KR100402709B1 - (벤조)트리아졸라디칼과의화합물 - Google Patents

(벤조)트리아졸라디칼과의화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR100402709B1
KR100402709B1 KR1019960010677A KR19960010677A KR100402709B1 KR 100402709 B1 KR100402709 B1 KR 100402709B1 KR 1019960010677 A KR1019960010677 A KR 1019960010677A KR 19960010677 A KR19960010677 A KR 19960010677A KR 100402709 B1 KR100402709 B1 KR 100402709B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compounds
butyl
mixture
alkyl
hydrogen
Prior art date
Application number
KR1019960010677A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960037678A (ko
Inventor
울프 쟝-피에르
Original Assignee
시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. filed Critical 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Publication of KR960037678A publication Critical patent/KR960037678A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100402709B1 publication Critical patent/KR100402709B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/56—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D249/18—Benzotriazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/30—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing heterocyclic ring with at least one nitrogen atom as ring member
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M133/00—Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing nitrogen
    • C10M133/02—Lubricating compositions characterised by the additive being an organic non-macromolecular compound containing nitrogen having a carbon chain of less than 30 atoms
    • C10M133/38—Heterocyclic nitrogen compounds
    • C10M133/44—Five-membered ring containing nitrogen and carbon only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
    • C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2215/22—Heterocyclic nitrogen compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2215/22—Heterocyclic nitrogen compounds
    • C10M2215/221—Six-membered rings containing nitrogen and carbon only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2215/22—Heterocyclic nitrogen compounds
    • C10M2215/225—Heterocyclic nitrogen compounds the rings containing both nitrogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2215/22—Heterocyclic nitrogen compounds
    • C10M2215/225—Heterocyclic nitrogen compounds the rings containing both nitrogen and oxygen
    • C10M2215/226—Morpholines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00—Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2215/30—Heterocyclic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/30—Refrigerators lubricants or compressors lubricants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/32—Wires, ropes or cables lubricants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/34—Lubricating-sealants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/36—Release agents or mold release agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/38—Conveyors or chain belts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/40—Generators or electric motors in oil or gas winning field
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/42—Flashing oils or marking oils
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/44—Super vacuum or supercritical use
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/50—Medical uses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

하기 일반식(I)의 화합물, 및 이의 혼합물을 설명한다:
상기식에서,
Y 및 Z는 각각 독립적으로 일반식
R 및 R1은 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C5-C8시클로알킬, C1-C4알킬로 치환된 C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C1-C4알킬로 치환된 페닐이며,
라디칼 또는 (CnH2nO)mCnH2n(n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 20임)이고, R3은수소 또는 C1-C4알킬이며,R4은 수소 또는 메틸이다.
상기 화합물/혼합물은 윤활제에서 금속 불활성화제로 사용하기에 특히 적합하다.

Description

(벤조) 트리아졸 라디칼과의 화합물
본 발명은 금속 불활성화제 및 부식 억제제로서 특히 적합하고 트리아졸 및/또는 벤조트리아졸기를 갖는 신규한 화합물; 이들 화합물의 혼합물; 이들 화합물 또는 이의 혼합물을 포함하는 조성물; 및 그 제조방법과 용도에 관한 것이다.
구리 이온은 유기 물질에서의 과산화물 라디칼의 생성 및 자체산화를 촉진시키는 것이 공지되어 있다. 또한, 이것은 윤활제의 산화 분해에도 적용된다(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A3. p.104). 일반적으로 산화방지제와 함께 벤조트리아졸 또는 벤조트리아졸 유도체를 첨가하여 구리에 의한 윤활제의 분해를 현저히 느리게 할 수 있다.
공업에서 통상적으로 사용되는 화합물의 예는 다음과 같은 형태의 화합물이다:
상기식에서,
R1은 수소이고, R2및 R3은 2-에틸헥실 또는 히드록시에틸이며, R4은 수소 또는 메틸이다(참조: 미합중국특허 4,683,071호 및 동 4,701,273호).
미합중국특허 제 5,076,948호는 알콕시기를 갖는 N-트리아졸 화합물을 설명한다. 알콕시기를 갖는 N-벤조트리아졸 화합물은 미합중국특허 4,153,565호 및 동 5,032,300호로부터 공지되어 있다.
카트리츠키(Katritzky) 일행은 질소를 통해 결합된 2개의 벤조트리아졸 라디칼을 포함하는 화합물을 설명한다[A.R.Katritzky 일행, J.Chem Soc. Perkin Trans. 1987, 791: 1990, 1717: J.Heterocyclic Chem. 27, 1543(1990)].
금속-불활성 및/또는 부식-방지특성을 갖는 활성물질이 계속 요구되어 왔다.
하기에 더욱 자세히 설명될 2개의 (벤조)트리아졸 라디칼을 포함하는 화합물은 우수한 금속-불할성 및 부식-방지 특성을 가짐이 알려졌다.
즉, 본 발명은 하기 일반식(I)의 화합물 및 이들 화합물의 혼합물을 제공한다:
상기식에서,
Y 및 Z는 각각 독립적으로 일반식
R 및 R1은 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C5-C8시클로알킬, C1-C4알킬로 치환된 C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C1-C4알킬로 치환된 페닐이며,
R2은 C2-C20알킬렌, C5-C8시클로알킬렌, 일반식
라디칼 또는 (CnH2nO)mCnH2n(n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 20임)이고, R3은 수소 또는 C1-C4알킬이며,R4은 수소 또는 메틸이다.
특히, 본 발명은 라디칼 Y 및 Z가 다른 일반식(I)의 화합물과 라디칼 Y 및 Z가 동일한 일반식(I)의 화합물의 혼합물에 관한 것이다.
일반식(I)의 유용한 화합물 또는 혼합물은 하기의 것이다:
R 및 R1은 수소, C1-C9알킬 또는 메틸이며,
R2은 C2-C15알킬렌, C5-C8시클로알킬렌, 일반식
라디칼 또는 -(CnH2nO)mCnH2n-(n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 10임)이고, R3은 수소 또는 메틸이다.
일반식(I)의 화합물에서. 바람직하게는 R 및 R1은 동일하다.
또한, 하기의 일반식(I)의 화합물이 바람직하다:
R 및 R1이 수소 또는 C1-C6알킬이고,
R2은 C2-C12알킬렌, 시클로알킬렌, 일반식
라디칼 또는 -(CnH2nO)mCnH2n-(n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 10임)이며, R3은 수소 또는 메틸이다.
하기의 화합물이 특히 바람직하다:
R 및 R1이 수소 또는 C1-C6알킬이고,
R2은 C2-C8알킬렌 또는 시클로헥실렌 또는 일반식
C1-C12알킬 라디칼은 직쇄 또는 측쇄이며, 탄소원자수에 따라 예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 2-에틸부틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헥실, 이소헵틸, 1-메틸헵틸, 1,1,3-트리메틸헥실 또는 1-메틸운데실이다.
알킬인 R3은 바람직하게는 1 내지 4의 탄소원자를 가지며, 특히 메틸이다.
C5-C8시클로알킬은 예컨대, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로옥틸이며; 탄소수 5 내지 6의 시클로알킬 라디칼이 바람직하며, 특히 시클로헥실이다.
C5-C8시클로알킬렌은 예컨대 시클로헥실렌, 시클로펜틸렌 또는 시클로옥틸렌이다. 바람직하게는 시클로헥실렌이다.
C1-C4알킬 치환된 페닐은 바람직하게는 메틸 또는 에틸로 치환되고, 특히 메시틸, 크실릴 또는 톨릴이다.
또한, 본 발명은 일반식(I)의 화합물과 그의 혼합물의 하기와 같은 제조방법을 제공한다:
(i) 알데히드 R1CHO 또는 RCHO 또는 이들 알데히드의 혼합물 및 디올 HO-R2-OH(R,R1,R2및 R3은 초기에 정의한 바와 같음)과 반응시키거나, 또는
(ii) R1및 R이 메틸이고, R2및 R3이 초기 정의된 바와 같을 경우, 일반식 H2C=CH-O-R2-O-CH=CH2의 디비닐 에테르화 반응시킨다.
본 명세서에서, 일반식(IV)와 (V)의 화합물의 혼합물이 반응의 개시에 사용되는한, 이들 화합물의 요망되는 모든 혼합물을 사용할 수 있다. 이같은 혼합물에서, IV:V의 몰비는 바람직하게는 1:99 내지 99:1이고, 특히 1:9 내지 9:1이며, 가장 바람직하게는 1:4 내지 4:1이다.
또한, 본 발명은 상기의 방법으로 수득되는 생성물 또는 생성물 혼합물을 더 제공한다.
일반식(I)의 다양한 화합물의 혼합물에서 각 종은 순수한 미혼합 개시 물질을 순수한 형태로 사용하여(하기 실시예 2,6,13 참조) 수득되거나, 종래의 물리적 분리법 예컨대, 크로마토그래피에 의해 혼합물로 부터 분리될 수 있다.
일반식(I)의 화합물 및 이의 혼합물의 제조를 위해, 트리아졸
을 요망하는 비율로 사용할 수 있으므로, 본 발명에 따른 혼합물의 조성물은 개시 물질(IV) 및 (V)이 사용되는 비율에 좌우된다. 제조를 위해 가능한 반응에서 벤조트리아졸 유도체 및 트리아졸의 반응성은 본질적으로 동일하다. 즉, 반응은 같거나 다른 라디칼 Y 및 Z를 갖는 일반식(I)의 화합물의 혼합물을 생성하고, 조성물은 반응물의 농도에 실질적으로 좌우되고 반응 생성물의 본질적인 통계 분포를 가진다.
벤조트리아졸이 메조메릭(mesomeric) 공명 구조로 존재하므로 일반식(II)
에서 자유 결합의 비특정 위치는 각 경우에, 벤조트리아졸의 1 또는 2위치에서 치환될 수 있음을 나타낸다.
일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 적합한 방법의 예는 하기 설명될 두가지 방법이고 실시예에서 상세히 설명된다. 이 방법은 유기 화학 분야에서 잘 알려져있다(A.R.Katritzky일행., J.Chem Soc.Perkin Trans. 1987, 791; 1990, 1717; J.Heterocyclic, Chem.27, 1543(1990); J.Chem.Soc.Perkin Trans. 1989,639 참조). 벤조트리아졸 및/또는 트리아졸은 예컨대, 촉매 산-p-톨루엔 술폰산과 함께 알데히드 동몰량과 일반식 HO-R2-OH의 디올 1/2 몰량과 반응될 수 있다. 대신, (벤조)트리아졸은 산촉매하에서 유리하게 일반식 H2C=CH-O-R2-O-CH=CH2(VI)의 디비닐 에테르1/2 몰량과 직접 반응될 수 있다. 이경우, R 및 R1이 메틸인 일반식(I)의 화합물이 수득된다(하기 도식 참조).
반응은 예컨대, 하기 도식에 따라 행해진다:
상기 도식에서, 라디칼 Y,Z,R 및 R1내지 R3은 처음에 정의된 바와 같고, a 및 b는 0 내지 2이고, a와 b의 합은 2이다.
축합은 파라-톨루엔술폰산과 같은 산에 의해 촉매와 함께 비극성 유기용매에서 일어나는 것이 유용하다.
또한, 화합물은 알코올 또는 알코올/물 혼합물, 예컨대 에탄올, 메탄올 또는 이들과 물의 혼합물에서 제조될 수 있다. 또한, 이같은 조건에서 산촉매를 생략할수 있다.
상술한 바와 같이, 생성물은 벤조트리아졸 시스템(1- 또는 2-벤조트리아졸릴 화합물)의 1 또는 2위치에서 치환될 수 있다. 이성질체의 분리는 필요하지 않으나, 종래의 방법, 예컨대 크로마토그래피에 의해 분리할 수 있다. 실행시에는 반응으로 부터 직접 수득되는 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.
사용된 개시물질은 상업적으로 시판되는 물질이거나 공지의 방법으로 제조될 수 있다. 메틸벤조트리아졸을 사용할 때, 4- 및 5-메틸벤조트리아졸의 혼합물을 사용하는 것이 바람직함이 언급될만한다.
본 발명에 따른 화합물은 유기물질, 특히 금속과 접촉하거나 금속이온을 불순물로 포함하는 물질용 산화 방지제 및 금속 불활성화제로서 현저히 적합하다. 윤활제로서 현저한 내마모 활성이 있다. 즉, 본 발명은 a1) 윤활제, 금속작용 유체 또는 수성 유체 또는 a2) 코팅 조성물, 특히 페인트 또는 니스, 및 b) 일반식(I)의 화합물 1이상을 포함하는 조성물을 제공하고, 본 명세서에서 일반식(I)의 화합물 및 상기의 바람직한 이들의 혼합물로 바람직한 조성물이 제조된다.
일반식(I)의 화합물은 특히 구리 이온을 결합시키고 이들을 불활성화시켜 산화 및 분해 공정을 막는다. 즉, 본 발명은 윤활제, 수성 유체, 금속작용 유체 및 코팅 조성물에서 첨가제로서, 특히 금속 불활성화제 및 부식 억제제로서 일반식(I)의 화합물의 용도를 제공한다.
관계된 윤활제, 금속작용 유체 및 수성 유체는 예컨대 광유, 합성유 또는 이들의 혼합물을 기제로 한다. 윤활제는 본 분야의 숙련자에게 공지되어 있고, 관련기술문헌, 예컨대 「Dieter Klamann, "Schmierstoffe und verwandte Produkte"[윤활제 및 관련 생성물](Verlag Chemie, Weinheim, 1982)」, 「Schewe-kohek, "Das Schmiermittel-Taschenbuch"[윤활제 핸드북](Dr.Alfred Huthig-Verlag, Heidelberg, 1974)」, 및 「"Ullmannsder technischen Chemie"[올만의 공업화학 백과사전], Vol. 13, pages 85-94(Verlag Chemie. Weinheim. 1977)」에 기재되어 있다.
윤활제는 특히, 광유를 기제로한 오일 및 지방이다. 오일이 바람직하다.
사용가능한 다른 윤활제 군은 식물성유 또는 동물성유, 지방, 수지 및 왁스 또는 이들 서로 간의 혼합물, 또는 상술한 광유 또는 합성유와의 혼합물이다. 식물성 및 동물성유, 지방, 수지 및 왁스의 예는 야자배유, 야자유, 올리브유, 유채유, 평지씨유, 아마인유, 땅콩유, 두유, 목화씨유, 해바라기유, 호박씨유, 코코넛유, 옥수수유, 피마자유, 호두유 및 이의 혼합물, 어유, 도살육으로부터의 수지, 예컨대 소고기 수지, 측우의 발 및 뼈유, 및 상기 오일의 개질화, 에폭시화 및 술폭시드화된 형태, 예컨대 에폭시화된 두유이다.
광유는 특히 탄화수소 화합물을 기제로한다.
합성 윤활제의 예는 지방족 또는 방향족 카르복시 에스테르, 중합성 에스테르, 폴리알킬렌 옥시드, 포스포릭 에스테르, 폴리-α-올레핀 또는 실리콘, 일가 알코올과 이염기산의 디에스테르(예컨대 디옥틸 세바케이트 또는 디노닐 아디페이트), 트리메틸올프로판과 단염기산 또는 이들 산의 혼합물의 트리에스테르(예컨대 트리메틸올프로판 트리펠아르고네이트, 트리메틸올 프로판 트리카프릴에이트 또는 이들의 혼합물), 펜타에리트리트와 단염기산 또는 이들 산의 혼합물과의 테트라에스테르(예컨대 펜타에리트리트 테트라카프릴에이트), 또는 단염기 및 이염기산과 다가 알코올의 복합 에스테르(예컨대 트리메틸올프로판과 카프릴산 및 세바크산의 복합 에스테르 또는 이들의 혼합물의 복합 에스테르)를 기제로한 윤활제를 포함한다. 광유 이외에 특히 적합한 윤활제는 예컨대 폴리-α-올레핀, 에스테르-기제의 윤활제, 포스페이트, 글리콜, 폴리글리콜 및 폴리알킬렌 글리콜, 및 이들과 물의 혼합물이다.
금속작용 유체 및 수성 유제는 윤활제용으로 상술된 것과 동일한 물질을 기제로 제조될 수 있다. 또한, 물 또는 다른 액체에의 상기 물질의 유제를 포함한다.
본 발명에 따른 윤활제 조성물은 예컨대, 오토(Otto) 스파크-점화, 디젤, 2행정식, 완켈(Wankel) 또는 오비탈식의 엔진을 구비한 자동차량에서의 연소엔진에서 사용된다.
일반식(I)의 화합물은 윤활제, 금속작용 유체 및 수성 유체에서 쉽게 용해될 수 있어서, 첨가제로서 윤활제, 금속작용 유체 및 수성 유체에 특히 적합하다.
일반식(I)의 화합물 및/또는 이의 혼합물은 공지의 방법으로 윤활제에 혼합될 수 있다. 화합물은 예컨대, 오일에서 쉽게 용해된다. 또한, 용도에 따라 적합한 윤활제와 함께 적용되는 농도 수준으로 희석될 수 있는 소위 주뱃치를 제조할 수 있다. 이같은 경우, 10 중량% 이상의 농도가 또한 가능한다.
상술한 발명에 따른 화합물은 윤활제, 금속작용 유체 또는 수성 유체의 조성물을 기준으로 예컨대 0.01 내지 10 중량%, 유리하게는 0.01 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 3중량%, 특히 바람직하게는 0.01 내지 1.5 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 화합물 이외에, 윤활제, 금속작용 유체 및 수성 유체는 다른 종례의 첨가제, 예컨대 다른 산화방지제, 금속 불활성화제, 녹억제제, 점도증진제, 유동점 억제제, 분산제/계면활성제, 및 초고압 및 내마모성 첨가제를 포함할 수 있다. 이들 예는 다음과 같다:
페놀성 산화방지제의 예
1. 알킬화 모노페놀, 예를들어 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-t-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-t-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-운데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-헵타데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)-페놀 및 이들의 혼합물.
2. 알킬티오메틸페놀. 예를들어 2,4-디-옥틸티오메틸-6-t-부틸페놀, 2,4-디-옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예를들어 2,6-디-t-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)아디페이트.
4. 토코페롤. 예를 들어 α-토코페놀, β-토코페놀, r-토코페놀, δ-토코페놀 및 이들의 혼합물 (비타민E)
5. 히드록시화 티오디페닐 에테르. 예를들어 2,2'-티오비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-2차-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.6. 알킬리덴 비스페놀, 예를들어 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-t-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-t-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸-페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-t-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를들어 3,5,3',5'-테트라-t-부틸-4,4'-디히드록시-디벤질 에테르. 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질머캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 머캅토아세테이트.
8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 디-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예를들어 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
10. 트리아진 화합물, 예를들어 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
11. 벤질 포스포네이트, 예를들어 디메틸-2,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질 포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질-포스폰산 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
12. 아실아미노페놀. 예를들어 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
13. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 에스테르, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸엔 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
14. 1가 또는 다가 알코올과 β-(5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)-프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로-[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
15. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)-프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시매틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
16. 1가 또는 다가 알코올과 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세트산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
17. β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 아미드, 예를들어 N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
아민형 산화방지제의 예,
N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-2차-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'- 디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술폰아미도)-디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예컨대, p,p'-디-t-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노난오일아미노-페놀, 4-도데칸오일아미노페놀, 4-옥타데칸오일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-t-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디-아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디-아미노디페닐메탄, 1,2-디[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 디[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, t-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디알킬화 t-부틸/t-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 t-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디-히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리드-4-일)-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
다른 산화방지제의 예는 다음과 같다:
지방족 또는 방향족 포스파이트, 티오디프로피온산 또는 티오디아세트산의 에스테르, 또는 디티오카르밤산 또는 디티오포스포르산의 염, 2,2,12,12-테트라메틸-5,9-디히드록시-3,7,11-트리티아트리데칸 및 2,2,15,15-테트라메틸-5,12-디히드록시-3,7,10,14-테트라티아헥사데칸.
예컨대, 구리용 금속 불활성화제의 예는 다음과 같다:
a) 벤조트리아졸 및 이의 유도체, 예를들어 4- 또는 5-알킬벤조트리아졸(예컨대, 톨루트리아졸), 및 이의 유도체, 4,5,6,7-테트라히드로벤조트리아졸, 5,5'-메틸렌비스벤조트리아졸; 1-[디(2-에틸헥실)아미노 메틸]톨루트리아졸 및 1-[디(2-에틸헥실)아미노메틸)벤조트리아졸과 같은 벤조트리아졸 또는 톨루트리아졸의 만니흐(Mannich)염기; 1-(노닐옥시메틸)벤조트리아졸, 1-(1-부톡시에틸)벤조트리아졸 및 1-(1-시클로헥실옥시부틸)톨루트리아졸과 같은 알콕시알킬 벤조트리아졸.
b) 1,2,4-트리아졸 및 이들의 유도체, 예컨대 3-알킬(또는 아릴)-1,2,4-트리아졸, 1-[디(2-에틸헥실)아미노 메틸]-1,2,4-트리아졸과 같은 1,2,4-트리아졸의 만니흐 염기; 1-(1-부톡시에틸)-1,2,4-트리아졸과 같은 알콕시알킬-1,2,4-트리아졸; 아실화 3-아미노-1,2,4-트리아졸.
c) 아미다졸 유도체, 예컨대 4,4'-메틸렌비스(2-운데실)-5-메틸이미다졸, 비스[(N-메틸)이미다졸-2-일]카르비놀 옥틸 에테르.
d) 황-함유 이형고리 화합물, 예컨대 2-머캅토벤조티아졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸 및 이의 유도체; 3,5-비스[디(2-에틸헥실)아미노-메틸]-1,3,4-티아디아졸린-2-온.
e) 아미노 화합물, 예컨대 살리실리덴프로필렌디아민, 살리실아미노구아니딘 및 이의 염.
녹 억제제의 예는 다음과 같다:
a) 유기산, 이의 에스테르, 금속염, 아민염 및 무수물, 예컨대 알킬- 및 알켄일숙신산 및 알코올, 디올 또는 히드록시카르복시산과 이들의 부분 에스테르; 도데실옥시아세트산, 도데실옥시(에톡시)아세트산 및 이의 아민염과 같은 알킬- 및 알켄일숙신산, 4-노닐페녹시아세트산, 알콕시 및 알콕시에톡시카르복시산의 부분 아미드; 및 N-올레오일사르코신, 소르비톨 모노올레에이트, 납 나프텐에이트, 알켄일숙신산 무수물, 예컨대 도데센일숙신산 무수물, 2-카르복시메틸-1-도데실-3-메틸글리세롤 및 이의 아민염.
b) 질소-함유 화합물, 예컨대:
I. 1차, 2차 또는 3차 지방족 또는 지환족 아민 및 유기와 무기산의 아민염,예컨대 지용성 알킬 암모늄 카르복실에이트, 및 1-[N,N-비스(2-히드록시에틸)아미노]-3-(4-노닐페녹시)프로판-2-올.
II. 이형고리 화합물, 예컨대:
치환된 이미다졸 및 옥사졸린, 2-헵타데센일-1-(2-히드록시에틸)이미다졸린.
c) 인-함유 화합물, 예컨대:
포스포르 부분 에스테르 또는 포스폰 부분 에스테르의 아민염, 아연 디알킬디티오포스페이트.
d) 황-함유 화합물, 예컨대:
바륨 디노닐나프탈렌술폰에이트, 칼슘 석유술폰에이트, 알킬티오로 치환된 지방족 카르복시산, 지방족 2-술포카르복시산의 에스테르 및 이의 염.
e) 글리세롤 유도체, 예컨대:
글리세롤 모노올레에이트, 1-(알킬페녹시)-3-(2-히드록시에틸)글리세롤, 1-(알킬페녹시)-3-(2,3-디히드록시프로필)글리세롤, 2-카르복시알킬-1,3-디알킬글리세롤.
점도 증진제의 예는 다음과 같다:
폴리아크릴에이트, 폴리메타크릴에이트, 비닐피롤리돈-메타크릴에이트 공중합체, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리부텐, 올레핀 공중합체, 스티렌-아크릴에이트 공중합체, 폴리에테르.
유동점 억제제의 예는 다음과 같다:
폴리메타크릴에이트, 알킬화 나프탈렌 유도체.
분산제/계면활성제의 예는 다음과 같다:
폴리부텐일 숙신아미드 또는 -이미드, 폴리부텐일 포스폰산 유도체, 염기성 마그네슘, 칼슘 및 바륨 술폰에이트 및 페놀에이트.
내마모 첨가제의 예는 다음과 같다:
황 및/또는 인 및/또는 할로겐을 포함하는 화합물, 예컨대 황화 올레핀 및 식물성유, 아연 디알킬디티오포스페이트, 알킬화 트리페닐포스페이트, 트리톨릴 포스페이트, 트리크레실 포스페이트, 염화 파라핀, 알킬 및 아릴 디- 및 트리-술피드, 모노- 및 디알킬 포스페이트의 아민염, 메틸 포스폰산의 아민염, 디에탄올아미노메틸톨릴트리아졸, 디(2-에틸헥실)아미노메틸톨릴트리아졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸의 유도체, 에틸 3-[(비스-이소프로필옥시-포스핀오티오일)티오]-프로피온에이트, 트리페닐티오포스페이트(트리페닐포스포로티오에이트), 트리스(알킬 페닐)포스포로티오에이트 및 이의 혼합물(예컨대, 트리스(이소노닐 페닐)포스포로티오에이트), 디페닐모노노닐페닐 포스포로티오에이트, 이소부틸페닐디페닐 포스포로티오에이트; 3-히드록시-1,3-티아포스페탄-3-옥시드, 트리티오포스폰산 5,5,5-트리스[2-이소옥틸아세테이트]의 도데실아민염, 2-머캅코벤즈티아졸의 유도체, 예컨대 1-[N,N-비스(2-에틸헥실)아미노메틸]-2-머캅토-1H-1,3-벤즈티아졸, 5-에톡시 카르보닐옥틸 디티오 카르밤에이트.
본 발명에 따른 화합물은 특히 페놀성 및/또는 아민형 산화방지제와 함께 사용될때 특히 효과적이다.
코팅 조성물은 일반적으로 착색 성분과 함께 또는 착색 성분 없이 결합제 및첨가제를 포함한다.
적합한 결합제는 주로 본 분야에서 통상 사용되는 모든 결합제로, 예컨대 「Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th.ed.,Vol.A18, pp.368-426, VCH, Weinheim 1991」에 설명된 결합제이다. 일반적으로, 결합제는 열가소성 또는 열경화성 수지, 주로 열경화성 수지를 기재로한 막-형성 결합제이다. 이들의 예는 알키드, 아크릴, 폴리에스테르, 페놀, 멜라민, 에폭시 및 폴리우레탄 수지 및 이의 혼합물이다.
결합제는 냉-경화성 또는 온-경화성 결합제일 수 있고, 경화 촉매를 첨가하는 것이 유리하다. 결합제의 경화를 가속화하는 적합한 촉매의 예는 「Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A18, p. 469, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991」에 기재되어 있다.
바람직한 코팅 조성물은 막-형성 결합제가 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 및 이의 공중합체 수지, 폴리비닐 수지, 페놀성 수지, 알키드 수지 또는 이들 수지의 혼합물이다.
일반식(I)의 화합물은 코팅 조성물에서 0.001 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5%의 비율로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물이 코팅 조성물 또는 페인트 또는 니스이면, 예컨대 염료, 안료, 충전제, 흐름조절제, 점착 증진제, 경화 촉매, 광안정화제 및 산화방지제를 포함하는 군으로부터의 종래 성분을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 바람직한 화합물은 상술한 바와 같이, 바람직한 조성물이 된다.
또한, 본 발명은 윤활제, 수성 유체 및 금속작용 유체, 또는 코딩 조성물에서 첨가제로서 일반식(I)의 화합물 또는 혼합물의 용도 ;및 윤활제, 금속작용 유체 또는 수성 유체 또는 코팅 조성물의 유용한 특성을 증진시키는 방법에 관한 것으로, 이들 윤활제, 유체 또는 조성물에 일반식(I)의 화합물 또는 혼합물을 첨가하는 것을 포함한다.
하기 실시예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하는 것으로 본 발명을 제한하지 않는다. 특별한 언급이 없는한, 부와 퍼센트는 중량기준이다. 모든 작용은 질소하에서 행한다. 반응 용액의 냉각중 생성물이 결정화되면, 여과에 의해 단리되고 추가로 정제되지 않는다.
실시예
제조실시예
(표 및 상세한 설명의 나머지 부분에서 Me는 메틸이고
기는 시클로헥실렌이다.)
방법 1
시클로헥산 200ml에 용해된 (벤조)트리아졸 0.2몰, 알데히드 0.2몰, 디올(표 1 참조) 0.1몰 및 p-톨루엔술폰산 0.2g을 기계적 교반기, 딘-스파크(Dean-Stark) 물 분리기, 온도계 및 질소 유입구를 구비한 4-가지 술폰화 플라스크(평평한 바닥의 반응용기)에 채운다.
이론적양인 물 0.2몰이 분리될 때 까지 반응 응액을 환류시키면서 가열한다.
반응용액을 상온에서 냉각시키고 5% 수성 Na2CO3용액 100ml로 3회, 물 100ml로 2회 세척하고 MgSO4상에서 건조시키고 용매를 회전 증발기상에서 증류하여 제거한다. 최종적으로, 잔류물을 2시간동안 60℃의 고진공하에서 건조한다.
표 1 : 방법 1에 따른 예
표 1: 방법 1에 따른 예(계속)
방법 2
용매 100ml에 용해된 트리아졸 0.2몰, 디비닐에테르 0.1몰 및 p-톨루엔술폰산 0.2g(표 2 참조)을 기계적 교반기, 환류 냉각기, 온도계 및 질소 유입구를 구비한 4-가지 술폰화 플라스크에 채운다.
반응 용액을 선구물질이 사라질 때까지(얇은층 크로마토그래피로 조사) 환류시키면서 끓인다.
반응 용액을 상온으로 냉각시키고, 수성 5% Na2CO3용액 100ml로 3회, 물 100ml로 2회 세척하고, MgSO4상에서 건조하고, 용매를 회전 증발기상에서 증류하여 제거한다. 최종적으로, 잔류물을 2시간동안 60℃의 고진공하에서 건조한다.
표 2: 방법 2에 따른 예
방법 3
용매 100ml에 용해된 (벤조)트리아졸 0.2몰, 디비닐에테르 0.1몰 및 p-톨루엔술폰산 0.2g(표 3)을 기계적 교반기, 환류 냉각기, 온도계 및 질소 유입구를 구비한 4-가지 술폰화 플라스크에 채운다.
반응 용액을 선구물질이 사라질때 까지(얇은층 크로마토그래피로 조사) 끓인다. 반응 용액을 상온으로 냉각시키고, 분말화된 CaO 5g 및 소량의 MgSO4를 첨가하고, 10분동안 교반하고 현탁액을 여과한다. 여과액을 회전 증발기에서 농축시키고 생성물을 2시간동안 60℃의 고진공하에서 건조한다.
표 3: 방법 3에 따른 예
방법 4
시클로헥산 100ml와 톨루엔 100ml의 혼합물에 용해된 (벤조)트리아졸 0.2몰, 부틸알데히드 0.2몰, 1,4-비스(히드록시메틸)시클로헥산 0.1몰 및 p-톨루엔술폰산 0.2g을 기계적 교반기, 딘-스타크 물 분리기, 온도계 및 질소 유입구를 구비한 4-가지 술폰화 플라스크에서 환류시키면서 가열한다.
이론적양인 물 0.2몰이 분리된후, 혼합물을 상온으로 냉각시킨다. CaO 5g 및 소량의 MgSO4를 첨가하고, 10분동안 교반하고 현탁액을 여과한다. 여과액을 회전증발기에서 농축시키고 생성물을 2시간동안 60℃의 고진공하에서 건조한다.
표 4: 방법 4에 따른 예
사용 실시예
실시예 A1: 구리부식 시험(ASTM D-130로부터 변형됨)
시험될 화합물 0.05%를 점도가 40℃에서 29.7㎟s-1, 100℃에서 5.05㎟s-1인 터빈유(황함량 0.22%)에 용해시킨다. 원소황 50ppm을 더 첨가한다.
실리콘 카바이드로 닦은 구리판(60x10x1mm)을 오일 용액에 완전히 담그고 3시간 동안 100℃에 방치한다. 이어서, 구리판을 오일로부터 제거하고 석유 에테르로 씻는다. 이어서, ASTM D 130 구리 조각 부식 표준 도표(표 5참조)에 따라 행한다. 평가의 4가지 수준은 다음과 같다:
1- 변색되지 않음 2- 다소 변색됨
3- 심각히 변색됨 4- 부식됨 ;
1 내지 4의 군에서, 샘플의 얼룩정도를 기준으로 정밀히 세분화한다. A 내지 E의 이같은 정성적 평가에서, 등급 A는 B 앞이고, B는 C 앞 등이다. 하기 표는 각 경우에서 두개의 판에 대한 값을 보여준다(평행 측정).
실시예 A2: 회전 봄브 산화 시험(RBOT), ASTM D 2272
시험될 화합물 0.05중량%를 점도가 40℃에서 29.7㎟s-1, 100℃에서 5.05㎟s-1이고 황함량이 0.22%인 터빈유에 용해시킨다. 추가의 성분은 페놀성 산화방지제1)0.15%, 아민형 산화방지제2)0.05% 및 부식억제제3)0.07%이다. (하기 표참조). 이같이 수득된 혼합물 50ml을 물 5ml와 함께 촉매로 구리선을 포함하는 시험 용기에 첨가한다. 용기는 압력 620kPa로 될 때까지 산소로 채워지고, 이어서 봉합되고 150℃의 온중탕에서 회전된다. 산소 압력이 172kPa로 떨어지는데 걸리는 시간을 측정한다.
1) 3차-부틸화 페놀의 혼합물, IrganoxTM140으로 수득가능함
2) 디페닐아민 화합물의 혼합물, IrganoxTM-57로 시판됨, 미합중국특허 제 5,073,278호, 2단락, 50째줄 참조

Claims (10)

  1. 하기 일반식(I)의 화합물 및 이들 화합물의 혼합물:
    상기식에서,
    Y 및 Z는 각각 독립적으로 일반식
    의 라디칼이고,
    R 및 R1은 각각 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C5-C8시클로알킬, C1-C4알킬로 치환된 C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C1-C4알킬로 치환된 페닐이며,
    라디칼 또는 n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 20인 (CnH2nO)mCnN2n이고, R3은 수소 또는 C1-C4알킬이며,R4은 수소 또는 메틸이다.
  2. 제 1항에 있어서, R 및 R1이 동일한 화합물 또는 혼합물.
  3. 제 1항에 있어서, R 및 R1은 수소, C1-C9알킬 또는 페닐이며,
    라디칼 또는 n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 10인 (CnH2nO)mCnH2n이고, R3은 수소 또는 메틸인 화합물 또는 혼합물.
  4. 제 1항에 있어서, R 및 R1이 수소 또는 C1-C6알킬이며,
    라디칼 또는 n은 2,3 또는 4이고, m은 1 내지 10인 (CnH2nO)mCnH2n이고, R3은 수소 또는 메틸인 화합물 또는 혼합물.
  5. 제 4항에 있어서, R2은 C2-C8알킬렌 또는 시클로헥실렌 또는 일반식
    의 라디칼인 화합물 또는 혼합물.
  6. 라디칼 Y 및 Z가 다른 제 1항에 따른 일반식(I)의 화합물과 라디칼 Y 및 Z가 같은 일반식(I)의 화합물의 혼합물.
  7. 일반식
    의 벤조트리아졸 또는 이의 혼합물을
    (i) R,R1,R2및 R3가 제 1항과 같은 알데히드 R1CHO 또는 RCHO 또는 이들 알데히드의 혼합물 및 디올 HO-R2-OH과 반응시키고, 또는
    (ii) R1및 R이 메틸이고, R2및 R3가 제 1항과 같으면, 일반식
    H2C=CH-O-R2-O-CH=CH2의 디비닐에테르와 반응시키는 것을 포함하는 제 1항에서 정의된 일반식(I)의 화합물과 이의 혼합물의 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서, 일반식(IV)의 화합물과 (V)의 화합물의 혼합물을 사용하는 방법.
  9. 제 8항에 있어서, 몰비 IV:V가 1:9 내지 9:1인 방법.
  10. A) 윤활제, 수성 유체, 금속작용 유체 또는 코팅 조성물, 및 B) 제 1항에 따른 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물을 포함하는 조성물.
KR1019960010677A 1995-04-11 1996-04-10 (벤조)트리아졸라디칼과의화합물 KR100402709B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH95-1070 1995-04-11
CH107095 1995-04-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960037678A KR960037678A (ko) 1996-11-19
KR100402709B1 true KR100402709B1 (ko) 2004-04-08

Family

ID=4201751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960010677A KR100402709B1 (ko) 1995-04-11 1996-04-10 (벤조)트리아졸라디칼과의화합물

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5714442A (ko)
EP (1) EP0737684B1 (ko)
JP (1) JPH08291150A (ko)
KR (1) KR100402709B1 (ko)
BR (1) BR9601319A (ko)
CA (1) CA2173680A1 (ko)
DE (1) DE59610812D1 (ko)
ES (1) ES2210345T3 (ko)
TW (1) TW399094B (ko)
ZA (1) ZA962842B (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4652567B2 (ja) * 1998-01-27 2011-03-16 スリーエム カンパニー フルオロケミカルベンゾトリアゾール
US6074992A (en) * 1999-02-02 2000-06-13 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Functional fluid compositions
GB9924358D0 (en) 1999-10-14 1999-12-15 Brad Chem Technology Ltd Corrosion inhibiting compositions
US20040121311A1 (en) * 2002-12-06 2004-06-24 Ecker David J. Methods for rapid detection and identification of bioagents in livestock
WO2003004476A1 (en) * 2001-07-02 2003-01-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Aminoalkyl-substituted benzotriazoles and triazoles as metal deactivators
US7790660B2 (en) * 2004-02-13 2010-09-07 Exxonmobil Research And Engineering Company High efficiency polyalkylene glycol lubricants for use in worm gears
US20110212864A1 (en) * 2004-11-22 2011-09-01 Isabelle Rapenne-Jacob Benzotriazole compositions
JP2008520784A (ja) * 2004-11-22 2008-06-19 チバ ホールディング インコーポレーテッド ベンゾトリアゾール組成物
PL2128873T3 (pl) * 2007-03-16 2013-03-29 Repsol Lubricantes Y Espec S A Biodegradowalny płyn dielektryczny
JPWO2012081216A1 (ja) * 2010-12-13 2014-05-22 日本化薬株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び光ディスク
CA2995757C (en) * 2015-08-20 2023-10-03 The Lubrizol Corporation Azole derivatives as lubricating additives
CN111072567B (zh) * 2020-01-07 2021-04-27 河南大学 含吡唑杂环的氨基酸希夫碱钠盐及其合成方法和作为金属缓蚀剂的应用
US12018224B2 (en) 2021-07-28 2024-06-25 Afton Chemical Corporation Hydraulic fluid
US11788026B2 (en) 2021-07-28 2023-10-17 Afton Chemical Corporation Hydraulic fluid

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3531414A (en) * 1964-08-14 1970-09-29 Geigy Chem Corp Corrosion-inhibiting agents
EP0006710A1 (en) * 1978-06-15 1980-01-09 Mobil Oil Corporation An adduct of a benzotriazole and lubricant compositions containing such adduct
EP0365476A1 (en) * 1988-10-18 1990-04-25 Ciba-Geigy Ag Lubricant compositions
KR910006247A (ko) * 1989-09-30 1991-04-29 방에르트, 바르츠 1-히드록시-1,2,4-트리아졸의 유도체 및 이들을 포함하는 살균제 및 성장조절제
US5076948A (en) * 1989-03-02 1991-12-31 Ciba-Geigy Corporation Lubricant composition stabilized with substituted 1,2,4-triazoles

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1466558A (en) * 1975-01-23 1977-03-09 Ciba Geigy Ag Additives for functional fluids
US4177155A (en) * 1975-01-23 1979-12-04 Ciba-Geigy Corporation Additives for water-based functional fluids
DE3338952A1 (de) * 1983-10-27 1985-05-09 Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf Korrosionsinhibitoren fuer zink
GB2152073B (en) * 1983-12-23 1986-10-22 Ciba Geigy Lubricant stabilizer additives
GB8408617D0 (en) * 1984-04-04 1984-05-16 Ciba Geigy Ag Metal deactivators

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3531414A (en) * 1964-08-14 1970-09-29 Geigy Chem Corp Corrosion-inhibiting agents
EP0006710A1 (en) * 1978-06-15 1980-01-09 Mobil Oil Corporation An adduct of a benzotriazole and lubricant compositions containing such adduct
EP0365476A1 (en) * 1988-10-18 1990-04-25 Ciba-Geigy Ag Lubricant compositions
US5076948A (en) * 1989-03-02 1991-12-31 Ciba-Geigy Corporation Lubricant composition stabilized with substituted 1,2,4-triazoles
KR910006247A (ko) * 1989-09-30 1991-04-29 방에르트, 바르츠 1-히드록시-1,2,4-트리아졸의 유도체 및 이들을 포함하는 살균제 및 성장조절제

Also Published As

Publication number Publication date
ES2210345T3 (es) 2004-07-01
TW399094B (en) 2000-07-21
BR9601319A (pt) 1998-01-13
DE59610812D1 (de) 2003-12-18
CA2173680A1 (en) 1996-10-12
EP0737684A1 (de) 1996-10-16
EP0737684B1 (de) 2003-11-12
US5714442A (en) 1998-02-03
JPH08291150A (ja) 1996-11-05
MX9601359A (es) 1997-09-30
KR960037678A (ko) 1996-11-19
ZA962842B (en) 1996-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101223000B1 (ko) 성능이 향상된 윤활유 조성물
RU2198870C2 (ru) Нонилированные дифениламины
KR100274361B1 (ko) 디티오인산 유도체, 이를 함유하는 조성물 및 윤활 첨가제로서의 용도
JP5080969B2 (ja) アルキル化されたｐａｎａ及びｄｐａ組成物
KR100402709B1 (ko) (벤조)트리아졸라디칼과의화합물
KR100323984B1 (ko) 저휘발성의액체산화방지제및이를포함하는조성물
JP2008520784A (ja) ベンゾトリアゾール組成物
JPH11124375A (ja) 潤滑剤用添加剤としての複素環式チオエーテル
KR100274362B1 (ko) 윤활 첨가제로서 유용한 비스디티오인산 유도체
US5507963A (en) Condensation products of melamine, (benzo) triazoles and aldehydes
US5320764A (en) Multifunctional lubricant additives
US5433873A (en) Phosphorus-free lubricant additives
US6100406A (en) Benzothiazolylthio or thiadiazolylthio substituted phenols as multifunctional additives for lubricants
US5360563A (en) Trisamidodithionodiphospates
EP0682022B1 (de) Kondensationsprodukte aus Melamin, (Benzo)triazolen und Aldehyden
WO2003004476A1 (en) Aminoalkyl-substituted benzotriazoles and triazoles as metal deactivators
US5328621A (en) Dithiophosphates as antiwear additives
US5256323A (en) Compositions containing 2,2',2"-nitrilotriethanol cyclometalates
JPH1129769A (ja) 液体多機能性添加剤
MXPA96001359A (en) Compounds with (benzo) triazole radicals
US20230416631A1 (en) Compositions comprising alkylated diphenylamines with improved properties
MXPA98004486A (es) Difenilaminas noniladas

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee