KR100682077B1 - 중성화빔을 이용한 표면처리장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 반응가스를 공급하는 반응가스 공급부와;소스가스를 공급하는 소스가스 공급부와;상기 반응가스 및 상기 소스가스의 퍼지를 위한 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부와;상기 공급된 반응가스가 플라즈마를 생성하게 하고, 생성된 플라즈마를 중성화빔으로 전환시켜 하부에 형성된 복수의 분사홀을 통해 상기 중성화빔과 상기 소스가스를 피처리물의 처리공간으로 균일하게 분사하는 샤워헤드와;상기 플라즈마 생성을 위해 상기 샤워헤드에 RF 전원을 인가하는 RF 전원부와;상기 반응가스, 소스가스 및 퍼지가스를 포함하는 공정가스가 한차례씩 공급되는 시간을 1주기로 하고, 상기 공정가스의 시분할 조합은 상기 1주기의 반복에 의해 이루어지게 하여 상기 샤워헤드에 공급하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 샤워헤드는, 플라즈마 생성공간으로서 플라즈마 발생부와, 중성화빔 생성공간으로서 상기 플라즈마 발생부의 하부에 형성되는 중성화빔 생성부를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 제2항에 있어서,상기 중성화빔 생성부는, 상기 플라즈마 발생부로부터 생성된 플라즈마 이온을 반사시켜 중성화빔으로 전환시키는 리플렉터와, 상기 리플렉터를 관통하여 형성되며 상기 중성화빔이 상기 처리공간으로 이동하게 하는 통로인 복수의 유도관을 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 제2항에 있어서,상기 중성화빔 생성부의 하부에 형성되어 상기 중성화빔 생성부에서 발생하는 열을 냉각시키는 냉각부를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 시분할 조합은, 상기 1주기 동안에 RF 전원과 상기 퍼지가스는 계속 공급하여 안정적으로 플라즈마를 유지하고, 상기 반응가스와 상기 소스가스는 교차하여 서로 번갈아 가며 공급하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 시분할 조합은, 상기 1주기 동안에 RF 전원과 상기 퍼지가스는 계속 공 급하여 안정적으로 플라즈마를 유지하고, 상기 반응가스와 상기 소스가스는 교차하여 서로 번갈아 가며 공급하되, 상기 소스가스 공급주기와 상기 반응가스 공급주기 사이에 퍼지주기를 형성하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리장치.
- 반응가스, 소스가스 및 퍼지가스를 포함하는 공정가스가 한차례씩 공급되는 시간을 1주기로 하고, 상기 공정가스의 시분할 조합은 상기 1주기의 반복에 의해 이루어지는 기판의 표면처리방법에 있어서,상기 공정가스를 공급하는 단계와;상기 공급된 반응가스가 플라즈마를 생성하는 단계와;상기 생성된 플라즈마를 중성화빔으로 전환시켜 하부에 형성된 복수의 분사홀을 통해 상기 중성화빔과 상기 소스가스를 피처리물의 처리공간으로 균일하게 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리방법.
- 제7항에 있어서,상기 공정가스를 공급하는 단계는,상기 시분할 조합의 1주기 동안에, 상기 퍼지가스를 계속 공급하고 RF 전원을 인가하여 안정적으로 플라즈마를 유지하는 단계와, 상기 소스가스를 공급하는 단계와, 상기 소스가스와 교차하여 상기 반응가스를 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리방법.
- 제7항에 있어서,상기 공정가스를 공급하는 단계는,상기 시분할 조합의 1주기 동안에, 상기 퍼지가스를 계속 공급하고 RF 전원을 인가하여 안정적으로 플라즈마를 유지하는 단계와, 상기 소스가스를 공급하는 단계와, 상기 소스가스와 교차하여 상기 반응가스를 공급하는 단계와, 상기 소스가스 공급주기와 상기 반응가스 공급주기 사이에 퍼지주기를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중성화빔을 이용한 표면처리방법.
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