KR100688985B1 - Apparatus for inspecting substrate and control method for the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 기판검사장치 및 그의 제어방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판검사장치는, 상기 기판을 검사하는 검사유닛과; 상기 검사유닛의 입구영역에 마련되며, 상기 검사유닛으로 상기 기판을 순차적으로 공급하도록 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지와, 상기 검사유닛의 입구측에 대응하여 복수의 상기 공급스테이지를 이동시키는 공급구동부를 갖는 공급유닛과; 상기 검사유닛의 출구영역에 마련되며, 상기 검사유닛에서 순차적으로 배출되는 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 배출스테이지와, 상기 검사유닛의 출구측에 대응하여 복수의 상기 배출스테이지를 이동시키는 배출구동부를 갖는 배출유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 비교적 신속하며 간단하게 기판을 검사할 수 있는 기판검사장치 및 그의 제어방법이 제공된다.The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a control method thereof, the substrate inspection apparatus comprising: an inspection unit for inspecting the substrate; A plurality of supply stages provided in an inlet region of the inspection unit, the plurality of supply stages supporting at least one of the substrates to sequentially supply the substrates to the inspection unit, and a plurality of the supply stages corresponding to the inlet side of the inspection unit; A supply unit having a supply drive unit for moving; A plurality of discharge stages provided at an outlet area of the inspection unit and supporting at least one of the substrates sequentially discharged from the inspection unit, and a discharge port for moving the plurality of discharge stages corresponding to the outlet side of the inspection unit; Characterized in that it comprises a discharge unit having a eastern. Thereby, a board | substrate inspection apparatus and its control method which can inspect a board | substrate comparatively quick and simple are provided.

Description

기판검사장치 및 그의 제어방법 { APPARATUS FOR INSPECTING SUBSTRATE AND CONTROL METHOD FOR THE SAME }Substrate inspection device and control method {APPARATUS FOR INSPECTING SUBSTRATE AND CONTROL METHOD FOR THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 측단면도,1 is a side cross-sectional view according to the present invention,

도 2a 내지 2b는 기판검사과정을 나타낸 측단면도,2a to 2b is a side cross-sectional view showing a substrate inspection process,

도 3은 기판검사장치의 제어과정을 나타낸 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a control process of the substrate inspection apparatus.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 기판검사장치 13 : 기판10 substrate inspection apparatus 13 substrate

20 : 검사유닛 21 : 검사부20: inspection unit 21: inspection unit

23 : 검사스테이지23: inspection stage

30 : 공급유닛 31 : 공급스테이지 30: supply unit 31: supply stage

33 : 공급구동부 35 : 공급유닛본체33: supply drive unit 35: supply unit body

37 : 공급챔버 39 : 공급유닛격벽37: supply chamber 39: supply unit bulkhead

41 : 공급챔버도어41: supply chamber door

50 : 배출유닛 51 : 배출스테이지 50: discharge unit 51: discharge stage

53 : 배출구동부 55 : 배출유닛본체53: discharge drive unit 55: discharge unit body

57 : 배출챔버 59 : 배출유닛격벽57: discharge chamber 59: discharge unit bulkhead

61 : 배출챔버도어61: discharge chamber door

70 : 진공구동부70: vacuum driving unit

S110 : 기판인입단계 S115 : 챔버진공형성단계S110: substrate introduction step S115: chamber vacuum forming step

S120 : 기판공급단계 S125 : 기판검사단계S120: Substrate supply step S125: Substrate inspection step

S130 : 기판배출단계 S135 : 공급스테이지상승단계S130: substrate discharge step S135: supply stage rise step

S140 : 배출스테이지상승단계 S143 : 챔버완료확인단계S140: discharge stage rising step S143: chamber completion step

S145 : 챔버진공해제단계 S150 : 기판외부배출단계S145: chamber vacuum release step S150: substrate discharge step

본 발명은, 기판검사장치 및 그의 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 비교적 신속하며 간단하게 기판을 검사할 수 있는 기판검사장치 및 그의 제어방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a control method thereof, and more particularly, to a substrate inspection apparatus and a control method thereof capable of inspecting a substrate relatively quickly and simply.

기판(Printed circuit board)은 평판디스플레이(FDP : flat display panel), 반도체웨이퍼, LCD 등에 사용된다. 기판은 소정의 기판본체에 신호선을 형성하여 집적회로, 저항기 및 스위치 등의 전자부품 또는 신호선 사이를 결합하여 상호 전기적으로 연결되게 하거나 신호가 전달되도록 한다. 이러한 기판은 식각공정, 증착공정 등의 반응공정을 거친다. 이러한 각종 공정을 거친 기판은 불량여부를 검사하는 기판검사장치로 이송된다. Printed circuit boards are used for flat display panels (FDP), semiconductor wafers, and LCDs. The substrate forms a signal line on a predetermined substrate body to couple electronic components such as integrated circuits, resistors, and switches or signal lines to be electrically connected to each other or to transmit signals. Such a substrate undergoes a reaction process such as an etching process and a deposition process. Substrates that have undergone these various processes are transferred to a substrate inspection device that inspects for defects.

기판을 검사하기 위한 기판검사장치는 기판 검사의 정확도를 높이기 위해 소정의 진공압, 온도 등을 유지하며 기판을 검사하는 검사유닛과, 검사유닛의 유입구 및 유출구에 마련되어 검사유닛에 기판을 공급 및 배출하며 검사유닛과 같은 소정의 진공압 등의 공정분위기를 유지하는 공급유닛 및 배출유닛을 갖는다. The substrate inspection apparatus for inspecting a substrate is provided at an inspection unit for inspecting the substrate while maintaining a predetermined vacuum pressure and temperature to increase the accuracy of the substrate inspection, and is provided at the inlet and outlet of the inspection unit to supply and discharge the substrate to the inspection unit. And a supply unit and a discharge unit for maintaining a process atmosphere such as a predetermined vacuum pressure such as an inspection unit.

대한민국 공개특허공보 제10-2004-47062호(2004.06.05)에는 스테이지 방식을 갖는 다목적 광학검사용 디스플레이패널 이송장치가 개시되어 있다. 이러한 종래기술은 디스플레이 패널을 안내하는 가이드부와, 가이드부에 이송가능하게 장착되어 디스플레이 패널을 진공 흡착하는 그립핑부를 갖는다. 이러한 구성을 갖는 종래기술은 인라인 검사장비의 상부면 상에 이송장치의 간섭을 피하여 하면카메라 및 투과조명을 용이하게 설치할 수 있어 검사결과의 정확도를 향상시킬 수 있는 효과를 가진다. Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2004-47062 (2004.06.05) discloses a display panel transfer device for multi-purpose optical inspection having a stage method. The prior art has a guide part for guiding the display panel and a gripping part which is movably mounted to the guide part to vacuum-adsorb the display panel. The prior art having such a configuration has an effect of improving the accuracy of the inspection results by being able to easily install the bottom camera and the transmission light to avoid interference of the transfer device on the upper surface of the inline inspection equipment.

그런데, 이러한 종래기술에서는 패널과 같은 기판이 검사장치에 하나씩 이송되고 있고 최근의 기판들이 대형화되는 추세 및 기판의 검사가 소정의 진공 하에서 진행되어 이에 따른 진공의 형성과 해제시간 등을 고려하면, 기판이 검사장치로 이송되는 시간이 비교적 많이 소요되어 전체적으로 공정시간이 길어져 생산성이 저하되는 문제점이 있다. However, in such a conventional technology, a substrate such as a panel is transferred to an inspection apparatus one by one, and the recent trend of increasing the size of substrates and inspection of the substrate proceeds under a predetermined vacuum, thereby considering the formation and release time of the vacuum. It takes a relatively long time to be transferred to the inspection device, there is a problem that the overall process time is long, productivity is lowered.

따라서, 본 발명의 목적은, 비교적 신속하며 간단하게 기판을 검사할 수 있는 기판검사장치 및 그의 제어방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate inspection apparatus and a control method thereof capable of inspecting a substrate relatively quickly and simply.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 기판을 검사하기 위한 기판검사장치에 있어서, 상기 기판을 검사하는 검사유닛과; 상기 검사유닛의 입구영역에 마련되며, 상 기 검사유닛으로 상기 기판을 순차적으로 공급하도록 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지와, 상기 검사유닛의 입구측에 대응하여 복수의 상기 공급스테이지를 이동시키는 공급구동부를 갖는 공급유닛과; 상기 검사유닛의 출구영역에 마련되며, 상기 검사유닛에서 순차적으로 배출되는 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 배출스테이지와, 상기 검사유닛의 출구측에 대응하여 복수의 상기 배출스테이지를 이동시키는 배출구동부를 갖는 배출유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치에 의해 달성된다. The above object is, according to the present invention, a substrate inspection apparatus for inspecting a substrate, comprising: an inspection unit for inspecting the substrate; A plurality of supply stages provided in an inlet region of the inspection unit, the plurality of supply stages supporting at least one of the substrates to sequentially supply the substrates to the inspection unit, and a plurality of the supply stages corresponding to the inlet side of the inspection unit; A supply unit having a supply drive unit for moving the; A plurality of discharge stages provided at an outlet area of the inspection unit and supporting at least one of the substrates sequentially discharged from the inspection unit, and a discharge port for moving the plurality of discharge stages corresponding to the outlet side of the inspection unit; It is achieved by a substrate inspection apparatus comprising a discharge unit having an eastern portion.

여기서, 상기 공급구동부는 복수의 상기 공급스테이지가 상기 검사유닛의 입구측에 대응하여 승강되도록 마련되며, 상기 배출구동부는 복수의 상기 배출스테이지가 상기 검사유닛의 출구측에 대응하여 승강되도록 마련될 수 있다. Here, the supply driving unit may be provided so that the plurality of the supply stage is elevated corresponding to the inlet side of the inspection unit, the discharge drive unit may be provided so that the plurality of the discharge stage is elevated corresponding to the outlet side of the inspection unit. have.

또한, 상기 기판이 직선방향으로 지지되어 이송되도록 상기 공급유닛과 상기 검사유닛 및 상기 배출유닛의 입구측 및 출구측이 직선을 이루도록 배치할 수 있다. In addition, the inlet and outlet sides of the supply unit, the inspection unit, and the discharge unit may be arranged in a straight line so that the substrate is supported and transported in a linear direction.

또한, 상기 공급유닛 및 상기 배출유닛은, 적어도 하나 이상의 상기 기판을 지지하는 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지를 수용하는 본체와; 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지가 이격 수용되도록 상기 본체를 상하 층상으로 분리시키는 격벽에 의해 형성된 챔버와; 상기 챔버에 개폐가능하게 마련된 도어를 가질 수 있다.In addition, the supply unit and the discharge unit, the main body for receiving a plurality of the supply stage and the discharge stage for supporting at least one substrate; A chamber formed by a partition wall separating the main body in an upper and lower layers so that a plurality of the supply stage and the discharge stage are spaced apart; It may have a door provided to be opened and closed in the chamber.

또한, 상기 도어가 폐쇄되어 상기 챔버에 소정의 진공압이 유지되도록 마련된 진공구동부를 포함할 수 있다. In addition, the door may be closed to include a vacuum driving unit provided to maintain a predetermined vacuum pressure in the chamber.

또한, 상기 공급유닛 및 상기 배출유닛은, 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지 중 어느 하나가 상기 검사유닛의 입구측 및 출구측에 대응하여 상기 기판을 순차적으로 공급 및 배출하도록 상기 공급구동부 및 상기 배출구동부를 제어하는 제어부를 가질 수 있다.In addition, the supply unit and the discharge unit, the supply drive unit and the one so that any one of a plurality of the supply stage and the discharge stage to sequentially supply and discharge the substrate corresponding to the inlet side and the outlet side of the inspection unit It may have a control unit for controlling the discharge drive unit.

또한, 상기 검사유닛은 상기 기판을 검사하는 검사부와, 상기 공급스테이지로부터 공급되는 상기 기판을 지지하는 검사스테이지를 포함할 수 있다. The inspection unit may include an inspection unit for inspecting the substrate and an inspection stage for supporting the substrate supplied from the supply stage.

한편, 본 발명의 목적은, 기판을 검사하기 위한 기판검사장치의 제어방법에 있어서, 상기 기판을 검사하는 검사유닛을 마련하는 단계와; 상기 검사유닛의 입구영역에 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지를 마련하는 단계와; 상기 검사유닛의 출구영역에 상기 검사유닛에서 배출되는 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지를 마련하는 단계와; 복수의 상기 공급스테이지 중 상기 검사유닛의 입구측에 마련된 어느 하나가 상기 검사유닛으로 상기 기판을 공급하는 단계와; 상기 기판을 검사하는 단계와; 복수의 상기 배출스테이지 중 상기 검사유닛의 출구측에 마련된 어느 하나로 검사된 상기 기판을 배출하는 단계와; 상기 기판을 상기 검사유닛으로 공급한 후 복수의 상기 공급스테이지 중 다른 하나가 상기 검사유닛의 입구측에 대응하도록 복수의 상기 공급스테이지를 상승시키는 단계와; 상기 기판이 상기 검사유닛으로부터 배출되어 복수의 상기 배출스테이지 중 어느 하나에 지지된 후 복수의 상기 배출스테이지 중 다른 하나가 상기 검사유닛의 출구측에 대응하도록 복수의 상기 배출스테이지를 상승시키는 단계와; 복수의 상기 공급스테이지 중 상기 검사유닛의 입구측에 마련된 다른 하나가 상기 검사유닛으로 상기 기판을 공급하는 단계와; 상기 기판을 검사하는 단계와; 복수의 상기 배출스테이지 중 상기 검사유닛의 출구측에 마련된 다른 하나로 검사된 상기 기판을 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치의 제어방법에 의하여 달성될 수 있다.On the other hand, an object of the present invention, the control method of the substrate inspection apparatus for inspecting a substrate, comprising the steps of: providing an inspection unit for inspecting the substrate; Providing a plurality of supply stages supporting at least one of the substrates in an inlet region of the inspection unit; Providing a plurality of supply stages for supporting the substrate discharged from the inspection unit at an exit area of the inspection unit; Supplying the substrate to the inspection unit any one of a plurality of the supply stages provided at an inlet side of the inspection unit; Inspecting the substrate; Discharging the inspected substrate to any one of a plurality of discharge stages provided at an outlet side of the inspection unit; After supplying the substrate to the inspection unit, raising the plurality of supply stages so that the other one of the plurality of supply stages corresponds to the inlet side of the inspection unit; Raising the plurality of discharge stages so that the other one of the plurality of discharge stages corresponds to the outlet side of the inspection unit after the substrate is discharged from the inspection unit and supported by any one of the plurality of discharge stages; Supplying the substrate to the inspection unit, the other one of the plurality of supply stages provided at the inlet side of the inspection unit; Inspecting the substrate; And discharging the substrate inspected by another one of the plurality of discharge stages provided at the outlet side of the inspection unit.

여기서, 적어도 하나 이상의 상기 기판을 지지하는 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지를 상하 층상으로 수용하는 본체를 마련하는 단계와; 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지가 이격 수용되도록 상기 본체를 상하 층상으로 분리시키는 격벽에 의해 형성된 챔버를 마련하는 단계와; 상기 검사유닛 및 상기 챔버 중 적어도 하나에 소정의 진공압을 형성하여 유지하는 단계를 포함할 수 있다. Here, the method comprising the steps of providing a main body for receiving the plurality of the supply stage and the discharge stage for supporting at least one of the substrate in the upper and lower layers; Providing a chamber formed by a partition wall separating the main body into upper and lower layers so that a plurality of the supply stage and the discharge stage are spaced apart; And forming and maintaining a predetermined vacuum pressure in at least one of the inspection unit and the chamber.

그리고, 복수의 상기 챔버에 개폐가능한 도어를 마련하는 단계와; 복수의 상기 챔버 중 소정의 진공압이 해제된 상기 챔버의 도어를 개방하는 단계와; 상기 챔버 내부의 상기 공급스테이지로 상기 기판을 순차적으로 공급하는 단계와; 상기 챔버 내부의 상기 배출스테이지로부터 상기 기판을 순차적으로 배출하는 단계를 포함할 수 있다. And providing a door openable in a plurality of the chambers; Opening a door of the chamber in which a predetermined vacuum pressure of the plurality of chambers is released; Sequentially supplying the substrate to the supply stage inside the chamber; And sequentially discharging the substrate from the discharge stage in the chamber.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명의 일실시예인 기판검사장치 및 그의 제어방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a substrate inspection apparatus and a control method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 기판검사장치(10) 및 그의 제어방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판검사장치(10)는, 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(13)을 검사하는 검사유닛(20)과; 검사유닛(20)의 입구영역에 마련되며, 검사유닛(20)으로 기판 (13)을 순차적으로 공급하도록 적어도 하나의 기판(13)을 지지하는 복수의 공급스테이지(31)와, 검사유닛(20)의 입구측에 대응하여 복수의 공급스테이지(31)를 이동시키는 공급구동부(33)를 갖는 공급유닛(30)과; 검사유닛(20)의 출구영역에 마련되며, 검사유닛(20)에서 순차적으로 배출되는 적어도 하나의 기판(13)을 지지하는 복수의 배출스테이지(51)와, 검사유닛(20)의 출구측에 대응하여 복수의 배출스테이지(51)를 이동시키는 배출구동부(53)를 갖는 배출유닛(50)을 포함한다. 또한, 기판검사장치(10)는 도어(41,61)가 폐쇄되어 챔버(37,57)에 소정의 진공압이 유지되도록 하는 진공구동부(70)를 갖는다. The present invention relates to a substrate inspection apparatus 10 and a control method thereof, the substrate inspection apparatus 10 according to the present invention, as shown in Figures 1 to 2, the inspection unit for inspecting the substrate 13 ( 20); A plurality of supply stages 31 provided at an inlet area of the inspection unit 20 to support the at least one substrate 13 so as to sequentially supply the substrate 13 to the inspection unit 20, and the inspection unit 20. A supply unit 30 having a supply drive part 33 for moving the plurality of supply stages 31 corresponding to the inlet side of the < RTI ID = 0.0 > A plurality of discharge stages 51 provided at an exit area of the inspection unit 20 and supporting at least one substrate 13 sequentially discharged from the inspection unit 20, and at an exit side of the inspection unit 20. And a discharge unit 50 having a discharge driver 53 for moving the plurality of discharge stages 51 correspondingly. In addition, the substrate inspection apparatus 10 includes a vacuum driving unit 70 for closing the doors 41 and 61 to maintain a predetermined vacuum pressure in the chambers 37 and 57.

기판검사장치(10)에서는 기판(13)이 이송 및 정지된 상태에서 전자빔으로 스캐닝하는 방식 등을 이용하여 기판(13) 상에 형성된 패턴 등의 불량여부가 검사된다. 또한, 기판검사장치(10)는 검사의 정확도를 향상시키기 위하여 공정분위기를 형성하여 소정의 진공압을 유지할 수 있다.In the substrate inspection apparatus 10, defects such as patterns formed on the substrate 13 are inspected using a method of scanning with an electron beam while the substrate 13 is transported and stopped. In addition, the substrate inspection apparatus 10 may maintain a predetermined vacuum by forming a process atmosphere in order to improve the accuracy of the inspection.

기판(13)은 평판디스플레이(FDP : flat display panel), 반도체웨이퍼, LCD 등에 사용되며 식각공정, 증착공정 등의 반응공정을 거친다. 각종 공정을 거친 다양한 크기의 기판(13)은 불량여부를 검사하는 기판검사장치(10)로 이송된다. The substrate 13 is used for a flat display panel (FDP), a semiconductor wafer, an LCD, and the like and undergoes a reaction process such as an etching process and a deposition process. Substrates 13 of various sizes that have undergone various processes are transferred to a substrate inspection apparatus 10 that inspects for defects.

검사유닛(20)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(13)을 검사하는 검사부(21)와, 기판(13)을 검사하도록 기판(13)을 지지하며 이송하는 검사스테이지(23)를 갖는다. 또한, 검사유닛(20)은 정확한 검사를 위하여 소정의 진공압을 형성하는 진공구동부(70)와 연결되어 진공을 유지할 수 있다. 또한, 검사유닛(20)은 기판(13)의 입구측 및 출구측에 각각 검사도어(미도시)를 가질 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the inspection unit 20 includes an inspection unit 21 for inspecting the substrate 13 and an inspection stage for supporting and transporting the substrate 13 to inspect the substrate 13. 23). In addition, the inspection unit 20 may be connected to the vacuum driving unit 70 to form a predetermined vacuum pressure for accurate inspection to maintain the vacuum. In addition, the inspection unit 20 may have inspection doors (not shown) on the inlet side and the outlet side of the substrate 13, respectively.

검사부(21)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(13)의 불량여부를 검사하며 전자빔으로 스캐닝하는 방식 등의 공지된 다양한 방식을 선택적으로 채용할 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the inspection unit 21 may selectively adopt various known methods such as a method of inspecting whether the substrate 13 is defective and scanning with an electron beam.

검사스테이지(23)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 검사유닛(20) 내에서 검사되는 기판(13)을 지지하여 이송한다. 또한, 검사스테이지(23)의 높이를 기준으로 복수의 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51)의 높이가 구동부(33,53)에 의해 조절된다. 또한, 검사스테이지(23)는 기판을 공급스테이지(31)에서 공급받아 배출스테이지(51)로 배출한다. 또한, 검사스테이지(23)는 후술할 공급스테이지(31)와 같은 롤러, 모터 등을 가질 수 있음은 물론이다.1 and 2, the inspection stage 23 supports and transports the substrate 13 to be inspected in the inspection unit 20. In addition, the heights of the plurality of supply stages 31 and the discharge stages 51 are adjusted by the driving units 33 and 53 based on the height of the inspection stage 23. In addition, the inspection stage 23 receives the substrate from the supply stage 31 and discharges it to the discharge stage 51. In addition, the inspection stage 23 may have a roller, a motor, etc., such as the supply stage 31 to be described later, of course.

이하에서는 검사유닛(20)과 배출유닛(50)에서는 상호 위치가 검사유닛(20)의 입구측 및 출구측으로 차이가 있으나, 상호 구성이 동일하므로 검사유닛(20)에 대해서 상세한 설명을 하고 배출유닛(50)에 대하여는 상세한 설명을 생략한다. Hereinafter, in the inspection unit 20 and the discharge unit 50, the mutual position is different from the inlet side and the outlet side of the inspection unit 20, but since the mutual configuration is the same, a detailed description of the inspection unit 20 and the discharge unit The detailed description of 50 is omitted.

공급유닛(30)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 검사유닛(20)의 입구영역에 마련되어 검사유닛(20)으로 기판(13)을 순차적으로 공급하는 복수의 공급스테이지(31)를 가진다. 또한, 공급유닛(30)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 공급스테이지(31)가 승강되도록 마련된 공급구동부(33)를 갖는다. 또한, 공급유닛(30)은 적어도 하나의 기판(13)을 지지하는 복수의 공급스테이지(31)를 상하 층상으로 수용하는 본체(35,55)를 가질 수 있다. 1 and 2, the supply unit 30 is provided in the inlet region of the inspection unit 20, a plurality of supply stage 31 for sequentially supplying the substrate 13 to the inspection unit 20 Has In addition, the supply unit 30, as shown in Figs. 1 and 2, the supply drive unit 33 is provided so that the supply stage 31 is elevated. In addition, the supply unit 30 may have a main body (35, 55) for accommodating a plurality of supply stage 31 for supporting at least one substrate 13 in the upper and lower layers.

공급스테이지(31)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 공급유닛본체(35)에 기판(13)을 지지하며, 검사유닛(20)으로 기판(13)을 공급한다. 또한, 공급스테이지 (31)는 복수 개로 마련되며, 상하로 분리된 상부 및 하부공급챔버(37a,37b)에 각각 복수 개로 마련되어 기판(13)의 공급을 원활하게 할 수 있다. 또한, 공급스테이지(31)는 공급구동부(33)에 의해 검사유닛(20)의 입구측의 검사스테이지(23)와 동일할 높이로 조절되어 순차적으로 기판(13)을 검사스테이지(23)로 원활하게 공급할 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the supply stage 31 supports the substrate 13 to the supply unit body 35 and supplies the substrate 13 to the inspection unit 20. In addition, a plurality of supply stages 31 may be provided, and a plurality of supply stages 31 may be provided in the upper and lower supply chambers 37a and 37b separated up and down, respectively, to smoothly supply the substrate 13. In addition, the supply stage 31 is adjusted to the same height as the inspection stage 23 on the inlet side of the inspection unit 20 by the supply drive unit 33 to smoothly move the substrate 13 to the inspection stage 23 sequentially. Can be supplied.

기판(13)을 검사스테이지(23)로 공급할 수 있어 원활하게 기판(13)을 이송할 수 있다. 또한, 공급스테이지(31)는 실시예에서와 같이 각 공급챔버(37a,37b)에 이단으로 형성된 것뿐만 아니라 필요에 따라 삼단, 사단 등으로 형성될 수 있음은 물론이다. 또한, 공급스테이지(31)는 기판(13)을 지지하여 이송할 수 있도록 롤러(미도시)와, 롤러에 회전력을 주는 구동모터(미도시)와, 롤러와 구동모터를 연결시켜 주는 벨트나 체인과 같은 연결수단을 가질 수 있다. Since the board | substrate 13 can be supplied to the test | inspection stage 23, the board | substrate 13 can be conveyed smoothly. In addition, the supply stage 31 is not only formed in two stages in each of the supply chambers 37a and 37b as in the embodiment, of course, may be formed in three stages, four stages, and the like as necessary. In addition, the supply stage 31 is a roller (not shown) to support and transport the substrate 13, a drive motor (not shown) to give a rotational force to the roller, belt or chain connecting the roller and the drive motor It may have a connection means such as.

구동부(33,53)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 검사유닛(20)의 입구측 및 출구측에 대응하여 복수의 스테이지(31,51)를 이동시킬 수 있다. 또한, 구동부(33,53)는 공급구동부(33) 및 배출구동부(53)를 가진다. 또한, 구동부(33,53)는 검사유닛(20)의 입구측 및 출구측의 검사스테이지(23)에 대응하여 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51)를 승강되도록 한다. 또한, 구동부(33.53)는 모터 등을 이용하여 스테이지(31,51)를 승강시킬 수 있으며, 스테이지(31,51)를 승강가능하게 할 수 있는 공지된 유압실린더 등을 선택적으로 채용할 수 있음은 물론이다. 또한 구동부(33,53)는 본체(35,55)의 하부에 결합될 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the driving units 33 and 53 may move the plurality of stages 31 and 51 corresponding to the inlet side and the outlet side of the inspection unit 20. In addition, the driving units 33 and 53 have a supply driving unit 33 and a discharge driving unit 53. In addition, the driving units 33 and 53 allow the supply stage 31 and the discharge stage 51 to be elevated in correspondence with the inspection stage 23 on the inlet side and the outlet side of the inspection unit 20. In addition, the driving unit 33.53 may raise and lower the stages 31 and 51 by using a motor or the like, and the driving unit 33.53 may selectively employ a known hydraulic cylinder or the like that can make the stages 31 and 51 rise and fall. Of course. In addition, the driving units 33 and 53 may be coupled to the lower parts of the main bodies 35 and 55.

이에, 구동부(33,53)가 스테이지(31,51)를 승강시켜 기판(13)을 순차적으로 간편하며 신속하게 공급 및 배출할 수 있다. Accordingly, the driving units 33 and 53 raise and lower the stages 31 and 51 so that the substrate 13 can be sequentially supplied and discharged in a simple and quick manner.

본체(35,55)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51)를 수용할 수 있도록 마련되며, 공급유닛본체(35)와 배출유닛본체(55)를 갖는다. 또한, 본체(35,55)는 복수의 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51)가 이격 수용되도록 상하 층상으로 분리되는 격벽(39,59)으로 형성된 챔버(37,57)를 갖는다. 1 and 2, the main body 35, 55 is provided to accommodate a plurality of supply stage 31 and the discharge stage 51, the supply unit main body 35 and the discharge unit main body Has 55. In addition, the main bodies 35 and 55 have chambers 37 and 57 formed of partitions 39 and 59 separated into upper and lower layers so that the plurality of supply stages 31 and the discharge stages 51 are spaced apart.

공급유닛본체(35)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 적어도 하나의 기판(13)을 지지하는 복수의 공급스테이지(31a,31b)를 수용한다. 또한, 공급유닛본체(35)는 복수의 공급스테이지(31a,31b)가 이격 수용되도록 상하 층상으로 분리되는 격벽(39,59)으로 형성된 상부챔버(37a,57a) 및 하부챔버(37b,57b)를 갖는다. 공급유닛본체(35)의 하부에는 공급구동부(33)가 결합될 수 있다.As shown in Figs. 1 and 2, the supply unit body 35 accommodates a plurality of supply stages 31a and 31b for supporting at least one substrate 13. In addition, the supply unit main body 35 has upper chambers 37a and 57a and lower chambers 37b and 57b formed of partitions 39 and 59 separated into upper and lower layers so that a plurality of supply stages 31a and 31b are spaced apart. Has The supply driving unit 33 may be coupled to the lower portion of the supply unit body 35.

챔버(37,57)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51)를 이격 수용할 수 있도록 본체(35,55)를 상하 층상으로 분리하는 격벽(39,59)에 의해 형성된다. As shown in FIGS. 1 and 2, the chambers 37 and 57 separate the main bodies 35 and 55 into upper and lower layers so as to accommodate the plurality of supply stages 31 and the discharge stages 51. It is formed by the partitions 39 and 59.

공급챔버(37)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 공급스테이지(31a,31b)를 이격 수용할 수 있도록 공급유닛본체(35)를 상하 층상으로 분리하는 격벽(39)에 의해 상부공급챔버(37a) 및 하부공급챔버(37b)를 갖는다. 또한, 공급챔버(37)에는 기판(13)이 출입가능하며 개폐가능한 공급도어(41)가 마련되어 있다. 또한, 상부공급챔버(37a) 및 하부공급챔버(37b)는 검사유닛(20)의 소정의 진공압과 동일한 진동압을 유지할 수 있도록 진공구동부(70)와 연결되어 진공을 형성할 수 있다. 또한, 공급챔버(37)는 실시예와 같이 상하의 이층으로 형성된 것뿐만이 아니라 필요에 따라 삼층, 사층 등의 다양한 형태로 마련될 수 있음은 물론이다. As shown in FIGS. 1 and 2, the supply chamber 37 includes a partition 39 that separates the supply unit body 35 into upper and lower layers so as to accommodate the plurality of supply stages 31a and 31b. Thereby having an upper supply chamber 37a and a lower supply chamber 37b. In addition, the supply chamber 37 is provided with a supply door 41 into which the substrate 13 can enter and exit and can be opened and closed. In addition, the upper supply chamber 37a and the lower supply chamber 37b may be connected to the vacuum driving unit 70 to form a vacuum so as to maintain a vibration pressure equal to a predetermined vacuum pressure of the inspection unit 20. In addition, the supply chamber 37 may be provided in various forms such as three layers, four layers, etc., as necessary, as well as the upper and lower two layers as in the embodiment.

격벽(39,59)은, 도 1 및 도2에 도시된 바와 같이, 본체(35,55)를 상하로 분리하여 상부 및 하부챔버(37a 및 57a,37a 및 57b)를 갖는다.The partition walls 39 and 59 have upper and lower chambers 37a and 57a, 37a and 57b by separating the main bodies 35 and 55 up and down, as shown in FIGS. 1 and 2.

이에, 격벽(39,59)으로 분리된 공급유닛본체(35,55)는 별도의 작업을 진행할 수 있다. 즉, 상부공급챔버(37a)에서는 진공이 형성되어 기판(13)의 검사가 진행되며, 하부공급챔버(37b)에서는 기판(13)이 공급스테이지(31)로 공급될 수 있다. Thus, the supply unit bodies 35 and 55 separated by the partitions 39 and 59 may perform separate operations. That is, a vacuum is formed in the upper supply chamber 37a to inspect the substrate 13, and the substrate 13 may be supplied to the supply stage 31 in the lower supply chamber 37b.

도어(41,61)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(37,57)에 기판(13)을 출입시킬 수 있으며 개폐가능하다.As shown in FIGS. 1 and 2, the doors 41 and 61 may enter and exit the substrate 13 into the chambers 37 and 57.

공급도어(41)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 공급챔버(37)에 기판(13)을 출입시킬 수 있으며 개폐가능하다. 또한, 공급도어(41)에는 챔버(37) 내에 소정의 진공압이 형성되거나 기판(13)이 출입 시 개폐될 수 있도록 제어하는 제어부(미도시)가 포함될 수 있다. 또한, 공급도어(41)는 개폐할 수 있는 유압실린더, 공압실린더 등을 선택적으로 채용할 수 있음은 물론이다. 또한, 공급도어(41)는 소정의 진공압이 형성될 수 있도록 챔버(37) 사이에 실링부재(미도시)를 포함할 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the supply door 41 allows the substrate 13 to enter and exit the supply chamber 37 and is openable and openable. In addition, the supply door 41 may include a controller (not shown) for controlling a predetermined vacuum pressure to be formed in the chamber 37 or to be opened or closed when the substrate 13 enters or exits. In addition, the supply door 41 can selectively employ a hydraulic cylinder, a pneumatic cylinder, etc. that can be opened and closed. In addition, the supply door 41 may include a sealing member (not shown) between the chamber 37 so that a predetermined vacuum pressure can be formed.

배출스테이지(51)는 검사유닛(20)의 검사스테이지(23)에서 배출되는 기판(13)을 지지하며 배출유닛(51)의 외부로 기판(13)을 배출시킨다. The discharge stage 51 supports the substrate 13 discharged from the inspection stage 23 of the inspection unit 20 and discharges the substrate 13 to the outside of the discharge unit 51.

그리고, 공급스테이지(31)와 배출스테이지(51)는 기판(13)을 직선방향으로 지지하여 이송할 수 있도록 공급유닛(30)과 검사유닛(20) 및 배출유닛(50)의 입구 측 및 출구측이 직선을 이루도록 배치한다. In addition, the supply stage 31 and the discharge stage 51 support the substrate 13 in a linear direction so that the feed unit 30, the inspection unit 20, and the discharge unit 50 have an inlet side and an outlet. The sides are arranged in a straight line.

이에, 공급스테이지(31) 및 배출스테이지는 검사유닛(20)의 검사스테이지(23)에 상호 대향되게 배치되어 기판(13)을 직선으로 이송할 수 있으므로 이송에 따른 시간을 줄이며, 방향전환에 따른 복잡한 구조를 없애 간단하며 신속한 이송을 할 수 있어 경제적인 비용도 줄일 수 있다. Therefore, the supply stage 31 and the discharge stage are disposed opposite to the inspection stage 23 of the inspection unit 20 to transfer the substrate 13 in a straight line, reducing the time due to the transfer, Simple, fast transfers are eliminated by eliminating complex structures, reducing economic costs.

진공구동부(70)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(37,57)의 도어(41,61)가 폐쇄된 상태에서 검사유닛(20) 및 공급챔버(37) 및 배출챔버(37)가 소정의 진공압을 동일하게 형성할 수 있도록 마련되어 있다. 또한, 진공구동부(70)에는 기판(13)이 소정의 공정을 완료하면 챔버(37,57)가 진공해제되도록 진공구동부(70)를 제어하는 제어부가 마련될 수 있다. 또한, 필요에 따라 소정의 진공을 형성하기 위하여 공급챔버(37), 배출챔버(57) 및 검사유닛(20)에 각각 진공구동부(70)를 마련할 수 있다. 또한, 진공구동부(70)는 각각 챔버(37,57) 및 검사유닛(20)과 연결되는 배관, 관련밸브 등을 포함함은 물론이다.1 and 2, the vacuum driving unit 70, the inspection unit 20 and the supply chamber 37 and the discharge chamber in the state in which the doors 41 and 61 of the chambers 37 and 57 are closed. 37 is provided so that predetermined | prescribed vacuum pressure may be formed equally. In addition, the vacuum driving unit 70 may be provided with a control unit for controlling the vacuum driving unit 70 to release the vacuum chamber (37, 57) when the substrate 13 completes a predetermined process. In addition, in order to form a predetermined vacuum, a vacuum driving part 70 may be provided in the supply chamber 37, the discharge chamber 57, and the inspection unit 20, respectively. In addition, the vacuum driving unit 70 includes a pipe, an associated valve, and the like, which are connected to the chambers 37 and 57 and the inspection unit 20, respectively.

제어부(미도시)는 복수의 공급스테이지(31) 및 배출스테이지(51) 중 어느 하나가 검사유닛(20)의 입구측 및 출구측에 대응하여 기판(13)을 순차적으로 공급 및 배출할 수 있도록 공급구동부(33) 및 배출구동부(53)를 제어할 수 있다. 또한, 제어부는 챔버(37,57) 내에 소정의 진공압이 형성되거나 기판(13)의 출입 시 개폐될 수 있도록 도어(41,61)를 제어할 수 있다. The control unit (not shown) is such that any one of the plurality of supply stage 31 and the discharge stage 51 can sequentially supply and discharge the substrate 13 corresponding to the inlet and outlet side of the inspection unit 20 The supply drive unit 33 and the discharge drive unit 53 can be controlled. In addition, the control unit may control the doors 41 and 61 so that a predetermined vacuum pressure may be formed in the chambers 37 and 57 or may be opened and closed when the substrate 13 enters and exits.

이러한 구성에 의해, 본 발명에 따른 기판검사장치(10)의 작동과정을 도 2 및 도 3을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.With this configuration, the operation of the substrate inspection apparatus 10 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3 as follows.

먼저, 검사유닛마련단계(미도시)에서는, 기판을 검사하며 지지하여 이송하기 위하여 기판(13)을 검사하는 검사부(21)와, 공급되는 기판(13)을 지지하는 검사스테이지(23)가 마련된다. 공급유닛 및 배출유닛마련단계(미도시)에서는, 순차적으로 기판(13)을 공급 및 배출하기 위하여 검사유닛(20)의 입구영역 및 출구영역에 적어도 하나의 기판(13)을 지지하는 복수의 스테이지(31,51)와, 복수의 스테이지(31,51)를 수용하는 본체(35,55)와, 본체(35,55)에 복수의 스테이지(31,51)가 이격 수용되도록 마련된 챔버(37,57)를 형성하는 격벽(39,59)이 마련된다. First, in an inspection unit preparation step (not shown), an inspection unit 21 for inspecting the substrate 13 and an inspection stage 23 for supporting the substrate 13 to be supplied are provided to inspect and support and transport the substrate. do. In the supply unit and discharge unit preparation step (not shown), a plurality of stages for supporting at least one substrate 13 in the inlet region and the outlet region of the inspection unit 20 to sequentially supply and discharge the substrate 13 (31, 51), the main body (35, 55) for accommodating the plurality of stages (31, 51), and the chamber (37, provided so that the plurality of stages (31, 51) are spaced apart in the main body (35, 55) The partitions 39 and 59 forming 57 are provided.

우선 상부챔버(37a,57a)에서의 기판검사과정을 살펴본다. First, the board inspection process in the upper chambers 37a and 57a will be described.

기판인입단계(S110,S110')에서는, 복수의 공급스테이지(31)로 순차적으로 외부에서 기판(13)을 인입시킨다. 이 때, 제어부는 공급챔버(37)에 마련된 공급챔버도어(41)를 개방되도록 제어한다. 이하에서 기호 S000은 상부챔버(37a,57a)의 검사과정를 표시하며, 기호 S000'는 하부챔버(37b,57b)의 검사과정을 나타낸다. 즉, S110은 상부챔버(37a)의 기판인입단계이며, S110'는 하부챔버(37b)의 기판인입단계이다. In the substrate insertion steps S110 and S110 ′, the substrate 13 is sequentially introduced from the outside into the plurality of supply stages 31. At this time, the controller controls the supply chamber door 41 provided in the supply chamber 37 to be opened. Hereinafter, symbol S000 indicates an inspection process of the upper chambers 37a and 57a, and symbol S000 'indicates an inspection process of the lower chambers 37b and 57b. That is, S110 is a substrate introduction step of the upper chamber 37a, and S110 'is a substrate introduction step of the lower chamber 37b.

진공형성단계(S115,S115')에서는 복수의 공급스테이지(31)에 기판(13)이 인입된 후 챔버(37,57)의 도어(41,61)가 닫히면, 제어부(미도시)는 공급챔버(30) 및 배출챔버(50)에 검사유닛(20)과 같은 소정의 진공이 형성되도록 진공구동부(70)를 작동시킨다. 즉, 제어부에서는 상부챔버(37a,57a)의 도어(41a,41b,61a,61b)가 닫히면, 진공구동부(70)를 작동시켜 상부챔버(37a,57a) 각각에 소정의 진공압이 형성되도록 제어한다. 이러한 진공형성단계(S115)에서는 하나의 진공구동부(70)를 이용하 여 검사유닛(20)에도 소정의 진공이 형성되도록 할 수 있음은 물론이다. In the vacuum forming step (S115, S115 ′), if the doors 41 and 61 of the chambers 37 and 57 are closed after the substrate 13 is inserted into the plurality of supply stages 31, the control unit (not shown) supplies the supply chamber. The vacuum driving unit 70 is operated to form a predetermined vacuum such as the inspection unit 20 in the 30 and the discharge chamber 50. That is, in the controller, when the doors 41a, 41b, 61a, and 61b of the upper chambers 37a and 57a are closed, the vacuum driving unit 70 is operated so that a predetermined vacuum pressure is formed in each of the upper chambers 37a and 57a. do. In such a vacuum forming step (S115), a predetermined vacuum may be formed in the inspection unit 20 by using one vacuum driving unit 70, of course.

기판공급단계(S120,S120S)에서는 복수의 공급스테이지(31) 중 검사유닛(20)의 입구측에 마련된 하나가 검사유닛(20)의 검사스테이지(23)로 기판(13)을 공급한다. In the substrate supply steps S120 and S120S, one of the plurality of supply stages 31 provided at the inlet side of the inspection unit 20 supplies the substrate 13 to the inspection stage 23 of the inspection unit 20.

기판검사단계(S125,S125')에서는 공급스테이지(31,51)로부터 공급된 기판(13)을 검사스테이지(23)가 지지하여 검사부(21)가 기판(13)을 검사한다. In the substrate inspection steps S125 and S125 ′, the inspection stage 23 supports the substrate 13 supplied from the supply stages 31 and 51 so that the inspection unit 21 inspects the substrate 13.

기판배출단계(S130,S130')에서는 배출스테이지(51) 중 검사유닛(20)의 출구측에 마련된 어느 하나로 검사된 기판(13)을 배출하며 배출된 기판(13)을 배출스테이지(51)가 지지한다. In the substrate discharge step (S130, S130 ′), the discharged substrate 51 is discharged by discharging the inspected substrate 13 to one of the discharge stages 51 provided at the outlet side of the inspection unit 20. I support it.

공급스테이지 상승단계(S135,S135')에서는 검사유닛(20)에 기판(13)을 공급한 후 복수의 공급스테이지(31,51) 중 다른 하나가 검사유닛(20)의 입구측에 대응하도록 공급구동부(33)가 복수의 공급스테이지(31)를 상승시킨다. In the supply stage raising steps S135 and S135 ', after supplying the substrate 13 to the inspection unit 20, the other one of the plurality of supply stages 31 and 51 is supplied to correspond to the inlet side of the inspection unit 20. The driving unit 33 raises the plurality of supply stages 31.

배출스테이지 상승단계(S135,S135')에서는 검사유닛(20)으로부터 배출된 기판(13)이 복수의 배출스테이지(51) 중 어느 하나에 지지된 후 복수의 배출스테이지(51) 중 다른 하나가 검사유닛(20)의 출구측에 대응하도록 배출구동부(53)가 복수의 배출스테이지(51)를 상승시킨다. In the discharge stage raising steps S135 and S135 ', the substrate 13 discharged from the inspection unit 20 is supported by any one of the plurality of discharge stages 51 and then the other one of the plurality of discharge stages 51 is inspected. The discharge driving part 53 raises the plurality of discharge stages 51 so as to correspond to the outlet side of the unit 20.

챔버완료확인단계(S143,S143')에서는 상부챔버(37a,57a)의 공급스테이지(31)에 지지된 기판(13)이 모두 검사유닛(20)으로 공급되어 검사 및 배출이 완료되었는지 여부를 확인한다. 이에, 검사 및 배출이 완료되지 않은 경우에는 기판공급단계(S120)부터 상기 과정을 반복한다. 검사 및 배출이 완료된 경우에는 기판(13)을 공 급완료한 상부챔버(37a,57b)와 기판(13)을 공급완료하지 않는 하부챔버(37b,57b)는 다른 과정을 거친다. 즉, 하부챔버(37b,57b)는 계속 상기와 같은 과정을 반복하나, 상부챔버(37a,57a)는 다른 과정을 수행하므로, 이하에서는 상부챔버(37a,57a)의 작동과정만 설명하도록 한다. In the chamber completion check step (S143, S143 ′), all of the substrates 13 supported on the supply stage 31 of the upper chambers 37a and 57a are supplied to the inspection unit 20 to confirm whether the inspection and discharge are completed. do. Thus, if the inspection and discharge is not completed, the process is repeated from the substrate supply step (S120). When the inspection and discharge are completed, the upper chambers 37a and 57b for which the substrate 13 is supplied and the lower chambers 37b and 57b for not supplying the substrate 13 go through different processes. That is, the lower chambers 37b and 57b continue to repeat the above process, but the upper chambers 37a and 57a perform different processes, so only the operation of the upper chambers 37a and 57a will be described below.

챔버진공해제단계(S145,S145')에서는 제어부는 진공구동부(70)의 작동을 정지시키며, 상부챔버(37a,57a)의 도어(41a,61b)가 개방되도록 제어한다. 이에, 상부챔버(37a,57a)에는 진공이 해제된다. In the chamber vacuum release step (S145, S145 ′), the controller stops the operation of the vacuum driving unit 70 and controls the doors 41a and 61b of the upper chambers 37a and 57a to be opened. Thus, the vacuum is released to the upper chambers 37a and 57a.

기판인입단계(S110')에서는 복수의 상부공급스테이지(31a)로 순차적으로 외부에서 기판(13)이 인입된다.In the substrate retracting step (S110 ′), the substrate 13 is sequentially introduced into the plurality of upper supply stages 31 a from the outside.

기판외부배출단계(S150)에서는 상부배출스테이지(51a)에서 기판(13)이 외부로 순차적으로 배출된다. In the substrate external discharge step S150, the substrate 13 is sequentially discharged to the outside from the upper discharge stage 51a.

그리고, 하부챔버(37b,57b)에서 기판의 검사 및 배출이 완료된 경우에 제어부에서는 구동부(33,53)를 작동시켜 복수의 스테이지(31,51)가 출발위치로 하강되도록 하여 전술한 단계가 반복되도록 제어한다. When the inspection and discharge of the substrate are completed in the lower chambers 37b and 57b, the control unit operates the driving units 33 and 53 so that the plurality of stages 31 and 51 are lowered to the starting position, and the above-described steps are repeated. Control as possible.

이에, 본 발명에 따르면, 복수의 공급스테이지 및 배출스테이지를 수용하는 복수의 챔버가 마련되어 각 챔버가 독립적인 공정을 수행할 수 있으며, 공급 및 배출스테이지가 검사유닛에 대응하여 승강되도록 마련되어 기판의 이송을 신속하며 간단하게 할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 기판의 이송이 직선으로 이루어져 기판검사장치의 구조가 복잡하지 않아 경제적 비용을 감소시킬 수 있다. Accordingly, according to the present invention, a plurality of chambers are provided to accommodate a plurality of supply stages and discharge stages, and each chamber may perform an independent process, and the supply and discharge stages may be elevated to correspond to the inspection unit to transfer the substrate. It can be done quickly and simply. In addition, according to the present invention, since the transfer of the substrate is a straight line, the structure of the substrate inspection apparatus is not complicated, thereby reducing the economic cost.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 비교적 신속하며 간단하게 기판을 검사할 수 있는 기판검사장치 및 그의 제어방법이 제공된다.As described above, according to the present invention, a substrate inspection apparatus and a control method thereof that can inspect a substrate relatively quickly and simply are provided.

Claims (10)

기판을 검사하기 위한 기판검사장치에 있어서,In the substrate inspection apparatus for inspecting a substrate, 상기 기판을 검사하는 검사유닛과;An inspection unit for inspecting the substrate; 상기 검사유닛의 입구영역에 마련되며, 상기 검사유닛으로 상기 기판을 순차적으로 공급하도록 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지와, 상기 검사유닛의 입구측에 대응하여 복수의 상기 공급스테이지를 이동시키는 공급구동부를 갖는 공급유닛과;A plurality of supply stages provided in an inlet region of the inspection unit, the plurality of supply stages supporting at least one of the substrates to sequentially supply the substrates to the inspection unit, and a plurality of the supply stages corresponding to the inlet side of the inspection unit; A supply unit having a supply drive unit for moving; 상기 검사유닛의 출구영역에 마련되며, 상기 검사유닛에서 순차적으로 배출되는 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 배출스테이지와, 상기 검사유닛의 출구측에 대응하여 복수의 상기 배출스테이지를 이동시키는 배출구동부를 갖는 배출유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.A plurality of discharge stages provided at an outlet area of the inspection unit and supporting at least one of the substrates sequentially discharged from the inspection unit, and a discharge port for moving the plurality of discharge stages corresponding to the outlet side of the inspection unit; Substrate inspection apparatus comprising a discharge unit having a eastern. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 공급구동부는 복수의 상기 공급스테이지가 상기 검사유닛의 입구측에 대응하여 승강되도록 마련되며,The supply drive unit is provided such that a plurality of the supply stage is raised and lowered corresponding to the inlet side of the inspection unit, 상기 배출구동부는 복수의 상기 배출스테이지가 상기 검사유닛의 출구측에 대응하여 승강되도록 마련된 것을 특징으로 하는 기판검사장치. And the discharge driving part is provided such that a plurality of the discharge stages are lifted corresponding to the outlet side of the inspection unit. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기판이 직선방향으로 지지되어 이송되도록 상기 공급유닛과 상기 검사유닛 및 상기 배출유닛의 입구측 및 출구측이 직선을 이루도록 배치하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치. And an inlet side and an outlet side of the supply unit, the inspection unit, and the discharge unit to form a straight line such that the substrate is supported and transported in a linear direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 공급유닛 및 상기 배출유닛은,The supply unit and the discharge unit, 적어도 하나 이상의 상기 기판을 지지하는 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지를 수용하는 본체와;A main body accommodating at least one of said supply stage and said discharge stage for supporting at least one said substrate; 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지가 이격 수용되도록 상기 본체를 상하 층상으로 분리시키는 격벽에 의해 형성된 챔버와;A chamber formed by a partition wall separating the main body in an upper and lower layers so that a plurality of the supply stage and the discharge stage are spaced apart; 상기 챔버에 개폐가능하게 마련된 도어를 갖는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.Substrate inspection apparatus, characterized in that it has a door provided to open and close the chamber. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 도어가 폐쇄되어 상기 챔버에 소정의 진공압이 유지되도록 마련된 진공구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.And a vacuum driving part provided to maintain the predetermined vacuum pressure in the chamber by closing the door. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 공급유닛 및 상기 배출유닛은, The supply unit and the discharge unit, 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지 중 어느 하나가 상기 검사 유닛의 입구측 및 출구측에 대응하여 상기 기판을 순차적으로 공급 및 배출하도록 상기 공급구동부 및 상기 배출구동부를 제어하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판검사장치. Any one of a plurality of the supply stage and the discharge stage has a control unit for controlling the supply drive unit and the discharge drive unit to sequentially supply and discharge the substrate corresponding to the inlet side and the outlet side of the inspection unit; Board inspection apparatus. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 검사유닛은 상기 기판을 검사하는 검사부와, 상기 공급스테이지로부터 공급되는 상기 기판을 지지하는 검사스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.And the inspection unit includes an inspection unit for inspecting the substrate and an inspection stage for supporting the substrate supplied from the supply stage. 기판을 검사하기 위한 기판검사장치의 제어방법에 있어서, In the control method of the substrate inspection apparatus for inspecting a substrate, 상기 기판을 검사하는 검사유닛을 마련하는 단계와;Providing an inspection unit for inspecting the substrate; 상기 검사유닛의 입구영역에 적어도 하나의 상기 기판을 지지하는 복수의 공급스테이지를 마련하는 단계와;Providing a plurality of supply stages supporting at least one of the substrates in an inlet region of the inspection unit; 상기 검사유닛의 출구영역에 상기 검사유닛에서 배출되는 상기 기판을 지지하는 복수의 배출스테이지를 마련하는 단계와;Providing a plurality of discharge stages for supporting the substrate discharged from the inspection unit in an exit area of the inspection unit; 복수의 상기 공급스테이지 중 상기 검사유닛의 입구측에 마련된 어느 하나가 상기 검사유닛으로 상기 기판을 공급하는 단계와;Supplying the substrate to the inspection unit any one of a plurality of the supply stages provided at an inlet side of the inspection unit; 상기 기판을 검사하는 단계와;Inspecting the substrate; 복수의 상기 배출스테이지 중 상기 검사유닛의 출구측에 마련된 어느 하나로 검사된 상기 기판을 배출하는 단계와;Discharging the inspected substrate to any one of a plurality of discharge stages provided at an outlet side of the inspection unit; 상기 기판을 상기 검사유닛으로 공급한 후 복수의 상기 공급스테이지 중 다른 하나가 상기 검사유닛의 입구측에 대응하도록 복수의 상기 공급스테이지를 상승시키는 단계와;After supplying the substrate to the inspection unit, raising the plurality of supply stages so that the other one of the plurality of supply stages corresponds to the inlet side of the inspection unit; 상기 기판이 상기 검사유닛으로부터 배출되어 복수의 상기 배출스테이지 중 어느 하나에 지지된 후 복수의 상기 배출스테이지 중 다른 하나가 상기 검사유닛의 출구측에 대응하도록 복수의 상기 배출스테이지를 상승시키는 단계와;Raising the plurality of discharge stages so that the other one of the plurality of discharge stages corresponds to the outlet side of the inspection unit after the substrate is discharged from the inspection unit and supported by any one of the plurality of discharge stages; 복수의 상기 공급스테이지 중 상기 검사유닛의 입구측에 마련된 다른 하나가 상기 검사유닛으로 상기 기판을 공급하는 단계와;Supplying the substrate to the inspection unit, the other one of the plurality of supply stages provided at the inlet side of the inspection unit; 상기 기판을 검사하는 단계와;Inspecting the substrate; 복수의 상기 배출스테이지 중 상기 검사유닛의 출구측에 마련된 다른 하나로 검사된 상기 기판을 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치의 제어방법.And discharging the substrate inspected by another one of the plurality of discharge stages provided at an outlet side of the inspection unit. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 복수의 공급스테이지 및 배출스테이지를 마련하는 단계는,Preparing the plurality of supply stage and discharge stage, 적어도 하나 이상의 상기 기판을 지지하는 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지를 상하 층상으로 수용하는 본체를 마련하는 단계와;Providing a main body for receiving at least one of the supply stage and the discharge stage supporting at least one of the substrates in an upper and lower layers; 복수의 상기 공급스테이지 및 상기 배출스테이지가 이격 수용되도록 상기 본체를 상하 층상으로 분리시키는 격벽에 의해 형성된 챔버를 마련하는 단계를 포함하며,And providing a chamber formed by a partition wall separating the main body into upper and lower layers so that a plurality of the supply stage and the discharge stage are spaced apart. 상기 검사유닛을 마련하는 단계에서 상기 배출스테이지의 다른 하나에 상기 기판을 배출하는 단계는 상기 검사유닛 및 상기 챔버 중 적어도 하나에 소정의 진공압을 형성하여 유지하는 단계에서 진행되는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치의 제어방법.Discharging the substrate to the other one of the discharge stage in the preparing of the inspection unit comprises the step of forming and maintaining a predetermined vacuum pressure in at least one of the inspection unit and the chamber. A control method of a substrate inspection apparatus. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 복수의 공급스테이지 및 배출스테이지를 마련하는 단계는 복수의 상기 챔버에 개폐가능한 도어를 마련하는 단계를 더 포함하며,The providing of the plurality of supply stages and the discharge stage further comprises the step of providing a door that can be opened and closed in the plurality of chambers, 상기 배출스테이지의 다른 하나로 검사된 상기 기판을 배출하는 단계를 완료한 후, 복수의 상기 챔버 중 소정의 진공압이 해제된 상기 챔버의 도어를 개방하는 단계와;After completing the step of discharging the inspected substrate to another of the discharge stages, opening a door of the chamber in which a predetermined vacuum pressure of the plurality of chambers is released; 상기 챔버 내부의 상기 공급스테이지로 상기 기판을 순차적으로 공급하는 단계와;Sequentially supplying the substrate to the supply stage inside the chamber; 상기 챔버 내부의 상기 배출스테이지로부터 상기 기판을 순차적으로 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치의 제어방법.And sequentially discharging the substrate from the discharge stage in the chamber.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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KR20020019376A (en) * 2000-09-05 2002-03-12 기시모토 마사도시 Apparatus for inspecting a substrate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010051203A (en) * 1999-10-25 2001-06-25 기시모토 마사도시 Substrate checking apparatus
KR20020019376A (en) * 2000-09-05 2002-03-12 기시모토 마사도시 Apparatus for inspecting a substrate

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