KR100650927B1 - Pcb부식 폐액으로부터 탄산동을 제조하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 PCB부식폐액인 염화동폐액에서 탄산동을 제조하는 방법에 관한 것이다.
전자산업 발달로 인해서 PCB회로기판부식 폐액인 염화동 폐액이 대향 발생하고 있다.
또한 PCB회로기판 부식폐액인 염화동폐액은 동의 함량이 평균적으로 10∼12%, 염산이 10∼15% 함유된 액체이므로 황산(H2SO4)을 기해서 황산동을 제조하거나 또는 가성소다를 가해서 산화동(CuO)을 제조해서 제품으로 재활용되고 있을 만큼 경제성이 있다.
본 발명자는 이러한 현실에 즈음하여 PCB회로기판 부식 폐액인 염화동폐액에 산화동(CuO)을 투입하여 유리염산을 제거하고 탄산소다 또는 중탄산소다와 같은 중화제를 투입하여 중화점 PH 8∼9로 중화시킨후 이를 펌프로 강제 순환시키면서 압력 7kg/cm2로 유지하게 하여 탄산가스(Co2)를 주입하는 방법을 PCB부식 폐액으로 부터 탄산동을 제조하는 것이다.
염화동, 산화동, 염화폐액, 탄산동, 유리염산

Description

PCB부식 폐액으로부터 탄산동을 제조하는 방법{Method for manufacturing copper carbonate from in pcb corrosin waste liquid}
도 1은 본 발명의 제조장치예시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 염화동폐액 2 : 중화제
3 : 탄산가스 4 : 교반기
P1,P2,P3 : 펌프
본 발명은 PCB부식폐액(이하 염화동폐액으로 약칭함)으로부터 탄산동을 제조하는 방법에 관한 것인데 보다 구체적인 것은 염화동 폐액에 탄산소다 또는 중탄산소다와 같은 중화제를 첨가하여 일정수치로 중화시켜 탄산동 및 염화나트륨을 제조하고 이에 탄산가스를 주입하는 방법으로 탄산동을 얻고 이를 수세건조하여 제품으로 하는 고순도 탄산동 제조방법에 관한 것이다.
염화동폐액은 동의 함량이 10∼12%, 염산이 10∼15%함유된 액체이므로 이용가치가 큰 자원이다.
그러나 종래에는 염화동 폐액에 황산을 가하거나 가성소다를 가해서 황산동이나 산화동을 제조하는데 그치고 있으므로 그 활용범위가 매우 제한되는 실정에 있었다.
본 발명은 이러한 종래의 불편을 제거하기 위하여 PCB기판부식 폐액을 중화제로 중화시키고 탄산가스를 주입하여 동물의 사료에 적합한 탄산동을 제조하는 것이다.
이를 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 PCB회로기판 부식폐액인 염화동폐액(1)에 산화동(CuO)을 첨가해서 유리염산을 제거후 탄산소다 또는 중탄산소다와 같은 중화제(2)를 첨가하여 탄산동 및 염화나트륨을 제조하고 이 액체에 고압의 탄산가스(Co2)(3)를 강제주입하여 염기성 탄산동을 탄산동으로 전환시키는 방법이다.
첨부도면은 탄산가스를 강제투입하는 장치를 예시하고 있다 즉 본 발명은 PCB회로기판부식폐액인 염화동폐액에 산화동(CuO)을 첨가하여 유리염산을 제거한후 탄산소다 또는 중탄산소다와 같은 중화제를 투입하여 중화시킨 후에 염기성 탄산동이 합성된 액체를 탱크에 넣고 탱크내의 액체를 펌프 P1,P2,P3으로 순환시키면서 고압의 탄산가스를 펌프 P1 입구에 투입하여 탄산가스의 배출구를 밸브로 조절하여 평균압력 7kg/cm2압력이 유지되도록 공급하여 순환하게 하고 펌프 P1,P2,P3으로 계속 순환시켜 염기성탄산동(CU(OH)2) 및 탄산(H2CO3)의 용액이 탄산가스와 강제 결합되게 하여 탄산동을 합성하게 된다.
그 방정식은 다음과 같다.
CU(OH)2 + H2CO3 → CuCo3 + 2H2o
〈실시례1〉
동함량 10%, 염화동폐액 1t(1000kg)을 3000ℓ용량의 용기에 넣고 교반하면서 산화동 60kg을 첨가하여 유리산을 제거하고 탄산소다를 투입하여 중화점, PH 8∼9 정도로 중화시켜서 염기성 탄산동 및 탄산동이 합성된 액체를 얻고 이를 용기에 넣고 펌프 P1,P2,P3을 가동하면서 압력7kg/cm2로 유지시켜 탄산가스를 시간당 50kg 속도로 분산공급하면서 3시간 반응시켜 탄산동 295kg을 얻었다.
〈실시례2〉
동함량 10%, 염화동폐액 1t(1000kg)을 실시례 1과 동일한 조건에 중탄산소다(NaHCo3)를 투입하여, PH 8∼9 조정하여 염기성 탄산동을 합성하고 펌프 P1,P2,P3을 가동하면서 탄산가스(Co2)를 시간당 50kg 분산주입 3시간 실시후 탄산동 298kg을 얻었다.
이와같이된 본 발명은 분자단위로 탄산가스 기체 분자를 미세분쇄하는 장점이 있고 탄산의 형성으로 미세한 염기성 탄산동을 탄산가스와 7kg/cm2 압력으로 결합시키기 때문에 고순도 탄산동의 제조가 가능하고 이에 필요한 장치를 사용하므로 공업적 대량생산이 가능케 되어 동물사료등에 유용하게 사용할수 있는 것이다.
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Claims (1)

  1. PCB회로기판부식 폐액인 염화동폐액(1)에 산화동(CuO)을 투입하여 유리염산을 제거하고 탄산소다 또는 중탄산소다와 같은 중화제(2)를 투입하여 중화점 PH 8∼9로 중화시킨후 이를 펌프로 강제 순환시키면서 압력7kg/cm2로 탄산가스(Co2)(3)를 주입하여 염기성 탄산과 탄산의 용액결합을 유도하는 것을 특징으로 하는 PCB회로기판 부식 폐액으로 부터 탄산동을 제조하는 방법
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