KR100645847B1 - 포지티브-작용 포토레지스트 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
상술한대로, 드라이 에칭 내성을 부여하기 위해 지환식 탄화수소 자리가 도입된 수지가 제안된다. 하지만, 지환식 탄화수소 자리의 도입으로 인한 악영향때문에, 상기 시스템이 매우 소수성을 띠게된다. 따라서, 현재까지 레지스트 현상액으로 폭넓게 사용되고 있는 수산화 테트라메틸암모늄(이하, 이것을 TMAH라고 함) 수용액으로 현상하는 것이 어려워지고, 상기 레지스트가 현상중 기판으로부터 분리되는 현상이 관찰되고 있다.
상기 언급한 알킬, 고리형 알킬, 알케닐, 아릴, 아랄킬, 알킬렌, 고리형 알킬렌 및 아릴렌기에 대한 다른 치환기로 카르복실, 아실옥시, 시아노, 알킬, 치환된 알킬, 할로겐, 히드록시, 알콕시, 아세틸아미도, 알콕시카르보닐 및 아실기가 있다. 상기 알킬기에는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 사이클로프로필, 사이클로부틸 및 사이클로펜틸과 같은 저급 알킬기가 있다. 상기 치환된 알킬기에 대한 치환기에는 히드록시, 할로겐 및 알콕시가 있다. 상기 알콕시기에는 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 부톡시와 같은 탄소수 1~4인 것이 있다. 상기 아실옥시기에는 아세톡시가 있다. 상기 할로겐원자에는 염소, 브롬, 불소 및 요오드가 있다.
Claims (5)
- 화학선이나 방사선의 조사로 산을 발생하는 화합물(i) 및하기 일반식(pI)~(pVI)로 표시되는 지환식 탄화수소 구조를 함유하는 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1이상의 기로 각각 보호되는 알칼리-가용성기를 보유하는 반복단위(a), 하기 일반식(II)로 표시되는 반복단위(b) 및 하기 일반식(III-a)~(III-d)로 표시되는 반복단위(c)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1이상의 반복단위를 함유하고, 산의 작용으로 분해되어 알칼리에서 수지의 용해도를 증가시킬 수 있는 수지(ii)로 이루어진 것을 특징으로 하는 포지티브-작용 포토레지스트 조성물;여기에서, R11은 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 또는 세크-부틸기를 표시한다; Z는 탄소원자와 더불어 지환식 탄화수소기를 형성하는데 필요한 원자단을 표시한다; R12~R14중의 하나 이상 또는 R15 및 R16중의 어느 하나가 지환식 탄화수소기를 표시한다면, R12~R16은 각각 개별적으로 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기 또는 지환식 탄화수소기를 표시한다; R17~R21중의 하나 이상이 지환식 탄화수소기를 표시한다면, R17~R21은 각각 개별적으로 수소원자, 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기 또는 지환식 탄화수소기를 표시한다;R19 및 R21중 어느 하나는 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기나 지환식 탄화수소기를 표시한다; 및 R22~R25중의 하나 이상이 지환식 탄화수소기를 표시한다면, R22~R25는 각각 개별적으로 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기 또는 지환식 탄화수소기를 표시한다;여기에서, R1은 수소원자, 할로겐원자 또는 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기를 표시한다; X1는 2가의 연결기를 표시한다; Lc는 락톤기를 표시한다; 및여기에서, R1는 수소원자, 할로겐원자나 탄소수 1~4인 직쇄나 측쇄의 알킬기를 표시한다; R30~R37은 각각 개별적으로 수소원자 또는 치환기를 갖거나 갖지 않은 알킬기를 표시한다; R은 수소원자 또는 치환기를 갖거나 갖지 않은 알킬, 고리형 알킬, 아릴 또는 아랄킬기를 표시한다; m은 1~10의 정수를 표시한다; X2는 단일결합, 알킬렌기, 고리형 알킬렌기, 아릴렌기, 에테르기, 티오에테르기, 카르보닐기, 에스테르기, 아미도기, 설폰아미도기, 우레탄기 및 우레아기로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가의 기를 표시하는데, 이것은 치환기를 갖거나 갖지 않을 수도 있고, 단독이나 둘 이상의 결합물로 사용될 수도 있는데, 산의 작용으로 분해되지 않는다; Z1은 단일결합, 에테르기, 에스테르기, 아미도기, 알킬렌기 또는 이들이 결합된 2가의 기를 표시한다; R38은 단일결합, 알킬렌기, 아릴렌기 또는 이들이 결합된 2가의 기를 표시한다; R40은 알킬렌기, 아릴렌기 또는 이들이 결합된 2가의 기를 표시한다;R39는 치환기를 갖거나 갖지 않는 알킬, 고리형 알킬, 아릴 또는 아랄킬기를 표시한다; R41은 수소원자 또는 치환기를 갖거나 갖지 않은 알킬, 고리형 알킬, 알케닐, 아릴 또는 아랄킬기를 표시한다; 및 A는 하기 관능기중의 어느 하나를 표시한다:
- 제1항에 있어서, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 또는 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 프로피오네이트(1) 및 에틸 락테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 에톡시에틸 프로피오네이트 중의 하나 이상(2)을 함유하는 혼합용매(iii-1);프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 또는 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 프로피오네이트(1) 및 -부티로락톤, 에틸렌 카보네이트 및 프로필렌 카보네이트 중의 하나 이상 (2)을 함유하는 혼합용매(iii-2);헵타논(1) 및 에틸 락테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 에톡시에틸 프로피오네이트 중의 하나 이상(2)을 함유하는 혼합용매(iii-3); 및
- 제1항에 있어서, 유기 염기성 화합물(iv)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브-작용 포토레지스트 조성물.
- 제1항에 있어서, 불소 또는 실리콘 계면활성제(v)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브-작용 포토레지스트 조성물.
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