KR100613947B1 - 플라즈마 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 반도체 처리 시스템의 플라즈마 처리 장치에 있어서,플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 생성 공간을 포위하는 처리실과,상기 처리실내를 배기하는 동시에 진공으로 설정하기 위한 배기 기구와,상기 처리실내에 처리 가스를 공급하기 위한 처리 가스 공급 기구와,상기 플라즈마 생성 공간내에서 상기 처리 가스를 플라즈마에 여기하기 위한 여기 기구와,상기 플라즈마로부터 발생한 플라즈마광을 상기 처리실의 외측으로 추출하기 위한 윈도우 디바이스를 포함하며,상기 윈도우 디바이스는,상기 처리실의 측벽에 기밀하게 설치되고, 상기 플라즈마광을 투과시키는 윈도우 플레이트와,상기 윈도우 플레이트와 상기 플라즈마 생성 공간 사이에 배치되고, 상기 윈도우 플레이트에 대하여 상기 플라즈마광을 도입하기 위한 다수의 미세 관통 구멍을 갖는 광 안내부로서, 상기 관통 구멍은 상기 플라즈마 생성 공간에 면하는 내측 개구와 상기 윈도우 플레이트에 면하는 외측 개구를 가지며, 상기 광 안내부는 상기 윈도우 플레이트보다 상기 플라즈마에 대한 내성이 높고 또한 상기 관통 구멍을 제외하고 상기 플라즈마광을 투과시키지 않는, 상기 광 안내부와,상기 윈도우 플레이트와 상기 광 안내부 사이에 배치되고, 상기 관통 구멍의 상기 외측 개구를 덮으며, 상기 윈도우 플레이트보다 상기 플라즈마에 대한 내성이 높고 또한 상기 플라즈마광을 투과시키는 커버 플레이트를 구비하며,상기 윈도우 플레이트와 상기 광 안내부와 상기 커버플레이트의 조합은 상기 처리실의 측벽에 형성된 수용개구에 끼워 넣어지는플라즈마 처리 장치.
- 반도체 처리 시스템의 플라즈마 처리 장치에 있어서,플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 생성 공간을 포위하는 처리실과,상기 처리실내를 배기하는 동시에 진공으로 설정하기 위한 배기 기구와,상기 처리실내에 처리 가스를 공급하기 위한 처리 가스 공급 기구와,상기 플라즈마 생성 공간내에서 상기 처리 가스를 플라즈마에 여기하기 위한 여기 기구와,상기 처리실의 측벽에 상기 플라즈마에서 유래하는 반응 생성물이 부착되는 것을 방지하기 위해서, 상기 측벽과 상기 플라즈마 생성 공간 사이에 탈착 가능하게 배치된 실드 부재와,상기 플라즈마에서 발생한 플라즈마광을 상기 처리실의 외측으로 추출하기 위한 윈도우 디바이스를 포함하며,상기 윈도우 디바이스가,상기 처리실의 상기 측벽에 기밀하게 설치되고, 상기 플라즈마광을 투과시키는 윈도우 플레이트와,상기 윈도우 플레이트와 상기 플라즈마 생성 공간 사이에 위치하도록 상기 실드 부재에 설치되고, 상기 윈도우 플레이트에 대하여 상기 플라즈마광을 도입하기 위한 다수의 미세 관통 구멍을 갖는 광 안내부로서, 상기 관통 구멍은 상기 플라즈마 생성 공간에 면하는 내측 개구와 상기 윈도우 플레이트에 면하는 외측 개구를 가지며, 상기 광 안내부는 상기 윈도우 플레이트보다 상기 플라즈마에 대한 내성이 높고 또한 상기 관통 구멍을 제외하고 상기 플라즈마광을 투과시키지 않는, 상기 광 안내부와,상기 윈도우 플레이트와 상기 광 안내부 사이에 위치하도록 상기 실드 부재에 설치되고, 상기 관통 구멍의 상기 외측 개구를 덮으며, 상기 윈도우 플레이트보다 상기 플라즈마에 대한 내성이 높고 또한 상기 플라즈마광을 투과시키는 커버 플레이트를 구비하는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 커버 플레이트가 사파이어로 실질적으로 이루어지는플라즈마 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 커버 플레이트가 0.2mm 내지 1㎜의 두께를 갖는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 커버 플레이트가 상기 관통 구멍의 상기 외측 개구에 대하여 밀착하도록 배치되는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 커버 플레이트가 상기 관통 구멍의 상기 외측 개구에 대하여 이간되어 배치되는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 관통 구멍이 상기 윈도우 플레이트의 표면에 대하여 실질적으로 직교하도록 배향되는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 윈도우 플레이트를 투과한 후의 상기 플라즈마광에 근거하여 상기 플라즈마의 상태를 검출하기 위해서, 상기 처리실의 외측에 배치된 검출기를 더 포함하는플라즈마 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2항에 있어서,상기 여기 기구는 상기 플라즈마 생성 공간내에서 제 1 방향으로 전계를 형성하기 위해서 상기 처리실내에 배치된 한쌍의 전극과, 상기 플라즈마 생성 공간내에서 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 자장을 형성하기 위해서 상기 처리실을 둘러싸도록 배치된 자석을 포함하는플라즈마 처리 장치.
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