KR100641825B1 - 4-바이페닐아세트산의 제조 방법 - Google Patents

4-바이페닐아세트산의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100641825B1
KR100641825B1 KR1020030077919A KR20030077919A KR100641825B1 KR 100641825 B1 KR100641825 B1 KR 100641825B1 KR 1020030077919 A KR1020030077919 A KR 1020030077919A KR 20030077919 A KR20030077919 A KR 20030077919A KR 100641825 B1 KR100641825 B1 KR 100641825B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
acid
formula
biphenylacetic
reaction
scheme
Prior art date
Application number
KR1020030077919A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050043131A (ko
Inventor
김상호
이태림
김윤철
Original Assignee
주식회사 코오롱
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 코오롱 filed Critical 주식회사 코오롱
Priority to KR1020030077919A priority Critical patent/KR100641825B1/ko
Publication of KR20050043131A publication Critical patent/KR20050043131A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100641825B1 publication Critical patent/KR100641825B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/347Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
    • C07C51/377Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/18Carbon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/40Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
    • B01J23/44Palladium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C227/00Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C227/04Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C227/00Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C227/38Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C227/44Stabilisation; Use of additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/40Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C229/42Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton with carboxyl groups linked to the six-membered aromatic ring, or to the condensed ring system containing that ring, by saturated carbon chains
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/42Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C51/50Use of additives, e.g. for stabilisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C57/00Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C57/30Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings
    • C07C57/38Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings polycyclic

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은 4-바이페닐아세트산의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 (a) 팔라듐-카본 촉매 존재하에서 하기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산을 환원시켜 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 제조하는 단계; 및 (b) 소디움나이트라이트 및 산 존재하에서 상기 제조된 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 벤젠과 반응시켜 하기 화학식 3의 4-바이페닐아세트산을 제조하는 단계를 포함하는 4-바이페닐아세트산의 제조 방법에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112003041734118-pat00001
[화학식 2]
Figure 112003041734118-pat00002
[화학식 3]
Figure 112003041734118-pat00003
본 발명의 4-바이아세트산의 제조 방법은 제조 공정이 간단하고 4-바이페닐아세트산의 순도 및 수율이 높다.
4-니트로페닐아세트산, 4-아미노페닐아세트산, 4-바이페닐아세트산, 소염진통제

Description

4-바이페닐아세트산의 제조 방법{PREPARATION METHOD OF 4-BIPHENYLACETIC ACID}
[산업상 이용 분야]
본 발명은 4-바이페닐아세트산 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 제조 공정이 간단하고 4-바이페닐아세트산의 수율 및 순도가 높은 4-바이페닐아세트산의 제조 방법에 관한 것이다.
[종래 기술]
4-바이페닐아세트산은 소염진통제로 유용하게 사용되고 있는 의약품 중의 하나이다.
현재까지 알려진 상기 4-바이페닐아세트산 제조 방법 중 대표적인 방법은 일본특개 소62-45553 및 일본특개 소62-45554호에 기재된 방법으로서, 4-페닐벤즈알데히드(4-phenylbenzaldehyde)와 2-티옥소-4-티아졸리디논(2-thioxo-4-thiazolidinone) 또는 2,4-이미다졸리디논(2,4-imidazolidinone)을 축합반응시켜 제조되는 화합물을 염기에서 과산화수소로 환원시켜 4-바이페닐아세트산을 제조하는 방법이다.
그러나 상기 방법으로 4-바이페닐아세트산을 제조하면 여러 반응단계를 거쳐야하고 각 반응단계에서 여러 가지 부산물이 생성되며 반응 종결 후 목적물을 다시 정제하는 등의 별도의 처리공정이 필요하여 반응공정이 복잡하며 최종생성물의 수율 및 순도가 낮다는 문제점이 있다.
상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 목적은 제조공정이 간단하고 4-바이페닐아세트산의 수율 및 순도가 높은 4-바이페닐아세트산의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 팔라듐-카본 촉매 존재하에서 하기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산을 환원시켜 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 제조하는 단계; 및 (b) 소디움나이트라이트 및 산 존재하에서 상기 제조된 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 벤젠과 반응시켜 하기 화학식 3의 4-바이페닐아세트산을 제조하는 단계를 포함하는 4-바이페닐아세트산의 제조 방법을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112003041734118-pat00004
[화학식 2]
Figure 112003041734118-pat00005
[화학식 3]
Figure 112003041734118-pat00006
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
먼저 본 발명은 (a) 팔라듐-카본 촉매 존재하에서 수소가스로 상기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산을 환원시켜 상기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 제조한다. 이 반응메카니즘은 하기 반응식 1과 같다.
[반응식 1]
Figure 112003041734118-pat00007
상기 반응식 1에서 4-니트로페닐아세트산은 물에서 무기염기로 염기화하여 용해된 것을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 무기염기로는 일반적으로 사용되는 무기염기는 모두 사용가능하나 그 중 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 무기염기의 사용량은 1 내지 2 당량이 바람직하다.
상기 반응식 1에서 촉매로 사용되는 팔라듐-카본 촉매는 5 내지 10 %의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 팔라듐-카본 촉매의 사용량은 상기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산 100 g에 대하여 1.5 내지 3.5 g이 바람직하다. 상기 팔라듐-카본 촉매의 사용량이 상기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산 100 g에 대하여 1.5 g 미만이면 상기 반응식 1이 원활히 진행되지 않는 문제점이 있고, 3.5 g을 초과하면 반응시간은 짧아지지만 고가의 팔라듐-카본 촉매의 사용량이 많아져 경제적이지 못한 단점이 있다.
상기 반응식 1에서 상기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산의 환원제로 사용되는 수소가스의 압력은 1 내지 20 기압이 바람직하며 3 내지 7 기압이 더욱 바람직하다.
또한, 상기 반응식 1의 반응시간은 4 내지 12 시간이 바람직하다. 이 반응시간은 첨가되는 팔라듐-카본 촉매의 사용량에 따라 적절한 시간을 선택할 수 있다.
최종 생성물의 수율 및 순도를 높이기 위하여 상기 반응식 1이 끝난 후 팔라듐-카본 촉매를 여과하여 제거하는 공정을 더욱 실시할 수 있다. 또한, 상기 반응식 1의 반응이 끝난 후의 반응액에 산을 첨가하여 상기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 추출하는 공정을 더욱 실시할 수 있다.
이 때 첨가되는 산으로는 일반적으로 사용되는 산은 모두 사용가능하나 황산, 염소산, 아세트산 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 또한 산의 첨가량은 2 내지 10 당량이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 반응식 1의 반응이 끝난 후의 반응액에 추출용매를 첨가하여 상기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 포함하는 유기층을 분리한다. 이 분리된 유기층에 마그네슘설페이트 등을 사용하여 건조시켜 여과하면 순도가 높은 상기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산이 얻어진다.
상기 추출용매로는 벤젠, 에틸아세테이트, 에테르, 메틸렌클로라이드 등의 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 반응식 1을 거친 다음 (b) 소디움나이트라이트(NaNO2) 및 산 존재하에서 상기 반응식 1에서 제조된 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 벤젠과 반응시켜 화학식 3의 4-바이페닐아세트산을 제조한다. 반응 메카니즘은 하기 반응식 2와 같다.
[반응식 2]
Figure 112003041734118-pat00008
반응식 1에서 제조된 상기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 포함하는 반응 여액에 소디움나이트라이트, 산 및 벤젠을 첨가하여 반응액을 제조한 후 이 반응액의 온도를 낮춘다.
상기 반응식 2에 사용되는 소디움나이트라이트의 사용량은 0.8 내지 5 당량이 바람직하고 0.8 내지 1.2 당량이 더욱 바람직하다.
상기 반응식 2에 사용될 수 있는 산으로는 일반적으로 사용되는 산은 모두 사용가능하며 염소산, 아세트산 등이 바람직하다.
또한 상기 반응식 2에 첨가되는 벤젠의 사용량은 1 내지 50 당량이 바람직하 고, 10 내지 20 당량이 더욱 바람직하다.
또한, 상기 반응식 2의 반응온도는 0 내지 10 ℃가 바람직하다. 이 반응온도는 첨가되는 소디움나이트라이트의 량에 적절히 조절할 수 있다.
소디움나이트라이트의 사용량이 5 당량을 초과하거나 상기 반응식 2의 반응온도가 10 ℃를 초과하면 반응시간은 짧아지나 반응이 지나치게 격렬히 진행되고 또한, 반응부산물이 과량 생성되어 수율이 저하되는 문제점이 있어 바람직하지 않다.
상기 반응식 2가 끝난 후 반응액을 층분리하여 결정을 얻어 본 발명의 4-바이페닐아세트산을 제조한다.
본 발명의 4-바이페닐아세트산의 제조 방법의 전체 반응메카니즘은 하기 반응식 3과 같다.
[반응식 3]
Figure 112003041734118-pat00009
이상 살펴본 바와 같이, 본 발명의 4-바이페닐아세트산의 제조 방법은 제조공정이 간단하고 상기 방법을 통하여 제조되는 최종 목적물인 4-바이페닐아세트산의 수율 및 순도가 높다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
증류수 90 g에 수산화나트륨 4 g을 용해시킨 후 4-니트로페닐아세트산 18.1 g을 첨가하여 반응액을 제조한 후 이 반응액을 교반하였다. 이 반응액에 5%의 팔라듐-카본을 0.36 g 투입하고 5 기압의 수소를 가압하여 10 시간 동안 반응시켰다. 반응이 끝난 후 반응액에서 셀라이트로 코팅된 여과기를 사용하여 5% 팔라듐-카본을 여과하였다.
상기 반응액에서 팔라듐-카본을 여과한 반응액에 염소산 12 ㎖, 소디움나이트라이트 6.9 g을 순서대로 투입하고 반응액의 온도를 5 ℃로 냉각하였다. 이 반응액에 벤젠 78 g을 첨가하여 2 시간동안 격렬하게 교반하였다. 반응이 완료되면 상기 반응액을 층분리하여 상층의 유기층을 분리하였다. 이 분리된 유기층 반응액을 마그네슘설페이트로 건조하고 농축하여 농축액을 제조하였다. 이 농축액에 아세톤을 첨가하고 결정화한 후 여과지에 여과하여 4-바이페닐아세트산 15.7 g(수율 74%)을 얻었다.(m??p: 166 ℃, IR: 1688 ㎝-1, 1H NMR: δ3.7(2H), δ7.3 ~ 7.9(9H))
(실시예 2)
증류수 90 g에 수산화나트륨 4.4 g을 용해시킨 후 4-니트로페닐아세트산 18.1 g을 첨가하여 반응액을 제조한 후 이 반응액을 교반하였다. 이 반응액에 5%의 팔라듐-카본을 0.36 g 투입하고 10 기압의 수소를 가압하여 2 시간동안 반응시켰다. 반응이 끝난 후 반응액에서 셀라이트로 코팅된 여과기를 사용하여 5% 팔라듐-카본을 여과하였다.
상기 반응액에 벤젠 100 ㎖를 첨가하여 추출하여 유기층을 분리하였다. 이 유기층을 마그네슘설페이트로 건조하고 여과한 여액을 모은 다음 이 여액에 아세트산 36 g, 소디움나이트라이트 6.9 g을 순서대로 투입하고 반응액의 온도를 5 ℃로 냉각하였다. 이 반응액에 벤젠 78 g을 첨가하고 2 시간 동안 격렬하게 교반하였다. 반응이 완료되면 물을 첨가하고 추출하여 상층의 유기층을 분리하였다. 이 유기층에 물을 첨가하고 1N 수산화나트륨으로 염기화하여 물층을 분리하였다. 물층을 분리하여 4N 염소산을 천천히 적가하며 산성화하였다. 이 때 생성된 결정을 여과하였다. 여과된 결정을 아세토니트릴에서 재결정하여 4-바이페닐아세트산 14.5 g(수율 69%)을 얻었다.
(m??p: 166.5 ℃, IR: 1690 ㎝-1, 1H NMR: δ3.7(2H), δ7.3 ~ 7.9(9H))
(비교예 1)
3-바이페닐알데히드 3 g을 무수아세트산 4.8 ㎖에 용해시켰다. 2-티옥소-4-티아졸리디논(2-thioxo-4-thiazolidinone) 2.4 g, 소디움아세테이트 1.4 g, 톨루엔 20 ㎖에 넣고 2 시간 환류시켰다. 아세트산에테르로 추출하고 물로 세정, 건조하고, 감압농축하여 5-(4'-바이페닐릴메틸리덴)-2-티옥소-4-티아졸리디논 4.6 g(수율 94%)을 제조하였다.
5-(4'-바이페닐릴메틸리덴)-2-티옥소-4-티아졸리디논 3.0에 20% 수산화나트륨용액 10 ㎖를 첨가하고 4 시간동안 가열환류하였다. 그 다음 반응액을 냉각 후 벤젠으로 세정하였다. 물층을 염산으로 산성화하고 아세트산 에테르로 추출하였 다. 추출 후 물, 포화 염화나트륨 용액으로 차례로 세정하고 농축하여 4-바이페닐릴피루브산 1.3 g(수율 48%)을 제조하였다.
4-바이페닐릴피루브산 2.0 g에 0.5% 수산화나트륨용액 15 ㎖와 30% 과산화수소 4 ㎖를 가하고 25 ℃에서 4 시간동안 교반하였다. 이 용액을 톨루엔으로 세정하였다. 물층을 염산으로 산성화하고 아세트산에테르를 이용하여 추출하였다. 추출 후 물, 포화 염화나트륨용액으로 차례로 세정하고 농축하여 목적화합물 4-바이페닐아세트산 1.5 g(수율 85%)를 제조하였다. 이 결정을 메틸에틸케톤에서 재결정하였다. 상기 3단계의 공정을 통하여 제조된 4-바이페닐아세트산의 수율은 38 %였다.
(수율평가)
상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 2의 4-바이페닐아세트산 제조 방법을 통하여 4-바이페닐아세트산을 제조하면 최종 생성물의 수율이 각각 74% 및 69%로 비교예 1의 방법에 의하여 4-바이페닐아세트산을 제조한 경우의 수율(38%)에 비하여 거의 두배나 증가하였다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 4-바이페닐아세트산의 제조 방법은 제조 공정이 간단하고 4-비닐아세트산의 순도 및 수율이 높다.

Claims (1)

  1. (a) 팔라듐-카본 촉매 존재하에서 하기 화학식 1의 4-니트로페닐아세트산을 환원시켜 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 제조하는 단계; 및
    (b) 소디움나이트라이트 및 산 존재하에서 상기 제조된 하기 화학식 2의 4-아미노페닐아세트산을 벤젠과 반응시켜 하기 화학식 3의 4-바이페닐아세트산을 제조하는 단계
    를 포함하는 4-바이페닐페닐아세트산 제조 방법.
    [화학식 1]
    Figure 112003041734118-pat00010
    [화학식 2]
    Figure 112003041734118-pat00011
    [화학식 3]
    Figure 112003041734118-pat00012
KR1020030077919A 2003-11-05 2003-11-05 4-바이페닐아세트산의 제조 방법 KR100641825B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030077919A KR100641825B1 (ko) 2003-11-05 2003-11-05 4-바이페닐아세트산의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030077919A KR100641825B1 (ko) 2003-11-05 2003-11-05 4-바이페닐아세트산의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050043131A KR20050043131A (ko) 2005-05-11
KR100641825B1 true KR100641825B1 (ko) 2006-11-02

Family

ID=37243920

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030077919A KR100641825B1 (ko) 2003-11-05 2003-11-05 4-바이페닐아세트산의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100641825B1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2317852B1 (en) 2008-07-16 2014-12-24 Richter Gedeon Nyrt. Pharmaceutical formulations containing dopamine receptor ligands
HU229858B1 (en) 2008-12-17 2014-10-28 Richter Gedeon Nyrt Process for the preparation of trans 4-amino-cyclohexyl acetic acid ethyl ester hcl
US11274087B2 (en) 2016-07-08 2022-03-15 Richter Gedeon Nyrt. Industrial process for the preparation of cariprazine
US11547707B2 (en) 2019-04-10 2023-01-10 Richter Gedeon Nyrt. Carbamoyl cyclohexane derivatives for treating autism spectrum disorder

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2508155B2 (ja) 1987-11-18 1996-06-19 三菱瓦斯化学株式会社 4−ビフェニル酢酸の製造法
JPH10139724A (ja) 1996-11-06 1998-05-26 Wako Pure Chem Ind Ltd 4−ビフェニリル酢酸の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2508155B2 (ja) 1987-11-18 1996-06-19 三菱瓦斯化学株式会社 4−ビフェニル酢酸の製造法
JPH10139724A (ja) 1996-11-06 1998-05-26 Wako Pure Chem Ind Ltd 4−ビフェニリル酢酸の製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.Org.Chem.,2002,vol.67,p5216
대한약학회지,1992,제 36권2호,126

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050043131A (ko) 2005-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101086844B1 (ko) 2,6-디아미노-4,5,6,7-테트라히드로-벤조티아졸을 제조하는방법
KR100641825B1 (ko) 4-바이페닐아세트산의 제조 방법
CN113024384A (zh) 一种2-氟-3-硝基苯甲酸中间体原料的合成方法
JP2745163B2 (ja) 芳香族アルデヒドヘのホルミル化方法
JP2001233870A (ja) 3−(1−ヒドロキシ−ペンチリデン)−5−ニトロ−3h−ベンゾフラン−2−オン、その製造方法及びその用途
US10640465B2 (en) Method for preparing phenylalanine compound
CN114591140B (zh) 孟鲁司特钠中间体及其制备方法和应用该中间体的制备方法
CN113461567B (zh) 一种2-溴-4腈基苯甲醛的制备方法
CN110256451B (zh) 一种苯并呋喃并[2,3-b]喹啉衍生物的合成方法
EP0478559B1 (en) Improved process for the preparation of ketone compounds
KR100730766B1 (ko) 비페닐아세트산의 신규 제조방법
CN111349012B (zh) 一种卤代芳烃类化合物的制备方法及其中间体
JP3291987B2 (ja) O,s−ジメチル−n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法
JP4355489B2 (ja) 高純度2,2,2−トリフルオロエタノールの製造方法
JP4397990B2 (ja) 3−アルキルフラバノノール誘導体の精製法
KR950005737B1 (ko) 징코라이드 혼합물로부터 단성분의 분리방법
JP4269462B2 (ja) チオフェン−3−カルボキサルデヒドの製造方法
US20230322699A1 (en) Synthesis method for preparing sglt inhibitor intermediate
JP4106872B2 (ja) ピペロナールの製法
JP2512958B2 (ja) 1−ビフェニリルエタノ―ル誘導体およびその製法
JP3084577B2 (ja) 光学活性なアトロラクチン酸の製造方法および製造の中間体
JP2907475B2 (ja) (1,2,3―チアジアゾール―4―イル)カルボアルデヒドの製造方法及び中間体
JPH10204020A (ja) クロロ−ベンゾイルクロリド類の製造方法
CN114105790A (zh) 一种3-氨基-4,5-二溴苯甲酸甲酯的制备方法
JPH0841005A (ja) 4−フルオルアルコキシシンナモニトリル類の製法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee