KR100417080B1 - 패턴 스페이서용 감광성 수지 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
구분 | 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 실시예 6 | 실시예 7 | 실시예 8 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 | 비교예 4 |
220 ℃ 열처리 후의 두게 감소율(%) | 89 | 92 | 92 | 93 | 90 | 92 | 90 | 92 | 80 | 83 | - | 75 |
modulus(GPa) | 7.2 | 7.4 | 7.3 | 7.7 | 7.3 | 7.5 | 7.2 | 7.6 | 5.4 | 5.8 | - | 5.1 |
절연상수 | 3.6 | 큰변화 없음 | 큰변화 없음 | 큰변화 없음 | 3.6 | 3.7 | 3.7 | 큰변화 없음 | 3.8 | 3.8 | - | 큰변화 없음 |
Claims (12)
- 감광성 수지 조성물에 있어서,a) 반응성 매트릭스 수지;b) 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 아크릴 모노머;c) 광중합 개시제;d) 용매; 및e) 하기의 화학식 1로 표시되는 2 개 이상의 에폭시기를 포함하는 다기능성 에폭시 모노머를 포함하는 감광성 수지 조성물:[화학식 1]상기 식에서,n, 및 m은 각각 0 내지 4의 정수이고, n, m은 동시에 0이 될 수 없으며, n이 0이면 m은 2 내지 4의 정수이고, m이 0이면 n은 2 내지 4의 정수이고;R은 탄소수 1∼15의 알킬기, 또는 아릴기, 에스테르 결합을 갖는 탄소수 2∼15의 알킬에스테르, 아릴에스테르, 또는 에테르 화합물, 1 이상의 설파이드 결합을 포함하는 탄소수 2∼15의 화합물, 탄소수 3∼15의 알킬 삼차 아민, 또는 아릴 삼차 아민이고;A는 하기의 화학식 1-A로 표시되는 화합물이며;[화학식 1-A]B는 하기의 화학식 1-B으로 표시되는 화합물이며;[화학식 1-B]상기 화학식 1-B에서,R'은 탄소수 3∼6 개의 시클로 알칸 화합물, 또는 시클로 알칸 에테르이다.
- 제 1 항에 있어서,a) 반응성 매트릭스 수지 5 내지 40 중량%;b) 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 아크릴 모노머 5 내지 60 중량%;c) 광중합 개시제 0.05 내지 20 중량%;d) 용매 5 내지 40 중량%; 및e) 상기의 화학식 1로 표시되는 2 개 이상의 에폭시기를 포함하는 다기능성 에폭시 모노머 0.05 내지 15 중량%를 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1 항에 있어서,상기 a)의 반응성 매트릭스 수지가 카르본산을 함유하는 공중합체로 하기의 화학식 2로 표시되는 화합물인 감광성 수지 조성물:[화학식 2]- A - B - C -상기 화학식에서, A는 하기 화학식 2-A로 표현되는 화합물이고,[화학식 2-A]B는 하기 화학식 2-B로 표시되는 화합물이고,[화학식 2-B]C는 하기 화학식 2-C 또는 2-C’으로 표시되는 화합물이고,[화학식 2-C][화학식 2-c’]상기 식에서,R1는 H 또는 -CH3이며,R2는 탄소 원자수가 1∼8인 알킬기, 하이드록시기가 치환된 알킬기 또는 치환되었거나 치환되지 않는 탄소 원자수 1∼12의 아릴(aryl)기이며,R3는 벤젠 또는 탄소 원자수 1∼8의 알킬기, 탄소 원자수 1∼8의 알콕시기, 탄소 원자수 1∼6의 알킬 치환기를 갖는 벤젠, 탄소 원자수 1∼8의 치환기를 갖는 벤젠, 수산화기 또는 할로겐이 치환된 벤젠이다.
- 제 1 항에 있어서,상기 b)의 2 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 아크릴 모노머가 트리메틸올 프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타메타아크릴레이트, 디펜타이레스리톨 헥사메타아크릴레이트, 솔비톨 트리아크릴레이트, 및 솔비톨 테트라아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 감광성 수지 조성물.
- 제 1 항에 있어서,상기 c)의 광중합 개시제가 벤조페논, 비스-4,4'-디메틸아미노벤조페논, 비스-4,4'-디에틸벤조페논, 1-히드록시시클로헥실 페닐키톤, 2-2-디메톡시2-페닐 아세토페논, 3-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포릴리노페닐-부탄-1- 온), 2-메틸-1-(4-(메틸리오)페닐)-2-(4-몰포리닐)-1-프로판올, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-부톡시스티릴-5-트리클로로메틸-1,3,4-옥사디아졸, 및 2-나프틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,4-옥사디아졸으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 감광성 수지 조성물.
- 제 1 항에 있어서,상기 d)의 용매가 메틸에틸키톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸키톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 디메틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸메틸아세테이트, 클로로포름, 메틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 및 부틸아세테이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 감광성 수지 조성물.
- 제 1 항에 있어서,상기 e)의 화학식 1로 표시되는 2 개 이상의 에폭시기를 포함하는 다기능성 에폭시 모노머가 펜타디엔 디에폭시드, 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 트리메틸올 에탄 트리글리시딜 에테르, 1,2,7,8-디에폭시옥탄, 씨넨 다이옥사이드, 비스(3-글리시디옥시)테트라메틸다이실옥산, 2,3-에폭시프로필-4-(2,3-에폭시프로폭시)벤조에이트, 및 1,4-비스(2',3'-에폭시프로필)옥타플루오로-N-부탄, 비스[4-(2,3-에폭시-프로필다이오)페닐]-설파이드로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 감광성 수지 조성물.
- 감광성 패턴 스페이서 박막의 제조방법에 있어서,a) 제 1 항 기재의 감광성 수지 조성물을 유리기판에 코팅하는 단계;b) 상기 a) 단계의 박막을 50∼150 ℃의 온도에서 20 초 내지 10 분 동안 전처리하는 단계;c) 상기 b) 단계의 박막을 포토마스크를 사용하여 패턴을 형성하는 단계;d) 상기 c) 단계의 박막을 알칼리 현상액으로 스프레이, 또는 퍼들링하는 단계; 및e) 상기 d) 단계의 박막을 200∼300 ℃의 온도에서 30 분 내지 2 시간 동안 후처리하는 단계를 포함하는 박막의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 a) 단계의 코팅은 스핀 코팅, 또는 롤 코팅을 사용하는 박막의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 c) 단계에서 사용할 수 있는 자외선 광원이 g(436 nm), h(405 nm), i(365nm) 선을 포함하는 200 W 수은/제논 램프인 박막의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 c) 단계의 노광량이 50 mJ/㎠ 내지 500 mJ/㎠인 박막의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 d) 단계의 알칼리 현상액의 산도가 10.0∼12.0인 박막의 제조방법.
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