KR100564216B1 - Light exposure device for liquid crystal display device and light exposure method using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 서로 다른 크기를 가지는 멀티 모델 액정 패널을 제작하기 위한 노광장치 및 노광방법에 관한 것이다. The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method for manufacturing a multi-model liquid crystal panel having different sizes.

본 발명의 목적은, 멀티 모델 액정 패널을 제작함에 있어, 멀티 모델 액정 패널 각각에 대응하는 노광장치를 별도로 구비하여 노광공정을 진행함으로써 원하지 않는 위치에 액정 패널이 형성되어 불량이 발생하는 문제를 해결할 수 있는 노광장치 및 노광방법을 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to prepare a multi-model liquid crystal panel, and to provide a separate exposure apparatus corresponding to each of the multi-model liquid crystal panels to perform an exposure process, thereby solving a problem in which a liquid crystal panel is formed at an undesired position and a defect occurs. To provide an exposure apparatus and an exposure method that can be.

본 발명은, 액정표시장치용 원판이 놓여지는 스테이지와; 다수의 조명계를 포함하고, 다수의 조명계 각각은 서로 다른 크기를 가지는 다수의 액정 패널을 액정표시장치용 원판 상에 형성하기 위해, 서로 다른 크기를 가지는 액정 패널 각각에 대응하는 액정표시장치용 노광장치 및 그것을 사용한 노광방법을 제공한다.The present invention includes a stage on which an original plate for a liquid crystal display device is placed; An exposure apparatus for a liquid crystal display device comprising a plurality of illumination systems, each of the plurality of illumination systems corresponding to each of the liquid crystal panel having a different size, in order to form a plurality of liquid crystal panels having different sizes on the disc for the liquid crystal display device And an exposure method using the same.

본 발명은, 멀티 모델 액정 패널을 제작함에 있어, 각 액정 패널에 대응하는 조명계를 하나의 노광장치에 장참함으로써 액정 패널을 원하는 위치에 형성하여 멀티 모델 액정 패널을 용이하게 제작할 수 있고, 멀티 모델 액정 패널 생산시 필요한 노광장치 설비를 감소시킬 수 있는 효과가 있다. According to the present invention, in manufacturing a multi-model liquid crystal panel, by adding an illumination system corresponding to each liquid crystal panel into one exposure apparatus, the liquid crystal panel can be formed at a desired position, thereby easily producing a multi-model liquid crystal panel. There is an effect that can reduce the exposure apparatus equipment required for panel production.

Description

액정표시장치용 노광장치 및 그것을 사용한 노광방법{Light exposure device for liquid crystal display device and light exposure method using the same} Light exposure device for liquid crystal display device and light exposure method using the same             

도 1은 액정표시장치용 원판 상에 동일한 크기의 액정 패널을 도시한 평면도.1 is a plan view showing a liquid crystal panel of the same size on the original plate for the liquid crystal display device.

도 2는 액정표시장치용 원판 상에 서로 다른 크기으 멀티 모델 액정 패널을 도시한 평면도.2 is a plan view showing a multi-model liquid crystal panel of different sizes on the original plate for the liquid crystal display device.

도 3은 멀티 모델 액정 패널을 형성하기 위한 종래의 제작 설비를 도시한 블록도.3 is a block diagram showing a conventional manufacturing facility for forming a multi-model liquid crystal panel.

도 4는 멀티 모델 액정 패널을 형성하기 위한 종래의 노광장치를 도시한 단면도.4 is a cross-sectional view showing a conventional exposure apparatus for forming a multi-model liquid crystal panel.

도 5는 종래의 제작 설비를 사용하여 멀티 모델 액정 패널을 형성하는 방법을 도시한 흐름도.5 is a flowchart illustrating a method of forming a multi-model liquid crystal panel using a conventional manufacturing facility.

도 6a와 6b는 종래의 제작 설비를 사용하여 멀티 모델 액정 패널이 형성되는 과정을 도시한 평면도.6A and 6B are plan views illustrating a process of forming a multi-model liquid crystal panel using a conventional manufacturing facility.

도 7은 종래의 제작 설비를 사용하여 원하지 않는 부분에 형성된 멀티 모델 액정 패널을 도시한 평면도.Fig. 7 is a plan view showing a multi-model liquid crystal panel formed at an unwanted portion using a conventional manufacturing facility.

도 8은 본 발명의 실시예에 따라, 멀티 모델 액정 패널을 형성하기 위해 두 개의 조명계를 장착한 노광장치를 가지는 제작 설비를 도시한 블록도.FIG. 8 is a block diagram illustrating a fabrication facility having an exposure apparatus equipped with two illumination systems to form a multi-model liquid crystal panel, according to an embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 실시예에 따른 제작 설비를 사용하여 멀티 모델 액정 패널을 형성하는 방법을 도시한 흐름도.9 is a flowchart illustrating a method of forming a multi-model liquid crystal panel using a manufacturing facility according to an embodiment of the present invention.

도 10a와 10b는 본 발명의 실시예에 따른 제작 설비를 사용하여 멀티 패널 액정 패널이 형성되는 과정을 도시한 평면도.10A and 10B are plan views illustrating a process of forming a multi-panel liquid crystal panel using a manufacturing facility according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

200 : 노광장치 210a, 210b : 조명계200: exposure apparatus 210a, 210b: illumination system

220 : 스테이지 250 : 로봇220: stage 250: robot

260 : 도포기 270 : 현상기260: applicator 270: developer

본 발명은 액정표시장치의 노광 공정을 진행하기 위한 노광장치 및 노광방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 서로 다른 크기를 가지는 멀티 모델 액정 패널을 제작하기 위한 노광장치 및 노광방법에 관한 것이다. The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method for performing an exposure process of a liquid crystal display device, and more particularly, to an exposure apparatus and an exposure method for manufacturing a multi-model liquid crystal panel having different sizes.

일반적으로, 액정 패널(liquid crystal panel)은 액정표시장치용 원판에 다수가 위치하여, 노광 공정, 세정 공정, 검사 공정 등의 여러 공정이 동일하게 진행 되고 형성되며, 모든 공정이 진행된 후에 커팅되어 하나의 액정 패널이 완성된다. In general, a plurality of liquid crystal panels (liquid crystal panel) is located on the original plate for the liquid crystal display device, a number of processes such as the exposure process, cleaning process, inspection process, etc. proceed in the same way and are formed, and after all the processes are cut one The liquid crystal panel of is completed.

위와 같이, 다수의 액정 패널이 하나의 액정표시장치용 원판에서 동일한 공정으로 형성됨으로써, 많은 양의 액정 패널을 효율적으로 생산할 수 있게 된다. As described above, since a plurality of liquid crystal panels are formed in the same process in one liquid crystal display panel, it is possible to efficiently produce a large amount of liquid crystal panels.

도 1은 하나의 액정표시장치용 원판(10) 상에 동일한 공정을 거쳐 형성되는 다수의 액정 패널(20)을 도시하고 있다. 도시한 바와 같이, 일반적으로 다수의 액정 패널(20)은 동일한 크기로 형성된다. FIG. 1 shows a plurality of liquid crystal panels 20 formed on the same plate 10 for a liquid crystal display device through the same process. As shown, in general, the plurality of liquid crystal panels 20 are formed in the same size.

한편, 액정 패널의 공정 효율을 더욱 증대시키기 위해, 서로 다른 크기를 가지는 멀티 모델(muti model) 액정 패널들이 하나의 액정표시장치용 원판에 위치하여 동일한 공정이 진행된다.Meanwhile, in order to further increase the process efficiency of the liquid crystal panel, multi-model liquid crystal panels having different sizes are located on one original plate for the liquid crystal display, and the same process is performed.

도 2는 하나의 액정표시장치용 원판(30) 상에 서로 다른 크기를 가지며 형성된 멀티 모델 액정 패널(40, 41)이 배치된 것을 도시하고 있다. FIG. 2 shows that the multi-model liquid crystal panels 40 and 41 having different sizes are disposed on the original liquid crystal display panel 30.

서로 다른 크기를 가지는 액정 패널(40, 41)들이 하나의 액정표시장치용 원판(30) 상에 형성됨으로써, 액정표시장치용 원판(30)의 공간 효율을 극대화 할 수 있게 된다. 또한, 다양한 크기의 액정 패널(40, 41)을 하나의 액정표시장치용 원판(30)에 생산할 수 있게 되어, 다양한 액정 패널(40, 41)의 요구에 유연하게 대응할 수 있게 된다.Since the liquid crystal panels 40 and 41 having different sizes are formed on one liquid crystal display plate 30, the space efficiency of the liquid crystal display plate 30 may be maximized. In addition, the liquid crystal panels 40 and 41 of various sizes can be produced on the single plate 30 for the liquid crystal display device, thereby flexibly responding to the needs of the various liquid crystal panels 40 and 41.

도 3은 멀티 모델 액정 패널들을 하나의 액정표시장치용 원판에 형성하기 위한 종래의 제작 설비를 도시한 블록도이며, 도 4는 멀티 모델 액정 패널을 노광하기 위한 종래의 노광장치를 대략적으로 도시한 단면도이다. 그리고, 도 5는 도 3의 제작설비를 사용하여 멀티 모델 액정 패널을 형성하는 방법을 도시한 흐름도이고, 도 6a은 6b는 도 3의 제작설비를 사용하여 형성된 멀티 모델 액정 패널을 도시한 평면도이다.FIG. 3 is a block diagram showing a conventional manufacturing facility for forming multi-model liquid crystal panels on a single plate for a liquid crystal display, and FIG. 4 schematically shows a conventional exposure apparatus for exposing a multi-model liquid crystal panel. It is a cross section. 5 is a flowchart illustrating a method of forming a multi-model liquid crystal panel using the manufacturing equipment of FIG. 3, and FIG. 6A is a plan view illustrating a multi-model liquid crystal panel formed using the manufacturing equipment of FIG. 3. .

멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 제작하기 위한 설비는, 포토레지스트(photoresist)를 도포하기 위한 도포기(160)와, 액정표시장치용 원판(130)을 주변기기로 이동시키기 위한 이동수단으로서 로봇(150 ; robot)과, 서로 다른 크기의 액정 패널(140, 141)을 노광하기 위한 두 개의 노광장치(100)와, 현상공정을 진행하기 위한 현상기(170)로 이루어진다.The equipment for manufacturing the multi-model liquid crystal panels 140 and 141 is a robot as a moving means for moving the applicator 160 for applying photoresist and the original plate 130 for liquid crystal display to a peripheral device. (150; robot), two exposure apparatuses 100 for exposing liquid crystal panels 140 and 141 of different sizes, and a developing unit 170 for carrying out the developing process.

종래에는 크기가 서로 다른 두 개의 멀티 모델 액정 패널(140, 141)들을 제작하기 위해서 두 개의 노광장치(100)가 사용된다. Conventionally, two exposure apparatuses 100 are used to fabricate two multi-model liquid crystal panels 140 and 141 having different sizes.

도포기(160)는 노광 공정을 진행하기 전에, 감광성 수지로 이루어지는 포토레지스트를 액정표시장치용 원판(130) 상에 도포한다. The applicator 160 applies a photoresist made of photosensitive resin onto the master plate 130 for the liquid crystal display device before the exposure process proceeds.

로봇(150)은, 각 공정 사이에 액정표시장치용 원판(130)을 이동시키는 이동수단으로서, 액정표시장치용 원판(130)을 도포기(160)와 제 1 노광장치(100a) 또는 제 2 노광장치(100b) 사이로 이동시키고, 제 1 노광장치(100a)와 제 2 노광장치(100b) 사이로 이동시키고, 제 1 노광장치(100a) 또는 제 2 노광장치(100b)와 현상기(170) 사이로 이동시킨다.The robot 150 is a moving means for moving the disc 130 for the liquid crystal display device between the processes, and the applicator 160 and the first exposure apparatus 100a or the second disc for the liquid crystal display device 130 are moved. Move between the exposure apparatus 100b, move between the first exposure apparatus 100a and the second exposure apparatus 100b, and move between the first exposure apparatus 100a or the second exposure apparatus 100b and the developer 170 Let's do it.

노광장치(100)는, 액정표시장치용 원판(130)이 놓여지며 액정표시장치용 원판(130)을 수평으로 이동시키는 스테이지(120)와, 스테이지(120) 상에 놓여진 액정표시장치용 원판(130)을 노광하기 위한 조명계(110)로 이루어진다.The exposure apparatus 100 includes a stage 120 on which an original plate 130 for a liquid crystal display device is placed and horizontally moves the original plate 130 for a liquid crystal display device, and an original plate for a liquid crystal display device placed on the stage 120. It consists of an illumination system 110 for exposing 130.

조명계(110)는 액정표시장치용 원판(130)에 빛을 조사하기 위한 것으로서, 빛을 공급하기 위한 광원 시스템(105 ; illumination system)과, 패턴이 형성된 마스크(106 ; mask)와, 반사경을 통해 조사되는 빛을 정밀하게 제어하는 미러 시스템(107 ; mirror system)으로 이루어진다. 광원 시스템(105)으로부터 방출된 빛은 마스크(106)의 패턴(pattern)을 통과하여 미러 시스템(107)을 통해 액정표시장치용 원판(130)에 조사된다. The illumination system 110 is for irradiating light to the disc 130 for liquid crystal display, and is provided through a light source system 105 for supplying light, a mask 106 on which a pattern is formed, and a reflector. It consists of a mirror system 107 which controls precisely the light irradiated. Light emitted from the light source system 105 passes through a pattern of the mask 106 and is irradiated to the master plate 130 for the liquid crystal display device through the mirror system 107.

스테이지(120)는 수평방향으로 이동이 가능하여 액정표시장치용 원판(130) 상에서 패턴이 형성될 부분을 마스크(106)와 대응시키게 된다. The stage 120 may be moved in a horizontal direction so that the mask 106 may correspond to a portion where a pattern is to be formed on the original plate 130 for the liquid crystal display device.

현상기(170)는 노광장치(100)로부터 노광공정이 진행된 액정표시장치용 원판(130)에 대해 현상액을 사용하여 포토레지스트 패턴을 현상하게 된다. The developing unit 170 develops a photoresist pattern using a developing solution on the master plate 130 for the liquid crystal display device, which has been exposed from the exposure apparatus 100.

이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여, 멀티 모델 액정 패널 제작 설비를 이용하여 멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 제작하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the multi-model liquid crystal panels 140 and 141 using the multi-model liquid crystal panel manufacturing facility will be described with reference to FIGS. 3 to 5.

먼저, 도포기(160)를 사용하여 액정표시장치용 원판(130)에 포토 레지스트를 도포한다.(S100) 사용되는 포토레지스트는, 빛을 받은 부분이 현상되는 파지티브 타입(positive type)과 빛은 받지 않은 부분이 현상되는 네거티브 타입(negative type) 중 선택된 하나를 사용한다. First, the photoresist is applied to the disc 130 for the liquid crystal display device using the applicator 160. (S100) The photoresist used is a positive type and a light in which a lighted part is developed. Uses one of the negative types where the unreceived part is developed.

포토레지스트 도포 후에, 로봇(150)을 사용하여, 도포기(160)에서 제 1 노광장치(100a)로 액정표시장치용 원판(130)을 이동시킨다.(S110) 액정표시장치용 원판(130)은 제 1 노광장치(100a)의 스테이지(120a)에 놓여진다. After the photoresist application, the robot 150 is used to move the original plate 130 for the liquid crystal display device from the applicator 160 to the first exposure apparatus 100a. (S110) The original plate 130 for the liquid crystal display device. Is placed on the stage 120a of the first exposure apparatus 100a.

제 1 노광장치(100a)의 스테이지(120a)로 이동된 액정표시장치용 원판(130)은 제 1 노광장치(100a)의 조명계(110a)를 통해 노광된다.(S120) 제 1 노광장치(100a)로 제 1 액정 패널(140)이 형성될 부분에 노광 공정을 진행한다.The disc 130 for the liquid crystal display device moved to the stage 120a of the first exposure apparatus 100a is exposed through the illumination system 110a of the first exposure apparatus 100a. (S120) The first exposure apparatus 100a ), An exposure process is performed on a portion where the first liquid crystal panel 140 is to be formed.

제 1 노광장치(100a)로 노광한 후에, 로봇(150)을 사용하여 제 1 노광장치(100a)에서 제 2 노광장치(100b)로 액정표시장치용 원판(130)을 이동시킨다.(S130) 액정표시장치용 원판(130)은 제 2 노광장치(100b)의 스테이지(120b)에 놓여진다. After exposing with the first exposure apparatus 100a, the original plate 130 for the liquid crystal display device is moved from the first exposure apparatus 100a to the second exposure apparatus 100b using the robot 150. (S130) The disc 130 for the liquid crystal display device is placed on the stage 120b of the second exposure apparatus 100b.

제 2 노광장치(100b)의 스테이지(120b)로 이동된 액정표시장치용 원판(130)은 제 2 노광장치(100b)의 조명계(110b)를 통해 노광된다.(S140) 제 2 노광장치(100b)로 제 2 액정 패널(141)이 형성될 부분에 노광 공정을 진행한다. The disc 130 for the liquid crystal display device moved to the stage 120b of the second exposure apparatus 100b is exposed through the illumination system 110b of the second exposure apparatus 100b. (S140) The second exposure apparatus 100b ), An exposure process is performed on a portion where the second liquid crystal panel 141 is to be formed.

제 2 노광장치(100b)로 노광한 후에, 로봇(150)을 사용하여 제 2 노광장치(100b)에서 현상기(170)로 액정표시장치용 원판(130)을 이동시켜 현상 공정을 진행한다. (S150, S160)After exposing with the 2nd exposure apparatus 100b, the developing process is performed by moving the original board 130 for liquid crystal display devices from the 2nd exposure apparatus 100b to the developing device 170 using the robot 150. FIG. (S150, S160)

현상 공정을 진행하게 되면, 제 1 노광장치(100a)와 제 2 노광장치(100b)를 통해 노광된 액정표시장치용 원판(130)에서 제 1 액정 패널(140)과 제 2 액정 패널(141)이 형성될 부분 각각에 대응하여 포토레지스트 패턴(미도시)이 형성된다. When the developing process is performed, the first liquid crystal panel 140 and the second liquid crystal panel 141 in the disc 130 for the liquid crystal display device exposed through the first exposure apparatus 100a and the second exposure apparatus 100b. A photoresist pattern (not shown) is formed corresponding to each of the portions to be formed.

현상 공정 후에, 식각 공정을 진행하고, 액정표시장치용 원판(130) 상에 형성된 포토레지스트 패턴을 제거하게 되면, 제 1 액정 패널(140)과 제 2 액정 패널(141)이 형성된다. After the developing process, the etching process is performed, and when the photoresist pattern formed on the disc 130 for the liquid crystal display device is removed, the first liquid crystal panel 140 and the second liquid crystal panel 141 are formed.

전술한 바와 같이, 멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 형성하기 위해, 각 액정 패널(140, 141)을 노광하기 위한 노광장치(100)가 개별적으로 사용된다. 제 1 액정 패널(140)과 제 2 액정 패널(141)을 노광하기 위한 노광장치(100)를 개별적으 로 구비하여, 멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 형성하게 된다.As described above, in order to form the multi-model liquid crystal panels 140 and 141, an exposure apparatus 100 for exposing each of the liquid crystal panels 140 and 141 is used separately. The exposure apparatus 100 for exposing the first liquid crystal panel 140 and the second liquid crystal panel 141 is separately provided to form the multi-model liquid crystal panels 140 and 141.

그런데, 제 1 노광장치(100a)로 노광한 후, 제 2 노광장치(100b)로 노광하여 멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 형성함에 있어, 제 2 액정 패널(141)이 원하는 위치에 형성되지 않는 문제가 발생하게 된다. 그와 같은 문제는, 로봇(150)을 통해 두 대의 서로 다른 노광장치(100)에 액정표시장치용 원판(130)을 위치시키는 과정에서 발생하게 된다. 노광장치(100)는 위치정렬(alignment) 과정을 진행하는 과정에서 정밀도가 수십 ㎛ 정도이기 때문에, 노광 공정시 원하는 부분에 노광되지 않을 수 있게 된다.By the way, after exposing with the first exposure apparatus 100a and then exposing with the second exposure apparatus 100b to form the multi-model liquid crystal panels 140 and 141, the second liquid crystal panel 141 is formed at a desired position. The problem does not occur. Such a problem arises in the process of placing the disc 130 for the liquid crystal display device on two different exposure apparatuses 100 through the robot 150. Since the exposure apparatus 100 has a precision of about several tens of micrometers in the process of performing an alignment process, the exposure apparatus 100 may not be exposed to a desired portion during the exposure process.

도 7은 전술한 바와 같은 문제로 인해, 액정표시장치용 원판(130) 상의 원하지 않는 부분에 제 2 액정 패널(141b)이 형성된 모습을 도시하고 있다. 도시한 바와 같이, 점선으로 표시된 부분에 제 2 액정 패널(141a)이 형성되어야 하나, 위치 정렬의 문제로 인해 원하지 않는 부분에 제 2 액정 패널(141b)이 형성되어 있다. FIG. 7 illustrates a state in which the second liquid crystal panel 141b is formed on an undesired portion of the original plate 130 for the liquid crystal display due to the above problem. As shown, the second liquid crystal panel 141a should be formed in the portion indicated by the dotted line, but the second liquid crystal panel 141b is formed in the portion that is not desired due to the problem of alignment.

전술한 바와 같이 멀티 모델 액정 패널(140, 141)이 원하는 위치에 형성되지 않게 되면, 액정 패널(140, 141)의 합착 공정에서 박막트랜지스터(thin film transistor)가 위치하는 어레이 패널(array panel)과 컬러필터 패널(color panel)의 위치 정렬 차이로 인해 불량이 발생하게 된다. As described above, when the multi-model liquid crystal panels 140 and 141 are not formed at a desired position, an array panel in which a thin film transistor is positioned in the bonding process of the liquid crystal panels 140 and 141 may be used. Defects occur due to differences in the alignment of the color filter panels.

한편, 위와 같은 합착 공정의 문제를 해결하기 위해 멀티 모델 액정 패널(140, 141)을 개별적으로 커팅한 후 합착 할 수 있지만, 그와 같은 공정을 진행하기 위해 별도의 추가 설비가 설치되어야 한다.Meanwhile, in order to solve the problem of the bonding process as described above, the multi-model liquid crystal panels 140 and 141 may be individually cut and then bonded, but a separate additional facility must be installed to proceed with such a process.

전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 멀티 모델 액정 패널을 제작함에 있어, 멀티 모델 액정 패널 각각에 대응하는 노광장치를 별도로 구비하여 노광공정을 진행함으로써 원하지 않는 위치에 액정 패널이 형성되어 불량이 발생하는 문제를 해결할 수 있는 노광장치 및 노광방법을 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention for solving the above problems is to produce a multi-model liquid crystal panel, by separately providing an exposure apparatus corresponding to each of the multi-model liquid crystal panels, and performing the exposure process so that the liquid crystal panel is placed in an undesired position. The present invention provides an exposure apparatus and an exposure method which are formed to solve a problem in which a defect occurs.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 액정표시장치용 원판이 놓여지는 스테이지와; 다수의 조명계를 포함하고, 상기 다수의 조명계 각각은 서로 다른 크기를 가지는 다수의 액정 패널을 상기 액정표시장치용 원판 상에 형성하기 위해, 상기 서로 다른 크기를 가지는 액정 패널 각각에 대응하는 액정표시장치용 노광장치를 제공한다.In order to achieve the object as described above, the present invention comprises: a stage on which an original plate for a liquid crystal display device is placed; A plurality of illumination systems, each of the plurality of illumination systems corresponding to each of the liquid crystal panels having different sizes so as to form a plurality of liquid crystal panels having different sizes on the disc for the liquid crystal display device An exposure apparatus for a device is provided.

여기서, 상기 다수의 조명계 각각은, 빛을 공급하기 위한 광원 시스템과; 패턴이 형성된 마스크와; 반사경을 통해 조사되는 빛을 정밀하게 제어하는 미러 시스템을 포함할 수 있다. 그리고, 서로 다른 두 개의 조명계가 사용될 수 있다. Here, each of the plurality of illumination systems, the light source system for supplying light; A patterned mask; It may include a mirror system for precisely controlling the light irradiated through the reflector. In addition, two different illumination systems may be used.

다른 측면에서, 본 발명은, 스테이지에 액정표시장치용 원판을 놓는 단계와; 다수의 조명계를 사용하여 노광하고, 상기 다수의 조명계 각각은 서로 다른 크기를 가지는 다수의 액정 패널을 상기 액정표시장치용 원판 상에 형성하기 위해, 상기 서로 다른 크기를 가지는 액정 패널 각각에 대응하여 노광하는 단계를 포함하는 액정표시장치 노광방법을 제공한다.In another aspect, the present invention comprises the steps of placing a disc for the liquid crystal display device on the stage; Exposure is performed using a plurality of illumination systems, and each of the plurality of illumination systems is exposed corresponding to each of the liquid crystal panels having different sizes to form a plurality of liquid crystal panels having different sizes on the disc for the liquid crystal display device. It provides a liquid crystal display device exposure method comprising the step of.

여기서, 상기 다수의 조명계 각각은, 빛을 공급하기 위한 광원 시스템과; 패턴이 형성된 마스크와; 반사경을 통해 조사되는 빛을 정밀하게 제어하는 미러 시스템을 포함할 수 있다. 그리고, 서로 다른 두 개의 조명계가 사용하여 서로 다른 크기의 두 개의 액정 패널을 형성하기 위해 노광할 수 있다. Here, each of the plurality of illumination systems, the light source system for supplying light; A patterned mask; It may include a mirror system for precisely controlling the light irradiated through the reflector. In addition, two different illumination systems may be used to expose two liquid crystal panels having different sizes.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른, 멀티 모델 액정 패널들을 형성하기 위해 두 개의 서로 다른 조명계를 가지는 노광장치를 구비한, 멀티 모델 액정 패널 제작 설비를 도시한 블록도이다. 그리고, 도 9은 도 8의 멀티 모델 액정 패널 제작 설비를 사용하여 멀티 모델 액정 패널을 형성하는 방법을 도시한 흐름도이고, 도 10a은 10b는 도 8의 제작설비를 사용하여 형성된 멀티 모델 액정 패널을 도시한 평면도이다.FIG. 8 is a block diagram illustrating a multi-model liquid crystal panel manufacturing facility having an exposure apparatus having two different illumination systems to form multi-model liquid crystal panels, according to an embodiment of the present invention. 9 is a flowchart illustrating a method of forming a multi-model liquid crystal panel using the multi-model liquid crystal panel manufacturing facility of FIG. 8, and FIG. 10A illustrates a multi-model liquid crystal panel formed using the manufacturing facility of FIG. 8. It is a top view shown.

도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따라, 멀티 모델 액정 패널(240, 241)을 제작하기 위해서, 각각의 액정 패널(240, 241)에 대응하는 조명계(210a, 210b)를 하나의 노광장치(200)에 장착함으로써 멀티 모델 액정 패널(240, 241)을 형성하기 위한 노광 공정을 용이하게 진행할 수 있다.As shown, in order to manufacture the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 according to the exemplary embodiment of the present invention, one exposure apparatus includes illumination systems 210a and 210b corresponding to the respective liquid crystal panels 240 and 241. By attaching to the 200, an exposure process for forming the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 can be easily performed.

멀티 모델 액정 패널(240, 241)을 제작하기 위한 설비는, 포토레지스트를 도포하기 위한 도포기(260)와, 액정표시장치용 원판(230)을 주변기기로 이동시키기 위한 이동수단으로서 로봇(250)과, 서로 다른 크기의 액정 패널(240, 241)을 노광하기 위한 두 개의 노광장치(200)와, 현상공정을 진행하기 위한 현상기(270)로 이루어진다.The facility for manufacturing the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 includes a robot 250 as a moving means for moving the applicator 260 for applying photoresist and the original plate 230 for liquid crystal display to a peripheral device. And two exposure apparatuses 200 for exposing liquid crystal panels 240 and 241 having different sizes, and a developing unit 270 for developing the developing process.

도포기(260)는 노광 공정을 진행하기 전에, 감광성 수지로 이루어지는 포토레지스트를 액정표시장치용 원판(230) 상에 도포한다. The applicator 260 applies a photoresist made of photosensitive resin onto the original plate 230 for the liquid crystal display device before the exposure process proceeds.

로봇(250)은, 각 공정 사이에 액정표시장치용 원판(230)을 이동시키는 이동수단으로서, 액정표시장치용 원판(230)을 도포기(260)와 노광장치(200) 사이로 이동시키고, 노광장치(200)와 현상기(270) 사이로 이동시킨다.The robot 250 is a moving means for moving the original liquid crystal display device 230 between the respective processes. The robot 250 moves the liquid crystal display device disc 230 between the applicator 260 and the exposure apparatus 200 to expose the liquid. It moves between the apparatus 200 and the developer 270.

노광장치(200)는, 액정표시장치용 원판(230)이 놓여지며 액정표시장치용 원판(230)을 수평으로 이동시키는 스테이지(220)와, 스테이지(220) 상에 놓여진 액정표시장치용 원판(230)을 노광하기 위한 조명계(210)로 이루어진다. 조명계(210)는 서로 다른 크기를 가지는 멀티 모델 액정 패널(240, 241) 각각에 대응하여 노광공정을 진행하기 위한 제 1 조명계(210a)와 제 2 조명계(210b)로 나뉘어진다. The exposure apparatus 200 includes a stage 220 on which an original plate 230 for a liquid crystal display device is placed and horizontally moves the original plate 230 for a liquid crystal display device, and an original plate for a liquid crystal display device placed on the stage 220. It consists of an illumination system 210 for exposing 230. The illumination system 210 is divided into a first illumination system 210a and a second illumination system 210b for performing an exposure process corresponding to each of the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 having different sizes.

조명계(210)는 액정표시장치용 원판(230)에 빛을 조사하기 위한 것으로서, 빛을 공급하기 위한 광원 시스템(도 4의 105 참조)과, 패턴이 형성된 마스크(도 4의 106 참조)와, 반사경을 통해 조사되는 빛을 정밀하게 제어하는 미러 시스템(도 4의 107 참조)으로 이루어진다. 광원 시스템으로부터 방출된 빛은 마스크의 패턴을 통과하여 미러 시스템을 통해 액정표시장치용 원판(230)에 조사된다. The illumination system 210 is for irradiating light to the disc 230 for the liquid crystal display, a light source system for supplying light (see 105 in FIG. 4), a patterned mask (see 106 in FIG. 4), It consists of a mirror system (see 107 in FIG. 4) for precisely controlling the light irradiated through the reflector. The light emitted from the light source system passes through the pattern of the mask and is irradiated to the disc 230 for the liquid crystal display device through the mirror system.

스테이지(220)는 수평방향으로 이동이 가능하여 액정표시장치용 원판(230) 상에서 패턴이 형성될 부분을 마스크와 대응시키게 된다. The stage 220 is movable in the horizontal direction so that the mask is formed to correspond to the portion where the pattern is to be formed on the original plate 230 for the liquid crystal display device.

현상기(270)는 노광장치(200)로부터 노광공정이 진행된 액정표시장치용 원판(230)에 대해 현상액을 사용하여 포토레지스트 패턴을 현상하게 된다. The developing unit 270 develops a photoresist pattern using a developer for the liquid crystal display original plate 230 in which the exposure process is performed from the exposure apparatus 200.

이하, 도 8 내지 도 10를 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 멀티 모델 액 정 패널 제작 설비를 이용하여 멀티 모델 액정 패널(240, 241)을 제작하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 using the multi-model liquid crystal panel manufacturing facility according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 to 10.

먼저, 도포기(260)를 사용하여 액정표시장치용 원판(230)에 포토 레지스트를 도포한다.(S200) 사용되는 포토레지스트는, 빛을 받은 부분이 현상되는 파지티브 타입과 빛은 받지 않은 부분이 현상되는 네거티브 타입 중 선택된 하나를 사용한다. First, the photoresist is applied to the disc 230 for the liquid crystal display device using the applicator 260. (S200) The photoresist used is a positive type in which a lighted part is developed and a part in which light is not received. This uses a selected one of the negative types being developed.

포토레지스트 도포 후에, 로봇을 사용하여, 도포기(260)에서 노광장치(200)로 액정표시장치용 원판(230)을 이동시킨다.(S210) 액정표시장치용 원판(230)은 노광장치(200)의 스테이지(220)에 놓여진다. After application of the photoresist, the robot 230 is moved from the applicator 260 to the exposure apparatus 200 (S210). The original substrate 230 for the liquid crystal display apparatus is an exposure apparatus 200. ) Is placed on the stage 220.

노광장치(200)의 스테이지(220)로 이동된 액정표시장치용 원판(230)은 노광장치(200)의 조명계(210)를 통해 노광된다.(S220, S230) 노광 공정은 제 1 액정 패널(240)과 제 2 액정 패널(241) 각각에 대응하는 제 1 조명계(210a)와 제 2 조명계(210b)를 사용하여 진행된다. The original display panel 230 for the liquid crystal display device moved to the stage 220 of the exposure apparatus 200 is exposed through the illumination system 210 of the exposure apparatus 200. (S220, S230) The exposure process is performed by the first liquid crystal panel ( The first illumination system 210a and the second illumination system 210b corresponding to each of the 240 and the second liquid crystal panel 241 are used.

먼저, 제 1 조명계(210a)를 사용하여 제 1 액정 패널(240)이 형성될 부분에 노광 공정을 진행한다.(S220) 제 1 조명계(210a)로 노광한 후에, 제 2 조명계(210b)를 사용하여 제 2 액정 패널(241)이 형성될 부분에 노광 공정을 진행한다.(S230)First, an exposure process is performed on a portion where the first liquid crystal panel 240 is to be formed using the first illumination system 210a. (S220) After exposing the first illumination system 210a, the second illumination system 210b is exposed. The exposure process is performed on the portion where the second liquid crystal panel 241 is to be formed.

위와 같은 노광 공정을 진행함에 있어, 제 1 조명계(210a)와 제 2 조명계(210b)는 각각에 대응하는 액정 패널(240, 241) 노광시에 조명계(210) 교체 작업이 진행되며, 스테이지(220)가 이동하여 정확한 위치 상태가 정렬된다. 조명계(210) 교체 작업은 제어회로를 통해 자동으로 이루어 질 수 있다. In the above exposure process, the first illumination system 210a and the second illumination system 210b are replaced with the illumination system 210 when the corresponding liquid crystal panels 240 and 241 are exposed, respectively, and the stage 220 is performed. ) Moves to align the exact position state. Replacement of the illumination system 210 may be automatically performed through a control circuit.

노광장치(200)로 노광 공정을 진행한 후에, 로봇(250)을 사용하여 노광장치(200)에서 현상기(270)로 액정표시장치용 원판(230)을 이동시켜 현상 공정을 진행한다.(S240, S250)After the exposure process is performed to the exposure apparatus 200, the development process is performed by moving the master plate 230 for the liquid crystal display device from the exposure apparatus 200 to the developing unit 270 using the robot 250. (S240) , S250)

현상 공정을 진행하게 되면, 노광장치(200)를 통해 노광된 액정표시장치용 원판(230)에서 제 1 액정 패널(240)과 제 2 액정 패널(241)이 형성될 부분 각각에 대응하여 포토레지스트 패턴이 형성된다. When the development process is performed, the photoresist corresponding to each of the portions where the first liquid crystal panel 240 and the second liquid crystal panel 241 are to be formed in the disc 230 for the liquid crystal display device exposed through the exposure apparatus 200 will be described. A pattern is formed.

현상 공정 후에, 식각 공정을 진행하고, 액정표시장치용 원판(230) 상에 형성된 포토레지스트 패턴을 제거하게 되면, 제 1 액정 패널(240)과 제 2 액정 패널(241)이 형성된다. After the developing process, the etching process is performed, and when the photoresist pattern formed on the liquid crystal display plate 230 is removed, the first liquid crystal panel 240 and the second liquid crystal panel 241 are formed.

전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 노광장치(200)는 멀티 모델 액정 패널(240, 241) 각각에 대응하는 조명계(210)를 장착함으로써, 동일한 노광장치(200) 내에서 서로 다른 크기의 액정 패널(240, 241)에 대한 노광 작업을 진행할 수 있게 된다.As described above, the exposure apparatus 200 according to the exemplary embodiment of the present invention mounts the illumination system 210 corresponding to each of the multi-model liquid crystal panels 240 and 241, thereby allowing different sizes in the same exposure apparatus 200. The exposure operation of the liquid crystal panels 240 and 241 can be performed.

따라서, 종래의 멀티 모델 액정 패널(240, 241) 제작시 액정 패널(240, 241)이 원하는 위치에 형성되지 않음으로써 공정상 액정 패널(240, 241) 불량이 발생하는 문제를 해결할 수 있게 된다. Therefore, when the conventional multi-model liquid crystal panels 240 and 241 are manufactured, the liquid crystal panels 240 and 241 may not be formed at desired positions, thereby making it possible to solve the problem of defects in the liquid crystal panels 240 and 241.

그리고, 하나의 노광장치(200)에 조명계(210)를 장착함으로써, 멀티 모델 액정 패널(240, 241) 제작시 필요한 노광장치(200)의 개수를 감소시킬 수 있어, 멀티 모델 액정 패널(240, 241) 생산에 따른 생산 설비를 감소시킬 수 있다.In addition, by attaching the illumination system 210 to one exposure apparatus 200, the number of exposure apparatuses 200 required for manufacturing the multi-model liquid crystal panels 240 and 241 may be reduced, and thus the multi-model liquid crystal panel 240 may be reduced. 241 Reduce production facilities due to production.

전술한 바와 같이, 본 발명은, 멀티 모델 액정 패널을 제작함에 있어, 각 액정 패널에 대응하는 조명계를 하나의 노광장치에 장참함으로써 액정 패널을 원하는 위치에 형성하여 멀티 모델 액정 패널을 용이하게 제작할 수 있고, 멀티 모델 액정 패널 생산시 필요한 노광장치 설비를 감소시킬 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the present invention, in manufacturing a multi-model liquid crystal panel, by filling the illumination system corresponding to each liquid crystal panel into one exposure apparatus, the liquid crystal panel can be formed at a desired position, thereby easily producing the multi-model liquid crystal panel. In addition, there is an effect that can reduce the exposure apparatus equipment required for producing a multi-model liquid crystal panel.

Claims (6)

액정표시장치용 원판에 포토레지스트를 도포하는 도포기 그리고 상기 원판을 현상하는 현상기 사이로 위치되어, 상기 원판에 서로 다른 크기의 제 1 및 제 2 액정패널을 위한 포토레지스트패턴을 형성하는 노광장치로서,An exposure apparatus positioned between an applicator for applying a photoresist to an original plate for a liquid crystal display device and a developing device for developing the original plate, wherein the exposure device forms photoresist patterns for the first and second liquid crystal panels having different sizes on the original plate. 상기 원판이 안착되며 수평이동 가능한 하나의 스테이지와;A stage on which the disc is seated and capable of horizontal movement; 상기 제 1 및 제 2 액정패널 각각에 대응하여 노광공정을 진행하는 제 1 및 제 2 조명계를 포함하고,First and second illumination systems for performing an exposure process corresponding to each of the first and second liquid crystal panel, 상기 제 1 및 제 2 조명계는 각각,The first and second illumination system, respectively 상기 제 1 및 제 2 액정패널 각각에 대응되도록 상기 원판에 빛을 조사하는 제 1 및 제 2 광원시스템과;First and second light source systems for irradiating light onto the disc so as to correspond to the first and second liquid crystal panels, respectively; 상기 제 1 및 제 2 광원시스템과 상기 원판 사이로 고정되고, 상기 제 1 및 제 2 액정패널을 위한 패턴이 각각 형성된 제 1 및 제 2 마스크First and second masks fixed between the first and second light source systems and the disc, and having patterns for the first and second liquid crystal panels respectively formed; 를 포함하는 액정표시장치용 노광장치.Exposure apparatus for a liquid crystal display device comprising a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 및 제 2 조명계는 각각,The first and second illumination system, respectively 상기 제 1 및 제 2 액정패널에 각각 대응되도록 상기 제 1 및 제 2 마스크와 상기 원판 사이로 각각 위치된 미러시스템A mirror system positioned between the first and second masks and the disc to respectively correspond to the first and second liquid crystal panels 을 더욱 포함하는 액정표시장치용 노광장치.Exposure apparatus for a liquid crystal display device further comprising. 삭제delete 포토레지스트가 도포된 액정표시장치용 원판에 서로 다른 크기의 제 1 및 제 2 액정패널을 위한 포토레지스트패턴을 형성하는 노광장치로서, 상기 원판이 안착되며 수평이동 가능한 하나의 스테이지와; 상기 제 1 및 제 2 액정패널 각각에 대응하여 노광공정을 진행하는 제 1 및 제 2 조명계를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 조명계는 각각 상기 1 및 제 2 액정패널 각각에 대응되도록 상기 원판으로 빛을 조사하는 제 1 및 제 2 광원시스템과; 상기 제 1 및 제 2 광원시스템과 상기 원판 사이로 고정되고 상기 제 1 및 제 2 액정패널을 위한 패턴이 각각 형성된 제 1 및 제 2 마스크를 포함하는 액정표시장치용 노광장치를 사용한 액정표시장치용 노광방법으로서,An exposure apparatus for forming photoresist patterns for first and second liquid crystal panels having different sizes on a photoresist coated original liquid crystal display device, comprising: a stage on which the original plate is seated and which can be horizontally moved; And first and second illumination systems for performing an exposure process corresponding to each of the first and second liquid crystal panels, wherein the first and second illumination systems respectively correspond to the first and second liquid crystal panels, respectively. First and second light source systems for irradiating light; Exposure for a liquid crystal display device using an exposure apparatus for a liquid crystal display device comprising first and second masks fixed between the first and second light source systems and the disc and having patterns for the first and second liquid crystal panels respectively. As a method, 상기 스테이지에 상기 원판이 놓여지는 단계와;Placing the disc on the stage; 상기 제 1 조명계의 상기 제 1 광원시스템과 상기 제 1 마스크를 통해 상기 원판에 상기 제 1 액정패널을 위한 포토레지스트패턴이 형성되는 단계와;Forming a photoresist pattern for the first liquid crystal panel on the original plate through the first light source system and the first mask of the first illumination system; 상기 스테이지가 이동하는 단계와;Moving the stage; 상기 제 2 조명계의 상기 제 1 광원시스템과 상기 제 2 마스크를 통해 상기 원판에 상기 제 2 액정패널을 위한 포토레지스트패턴이 형성되는 단계Forming a photoresist pattern for the second liquid crystal panel on the original plate through the first light source system and the second mask of the second illumination system; 를 포함하는 액정표시장치 노광방법.Liquid crystal display device exposure method comprising a. 삭제delete 삭제delete
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