KR100399021B1 - 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크 - Google Patents

Abstract

본 발명은 광 디스크에 비정질 상태의 반사막 재료를 사용하여 박막 성장시에 발생하는 결정립의 성장으로 인한 표면 거칠기를 억제함으로써 광 디스크의 잡음을 줄일 수 있는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크에 관한 것이다.

본 발명은 정보를 함유한 프리피트가 형성된 기판과 표면 거칠기를 최소화시켜서 입사된 레이저 빔에 대한 반사광의 잡음을 최소화시켜 주기 위하여 비정질 물질로 이루어져 상기 기판 위에 형성된 반사막과 상기 반사막 위에 형성되는 보호용 레진층을 포함하여 이루어지는 재생전용 광 디스크와, 데이터가 기록되는 기록층과 상기 기록층에 입사되는 광을 반사시켜 주는 반사막을 포함하여 이루어져 적어도 한 번 이상의 기록과 재생이 가능한 광 디스크에 있어서, 상기 반사막은 비정질 상태의 물질로 이루어지며 레이저 빔이 적층 후의 반사막 표면을 대향하여 입사하는 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크를 제공한다.

Description

비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크{High Density Optical Disk Having Reflecting Layer of Amorphous Materials}

본 발명은 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크에 관한 것으로, 보다 상세하게는 재생 전용, 1회 기록 반복 재생용 또는 되쓰기형 상변화, 광자기 광 디스크의 고밀도화에 따른 매체의 잡음을 줄이기 위하여, 광 디스크에 비정질 상태의 반사막 재료를 사용하여 박막 성장시에 발생하는 결정립의 성장으로 인한 표면 거칠기를 억제함으로써 광 디스크의 잡음을 줄일 수 있는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크에 관한 것이다.

일반적으로, 광 디스크에는 CD-ROM(Read Only Memory), DVD-ROM 등과 같이 디스크 기판에 미리 새겨진 프리피트의 유무에 따라 신호를 읽어낼 수 있는 재생 전용 광 디스크, 1회 기록 후 재생만이 가능한 WORM(Write Once Read Many) 디스크, 그리고 기록막의 자화 방향에 따른 반사빔의 Kerr 회전 효과를 이용한 광자기(Magneto-Optic) 디스크나, 기록막의 결정-비정질간의 반사도차를 이용한 상변화 광 디스크와 같은 되쓰기형 광 디스크가 있다.

재생 전용 광 디스크에서는 프리피트가 새겨진 기판에 사용되는 파장에서의 반사도가 큰 Al, Ag 또는 Au나 이들에 소량의 합금 원소가 첨가된 합금막을 입혀서 재생 레이저 빔의 반사도를 크게함으로써 큰 신호비를 얻고자 하여 사용된다.

한편, 광자기 디스크나 상변화 광 디스크와 같은 되쓰기형 광 디스크에 있어서 반사막은 매체 내에서의 다중 반사를 이용하여 기록 시에 사용되는 레이저 빔의 효율을 증대시키는 역할을 하는 한편, 이들 반사막의 열전도도가 큰 성질을 이용하여 광자기 기록막이나 상변화 기록막에 흡수되어 열로 변환된 열 에너지를 뽑아주는 히트싱크(heat sink)의 역할도 겸하고 있다.

광 디스크에 있어서 기록 또는 재생을 위하여 집광되는 레이저 빔의 조사면적은 사용되는 레이저 빔의 파장(λ)과 빔을 집속하기 위한 대물 렌즈의 개구수(NA)에 의한 빛의 회절 한계인 λ/NA로 주어지며, 이러한 회절 한계 크기의 집광 빔을 사용할 경우 이론적으로 재생이 가능한 최소 기록 패턴의 주기는 λ/2NA로 주어진다.

따라서, 광 디스크의 고밀도화를 달성하기 위하여는 사용 레이저 빔의 파장을 줄이거나 렌즈의 개구능을 높여 집광되는 빔의 조사면적을 줄이는 방법이 있다. 그러나, 현재 사용 가능한 반도체 레이저의 파장은 가시광 영역으로 제한되어 있으며, 렌즈의 개구수를 현재 사용하는 것보다 대폭 증가시키는 경우 광 디스크의 틸트 마진 및 구면수차 마진이 대단히 작아져 종래에 사용하던 1.2 또는 0.6mm의 기판을 통한 레이저 빔의 입사 방법을 사용할 수 없어 0.1mm 정도의 보호용 레진층을 통하여 빛을 입사시키는 방법이 개발되고 있다.

상기의 레이저 빔의 회절 한계를 극복하여 광 디스크의 고밀도화를 달성하기 위한 방법으로는 근접장을 사용하는 방법이 있는데, 이에는 솔리드 이머션 렌즈(Solid Immersion Lens; SIL), 솔리드 이머션 미러(Solid Immersion Mirror; SIM), VSAL(Very Small Apertured Laser) 또는 근접장 주사 탐침(Near-field Scanning Probe)를 이용하는 것들이 있다.

이와 같은 방법들은 근접장을 이용하는 것이므로 매체와 렌즈 또는 개구부(aperture)사이의 거리가 수∼수십nm 거리보다 작아야 한다. 따라서, 이와 같은 근접장을 이용하는 방법에 있어서는 레이저 빔이 종래의 광 디스크와 같이 기판을 통하여 입사할 수 없다.

광 디스크의 고밀도화를 달성하는 또 다른 방법의 하나는 이중 기록층을 가지는 매체의 사용이다. 이 경우에는 정보를 포함하는 프리피트나 기록층을 포함한 매체 2장을 특수한 접착 레진을 사용하여 붙인 이중 구조를 사용하는 것으로써, 집속된 레이저 빔은 기판의 한쪽면으로 입사시키며, 접착층의 두께를 집속된 레이저 빔의 초점 심도 보다 두껍게 하고(통상 0.03∼0.04mm 두께), 광학계를 이용하여 집속 레이저 빔의 초점 위치를 변화시킴으로써 상부나 하부 기록층의 정보를 재생하거나 기록할 때 다른 층의 영향이 없도록 하는 방법이다.

상기의 광 디스크의 고밀도화를 위한 세가지 방법 모두에 있어서 레이저 빔은 성막된 반사막의 표면에 입사하는데, 이는 종래의 디스크에서와 같이 레이저 빔이 반사막/기판 또는 반사막/유전체막의 계면에 입사하던 방향과는 반대가 되므로, 성막된 반사막의 표면 거칠기가 신호 크기, 더 구체적으로는 잡음에 큰 영향을 준다.

도 1에는 종래의 재생 전용 광 디스크의 개략도를 나타내었는데, 종래의 재생 전용 광 디스크는 정보를 제공하는 프리피트(3)가 새겨진 기판(2)에 반사막(4)을 성막하고 그 위에 보호용 레진층(5)을 도포한 구조로 되어 있으며, 이 경우 레이저 빔(1)은 기판(2)을 통하여 입사된다.

도 2는 종래의 전형적인 되쓰기형 광 디스크의 단면구조를 나타낸 것으로, 이는 기판(12) 위에 제1 보호용 유전체막(13), 정보가 기록될 기록막(14), 제2 보호용 유전체막(16) 그리고 반사막(17)이 차례로 적층되고, 그 위에 보호용 레진층(18)이 도포된 구조이며, 상기 기록막(14)에 기록마크(15)가 형성되어 데이터가 저장된다. 상기 재생 전용 광 디스크에서와 마찬가지로 레이저 빔(11)은 기판(12)을 통하여 입사한다. 따라서, 매체의 잡음은 상기 재생 전용 광 디스크의 경우에는 기판(2)/반사막(4)의 계면, 그리고 되쓰기형 광 디스크의 경우 제1 및 제2 보호용 유전체막(13, 16)/반사막(17)의 계면의 거칠기가 좌우하게 된다.

따라서, 종래의 광 디스크에 있어서는 적층된 후의 반사막의 표면 거칠기가 매체의 잡음에 영향을 주는 요인이 아니라 재생 전용 광 디스크의 경우에는 반사막이 성막되는 기판(2)의 표면 상태, 되쓰기형 광 디스크의 경우에는 제1 및 제2 보호용 유전체막(13, 16)의 표면상태가 더욱 중요한 잡음의 요인으로 작용하는 것이다.

이미 재생 전용 광디스크의 경우 사출성형된 폴리카보네이트(polycarbonate) 기판의 표면 거칠기가 잡음의 주요 요인이 된다고 밝혀진 바 있어 디스크의 표면 거칠기 향상을 위한 마스터링(mastering) 기술, 스탬퍼(stamper) 제작 기술 그리고, 사출성형 기술의 괄목할 만한 개발이 이루어졌다. 되쓰기형 광 디스크의 경우에도 기판 위에 적층되는 유전체막과 기록막은 대부분 비정질 상태로 성막시킬 때에 적층 방식(layer-by-layer)의 성장 거동을 가지므로 초기 기판의 표면 상태에 의하여 계면 거칠기가 영향을 받을 뿐이며, 성장하는 막의 결정 성장에 의한 계면 거칠기의 변화는 고려할 필요가 거의 없다.

특히, 반사막의 적층 후에 생성되는 반사막의 표면 거칠기가 크다고 하더라도 사용되는 레이저 파장에서 반사막의 투과도가 거의 없으므로 신호비에는 영향을미치지 않는다.

그러나, 앞서 설명한 바와 같이 높은 개구수를 사용하는 광 디스크, 근접장을 이용하는 광 디스크, 그리고 이중 구조를 가진 광 디스크에서는 디스크의 적층 순서가 종래의 디스크와는 반대로 된다.

도 3에는 높은 개구수를 사용하는 광 디스크, 근접장을 이용하는 광 디스크, 그리고 이중구조를 가진 되쓰기형 광 디스크의 구조를 나타내었다. 즉, 도 3에 보인 바와 같이 고밀도 광 디스크의 경우 기판(22)에 반사막(23)이 먼저 성막되고, 그 위에 제1 보호용 유전체막(24), 정보를 기록하는 기록막(25) 및 기록마크(26), 그리고 제2 보호용 유전체막(27)의 순서로 적층한다.

그리고, 높은 개구수를 가진 집광 렌즈를 사용하는 광 디스크에서는 상기 제2 보호용 유전체막(27) 위에 얇은 보호용 레진층(28)이 사용되며, 이중 구조막의 경우에는 상기 보호용 레진층(28) 대신 접착용 레진층이 사용된다.

또한, 근접장을 이용하는 광 디스크의 경우에는 상기 보호용 레진층(28)이나 접착용 레진층이 없이 그대로 사용된다. 이것은 프리피트를 사용하는 재생 전용 광 디스크나 1회 기록후 재생만이 가능한 웜(WORM)용 광 디스크에 있어서도 기록막이나 보호용 유전체막이 생략된다는 점을 제외하고는 마찬가지 개념이 적용된다.

이와 같이 고밀도화를 위하여 높은 개구수를 사용하는 광 디스크, 근접장을 이용하는 광 디스크, 그리고 이중 구조를 가진 광 디스크에서는 적층 순서가 종래의 광 디스크와는 반대로 될 뿐 아니라, 레이저 빔의 입사 방향이 적층된 후의 반사막 표면을 대향하고 있어, 적층 후의 반사막의 표면 거칠기가 매체의 잡음을 결정하는 요인으로 작용한다.

도 4에는 문헌에 보고된 바 있는 높은 개구수(NA=0.7)를 가지는 재생 전용 광 디스크에 있어서 반사막층의 표면 거칠기에 따른 신호비(C/N)의 변화를 나타내었다. 이러한 반사막의 표면 거칠기에 의한 매체 잡음의 영향은 개구수가 커질수록 커지며 특히, 근접장을 사용하는, 즉 유효 개구수(effective NA)가 큰 경우(NA_eff1)일수록 반사막의 표면 거칠기에 의한 매체 잡음의 영향은 더욱 커져서 적층된 반사막의 표면 거칠기를 줄이는 것이 신호비 향상을 위한 필수적인 요건이 된다.

광 디스크의 반사막 재료로 종래에는 반사도가 큰 Al에 소량의 합금 원소를 첨가하여 내부식성 및 내구성을 향상시킨 합금막, 특히 Al에 수apc(atomic per cent)의 Ti나 Cr을 첨가시킨 알루미늄 합금막이 주로 사용되어 왔으며, 최근에는 부식의 염려가 없는 고가의 Au 반사막도 사용되고 있다.

순수 Al 반사막이나 Ag 또는 Au 반사막은 박막 성장 조건에 따라 다르나 통상적으로 거의 100nm에 달하는 결정립 크기를 가지고 있으며, 이에 Ti, Cr, Ni, Pd 등과 같은 합금 원소를 소량 첨가시킴으로써 결정립의 성장을 억제하여 수∼수십nm 크기의 결정립을 가지는 박막의 형성이 가능하다.

그러나, 종래의 반사막(4')들은 모두가 결정질 상태로 성장함으로써, 도 5(a)에 모식적으로 나타낸 바와 같이, 결정립 성장에 따른 표면 거칠기가 발생하는 요인을 제거할 수 없다. 이는 통상적으로 금속막의 성장이 아일랜드(island) 형성을 거쳐 박막 두께가 증가함에 따라 이들 아일랜드(island)들이 연결되어 최종적으로 연속된 막을 형성하며 막 두께의 증가에 따라 결정립이 자라는 데에 기인한다.

그리고, 일반적으로 순수한 Al 반사막의 경우 광 디스크에서 많이 사용되는 두께 범위인 50∼150nm 두께로 성장시켰을 경우 표면 거칠기가 3∼4nm에 이른다.

결정립의 크기를 억제한 합금 반사막의 경우에도 표면 거칠기를 1nm 이하로 줄이는 것이 대단히 어렵다. 특히, 광 디스크의 경우 기판으로 폴리카보네이트(polycarbonate)와 같은 재료를 사용하므로 성막 온도를 올리는 것이 불가능하며, 대량 생산을 위하여 마그네트론 스퍼터링을 이용한 성막 방법이 주로 사용되므로 기판에 도달하는 입자의 에너지를 조절하는 데에도 한정이 있으므로 기판 온도나 기판 도달 입자 에너지를 크게 하여 기판에 흡착된 입자들의 유동성을 증가시켜 표면 거칠기를 향상시키는 데에 한계가 있다.

따라서, 본 발명은 이러한 종래 기술의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 그 목적은 광 디스크에 비정질 상태의 반사막 재료를 사용하여 박막 성장시에 발생하는 결정립의 성장으로 인한 표면 거칠기를 억제함으로써 레이저 빔이 적층 후의 반사막 표면으로 입사되는 광 디스크의 잡음을 줄임으로써 데이터의 신뢰도를 향상시켜 주는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크를 제공하는데 있다.

도 1은 종래의 재생 전용 광 디스크 단면도.

도 2는 종래의 되쓰기형 광 디스크의 단면도.

도 3은 고밀도화 되쓰기형 광 디스크의 단면도.

도 4는 고개구수(NA:0.7)를 사용한 재생 전용 광 디스크에서의 반사막의 표면 거칠기에 따른 신호비 변화를 나타낸 그래프.

도 5는 반사막의 결정립 성장에 따른 표면 거칠기 발생의 예를 보이는 모식도(a), 반사막의 비정질 박막 상태를 비교한 모식도(b).

도 6은 일반 결정질 반사막(a)과 본 발명에서 제공되는 비정질 반사막(b)의 구조를 비교한 XRD 분석한 그래프.

도 7은 일반 결정질 반사막(a)과 본 발명에서 제공되는 비정질 반사막(b)의 표면 거칠기를 비교 측정한 AFM 사진.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1, 11, 21 : 레이저 빔 2, 12, 22 : 기판

3 : 프리피트 4, 4', 17, 23 : 반사막

5, 18, 28 : 보호용 레진층 13, 24 : 제1 보호용 유전체막

14, 25 : 기록막 15, 26 : 기록마크16, 27 : 제2 보호용 유전체막

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 데이터가 기록되는 기록층과 상기 기록층에 입사되는 광을 반사시켜 주는 반사막을 포함하여 이루어져 적어도 한 번 이상의 기록과 재생이 가능한 광 디스크에 있어서, 상기 반사막은 비정질 상태의 물질로 이루어지며 레이저 빔이 적층 후의 반사막 표면을 대향하여 입사하는 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크를 제공한다.

상기 반사막은 스퍼터링 또는 진공증착과 같은 일반 건식 증착 방식을 이용하여 제조할 시 용이하게 비정질 상태로 만들 수 있는 Al-Y-Ni, Al-Y-Pd, Al-Y-Pt, Al-Y-Co, Al-Y-Fe, Al-Y-Cu, Al-La-Ni, Al-La-Pd, Al-La-Pt, Al-La-Co, Al-La-Fe, Al-La-Cu, Al-Cu-V, Al-Ni-Zr, Al-Si-V, Al-Si-Cr, Al-Si-Mn, Al-Si-Fe, Al-Si-Co, Al-Si-Ni, Al-Ge-V, Al-Ge-Cr, Al-Ge-Mn, Al-Ge-Fe, Al-Ge-Co, Al-Ge-Ni 등으로 조성된 합금으로써 이루어지며, 비정질 반사막은 성막 초기에서부터 아일랜드(island)를 형성하지 않고 적층(layer-by-layer)의 형태로 성장함으로써 결정질 반사막에서와 같은 결정립의 성장에 의한 표면 거칠기의 증가가 거의 없는 우수한 품질의 박막의 합성이 가능하다.

또한, 비정질 반사막 재료의 경우 결정립 계면이 없으므로 통상의 결정질 재료에 있어서 문제가 되는 결정립계에서의 우선적 부식에 의한 막의 질 저하를 방지할 수 있는 내구성이 우수한 반사막을 제공할 수 있는 장점도 있다.

(실시예)

이하에 상기한 본 발명을 바람직한 실시예가 도시된 첨부 도면을 참고하여 더욱 상세하게 설명한다.

첨부한 도면, 도 3은 고밀도화 되쓰기형 광 디스크의 단면도, 도 4는 고개구수(NA:0.7)를 사용한 재생 전용 광 디스크에서의 반사막의 표면 거칠기에 따른 신호비 변화를 나타낸 그래프, 도 5는 반사막(4')의 결정립 성장에 따른 표면 거칠기 발생의 예를 보이는 모식도(a), 반사막(4')의 비정질 박막 상태를 비교한 모식도(b), 도 6은 일반 결정질 반사막(a)과 본 발명에서 제공되는 비정질 반사막(b)의 구조를 비교한 XRD 분석한 그래프, 도 7은 일반 결정질 반사막(a)과 본 발명에서 제공되는 비정질 반사막(b)의 표면 거칠기를 비교 측정한 AFM 사진이다.

도 6에는 일반적으로 많이 사용되는 Al-Cr 합금 반사막(a)과 본 발명에서 제공하는 반사막(b)의 X선 회절(X-ray diffraction; XRD) 패턴(pattern)을 비교하였다. 본 발명에 있어서의 박막은 Al-Y-Ni의 합금으로서 박막의 조성은 Al-Y(7%)-Ni(7%)이며, 동도면에 나타난 바와 같이 비정질 상태임을 알 수 있다.

도 7b에는 본 발명에서 제공하는 박막 재료를 Si 기판에 100nm 성장시킨 후에 표면을 AFM(Atomic Force Microscopy)으로 측정한 사진으로, Al-Cr 합금막의 경우(도 7a)와 비교한 사진이다.

본 발명에서 제공하는 비정질 반사막의 경우 표면 거칠기가 0.15∼0.3nm 정도로서, 상용 반사막 재료인 Al-Cr 반사막의 표면 거칠기인 2.1nm에 비하여 약 1/10 정도밖에 되지 않아 대단히 우수한 표면 상태를 제공함을 알 수 있다.

상기의 재료를 이용하여 현재 DVD에서 사용하는 650nm 파장에서의 반사도 측정 결과, 본 발명에서 제공하는 반사도는 74%이었으며, Al-Cr 반사막의 경우 85%의 반사도를 나타내었다.

이러한 반사도의 저하는 합금 원소의 성분과 함량 조절을 통하여 개선시킬 수 있으며, 실례로 조성 Al-Y(13%)-Ni(19%)인 비정질 반사막의 경우 650nm에서의반사도는 63% 정도이나, 비정질 상태를 유지하며 합금원소의 함량을 조절한 Al-Y(7%)-Ni(7%) 반사막은 74%로 향상되었다. 또한, 합금 원소 중 Ni을 보다 반사도가 큰 Pd나 Pt로 대치할 경우 반사도를 더욱 향상시킬 수 있다.

상기 실시예에서는 반사막의 재료로써 Al-Y-Ni의 경우만을 예로 들어 설명하였으나, 스퍼터링 또는 진공증착과 같은 일반 건식 증착 방식을 이용하여 비정질 상태로 만들 수 있는 Al-Y-Pd, Al-Y-Pt, Al-Y-Co, Al-Y-Fe, Al-Y-Cu, Al-La-Ni, Al-La-Pd, Al-La-Pt, Al-La-Co, Al-La-Fe, Al-La-Cu, Al-Cu-V, Al-Ni-Zr, Al-Si-V, Al-Si-Cr, Al-Si-Mn, Al-Si-Fe, Al-Si-Co, Al-Si-Ni, Al-Ge-V, Al-Ge-Cr, Al-Ge-Mn, Al-Ge-Fe, Al-Ge-Co, Al-Ge-Ni 등과 같은 조성 물질을 이용할 수 있다.

한편, 광 디스크는 재생 전용 고밀도 광 디스크와, 고밀도 WORM 광 디스크, 되쓰기형 고밀도 광 디스크와 같은 종류가 있는데, 광 디스크의 종류에 따라 그 구조가 약간씩 다르다.

따라서, 본 발명은 각 광 디스크의 종류에 따라 아래와 같이 이루어진다.

재생 전용 고밀도 광 디스크의 경우는 정보를 함유한 프리피트가 형성된 기판과; 표면 거칠기를 최소화시켜서 입사된 레이저 빔에 대한 반사광의 잡음을 최소화시켜 주기 위하여 비정질 물질로 이루어져 상기 기판 위에 형성된 반사막과; 상기 반사막 위에 형성되는 보호용 레진층을 포함하여 이루어진다.

그리고, 고밀도 WORM 광 디스크는 기판과; 표면 거칠기를 최소화시켜서 입사된 레이저 빔에 대한 반사광의 잡음을 최소화시켜 주기 위하여 비정질 물질로 이루어져 상기 기판 위에 형성된 반사막과; 상기 유전체막 위에 형성되어 데이터가 기록되는 기록막과; 상기 기록막 위에 형성되는 보호용 유전체막과; 상기 보호용 유전체막위에 형성되는 보호용 레진층을 포함하여 이루어진다.

되쓰기형 고밀도 광디스크는 기판과; 표면 거칠기를 최소화시켜서 입사된 레이저 빔에 대한 반사광의 잡음을 최소화시켜 주기 위하여 비정질 물질로 이루어져 상기 기판 위에 형성된 반사막과; 상기 반사막 위에 형성되는 보호용 유전체막과; 상기 유전막 위에 형성되어 데이터가 기록되는 기록막과; 상기 기록막 위에 형성되는 보호용 유전체막과; 상기 유전체막 위에 형성되는 보호용 레진층을 포함하여 이루어진다.

상기 설명과 같이 광 디스크의 필수 구성 요소인 반사막은 비정질 물질로 이루어져, 그 반사면의 표면 거칠기를 최소화시켜서 입사된 레이저 빔에 대한 반사광의 잡음을 최소화시켜 줌으로써, 데이터의 신뢰도를 향상시켜 주는 작용을 하는 것이다.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 의한 비정질 반사막 재료는 고밀도화를 위하여 높은 개구수를 사용하는 광 디스크, 근접장을 이용하는 광 디스크, 그리고 이중구조를 가진 광 디스크에서와 같이 적층 순서가 종래의 광 디스크에서와는 반대로 될 뿐 아니라, 레이저 빔의 입사방향이 적층된 후의 반사막 표면을 대향하고 있어, 적층 후의 반사막의 표면 거칠기가 매체의 잡음을 결정하는 요인으로 작용하는 재생 전용 광 디스크, WORM 디스크 뿐만 아니라 되쓰기형 광 디스크에 사용함에 있어서, 종래의 결정질 반사막 재료보다 우수한 표면 거칠기를 제공하여 매체 잡음을 낮출 수 있는 효과를 제공한다.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예를 예로 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.

Claims (4)

1. 데이터가 기록되는 기록막층과 상기 기록막층에 입사되는 광을 반사시켜 주는 반사막층을 포함하여 이루어져 적어도 한 번의 기록과 재생이 가능한 광 디스크에 있어서,

   Al계 비정질 금속으로 이루어진 반사막층을 포함하며,

   상기 반사막층이 먼저 증착된 후에 상기 기록막층이 적층되어, 레이저 빔이 기록막층에 가까운 면을 대향하여 입사하는 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크.
2. 제 1항에 있어서, 상기 반사막층은 Al-Y-Ni, Al-Y-Pd, Al-Y-Pt, Al-Y-Co, Al-Y-Fe, Al-Y-Cu, Al-La-Ni, Al-La-Pd, Al-La-Pt, Al-La-Co, Al-La-Fe, Al-La-Cu, Al-Cu-V, Al-Ni-Zr, Al-Si-V, Al-Si-Cr, Al-Si-Mn, Al-Si-Fe, Al-Si-Co, Al-Si-Ni, Al-Ge-V, Al-Ge-Cr, Al-Ge-Mn, Al-Ge-Fe, Al-Ge-Co, Al-Ge-Ni 중에서 어느 한 조성 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반사막층은 Al-Y-Ni, Al-Y-Pd, Al-Y-Pt, Al-Y-Co, Al-Y-Fe, Al-Y-Cu, Al-La-Ni, Al-La-Pd, Al-La-Pt, Al-La-Co, Al-La-Fe, Al-La-Cu, Al-Cu-V, Al-Ni-Zr, Al-Si-V, Al-Si-Cr, Al-Si-Mn, Al-Si-Fe, Al-Si-Co, Al-Si-Ni, Al-Ge-V, Al-Ge-Cr, Al-Ge-Mn, Al-Ge-Fe, Al-Ge-Co, Al-Ge-Ni 중에서 어느 한 조성 물질을 적층 방식(layer-by-layer)으로 성장시켜 비정질 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크.
4. 정보를 함유한 프리피트가 형성된 기판과;

   Al계 비정질 금속으로 이루어진 반사막층과;

   상기 반사막 위에 형성되는 보호용 레진층을 포함하여 이루어지며,

   레이저 빔이 상기 보호용 레진층을 대향하여 입사하는 것을 것을 특징으로 하는 비정질 반사막을 이용한 고밀도 광 디스크.