiated with a laser to transfer the transfer layer to an acceptor substrate, the acceptor substrate is provided on a substrate stage containing at least one electromagnet. Acceptor substrate transfer step of positioning; A donor film transfer step of placing the laser thermal transfer donor film of
본 발명의 또 다른 측면에 따르면 레이저 열전사법에 의해 제1 전극과 제 2 전극 사이의 발광층이 형성되는 유기발광소자의 제조방법에 있어서, 적어도 하나의 전자석을 포함하는 기판스테이지 상에 화소정의영역이 형성된 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계; 상기 어셉터기판 상에 영구자석을 포함하고 발광층을 구비한 도너필름을 이송시키는 도너필름 이송단계; 상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및 상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판의 상기 화소정의영역에 상기 유기발광층을 전사하는 전사단계를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, in the method of manufacturing an organic light emitting device in which a light emitting layer is formed between a first electrode and a second electrode by a laser thermal transfer method, a pixel definition region is formed on a substrate stage including at least one electromagnet. An acceptor substrate transfer step of positioning the formed acceptor substrate; A donor film transfer step of transferring a donor film including a permanent magnet on the acceptor substrate and having a light emitting layer; A laminating step of applying power to an electromagnet of the substrate stage to bond the donor film and the acceptor substrate to each other; And transferring a laser to the donor film to transfer the organic light emitting layer to the pixel definition region of the acceptor substrate.
이하에서는 본 발명의 여러 측면을 도면을 참조하면서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the various aspects of the present invention.
먼저 본 발명의 일측면으로서, 영구자석이 포함되는 레이저 열전사 도너필름을 설명한다. 도너필름은 어셉터기판에 전사될 전사층이 구비된 필름으로, 순차적으로 적층된 기재기판, 광열변환층, 및 전사층을 포함하여 구성된다. 이 때, 성능향상을 위해 광열변환층과 전사층 사이에 버퍼층 및 층간막(inter layer)등이 더 포함될 수 있다. First, as one aspect of the present invention, a laser thermal transfer donor film including a permanent magnet will be described. The donor film is a film having a transfer layer to be transferred to an acceptor substrate, and includes a substrate substrate, a light-to-heat conversion layer, and a transfer layer that are sequentially stacked. In this case, a buffer layer and an inter layer may be further included between the photothermal conversion layer and the transfer layer to improve performance.
이 때, 레이저 열전사 도너필름에는 영구자석이 포함된다. 이 경우, 도너필름을 이루는 여러 층들 사이로 적어도 하나의 영구자석층이 형성되거나, 미세입자로 구성되는 영구자석이 여러 층들 중 적어도 하나에 포함될 수 있다. At this time, the laser thermal transfer donor film includes a permanent magnet. In this case, at least one permanent magnet layer may be formed between the various layers constituting the donor film, or a permanent magnet composed of fine particles may be included in at least one of the layers.
도 2a는 본 발명의 일실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도너필름은 기재기판(210) 상에 순차적으로 적층된 광열변환층(220), 영구자석층(230), 버퍼층(240), 층간막(250), 및 전사층(260)으로 구성된다. Figure 2a is a cross-sectional view of the laser thermal transfer donor film according to an embodiment of the present invention. Accordingly, the donor film includes a
기재기판(210)은 도너필름의 지지체 역할을 수행하는 기판으로서, 투명성 고분자로 이루어지며, 두께는 10 내지 500㎛가 바람직하다. 이 때, 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌등이 투명성 고분자로서 사용될 수 있으나 이에 제한되지 않는다.The
광열변환층(220)은 레이저광을 흡수하여 열로 변환시키는 광흡수성 물질로 이루어지는 층으로서, 광열변환층(220)의 두께는 사용되는 광흡수성 물질 및 형성방법에 따라 다르나 금속 또는 금속의 산화물등으로 이루어지는 경우에는 진공증착법, 전자빔증착법, 또는 스퍼터링으로 100 내지 5000Å로, 유기막으로 형성되는 경우에는 압출, 그래비아, 스핀, 나이프 코팅법으로 0.1 내지 2㎛로 형성되는 것이 바람직하다.The
광열변환층(220)의 두께가 상기 범위보다 얇게 형성되는 경우에는 에너지 흡수율이 낮아 광열변환되는 에너지 양이 작아 팽창 압력이 낮아지게 되고, 상기 범위보다 두껍게 형성되는 경우에는 도너필름과 어셉터기판 사이에서 발생하는 단차에 의한 에지 오픈 불량이 발생할 수 있다.When the thickness of the light-to-
금속 또는 금속의 산화물등으로 이루어지는 광흡수성 물질로는 광학농도가 0.1 내지 0.4인 것으로, 알루미늄, 은, 크롬, 텅스텐, 주석, 니켈, 티타늄, 코발트, 아연, 금 구리, 텅스텐, 몰리브덴, 납 및 그 산화물이 있다.The light absorbing material composed of a metal or metal oxide or the like has an optical concentration of 0.1 to 0.4, and includes aluminum, silver, chromium, tungsten, tin, nickel, titanium, cobalt, zinc, gold copper, tungsten, molybdenum, lead, and the like. There is an oxide.
또한, 유기막으로 이루어지는 광합성 물질로는 카본블랙, 흑연 또는 적외선 염료가 첨가된 고분자가 있다. 이 때, 고분자 결합수지를 형성하는 물질로는 예시적으로 아크릴 (메타)아크릴레이트 올리고머, 에스테르 (메타)아크릴레이트 올리고 머, 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머, 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 등과 같은 (메타)아크릴레이트 올리고머, 또는 상기 올리고머 (메타)아크릴레이트 모노머의 혼합물이 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, the photosynthetic material composed of the organic film includes a polymer to which carbon black, graphite, or infrared dye is added. In this case, examples of the material for forming the polymer binder resin include acrylic (meth) acrylate oligomer, ester (meth) acrylate oligomer, epoxy (meth) acrylate oligomer, urethane (meth) acrylate oligomer, and the like ( Meta) acrylate oligomers, or mixtures of the oligomer (meth) acrylate monomers, but are not limited thereto.
영구자석층(230)은 후술할 레이저 열전사 장치의 기판스테이지에 설치될 전자석과 서로 자기력을 형성하도록 하기위해 삽입되는 층으로서, 알리코자석(Alnico Magnet), 페라이트자석(Ferrite Magnet), 희토류자석, 고무자석, 플라스틱자석등이 사용될 수 있다.The
버퍼층(buffer layer; 240)은 전사층의 전사특성향상 및 전사 후의 디바이스수명향상을 위해 도입되는 층으로서, 금속산화물, 금속황화물 또는 비금속 무기화합물이나 고분자 또는 저분자 유기물이 사용될 수 있다. 이 때, 두께는 0.01 내지 2㎛ 로 형성하는 것이 바람직하다. The buffer layer 240 is a layer introduced to improve the transfer characteristics of the transfer layer and the device life after transfer, and a metal oxide, a metal sulfide or a nonmetal inorganic compound, a polymer or a low molecular organic material may be used. At this time, it is preferable to form thickness in 0.01-2 micrometer.
중간삽입층(inter layer; 250)은 광열변환층을 보호하기 위한 것으로서 높은 열저항을 가지는 것이 바람직하며 유기 또는 무기막으로 구성될 수 있다.The interlayer 250 is to protect the photothermal conversion layer, and preferably has a high thermal resistance, and may be composed of an organic or inorganic film.
전사층(260)은 도너필름으로부터 분리되어 어셉터기판에 전사되는 층으로서, 유기발광소자 제작에 이용되는 경우 발광층을 형성하기 위해서는 고분자 또는 저분자 유기발광물질로 이루어질 수 있다. 또한, 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL), 정공수송층(HTL), 정공주입층(HIL)을 형성하기 위해서는 각각에 적합한 재료로 이루어질 수 있다. 이 때, 각 전사층의 재료는 한정적이지 않으며, 당업자가 용이하게 추고할 수 있는 어떠한 재료도 가능하며, 압출, 그래비아, 스핀, 나이프코팅, 진공증착, CVD등의 방법으로 형성가능하다. The transfer layer 260 is a layer which is separated from the donor film and transferred to the acceptor substrate. When the transfer layer 260 is used for fabricating an organic light emitting device, the transfer layer 260 may be formed of a polymer or a low molecular weight organic light emitting material. In addition, to form an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL), a hole transport layer (HTL), a hole injection layer (HIL) may be made of a material suitable for each. At this time, the material of each transfer layer is not limited, any material that can be easily added by those skilled in the art can be formed, and can be formed by extrusion, gravure, spin, knife coating, vacuum deposition, CVD, or the like.
전술한 바와 같이 영구자석층(230)을 도너필름(200)에 삽입시킴으로써, 도너필름은 자성을 지니게 되어, 어셉터기판 상부에 위치될 때 전자석이 내장된 레이저 전사 장치의 기판스테이지와 상호 자기적 인력을 형성한다. 따라서, 도너필름과 어셉터기판도 자력에 의해 밀착되게 하는 효과가 있다. By inserting the
도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2a에서 영구자석층(230)이 광열변환층(220)과 버퍼층(240) 사이에 형성된 것과 달리, 영구자석층(320)이 광열변환층(330)과 기재기판(310) 사이에 형성되어 있다. 이외의 점에서는 도 2a와 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.2B is a cross-sectional view of a laser thermal transfer donor film according to another embodiment of the present invention. Accordingly, in FIG. 2A, unlike the
도 2c는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2a 및 도 2b에서 영구자석이 하나의 층을 이루면서 형성된 것과 달리, 영구자석이 기재기판(410)에 미세입자로 분산되어 있다.Figure 2c is a cross-sectional view of the laser thermal transfer donor film according to another embodiment of the present invention. Accordingly, unlike the permanent magnets formed as one layer in FIGS. 2A and 2B, the permanent magnets are dispersed as fine particles on the
즉, 본 실시예에서 도너필름(400)은 기재기판(410)을 이루는 투명성 고분자 내에 영구자석을 미세한 분말로 형성하여 분산시킴으로써 자성을 가지게 된다. 이 때, 영구자석은 나노파티클로 형성할 수 있다.That is, in the present embodiment, the
도 2d는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2c에서 영구자석의 미세입자가 기재기판(410) 상에 분산되는 것과 달리, 미세 영구자석 입자가 버퍼층(530)에 분산된다. 이로써, 도 2c의 도너필름과 동일한 효과를 발휘할 수 있음을 당업자는 양지할 것이다.Figure 2d is a cross-sectional view of the laser thermal transfer donor film according to another embodiment of the present invention. According to this, unlike the fine particles of the permanent magnet is dispersed on the
다음으로, 본 발명의 다른 측면으로 레이저 열전사 장치를 도면을 참조하면 서 설명한다. 본 발명의 일측면에 따른 레이저 열전사 장치는 전술한 레이저 열전사 도너필름이 유용하게 이용되게 하기 위해서 고안된 레이저 열전사 장치이나, 반드시 전술한 도너필름만이 사용되는 것으로 제한되는 것은 아니다.Next, a laser thermal transfer apparatus according to another aspect of the present invention will be described with reference to the drawings. The laser thermal transfer apparatus according to an aspect of the present invention is a laser thermal transfer apparatus designed to make the above-described laser thermal transfer donor film useful, but is not necessarily limited to the above-mentioned donor film.
도 3은 일실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 구조도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사 장치는 챔버(610), 기판스테이지(620), 레이저 발진기(630)를 포함하여 구성된다.3 is a structural diagram of a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment. Accordingly, the laser thermal transfer apparatus includes a
챔버(610)는 통상의 레이저 열전사 장치에서 사용되는 챔버를 사용할 수 있고, 챔버(610) 외부에는 영구자석을 포함하는 도너필름(미도시) 및 어셉터기판(미도시)을 챔버 내부로 이송하기 위한 로봇팔등의 이송수단(미도시)이 구비된다.The
기판스테이지(620)는 챔버(610)의 저면에 위치하며, 기판스테이지(620)에는 적어도 하나의 전자석(625)이 포함되어 있다. 이 때, 전자석은 하나의 큰 평면자석이거나 복수 개가 배열는 형태일 수 있다. 전자석(625)이 배치되는 유형에는 제한이 없으나, 라미네이팅을 보다 유리하게 수행하기 위해서는 동심원형 또는 가로 및 세로의 복수 열로 형성되는 것이 바람직하다. 도 4a 및 도 4b는 각각 기판스테이지(620) 내부에 전자석(625)이 동심원 및 복수의 열로 형성된 것을 보이는 투시평면도로서, 도시되지는 않았으나 각 전자석에는 전력을 인가하는 배선이 형성될 것이다.The
한편, 기판스테이지(620)는 이동되기 위한 구동수단(미도시)을 더 구비할 수 있다. 예컨데, 레이저가 세로방향으로 조사될 경우, 가로방향으로 기판스테이지를 이동시키는 구동수단을 더 구비할 수 있다.On the other hand, the
또한, 기판스테이지(620)는 어셉터기판 및 도너필름을 수납하여 장착시키는 각각의 장착수단을 구비할 수 있다. 장착수단은 이송수단에 의해 챔버내로 이송되어온 어셉터기판이 기판스테이지의 정해진 위치에 정확히 장착되도록 한다. In addition, the
본 실시예에서, 장착수단은 관통홀(641, 651), 가이드바(643, 653), 이동플레이트(645, 655), 지지대(647, 657), 및 장착홈(621, 623)을 포함하여 구성될 수 있다. 이 때, 가이드바(643, 653)는 이동플레이트(645, 655) 및 지지대(647, 657)와 동반하여 상승 또는 하강운동하는데, 가이드바(643, 653)가 관통홀(641, 651)을 통과하여 상승하면서 어셉터기판을 수용하고, 하강하면서 어셉터기판을 장착홈(621, 623)에 안착시키게 되는 구조이다. 이 때, 어셉터기판 및 도너필름의 정확한 안착을 위해 장착홈은 벽면이 비스듬하게 형성되는 것이 바람직하다. In the present embodiment, the mounting means includes through
레이저 발진기(630)는 챔버의 외부 또는 내부에 설치될 수 있으며, 레이저가 상부에서 비춰질 수 있도록 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 레이저 발진기의 개략적이 구성도인 도 5에 따르면, 본 실시예에서 레이저 발진기는 CW ND:YAG 레이저(1604nm)를 사용하고, 2개의 갈바노미터 스캐너(631, 633)를 구비하며, 스캔렌즈(635) 및 실린더렌즈(636)를 구비하나 이에 제한되는 것은 아니다. The
이하에서는 도 6a 내지 도 6h를 참조하면서 본 발명의 다른 측면으로서 전술한 도너필름 및 레이저 열전사 장치를 이용하여 도너필름의 전사층을 어셉터기판에 전사하는 레이저 열전사법의 일실시예를 설명한다. 유기발광소자의 제작에 적용된 본 실시예에서 레이저 열전사법은 어셉터기판 이송단계, 도너필름 이송단계, 라미네이팅 단계 및 전사단계를 포함한다. Hereinafter, an embodiment of a laser thermal transfer method for transferring a transfer layer of a donor film to an acceptor substrate using the donor film and laser thermal transfer apparatus described above as another aspect of the present invention will be described with reference to FIGS. 6A to 6H. . The laser thermal transfer method in this embodiment applied to the manufacture of the organic light emitting device includes an acceptor substrate transfer step, donor film transfer step, laminating step and transfer step.
어셉터기판 이송단계는 레이저 열전사 장치의 챔버(610) 내로 어셉터기판(670)을 위치시키는 단계로서, 이 때 어셉터기판(670)은 로봇팔(690)등의 이송수단으로 챔버(610)내로 이송될 수 있다(도 6a). 챔버(610)내로 이송된 어셉터기판(670)은 관통홀을 통해 상승한 가이드바(643) 의해 받쳐진다(도 6b). 어셉터기판(670)을 받친 가이드바(643)는 다시 하강하면서, 어셉터기판(670)을 기판스테이지(620)의 장착홈(621)상에 정확하게 위치시킨다(도 6c). The acceptor substrate transfer step is to position the
도너필름 이송단계는 어셉터기판 이송단계에서와 마찬가지로, 로봇팔(690)등의 이송수단으로 챔버(610)내로 이송된다(도 6d). 이 때, 도너필름(680)은 이송시에 필름트레이(681)에 의해 이송되는 것이 바람직하다. 챔버(610)내로 이송된 도너필름(680)은 관통홀(651)을 통해 상승한 가이드바(653)에 의해 받쳐진다(도 6e). 도너필름(680)을 받친 가이드바(653)는 다시 하강하면서, 도너필름(680)을 기판스테이지(620)의 장착홈(623)상에 정확하게 위치시킨다(도 6f).The donor film transfer step is transferred into the
라미네이팅 단계는 기판스테이지(620)의 전자석(625)에 적절한 전력을 인가하여, 도너필름(680)에 포함된 영구자석이 기판스테이지의 전자석과 자기적 인력을 형성함으로써, 도너필름(680)과 어셉터기판(670)사이가 접합되도록 하는 단계이다. 이 때, 챔버(610) 내부는 진공상태를 유지하므로, 도너필름(680)과 어셉터기판(670) 사이에는 이물질이나 공간이 생기는 것을 극소화하여, 전사효율이 높아진다(도 6g).In the laminating step, an appropriate power is applied to the
도너기판(680)과 어셉터기판(670)의 라미네이팅은 기판스테이지에 내장된 전자석의 형상에 따라서, 다양한 방법으로 이루어질 수 있다. 예컨데, 기판스테이지 의 전자석이 도 4a와 같이 동심원상으로 배치될 경우, 가장 내부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 먼저 전력을 인가하고, 그 상태에서 다음 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가하고, 그 상태에서 다시 그 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가함으로써 도너기판과 어셉터기판 사이의 이물질이나 공간이 생성되는 것을 극소화하면서 라미네이팅할 수 있다. The lamination of the
또한, 기판스테이지의 전자석이 도 4b와 같이 가로 및 세로로 다수의 열을 형성하면서 배치될 경우, 레이저가 조사되는 전자석 또는 그 열의 전자석에만 전력을 인가하여, 레이저가 조사되는 부분에만 연속적으로 국소적인 라미네이팅이 이루어지게 함으로써 보다 이물질이나 공간이 생성되는 것을 줄이면서 라미네이팅할 수 있다.In addition, when the electromagnet of the substrate stage is arranged while forming a plurality of rows horizontally and vertically as shown in FIG. By laminating, the lamination can be performed while reducing the formation of foreign matter or space.
전사단계는 어셉터기판(670)과 라미네이팅된 도너필름(680) 상에 레이저조사장치에서 레이저를 조사하여 도너필름(680)에 형성된 유기발광층을 어셉터기판의 화소정의영역에 전사하는 단계이다. 레이저를 조사할 경우, 도너필름(680)의 광열변환층이 부풀어 오르게 되고, 이에 따라, 인접한 유기발광층도 어셉터기판 방향으로 부풀어 오르게 되어 유기발광층이 어셉터기판에 접촉하게 됨으로서 전사가 이루어진다(도 6h). The transfer step is a step of transferring the organic light emitting layer formed on the
본 발명은 실시예들을 기준으로 주로 설명되어졌으나, 발명의 요지와 범위를 벗어나지 않고 많은 다른 가능한 수정과 변형이 이루어 질 수 있다. 예컨데, 도너필름에 영구자석을 포함시키는 방법으로써, 추가의 유기층 또는 무기층을 더 형성하고 그 사이의 어느 한 곳에 영구자석을 포함시키는 것 또는 전자석을 내장하는 기판플레이트의 형상, 모양, 위치등의 변경하는 것등은 당업자가 용이하게 도출할 수 있는 변경일 것이다. Although the present invention has been described primarily with reference to embodiments, many other possible modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention. For example, a method of including a permanent magnet in a donor film, further forming an additional organic layer or an inorganic layer, including a permanent magnet in one of them, or the shape, shape, position, etc. of the substrate plate containing the electromagnet The change may be a change that can be easily obtained by those skilled in the art.
본 발명에 따른 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용하는 레이저 열전사 방법 및 장치에 따르면, 도너필름과 어셉터기판을 그 사이에 이물질이나 빈공간없이 라미네이팅할 수 있는 효과가 있다. 또한, 진공상태에서도 도너필름과 어셉터기판 사이의 라미네이팅이 이루어지므로, 이전 공정이 진공상태를 필요로 하는 경우에 전공정을 모두 진공에서 행할 수 있는 효과가 있다.According to the laser thermal transfer donor film and the laser thermal transfer method and apparatus using the same according to the present invention, there is an effect that the donor film and the acceptor substrate can be laminated without foreign substances or voids therebetween. In addition, since lamination is performed between the donor film and the acceptor substrate even in a vacuum state, when the previous process requires a vacuum state, all the processes may be performed in a vacuum.
전술한 발명에 대한 권리범위는 이하의 청구범위에서 정해지는 것으로써, 명세서 본문의 기재에 구속되지 않으며, 청구범위의 균등범위에 속하는 변형과 변경은 모두 본 발명의 범위에 속할 것이다. The scope of the above-described invention is defined in the following claims, and is not bound by the description in the text of the specification, all modifications and variations belonging to the equivalent scope of the claims will fall within the scope of the present invention.
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