KR100620845B1 - Method of Multidomain Liquid Crystal Display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 개구율을 향상시킴과 아울러, 공정을 단순화하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a multi-domain liquid crystal display device which improves the aperture ratio and simplifies the process.

본 발명에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법은 하판에 소정의 두께로 돌기재를 도포한후, 배면노광하여 전극 버스라인과 중첩됨과 아울러, 화소전극을 포획하도록 돌기를 형성한다.In the method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to the present invention, a projection is coated on a lower plate with a predetermined thickness and then exposed to the rear surface so as to overlap the electrode bus line and to form projections to capture pixel electrodes.

이에따라, 본 발명에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법은 개구율을 향상시킴과 아울러, 제조공정을 단순화하게 된다.Accordingly, the multi-domain liquid crystal display device manufacturing method according to the present invention improves the aperture ratio and simplifies the manufacturing process.

Description

멀티도메인 액정표시소자 제조방법{Method of Multidomain Liquid Crystal Display} Multi-domain liquid crystal display device manufacturing method {Method of Multidomain Liquid Crystal Display}             

도 1은 종래의 멀티도메인 액정표시소자를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a conventional multi-domain liquid crystal display device.

도 2는 도 1의 A-A'선을 따라 절단하여 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1.

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도 3은 도 2의 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.3 is a view for explaining the manufacturing method of FIG.

도 4는 멀티도메인 액정표시소자를 도시한 단면도.4 is a cross-sectional view showing a multi-domain liquid crystal display device.

도 5는 도 4의 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.5 is a view for explaining the manufacturing method of FIG.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.6 is a view illustrating a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.7 is a view for explaining a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

2, 42 : 하부기판 4, 44 : 게이트 절연막2, 42: lower substrate 4, 44: gate insulating film

6, 46 : 소스버스라인 8 : 소스전극6, 46 source bus line 8: source electrode

10, 50 : 보호막 12, 52 : 화소전극10, 50: protective film 12, 52: pixel electrode

14, 54 : 돌기 16 : 게이트버스라인14, 54: protrusion 16: gate bus line

18 : 드레인전극 20 : 게이트전극18 drain electrode 20 gate electrode

22, 48 : 돌기재 24, 44 : 마스크22, 48: protrusions 24, 44: mask

32, 62 : 상부기판 34, 64 : 블랙매트릭스32, 62: upper substrate 34, 64: black matrix

36, 66 : 칼라필터 38, 68 : 투명전극36, 66: color filter 38, 68: transparent electrode

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 개구율을 향상시킴과 아울러, 공정을 단순화하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a method for manufacturing a multi-domain liquid crystal display device which improves the aperture ratio and simplifies the process.

통상적으로, 액정 표시장치(Liquid Crystal Display ; 이하 "LCD"라 함)는 경량, 박형, 저소비 전력구동 등의 특징으로 인해 그 응용범위가 점차 넓어지고 있는 추세에 있다. 이러한 추세에 따라, LCD는 사무자동화 기기, 오디오/비디오 기기등에 이용되고 있는 실정이다. 한편, LCD는 매트릭스 형태로 배열되어진 다수의 제어용 스위치들에 인가되는 영상신호에 따라 광빔의 투과량이 조절되어 화면에 원하는 화상을 표시하게 된다. 그러나, LCD는 액정이 갖는 광시야각이 좁을뿐 아니라 측면에서 볼 경우 표시품질이 현격하게 저하되는 단점을 가지고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해 넓은 광시야각을 확보하기 위한 다방면에 걸친 연구가 계속 진행중에 있다. 이 결과, 광시야각을 넓히기 위한 방법의 하나로 멀티도메인 방법(Multidomain Method)이 제안되고 있다. 멀티도메인 방법은 한 화소 내에서 둘 이상으로 나누어진 서브영역들(Sub-pixels, 도메인) 각각에서 액정들의 배열방향을 다른 방향으로 조절하기 위한 방향제어전극을 사용하는 방법이다. 이때, 방향제어전극으로는 전기적인 신호가 들어가는 부수전극과, 전기적인 신호가 들어가지 않는 절연체를 사용하여 전기장의 왜곡을 유발하는 돌기 형태로 나눌수 있다. 이 경우, 방향제어전극은 화소전극 주변을 포획하는 형태로 설치되어 액정에 인가되는 전계를 조절하여 액정의 배향방향을 한 화소내에서 다수개 방향으로 조절하게 된다. 이러한 돌기는 설계자의 의도에 따라 액정표시소자의 상판 또는 하판에 형성될 수 있게 된다. 이하, 도 1 내지 도 5를 결부하여 돌기가 형성된 액정표시소자의 상판 또는 하판에 대하여 살펴보기로 한다. In general, liquid crystal displays (hereinafter referred to as "LCDs") have tended to be gradually widened due to their light weight, thinness, and low power consumption. According to this trend, LCD is being used for office automation equipment, audio / video equipment, and the like. On the other hand, the LCD is controlled to display the desired image on the screen by adjusting the transmission amount of the light beam according to the image signal applied to the plurality of control switches arranged in a matrix form. However, LCDs have a disadvantage in that the viewing angle of liquid crystal is not only narrow but also the display quality is remarkably degraded when viewed from the side. In order to solve this problem, various researches are ongoing to secure a wide viewing angle. As a result, a multidomain method has been proposed as one of methods for widening the wide viewing angle. The multi-domain method uses a direction control electrode to adjust the arrangement direction of liquid crystals in different directions in each of two or more sub-pixels (domains) in one pixel. At this time, the direction control electrode may be divided into a projection type that causes distortion of an electric field by using an auxiliary electrode that receives an electrical signal and an insulator that does not receive an electrical signal. In this case, the direction control electrode is provided to capture the periphery of the pixel electrode to adjust the electric field applied to the liquid crystal to adjust the alignment direction of the liquid crystal in a plurality of directions within one pixel. Such protrusions may be formed on the upper or lower plate of the liquid crystal display according to the intention of the designer. Hereinafter, the upper plate or the lower plate of the liquid crystal display with protrusions will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

도 1을 참조하면, 멀티도메인 액정표시소자의 하판구조가 도시되어 있다. 게이트버스라인(6)에서 전송되는 게이트신호는 게이트전극(20)에 인가되어 소스버스라인(6)을 경유하여 소스전극(8)에 인가되는 데이터신호가 드레인전극(18)으로 전송되는 것을 절환하게 된다. 또한, 도 1의 구조를 갖는 멀티도메인 액정표시소자에는 멀티도메인을 구현하기 위한 돌기(14)가 화소전극(12)의 주변에 마련되어 있다. 도 2를 결부하여 이에 대하여 상세하게 살펴보기로 한다. 액정표시소자의 하판은 도 2에 도시된 바와 같이 하부기판(2)의 상부에 게이트절연막(4), 소스버스라인(6), 보호막(10)이 순차적으로 형성되어 있으며, 보호막(10)의 상부에는 화소전극(12)이, 화소전극(12)의 주변에는 돌기(14)가 마련되어 있다. 한편, 도 3을 결부하여 도 1의 액정표시소자의 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다. Referring to FIG. 1, a bottom plate structure of a multi-domain liquid crystal display device is illustrated. The gate signal transmitted from the gate bus line 6 is applied to the gate electrode 20 to switch the transmission of the data signal applied to the source electrode 8 via the source bus line 6 to the drain electrode 18. Done. In addition, in the multi-domain liquid crystal display device having the structure of FIG. 1, protrusions 14 for implementing the multi-domain are provided around the pixel electrode 12. This will be described in detail with reference to FIG. 2. As shown in FIG. 2, the lower plate of the liquid crystal display device includes a gate insulating film 4, a source bus line 6, and a protective film 10 sequentially formed on the lower substrate 2. The pixel electrode 12 is provided on the upper side, and the protrusion 14 is provided in the periphery of the pixel electrode 12. Meanwhile, the manufacturing method of the liquid crystal display of FIG. 1 will be described with reference to FIG. 3.

도 3을 참조하면, 도 1의 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이 도시되어 있다. 하부기판(2)의 상부에 소정의 두께로 게이트절연막(4)을 형성한다. (제1 단계) 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition Method; 이하 "CVD"라 한다)을 이용하여 SiNx를 소정의두께(예를들면, 2000 - 4000Å)로 증착함에 의해 도 3의 (a)에 도시된 바와 같은 게이트절연막(Gate Insulation Layer;4)을 형성하게 된다. 게이트절연막(4)의 상부에 소스버스라인(6)을 형성한다. (제2 단계) 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 스퍼터링법(Sputtering Method)을 이용하여 금속(예를들면, Cr, Mo)을 소정의 두께(예를들면, 1500Å)로 증착한후, 사진식각법(Photoetching)을 이용하여 설계자의 의도에 따른 소스버스라인(6)을 형성하게 된다. 게이트절연막(4) 및 소스버스라인(6)의 상부에 소정의 두께를 갖는 보호막(Passivation Layer;10)을 형성한다. (제3 단계) CVD방법을 이용하여 SiNx를 소정의 두께(예를들면, 0.5 - 1㎛)로 증착함에 의해 도 3의 (c)와 같은 보호막(10)을 형성하게 된다. 보호막(10)의 상부에 화소전극(Pixel Electrode;12)을 형성한다. (제4 단계) 스퍼터링법을 이용하여 소정의 두께(예를들면, 1000Å)를 갖는 화소전극(12)을 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이 형성하게 된다. 이때, 화소전극(12)은 실제로 광빔이 투과되는 영역이므로 투명한 전도성 물질인 아이티오(Indium Thin Oxide; 이하 "ITO"라 한다)를 사용하게 된다. 보호막(10) 및 화소전극(12)의 상부에 소정의 두께를 갖는 돌기재(22)를 도포한다. (제5 단계) 스핀코팅법(Spin Coating Method)에 의해 소정의 두께로 도포된 돌기재(22)가 도 3의 (e)에 도시되어 있다. 이때, 돌기재(22)는 유전율이 액정보다 낮은 유기물을 사용하는 것이 바람직하다. 사진식각법을 이용하여 돌기(14)를 형성한다. (제6 단계) 도 3의 (e)에 도시된 바와 같이 돌기재(22)의 상부에 마스크(24)를 위치시킨후 노광한다. 이어서, 돌기재(22)에 패턴을 형성하고 식각하여 불필요한 부분을 제거한다. 이에따라, 도 3의 (f)와 같이 돌기(14)를 형성하게 된다. 이때, 돌기(14)는 액정에 인가되는 전계(Electric Field)를 조절하여 액정의 배향방향을 조절하게 된다. 이러한 과정에 의해 형성된 액정표시장치는 화소전극의 주변에 돌기가 형성되어 멀티도메인을 구현하게 되므로 광시야각을 넓히게 된다. 한편, 도 1 및 도 3에서 화소전극(12)은 광이 투과되는 영역으로써 각각의 화소에서 화소전극(12)이 차지하는 영역이 클수록 개구율이 증가하게 된다. 그러나, 각 화소에는 화소전극(12)의 주변에 돌기(14)가 형성되어 이 공간에 대응하여 광투과 영역이 줄어들게 된다. 이에따라, 각화소의 개구율이 감소하게 되는 문제점이 도출되고 있다.Referring to FIG. 3, a diagram for describing a method of manufacturing the liquid crystal display of FIG. 1 is illustrated. The gate insulating film 4 is formed on the lower substrate 2 to have a predetermined thickness. (First Step) By depositing SiN x to a predetermined thickness (e.g., 2000-4000 kPa) using the Chemical Vapor Deposition Method (hereinafter referred to as "CVD"), FIG. A gate insulation layer 4 as shown is formed. The source bus line 6 is formed on the gate insulating film 4. (Second Step) After depositing a metal (e.g., Cr, Mo) to a predetermined thickness (e.g., 1500Å) using a sputtering method as shown in FIG. By using photoetching, the source bus line 6 according to the intention of the designer is formed. A passivation layer 10 having a predetermined thickness is formed on the gate insulating film 4 and the source bus line 6. (Third Step) A protective film 10 as shown in FIG. 3C is formed by depositing SiN x to a predetermined thickness (for example, 0.5-1 μm) using the CVD method. A pixel electrode 12 is formed on the passivation layer 10. (Fourth Step) A pixel electrode 12 having a predetermined thickness (for example, 1000 ns) is formed by using a sputtering method as shown in Fig. 3D. In this case, since the pixel electrode 12 is a region through which the light beam is actually transmitted, Indium Thin Oxide (hereinafter referred to as “ITO”), which is a transparent conductive material, is used. A protrusion 22 having a predetermined thickness is coated on the passivation layer 10 and the pixel electrode 12. (Fifth Step) A projection 22 coated with a predetermined thickness by the spin coating method is shown in FIG. At this time, it is preferable that the projection material 22 uses an organic material whose dielectric constant is lower than that of the liquid crystal. The projections 14 are formed by using photolithography. (Sixth Step) As shown in Fig. 3E, the mask 24 is positioned on the protrusion 22 to be exposed. Subsequently, a pattern is formed on the protrusion 22 and etched to remove unnecessary portions. Accordingly, the protrusions 14 are formed as shown in FIG. In this case, the protrusion 14 adjusts the alignment direction of the liquid crystal by adjusting an electric field applied to the liquid crystal. In the liquid crystal display device formed by the above process, protrusions are formed around the pixel electrode to realize a multi-domain, thereby widening the wide viewing angle. Meanwhile, in FIGS. 1 and 3, the pixel electrode 12 is a region through which light is transmitted, and as the region occupied by the pixel electrode 12 in each pixel increases, the aperture ratio increases. However, in each pixel, projections 14 are formed around the pixel electrode 12 so that the light transmission area is reduced in correspondence to this space. This leads to a problem that the aperture ratio of each pixel is reduced.

도 4를 참조하면, 멀티도메인 액정표시소자의 상판구조가 도시되어 있다. 상부기판(32)의 상부에는 블랙매트릭스(Black Matrix;34 이하 "BM"라 한다)가 형성되어 임의의 필터를 투과하게 될 광이 인접한 필터 쪽으로 누설되는 것을 방지하게 된다. 블랙매트릭스(34)의 상부에는 R,G,B 칼라필터(36)가 형성되어 광빔을 각각의 칼라로 필터링하게 된다. 칼라필터(36)의 상부에는 투명전극(38)이 형성되어 있으며, 투명전극(38)의 상부에는 액정에 인가되는 전계를 조절하기 위한 돌기(14)가 형성되어 있다. 이 경우, 돌기(14)들은 각각의 칼라필터(36)의 내부영역에 마련되게 된다. Referring to FIG. 4, a top plate structure of a multi-domain liquid crystal display device is shown. A black matrix (hereinafter referred to as “BM” 34) is formed on the upper substrate 32 to prevent light that will pass through any filter from leaking toward the adjacent filter. R, G, and B color filters 36 are formed on the black matrix 34 to filter light beams to respective colors. A transparent electrode 38 is formed on the color filter 36, and a protrusion 14 is formed on the transparent electrode 38 to adjust an electric field applied to the liquid crystal. In this case, the protrusions 14 are provided in the inner region of each color filter 36.

도 5를 참조하면, 도 4의 제조방법을 설명하기 위한 도면이 도시되어 있다. 상부기판(32)의 상부에 블랙매트릭스(Black Matrix;34 이하 "BM"이라 한다)를 형성한다. (제11 단계) 불투명수지 또는 불투명한 금속(예를들면, Cr)을 소정의 두께로 도포하고 패터닝함에 의해 도 5의 (a)에 도시된 바와 같은 블랙매트릭스(Black Matrix;34)를 형성하게 된다. 이때, 블랙매트릭스(34)는 임의의 필터를 투과하게 될 광이 인접한 필터 쪽으로 누설되는 것을 방지하게 된다. 상부기판(32) 및 블랙매트릭스(34)의 상부에 칼라필터(Color Filter;36 이하 "CF"라 한다)를 형성한다. (제12 단계) R필터, G필터 및 B필터를 순차적으로 형성함에 의해 도 5의 (b)에 도시된 바와 같은 칼라필터(36)를 형성하게 된다. 이때, 칼라필터(36)는 광원에서 발생되는 광빔으로 부터 각각의 칼라(예를들면, R,G,B)에 해당하는 광빔만을 필터링하여 투과시키게 된다. 칼라필터(36)의 상부에 소정의 두께를 갖는 투명전극(38)을 형성한다. (제13 단계) 스퍼터링법을 이용하여 소정의 두께(예를 들면, 1000Å)를 갖는 투명전극(38)을 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이 형성하게 된다. 이때, 투명전극(38)은 광빔이 투과되어야 하므로 투명한 전도성 물질인 ITO를 사용하게 된다. 투명전극(38)의 상부에 소정의 두께를 갖는 돌기재(22)를 도포한다. (제14 단계) 스핀코팅법(Spin Coating Method)에 의해 소정의 두께로 도포된 돌기재(22)가 도 5의 (d)에 도시되어 있다. 이때, 돌기재(22)는 유전율이 액정보다 낮은 유기물을 사용하는 것이 바람직하다. 사진식각법을 이용하여 돌기(14)를 형성한다. (제15 단계) 도 5의 (d)에 도시된 바와 같이 돌기재(22)의 상부에 마스크(24)를 위치시킨후 노광한다. 이어서, 돌기재(22)에 패턴을 형성하고 불필요한 부분을 식각하여 제거한다. 이에따라, 도 5의 (e)와 같이 돌기(14)를 형성하게 된다. 이때, 돌기(14)는 액정에 인가되는 전계(Electric Field)를 조절하여 액정의 배향방향을 조절하게 된다. 이에따라, 멀티도메인을 구현하게 되어 넓은 시야각을 얻게 된다. 한편, 도 4 및 도 5에서 칼라필터(36)는 광이 투과되는 영역으로써 각각의 화소에서 칼라필터(36)가 차지하는 영역이 클수록 개구율이 증가하게 된다. 그러나, 각 화소에는 칼라필터(36)의 내부에 멀티도메인을 구현하도록 돌기(14)가 형성되어 광이 투과되는 영역이 줄어들게 된다. 이에따라, 각화소의 개구율이 감소하게 되는 문제점이 도출되고 있다.Referring to FIG. 5, a diagram for describing the manufacturing method of FIG. 4 is illustrated. A black matrix (hereinafter referred to as "BM") is formed on the upper substrate 32. (Step 11) Applying an opaque resin or an opaque metal (for example, Cr) to a predetermined thickness and patterning to form a black matrix (34) as shown in Fig. 5A do. At this time, the black matrix 34 prevents light that will pass through any filter from leaking toward the adjacent filter. A color filter (hereinafter referred to as “CF” 36) is formed on the upper substrate 32 and the black matrix 34. (Twelfth Step) By sequentially forming the R filter, the G filter, and the B filter, the color filter 36 as shown in Fig. 5B is formed. In this case, the color filter 36 filters and transmits only the light beam corresponding to each color (eg, R, G, and B) from the light beam generated from the light source. A transparent electrode 38 having a predetermined thickness is formed on the color filter 36. (Thirteenth Step) A transparent electrode 38 having a predetermined thickness (for example, 1000 mW) is formed using the sputtering method as shown in Fig. 5C. In this case, the transparent electrode 38 uses ITO, which is a transparent conductive material, because light beams must be transmitted. A projection 22 having a predetermined thickness is coated on the transparent electrode 38. (Step 14) A projection 22 coated with a predetermined thickness by the spin coating method is shown in FIG. At this time, it is preferable that the projection material 22 uses an organic material whose dielectric constant is lower than that of the liquid crystal. The projections 14 are formed by using photolithography. (Step 15) As shown in FIG. 5D, the mask 24 is positioned on the protrusion 22 to be exposed. Subsequently, a pattern is formed on the projection 22, and unnecessary portions are etched and removed. Accordingly, the protrusions 14 are formed as shown in FIG. In this case, the protrusion 14 adjusts the alignment direction of the liquid crystal by adjusting an electric field applied to the liquid crystal. As a result, the multi-domain is implemented to obtain a wide viewing angle. Meanwhile, in FIG. 4 and FIG. 5, the color filter 36 is a region through which light is transmitted, and as the area occupied by the color filter 36 in each pixel increases, the aperture ratio increases. However, in each pixel, protrusions 14 are formed in the color filter 36 to implement multi-domains, thereby reducing the area where light is transmitted. This leads to a problem that the aperture ratio of each pixel is reduced.

따라서, 본 발명의 목적은 개구율을 향상시킴과 아울러, 공정을 단순화하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법을 제공하는 데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multi-domain liquid crystal display device which improves the aperture ratio and simplifies the process.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법은 하판에 소정의 두께로 돌기재를 도포한후, 배면노광하여 전극 버스라인과 중첩됨과 아울러, 화소전극을 포획하도록 돌기를 형성한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention applies a projection material with a predetermined thickness on a lower plate, and then exposes the pixel electrode while overlapping the electrode bus line by back exposure. Form protrusions to help.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법은 상판에 소정의 두께로 돌기재를 도포한 후, 배면노광하여 블랙매트릭스와 중첩되도록 돌기를 형성한다.In addition, in the method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention, the projection is coated on the upper plate with a predetermined thickness, and then the back is exposed to form the projection to overlap with the black matrix.

상기 목적외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention other than the above object will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

도 6 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.6 to 7, a preferred embodiment of the present invention will be described.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법을 설명하기 위한 도면이 도시되어 있다. Referring to FIG. 6, a diagram illustrating a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention is illustrated.

하부기판(42)의 상부에 게이트절연막(44)을 형성한다. (제21 단계) CVD법을 이용하여 SiNx를 소정의 두께(예를들면, 2000 - 4000Å)로 증착함에 의해 도 6의 (a)에 도시된 바와 같은 게이트절연막(44)을 형성하게 된다. 게이트절연막(44)의 상부에 소스버스라인(46)을 형성한다. (제22 단계) 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이 스퍼터링법(Sputtering Method)을 이용하여 금속(예를들면, Cr, Mo)을 소정의 두께(예를들면, 1500Å)로 증착한후, 사진식각법(Photoetching)을 이용하여 소스버스라인(46)을 형성하게 된다. 소스버스라인(46) 및 게이트절연막(44)의 상부에 보호막(50)을 형성한다. (제23 단계) CVD법을 이용하여 SiNx를 소정의 두께(예를들면, 0.5 - 1㎛)로 증착함에 의해 도 6의 (c)와 같은 보호막을 형성하게 된다. 보호막(50)의 상부에 화소전극(52)을 형성한다. (제24 단계) 스퍼터링법을 이용하여 소정의 두께(예를들면, 1000Å)를 갖는 화소전극(52)을 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이 형성하게 된다. 이때, 화소전극(52)에는 실제로 광빔이 투과되는 영역이므로 투명한 전도성 물질인 ITO를 사용하게 된다. 보호막(50) 및 화소전극(52)의 상부에 돌기재(48)를 도포한다. (제25 단계) 스핀코팅법(Spin Coating Method)에 의해 소정의 두께로 도포된 돌기재(48)가 도 6의 (e)에 도시되어 있다. 이때, 돌기재(48)는 유전율이 액정보다 낮은 유기물을 사용하는 것이 바람직하다. 배면노광을 이용하여 돌기를 형성한다. (제26 단계) 도 6의 (e)에 도시된 바와 같이 배면노광함에 의해 소스버스라인에 대응하도록 돌기재(48)를 패터닝하게 된다. 이어서, 불필요한 부분을 식각하여 제거함에 의해 돌기(54)를 형성하게 된다. 이에따라, 본 발명의 일 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자의 하판에 형성된 돌기(54)는 소스버스라인과 중첩되도록 배치되어 기존의 화소전극상에 형성된 돌기에 비해 개구율을 증가시키게 된다. 또한, 제조방법에 있어서 배면노광을 이용하므로 공정을 단순화 할 수 있게 된다. A gate insulating film 44 is formed on the lower substrate 42. (Step 21) A gate insulating film 44 as shown in Fig. 6A is formed by depositing SiN x to a predetermined thickness (for example, 2000-4000 mW) using the CVD method. The source bus line 46 is formed on the gate insulating layer 44. (Step 22) After depositing a metal (for example, Cr, Mo) to a predetermined thickness (for example, 1500Å) by using a sputtering method, as shown in FIG. 6 (b) The source bus line 46 is formed by using photoetching. The passivation layer 50 is formed on the source bus line 46 and the gate insulating layer 44. (Step 23) By using CVD, SiN x is deposited to a predetermined thickness (for example, 0.5-1 μm) to form a protective film as shown in FIG. 6C. The pixel electrode 52 is formed on the passivation layer 50. (Step 24) By using the sputtering method, a pixel electrode 52 having a predetermined thickness (for example, 1000 mW) is formed as shown in Fig. 3D. In this case, since the light beam is actually transmitted to the pixel electrode 52, ITO, which is a transparent conductive material, is used. A projection 48 is applied over the passivation film 50 and the pixel electrode 52. (Step 25) A projection 48 coated with a predetermined thickness by the spin coating method is shown in Fig. 6E. At this time, it is preferable that the protrusion material 48 uses an organic material whose dielectric constant is lower than that of the liquid crystal. The back exposure is used to form the protrusions. (Step 26) The projection 48 is patterned to correspond to the source bus line by the back exposure as shown in Fig. 6E. Then, the protrusions 54 are formed by etching and removing unnecessary portions. Accordingly, the protrusions 54 formed on the lower plate of the multi-domain liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention are disposed to overlap the source bus line, thereby increasing the aperture ratio compared to the protrusions formed on the conventional pixel electrode. In addition, the back exposure is used in the manufacturing method, thereby simplifying the process.

도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자 제조방법을 설명하기 위한 도면이 도시되어 있다. Referring to FIG. 7, a diagram illustrating a method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention is illustrated.

상부기판(62)의 상부에 블랙매트릭스(64)를 형성한다. (제31 단계) 불투명수지 또는 불투명한 금속(예를들면, Cr)을 소정의 두께로 도포하고 패터닝함에 의해 도 7의 (a)에 도시된 바와 같은 블랙매트릭스(Black Matrix;34)를 형성하게 된다. 상부기판(62)의 상부에 칼라필터(66)를 형성한다. (제32 단계) R필터, G필터 및 B필터를 순차적으로 형성함에 의해 도 7의 (b)에 도시된 바와 같은 칼라필터(66)를 형성하게 된다. 칼라필터(66)의 상부에 투명전극(68)을 형성한다. (제33 단계) 스퍼터링법을 이용하여 소정의 두께(예를들면, 1000Å)를 갖는 투명전극(68)을 도 7의 (c)에 도시된 바와 같이 형성하게 된다. 이때, 투명전극(68)은 광빔이 투과되어야 하므로 투명한 전도성 물질인 ITO를 사용하게 된다. 투명전극(68)의 상부에 돌기재(48)를 소정의 두께로 도포한다. (제34 단계) 스핀코팅법(Spin Coating Method)에 의해 소정의 두께로 도포된 돌기재(48)가 도 7의 (d)에 도시되어 있다. 이때, 돌기재(48)는 유전율이 액정보다 낮은 유기물을 사용하는 것이 바람직하다. 배면노광에 의해 돌기(54)를 형성한다. (제35 단계) 도 7의 (d)에 도시된 바와 같이 돌기재(48)의 상부에 마스크(44)를 위치시킨 후 노광한다. 이어서, 돌기재(48)에 패턴을 형성하고 불필요한 부분을 식각하여 제거한다. 이에따라, 도 7의 (e)와 같이 돌기(54)를 형성하게 된다. 이에따라, 본 발명의 다른 실시예에 따른 멀티도메인 액정표시소자의 상판에 형성된 돌기(54)는 블랙매트릭스와 중첩되도록 배치되어 기존의 칼라필터상에 형성된 돌기에 비해 개구율을 증가시키게 된다. 또한, 제조방법에 있어서 배면노광을 이용하므로 공정을 단순화할 수 있게 된다. The black matrix 64 is formed on the upper substrate 62. (Step 31) Applying an opaque resin or an opaque metal (e.g., Cr) to a predetermined thickness and patterning to form a black matrix (34) as shown in FIG. do. The color filter 66 is formed on the upper substrate 62. (Step 32) By sequentially forming the R filter, the G filter, and the B filter, the color filter 66 as shown in Fig. 7B is formed. The transparent electrode 68 is formed on the color filter 66. (Step 33) By using the sputtering method, a transparent electrode 68 having a predetermined thickness (for example, 1000 mW) is formed as shown in Fig. 7C. In this case, the transparent electrode 68 uses ITO, which is a transparent conductive material, because light beams must be transmitted. The projection 48 is applied to the upper portion of the transparent electrode 68 to a predetermined thickness. (Step 34) A projection 48 applied to a predetermined thickness by the spin coating method is shown in Fig. 7D. At this time, it is preferable that the protrusion material 48 uses an organic material whose dielectric constant is lower than that of the liquid crystal. The projection 54 is formed by the back exposure. (Step 35) As shown in Fig. 7D, the mask 44 is positioned on the upper portion of the projection 48, and then exposed. Subsequently, a pattern is formed on the projection 48, and unnecessary portions are etched and removed. Accordingly, the protrusions 54 are formed as shown in FIG. Accordingly, the projections 54 formed on the upper plate of the multi-domain liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention are disposed to overlap with the black matrix to increase the aperture ratio compared to the projections formed on the existing color filter. In addition, since the back exposure is used in the manufacturing method, the process can be simplified.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은, 액정표시소자의 하판에 형성된 돌기를 소스버스라인과 중첩되도록 배치하여 기존의 화소전극상에 형성된 돌기에 비해 개구율을 증가시키고, 또한 액정표시소자의 상판에 형성된 돌기를 블랙매트릭스와 중첩되도록 배치하여 기존의 칼라필터상에 형성된 돌기에 비해 개구율을 증가시킬 수 있다. 그리고, 본 발명은 돌기 형성을 위해 배면노광을 이용하므로 공정을 단순화할 수 있다.As described above, in the present invention, the protrusions formed on the lower plate of the liquid crystal display element overlap the source bus line, thereby increasing the aperture ratio compared to the protrusions formed on the existing pixel electrode, and also forming the protrusions on the upper plate of the liquid crystal display element. It is possible to increase the opening ratio compared to the protrusion formed on the existing color filter by arranging to overlap the black matrix. In addition, the present invention can simplify the process because the back exposure is used to form the projections.

Claims (4)

기판의 상부에 게이트절연막, 소스버스라인, 보호막, 화소전극이 순차적으로 형성된 하판을 구비하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법에 있어서,In the method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device having a lower plate formed by sequentially forming a gate insulating film, a source bus line, a protective film, and a pixel electrode on the substrate, 상기 하판에 소정의 두께로 돌기재를 도포한 후 배면노광에 의해 상기 화소전극을 포획하도록 돌기를 형성하되,After applying the projection to the lower plate to a predetermined thickness to form a projection to capture the pixel electrode by the back exposure, 상기 돌기는 상기 소스버스라인과 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법. And the protrusion is disposed to overlap with the source bus line. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배면노광에 의해 상기 소스버스라인에 대응하도록 상기 돌기재를 패터닝하는 것을 특징으로 하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법.And patterning the projection to correspond to the source bus line by the back exposure. 기판의 상부에 블랙매트릭스, 칼라필터, 투명전극이 순차적으로 형성된 상판을 구비하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법에 있어서,In the method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device having a top plate on which a black matrix, a color filter, and a transparent electrode are sequentially formed on the substrate, 상기 상판에 소정의 두께로 돌기재를 도포한 후 배면노광에 의해 상기 칼라필터를 포획하도록 돌기를 형성하되,After applying the projection to the upper plate with a predetermined thickness to form a projection to capture the color filter by the back exposure, 상기 돌기는 상기 블랙매트릭스와 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법.And the protrusions are disposed to overlap with the black matrix. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 블랙매트릭스를 이용하여 상기 돌기재를 패터닝하는 것을 특징으로 하 는 멀티도메인 액정표시소자 제조방법.The method of manufacturing a multi-domain liquid crystal display device, characterized in that for patterning the projection material using the black matrix.
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