KR100371291B1 - 반도체 장치 제조 라인의 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법 및 시스템 및 기록 매체 - Google Patents

반도체 장치 제조 라인의 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법 및 시스템 및 기록 매체 Download PDF

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Abstract

레퍼런스 웨이퍼를 보관하는 선반의 효율적 이용을 가능하게 함과 함께, 레퍼런스 웨이퍼 측정 결과 데이터가 이상시에 제품 로트의 공정 진척을 정지 가능하게 하는 반도체 장치의 선반 관리 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.
제조 라인의 관리를 행하는 생산 제어 시스템이 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 변경하는 기능을 구비하고, 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 생산 제어 시스템측에서는 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 복수의 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반으로의 입고시에 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 보관 선반에 저장하고, 웨이퍼 프로세스 장치에서 레퍼런스 웨이퍼를 처리할 때에 처리 조건에 대응한 품명으로 변경한다.

Description

반도체 장치 제조 라인의 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법 및 시스템 및 기록 매체{METHOD AND SYSTEM FOR SUPERVISING REFERENCE WAFER ON SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION LINE AND RECORDING MEDIUM}
본 발명은 반도체 장치의 생산 관리 시스템에 관한 것으로, 특히, 반도체 제조 공정에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템 및 방법 및 기록 매체에 관한 것이다.
시험, 평가, 보수 점검 등을 위해 이용되는 레퍼런스 웨이퍼는 웨이퍼 프로세스 중, 예를 들면 산화막 형성 공정, 열 확산 공정, CVD 공정, 에피택셜 성장 공정 등에 있어서, 각각 산화 장치, 확산 장치, CVD 장치, 에피택셜 성장 장치 등의 각 설비(「웨이퍼 프로세스 장치」라고 한다)에 있어서, 제품 웨이퍼와 함께 소정의 조건으로 처리되어 처리 종료 후, 레퍼런스 웨이퍼는 제품 웨이퍼와는 달리 예를 들면 막 두께 측정 장치 등에서 그 막 두께가 측정되고, 상기 웨이퍼 프로세스 장치의 운용 상태의 양부 등이 판단된다.
종래, 반도체 제조의 제조 라인에 있어서, 어떤 공정에서 시험·보수 등을 위해 투입되는 레퍼런스 웨이퍼에 대하여, 생산 제어 시스템측에서는 상기 레퍼런스 웨이퍼에 부여하는 품명으로서 상기 공정의 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서 처리되는 조건에 대응한 종별분만큼 미리 준비 해 두고, 조건마다 구분하여 보관 선반에 입고한다고 하는 관리가 행해지고 있다. 즉, 선반으로의 입고시, 레퍼런스 웨이퍼는 상기 레퍼런스 웨이퍼의 처리 조건에 기초하여 상기 조건에 대응한 장소에 입고된다. 또, 크린룸 내에 설치되는 웨이퍼 보관 선반에는 일반적으로 캐리어의 자동 입출고 기구가 구비되어 있고, 웨이퍼를 수용한 캐리어의 선반으로의 입고 및 선반으로부터의 출고 작업은 자동으로 행해진다.
레퍼런스 웨이퍼의 처리가 필요로 되는 공정에 있어서, 공정을 관리하는 생산 제어 시스템측으로부터 송신되는 작업 지시 혹은 작업자에 의한 작업 지시를 받아 레퍼런스 웨이퍼를 보관하는 보관 선반에서는 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 해당하는 제품 웨이퍼를 로트 단위로 수용한 캐리어와, 상기 제품 웨이퍼의 조건에 대응하는 레퍼런스 웨이퍼를 예를 들면 1로트분 등 소정 매수 캐리어분 수용한 캐리어와의 조합을 하나의 조(「배치조」라고도 한다)로서 출고하고, 이들의 출고 종료 보고 로트를 탑재한 반송차(무인 반송차)에 의해 자동 반송 시스템의 제어 하에 목적의 웨이퍼 프로세스 장치로 반송된다.
그 때, 종래의 제조 라인에서는 보관 선반으로부터의 로트 출고시, 제품 로트의 로트 ID(로트의 식별 정보, 「로트 번호」라고도 한다)와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID를 작업 담당자가 메모 등으로 기장하여 제품 로트와 레퍼런스 로트와의 대응 관리가 행해지고 있다.
웨이퍼 프로세스 장치로 반송된 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼는 웨이퍼 프로세스 장치의 프로세스 챔버 내에 자동 장전되어 소정의 조건으로 성막 처리 등이 행해진다. 도 17은 배치 방식의 종형 산화 장치의 일례를 모식적으로 나타낸 것이다. 종형 산화 장치(30A)에 있어서 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼는 챔버(31) 내에 로더(32)에서 자동 장전되어 전기로(34)의 작동 및 가스 공급을 개시하고, 산화막의 성막 처리가 행해진다. 그 때, 제품 웨이퍼의 소정 매수마다(예를 들면 25매) 1매의 레퍼런스 웨이퍼가 삽입되어 동시에 처리된다.
웨이퍼 프로세스 장치에서 처리 종료 후, 제품 로트 및 레퍼런스 웨이퍼를 웨이퍼 프로세스 장치로부터 추출하고, 제품 로트는 처리 종료되어 다음 공정(예를 들면 세정 장치)으로 반송되고, 한편 레퍼런스 웨이퍼는 측정 장치(예를 들면 막 두께 측정 장치 등)에서 측정이 행해진다.
그리고, 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과를 미리 설정된 규격치(예를 들면 상한치, 하한치)와 비교한다. 이 측정 데이터가 불가(NG)인 경우에는 웨이퍼 프로세스 장치에서 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트의 공정 진척을 저지할 필요가 있다.
상기한 종래의 시스템에 있어서는 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 제품 로트의 관리를 보관 선반으로부터 출고시에 작업 담당자가 메모 등으로 기장함으로써 행하고 있고, 크린룸 내에서의 이러한 작업은 번잡하고 기입 실패, 기입의 잊음 등도 발생한다.
또한 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터가 NG인 경우, 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트에 속하는 제품 웨이퍼를 메모 등의 기재로부터 특정하는 것은 시간을 요하고, 그 동안, 레퍼런스 웨이퍼와 동일조로 처리된 제품 로트가 다음 공정에 투입되게 되는 경우도 있다. 또한, 메모 등으로부터 레퍼런스 웨이퍼와 동일조로 처리된 제품 로트를 특정할 수 있더라도 상기 제품 로트의 공정 진척을 정지시키는 것은 용이하지 않다. 그 이유는 레퍼런스 웨이퍼는 제품 로트와는 상위하여 시험·보수용에 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리되어 측정 장치에서 측정된 후는 폐기되는 것이기 때문에, 레퍼런스 웨이퍼와 제품 로트와의 대응을 관리하는 기능은 종래의 생산 제어 시스템에는 구비되어 있지 않고, 또한 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 후, 다음 공정으로의 처리에 나아가서 예를 들면 무인 반송차 등으로 반송 중의 제품 로트에 대하여 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일한 조로 처리된 제품 로트인지의 여부를 확인하는 것응 매우 어렵기 때문이다.
그리고, 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치에서의 측정 결과의 판정을 사람 손으로 행하는 경우, 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과가 NG시에 즉시 제품 로트의 공정 진척을 정지시키는 것은 상기한 이유와 마찬가지의 이유로 곤란하다.
또한, 상기한 바와 같이, 종래의 시스템에 있어서는 웨이퍼 프로세스 장치에서의 조건마다의 품명을 사전에 부여한 레퍼런스 웨이퍼가 포함된 캐리어를 보관 선반으로 구분하여 보관하고 있다. 즉, 웨이퍼 프로세스 장치에서 행해지는 처리의 조건에 대응시켜 레퍼런스 웨이퍼를 캐리어마다 보관 선반으로 구분하여 보관하여 둘 필요가 있다.
그러나, 이러한 레퍼런스 웨이퍼의 보관 방법의 경우, 각 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서의 처리 조건(온도, 처리 시간, 공급 가스종 등) 및 그 조합의 수에 따라서 상호 다른 조건의 수가 증대한다. 이 때문에, 조건에 따라서 구분하여 레퍼런스 웨이퍼를 수용한 캐리어를 보관 선반에 배치하는 경우, 레퍼런스 웨이퍼를 보관하기 위해서 필요로 되는 공간(스페이스)이 증대하고 선반의 보관 용량을 오버하는 경우가 있다. 그리고, 선반 용량의 증설은 크린룸의 이용 스페이스의 감소를 뜻하고 있다.
또, 레퍼런스 웨이퍼의 관리에 관해서, 예를 들면 특개평5-304064호 공보에는 레퍼런스 웨이퍼의 삽입, 추출이 크린룸 내에서 작업 담당자에게 대한 지시서 등으로 행해지고 있고, 또한 시스템에서 레퍼런스 웨이퍼의 매엽 관리를 행하고 있지 않기 때문에, 어떤 작업에서 그 레퍼런스 웨이퍼가 어떠한 불량이 되는지를 데이터로서 남길 수 없다고 하는 문제에 대처하기 위해서, 제조 로트와 반도체 웨이퍼의 시작 상태를 기억하는 로트 마스터 파일과 제조 로트의 각 작업 조건, 작업순을 기억하고, 각 작업에 대한 반도체 웨이퍼에 관한 시작, 작업의 유무를 플래그로서 갖는 작업 조건 파일과, 작업 조건 파일 내의 작업의 진행에 따르는 플래그의 변화로부터 반도체 웨이퍼의 도입 또는 추출의 유무를 판정하는 도입 추출 검출 수단을 구비하고, 로트 단위로 진행하는 반도체 웨이퍼 프로세스에 레퍼런스 웨이퍼를 도입하여 추출하는 것을 자동적으로 작업 지시하는 관리 장치의 구성이 제안되어 있다.
또한 레퍼런스 웨이퍼 삽입의 잊음, 추출 누설 등을 해소하고, 레퍼런스 웨이퍼의 관리의 자동화를 도모하는 생산 제어 시스템으로서, 예를 들면 특개평9-186215호 공보에는 레퍼런스 웨이퍼를 필요로 하는 공정에 도달한 로트에 대하여 레퍼런스 웨이퍼 공정 순서 데이터로 전환하여 레퍼런스 웨이퍼 공정 순서 데이터에 따라 작업 지시를 행하고, 레퍼런스 웨이퍼의 삽입 및 추출 처리에 대응하여 웨이퍼 매수를 증감하도록 제어하는 시스템이 개시되어 있다.
또한 예를 들면 특개평5-74675호 공보에는 작업 지시 수단에 제조 로트 중의 각 레퍼런스 웨이퍼에 관한 처리에 관해서 지시를 행하도록 함과 함께, 레퍼런스 웨이퍼의 작업 조건, 처치에 관해서 그 내용을 변경할 수 있는 갱신 입력 수단을 구비한 레퍼런스 웨이퍼 매엽 관리 장치의 구성이 개시되어 있다.
상기 각 공보에 기재된 시스템은 어느 것이나 레퍼런스 웨이퍼의 삽입, 추출 등의 자동 관리화를 도모하는 것이지만, 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반에서의 보관시의 과제 등에 관해서는 일체 고려되어 있지 않고, 또한 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼의 로트 및 데이터의 관리 및 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터의 NG시의 대처 등에 관해서도 일체 고려되어 있지 않다.
따라서, 본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 레퍼런스 웨이퍼를 보관하는 선반의 효율적 이용을 가능하게 하는 반도체 장치의 선반 관리 시스템 및 방법 및 기록 매체를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 레퍼런스 웨이퍼의 로트와, 제품 로트와의 대응 및 그 관리를 자동화하는 시스템 및 방법 및 기록 매체를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 제품 웨이퍼의 데이터에 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터를 부가하고, 제품의 불량 해석 등을 효율화하는 생산 제어 시스템 및 방법 및 기록 매체를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과가 불량인 경우, 제품 로트의 처리를 즉시 정지 가능하게 하는 생산 제어 시스템 및 방법 및 기록 매체를 제공하는 것에 있다. 이 이외의 본 발명의 목적, 특징, 이점 등은 이하의 설명으로부터 당업자에게는 즉시 분명하게 될 것이다.
상기 목적을 달성하는 본 발명은 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 변경하는 기능을 시스템측에 구비하고, 웨이퍼 프로세스 장치의 보수 또는 평가용으로 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 시스템측에서는 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반으로의 입고시에 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 수용 가능하게 한 것이다.
또한 본 발명은 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법에 있어서, 웨이퍼 프로세스 장치에 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 기억 관리하고, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반으로의 입고시로부터 상기 보관 선반으로부터 출고되어 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실제의 처리가 행해지는 것이 확정되기까지 동안, 바람직하게는 처리 개시 시점까지 상기 레퍼런스 웨이퍼는 상기 대표명을 유지하고, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리가 행해지는 것이 확인된 경우에, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서는 상기 보관 선반에 보관되는 레퍼런스 웨이퍼가 제품 웨이퍼와 조가 되어 출고되고, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리되는 시점에서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명이 상기 제품 웨이퍼와 동일한 조건을 갖는 품명으로 변경된다.
본 발명에 따른 보관 선반은 레퍼런스 웨이퍼 혹은 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼를 로트마다 보관하는 선반에 있어서, 라인으로의 투입시 생산 제어 시스템측에서 미리 정해진 공통의 대표 품명이 부여된 복수의 레퍼런스 웨이퍼를, 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 수용한다.
본 발명에 따른 생산 제어 시스템은 반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템에 있어서, 레퍼런스 웨이퍼의 투입시, 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 대표 품명을 부여하고, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 시점에서 상기 레퍼런스 웨이퍼를 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리 조건에 대응한 품명으로 변경하는 수단을 구비하고 있다.
또한 본 발명에 따른 시스템은 제조 라인에 투입되는 웨이퍼를 보관하는 보관 선반을 구비하여 상기 웨이퍼의 자동 입출고를 행하는 선반 관리 시스템과, 배치 방식의 웨이퍼 프로세스 장치와, 크린룸에서의 웨이퍼의 자동 반송을 제어하는 반송 시스템과, 반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템과, 표본으로서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정을 행하는 측정 장치를 구비한 시스템에 있어서, 라인으로의 투입시, 웨이퍼를 관리하는 생산 제어 시스템에서는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 보관 선반에는 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 앞으로 처리될 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 수용되어 있고, 상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리되기 위해서 상기 보관 선반으로부터 출고된 후에, 상기 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시하는 조건에 대응한 품명으로 변경하는 수단을 구비한다.
본 발명에 있어서는 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서 처리가 종료된 경우, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID를 상기 생산 제어 시스템에 통지하고, 상기 생산 제어 시스템에 있어서 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 등록 관리하는 수단을 구비한다.
본 발명에 있어서는 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료 후, 상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 측정 장치에서 측정되고, 상기 측정 장치에서의 상기 측정 결과를 상기 생산 제어 시스템이 구비된 데이터 베이스에 있어서, 상기 제품 웨이퍼의 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 데이터에 부가하는 수단을 구비한다.
또한 본 발명에 있어서는 상기 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치에서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일 조건으로 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트의 다음 공정으로의 반송 및 다음 공정에서의 처리를 정지시키도록 제어하는 수단을 구비한다.
또한 본 발명에 있어서는, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에 있어서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 경보를 출력함과 함께 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일조로써 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트를 특정하여 작업자에게 필요한 처치를 통지하는 수단을 구비한 구성으로 하여도 좋다.
도 1은 본 발명의 일실시예의 시스템 구성을 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예의 생산 제어 시스템의 구성을 나타내는 도면.
도 3a는 본 발명의 일실시예의 생산 제어 시스템의 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부의 구성을 나타내는 도면이고, 도 3b는 로트·데이터 관리부의 구성을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예의 생산 제어 시스템의 규격치 관리부의 구성을 나타내는 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경을 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경을 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경을 설명하기 위한 도면.
도 8은 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼와 제품 로트의 공급및 회수를 설명하기 위한 도면.
도 9는 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼와 제품 로트와의 대응 및 측정 데이터 전개를 설명하기 위한 도면.
도 10은 본 발명의 일실시예의 처리 순서를 나타내는 흐름도.
도 11은 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경을 설명하기 위한 도면.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 공급을 설명하기 위한 도면.
도 13은 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 제품 로트의 공급과 회수를 설명하기 위한 도면.
도 14는 본 발명의 제2 실시예의 처리 순서를 나타내는 흐름도.
도 15는 본 발명의 제2 실시예의 처리 순서를 나타내는 흐름도.
도 16은 본 발명의 제2 실시예에 이용되는 웨이퍼 프로세스 장치를 모식적으로 나타내는 도면.
도 17은 배치식 웨이퍼 프로세스 장치의 구성을 모식적으로 나타내는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 생산 제어 시스템(데이터 처리 장치)
11 : 데이터 베이스
12 : 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부
13 : 로트·데이터 관리부
14 : 규격치 관리부
15 : 제어부
20 : 선반
21 : 선반 관리 시스템
30 : 웨이퍼 프로세스 장치(설비)
31 : 웨이퍼 챔버
32 : 로더
33 : 설비 내 레퍼런스 웨이퍼 로트
40 : 측정 장치
50 : 반송차
60 : 네트워크
111 : 레코드 데이터(제품과 레퍼런스 웨이퍼의 로트 대응 데이터)
112 : 레코드 데이터(기준치)
113 : 레코드 데이터(제품 웨이퍼 데이터)
121 : 변경 지시 관리부
122 : 품명 대응부
123 : 품명 변경부
131 : 로트 관리부
132 : 데이터 전개부
141 : 데이터 관리부
142 : 데이터 비교부
143 : 이상 검출부
144 : 작업 지시부
본 발명의 실시 형태에 관해서 이하에 설명한다. 본 발명의 일실시 형태에 있어서는 반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템은 레퍼런스 웨이퍼의 투입시, 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하고, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 시점에서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 대표명으로부터 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 수단을 구비하고 있다.
본 발명의 일실시 형태에 있어서는, 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에는 공통의 대표명이 부여되고, 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리되기까지의 선반으로의 입고, 선반으로부터의 출고, 반송시에 레퍼런스 웨이퍼는 상기 대표명을 유지하고 있다.
이 때문에, 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건마다 구분하여 보관 선반에 수납하는 것은 불필요하게 되고, 보관 선반에는 레퍼런스 웨이퍼가 통합하여 보관된다. 이러한 구성의 본 발명의 일실시 형태에 있어서 레퍼런스 웨이퍼를 필요로 하는 웨이퍼 프로세스 장치에 대하여 보관 선반으로부터 레퍼런스 웨이퍼를 공급할 때에 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건과 일치하는 선반을 탐색하여 레퍼런스 웨이퍼를 추출하는 조작은 불필요하게 되고, 통합하여 보관되어 있는 레퍼런스 웨이퍼를 순서대로 추출하면 좋고, 선반의 입출고의 제어를 간이화하고 있다.
본 발명의 일실시 형태에 있어서의 처리에 관해서 그 개략을 설명한다. 공정의 관리를 담당하는 생산 제어 시스템에서는 웨이퍼 프로세스 장치의 상태를 감시하고, 웨이퍼 프로세스 장치에서 다음에 처리가 행해지는 제품 로트의 요구를 보관 선반을 관리하는 선반 관리 시스템에 통지한다.
선반 관리 시스템은 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼를 보관하는 보관 선반으로부터 웨이퍼 프로세스 장치에서 동일 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼를 선택하여 로트마다 공급 캐리어에 수용함과 함께, 레퍼런스 웨이퍼의 1로트를 공급 캐리어에 수용하고 이들의 로트를 하나의 조(「배치조」라고도 한다)로 한다.
선반 관리 시스템에 있어서, 보관 선반으로부터 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트를 출고할 때, 출고 신호를 생산 제어 시스템에 대하여 통지한다. 웨이퍼의 라인에서의 진척의 관리를 행하는 생산 제어 시스템은 이 신호를 받아 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트가 출고된 것을 인식한다. 그리고, 이 출고 신호는 생산 제어 시스템이 구비한 데이터 베이스에 있어서, 상기 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 제품 웨이퍼와 동일 조건을 갖는 조건에 대응한 품명으로 변경하도록 지시 신호로서 기능한다.
보관 선반으로부터 출고된 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼 로트의 캐리어를 반송차로 선반으로부터 웨이퍼 프로세스 장치로 반송한다.
웨이퍼 프로세스 장치의 챔버 내에 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼를 장전(로딩)하고, 처리를 행할 때에 웨이퍼 프로세스 장치로부터 생산 제어 시스템에 품명 변경 지시를 송출한다.
이것을 받아 생산 제어 시스템은 그 데이터 베이스에 있어서, 상기 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 제품 웨이퍼와 동일 조건에 대응한 품명으로 변경한다.
웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료 후, 처리 종료의 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트를 반출하여 회수한다. 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리가 종료된 시점에 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응이 생산 제어 시스템에 통지되고, 생산 제어 시스템에서 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응이 등록 관리된다.
회수된 제품 로트는 다음 공정으로 반송된다.
회수된 레퍼런스 웨이퍼는 측정 장치로 반송하여 측정이 행해지고, 측정 장치에서의 측정이 종료된 레퍼런스 웨이퍼는 보관 선반에 입고된다.
레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치에서의 측정 데이터는 생산 제어 시스템의 데이터 베이스에 있어서, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일조로 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 웨이퍼의 데이터 중 상기 웨이퍼 프로세스 장치의 공정에 관한 데이터에 부가된다.
생산 제어 시스템은 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치에서의 측정 결과의 양호, 불량을 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일한 조로써 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트의 다음 공정으로 투입 및 다음 공정에서의 처리를 정지시키도록 제어함으로써, 상기 제품 로트의 공정 진척을 멈춘다. 또한, 판정 결과가 불량인 경우, 경보를 출력함과 함께 레퍼런스 웨이퍼와 동일조로써 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트를 특정하고 작업자에게 필요한 처치를 통지하도록 하여도 좋다.
<실시예>
상기한 본 발명의 실시 형태에 관해서 또한 상세하게 설명하기 위해, 본 발명의 실시예에 관해서 도면을 참조하여 이하에 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시예의 시스템 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 1을 참조하면, 데이터 베이스(11)를 구비하여 프로그램 제어되는 데이터 처리 장치로 이루어지고, 제조 라인에서의 생산, 공정, 데이터의 관리를 행하는 생산 제어 시스템(10)과, 제조 라인에 투입되는 웨이퍼를 보관하는 보관 선반(단순히 「선반」이라고도 한다 : 20)과, 생산 제어 시스템(10)의 제어 하에 보관 선반(20)에 있어서의 웨이퍼의 자동 입출고 등을 제어하는 선반 관리 시스템(21)과, 웨이퍼 프로세스 장치(30)와, 표본으로서의 레퍼런스 웨이퍼(비제품 웨이퍼(Non Product Wafer) : 「NPW」라고도 한다)의 측정을 행하는 측정 장치(40)와, 크린룸에서의 반송차(50)를 구비하고, 이들의 시스템 및 장치는 LAN(로컬 영역 네트워크) 등의 네트워크(60)로 접속되어 있다. 또, 반송차(50)를 자동 반송하는 제어 시스템(도시하지 않음)은 공지의 시스템이 이용된다. 도 1에는 웨이퍼 프로세스 장치(30)로서 어디까지나 설명을 용이하게 하기 위해서 한대의 구성이 도시되어 있지만, 산화막장치, 확산 장치, CVD 장치 등 이종의 장치 혹은 동종의 장치를 복수대 구비한 구성으로 하여도 좋다. 웨이퍼 프로세스 장치는 바람직하게는 도 17을 참조하여 설명한 바와 같은 배치 방식의 장치가 이용된다.
공정 관리 및 웨이퍼마다의 데이터 관리를 행하는 생산 제어 시스템(10)은 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 보수, 평가용으로 투입되는 레퍼런스 웨이퍼에 대하여, 그 품명으로서 조건을 특정한 품명을 설정하지 않고 미리 정해진 공통의 대표명을 부여하여 데이터 베이스(11) 상에서 기억 관리한다.
즉, 보관 선반(20)으로의 입고 시점에서는, 레퍼런스 웨이퍼에는 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리되는 제품 웨이퍼의 처리 조건에 대응하는 조건을 부여하지 않고, 조건으로서 소정의 템플릿명을 갖는 대표 품명(범용의 품명)을 부여하여 둔다.
그리고 보관 선반(20)에 있어서, 입고되는 복수매의 레퍼런스 웨이퍼는 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 수용된다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 레퍼런스 웨이퍼를 보관 선반(20)으로부터 출고하는 경우, 예를 들면 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리용으로 일개소에 통합하여 수용되어 있는 레퍼런스 웨이퍼를 순차 추출하여 캐리어에 삽입하는 조작이 행해지고, 조건마다 분리되어 배치되어 있는 레퍼런스 웨이퍼의 배치 장소를 탐색하는 조작 등이 불필요하게 되어 레퍼런스 웨이퍼의 추출 조작을 간이화하고 있다. 출고시, 레퍼런스 웨이퍼는 1로트분(예를 들면 5매) 캐리어에 저장된다.
또한 보관 선반(20)으로부터 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 행해지는 처리 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼(동일 조건으로 처리되는 웨이퍼이면 좋고 동일 제품에 한정되지 않는다)를 추출하여 로트(1로트는 통상 25매)마다 캐리어에 삽입하고, 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 함께 배치조의 캐리어를 반송차(50)에 탑재한다.
보관 선반(20)으로부터 추출된 레퍼런스 웨이퍼가 제품 로트와 함께 보관 선반(20)으로부터 출고된 시점에서, 선반 관리 시스템(21)은 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 실시되는 조건에 대응한 품명으로 변경하도록 지시하는 신호를 생산 제어 시스템(10)측에 전송한다.
생산 제어 시스템(10)은 이 신호를 받더라도 즉시 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경은 행하지 않고, 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리되는 제품 웨이퍼의 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 조건 정보를 취득한다. 또, 공정 관리를 행하는 생산 제어 시스템(10)의 데이터 베이스(11) 내에는 제품 웨이퍼에 대하여 상기 제품 웨이퍼의 각 공정이 공정순으로 상기 각 공정에서의 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서의 처리 조건의 정보와 대응시켜 저장되어 있다.
레퍼런스 웨이퍼의 로트와 제품 웨이퍼의 로트가 보관 선반(20)으로부터 목적의 웨이퍼 프로세스 장치(30)로 반송되어 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 챔버 내에 장전(로딩)되고, 레퍼런스 웨이퍼 및 제품 로트의 처리가 개시된 경우에 웨이퍼 프로세스 장치(30)는 처리 개시 신호를 생산 제어 시스템(10)에 대하여 송출한다.
생산 제어 시스템(10)에 있어서, 선반 관리 시스템(20)으로부터의 품명 변경 지시를 받은 상태에서, 또한, 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 처리 개시 신호를받았을 때에 데이터 베이스(11)에 저장되어 있는 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명(대표명)을 처리 조건에 대응한 품명으로 변경한다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 이러한 2단계의 제어에 의해 품명 변경의 제어를 행하고 있는 이유는 다음과 같다. 즉, 보관 선반(20)으로부터 레퍼런스 웨이퍼를 출고한 후, 반송차(50)에 의해 운반되어 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 챔버 내에 장전되어 처리가 개시되기 직전까지의 과정에 있어서, 레퍼런스 웨이퍼의 손상, 처리의 정지 사유의 발생 혹은 반송차(50)에서의 장해 등에 의해 처리가 개시되지 않는 경우가 있다. 미처리의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 처리 조건을 반영한 품명을 사전에 설정하는 것은, 레퍼런스 웨이퍼가 상기 처리 조건와는 다른 처리 조건으로 변경되는 경우 등에 대하여 효율적으로 대처할 수 없고, 웨이퍼 관리가 복잡화되는 등의 문제가 있다. 그래서, 본 발명의 일실시예에 있어서는 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반(20)으로의 입고, 보관 선반(20)으로부터의 출고, 반송의 각 공정 및 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리가 확정되기까지 동안, 레퍼런스 웨이퍼는 대표명을 유지하고, 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리가 개시된 것이 확인된 시점에서 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 조건을 반영한 품명으로 변경함으로써, 레퍼런스 웨이퍼의 관리의 신뢰성, 정합성을 보증하고 있다. 또, 데이터 베이스(11)에 저장되어 있는 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명(대표명)을 처리 조건에 대응한 품명으로 변경하는 타이밍은 레퍼런스 웨이퍼의 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리가 개시된 시점으로부터 시간적으로 다소 어긋나더라도, 예를 들면 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 종료시까지 변경하도록 하여도 좋다.
또한, 본 발명의 일실시예에 있어서는 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 처리 종료시, 동일조로서 처리된 제품 웨이퍼의 로트 ID(「로트 번호」라고도 한다)와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응 관계를 생산 제어 시스템(10)에 통지하고, 생산 제어 시스템(10)은 이 대응 관계를 데이터 베이스(11)에서 관리한다.
웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 종료 후, 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼가 반송차(50)로 회수되고, 웨이퍼 프로세스 장치(30)가 예를 들면 산화 장치이면, 세정 등 다음 공정에서의 처리로 되돌아간다.
한편, 회수된 레퍼런스 웨이퍼는 측정 장치(40)로 반송되어 측정 장치(40)에서 필요한 측정 검사가 행해지고, 측정 장치(40)는 측정 결과를 생산 제어 시스템(10)에 송신한다.
생산 제어 시스템(10)에서는 데이터 베이스(11)로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 동일한 배치조로서 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리된 제품 로트의 로트 ID 및 상기 로트 ID로 처리되는 제품 웨이퍼를 검색하고, 데이터 베이스(11) 내의 제품 웨이퍼 데이터의 레코드 내의 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 처리 공정에 대응하는 데이터란에 측정 결과를 저장한다(도 9의 ③ 참조).
생산 제어 시스템(10)은 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치(40)에 의한 측정 결과를 데이터 베이스(11) 내의 상기 레퍼런스 웨이퍼가 처리된 조건에 대응하는 규격치(도 9의 112 참조)와 비교함으로써, 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 상태를 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우에는 레퍼런스 웨이퍼와 동일조(동일 배치조)로 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리된 제품 로트의 다음 공정으로의 반송 및 다음 공정에서의 처리를 정지시키도록 제어한다.
생산 제어 시스템(10)은 데이터 베이스(11)에 있어서 레퍼런스 웨이퍼에 관해서 품명, 로트 ID를 기억 관리하고, 측정 장치(40)에서 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과가 불량으로 판정되었을 때에 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 번호 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 하나의 조로서 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리되는 제품 로트의 로트 ID를 검색하고, 상기 로트 ID의 제품 웨이퍼의 현재의 공정 정보로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 동일조로서 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리된 제품 로트가 제조 라인의 어떤 공정 및 상태에 있는지 출력 장치에 출력함과 함께, 제품 로트가 있는 웨이퍼 프로세스 장치에서 현재 처리 중에 있는 경우, 상기 처리를 정지하도록 지시하거나 혹은 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 경보를 발하는 등 필요한 처치를 행할 수 있다.
도 2는 상술한 본 발명의 일실시예에 있어서의 생산 제어 시스템(10)의 구성의 일례를 나타내는 도면이다. 도 2를 참조하여, 본 발명의 일실시예에 있어서의 생산 제어 시스템(10)에 관해서 설명한다. 생산 제어 시스템(10)은 레퍼런스 웨이퍼의 변경 전과 변경 후의 품명을 관리하는 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부(12)와, 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리된 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와 데이터의 대응을 관리하는 로트·데이터 관리부(13)와, 각 조건마다 규격치를 관리하는 규격치 관리부(14)와, 전체를 제어하는 제어부(15)를 구비한다.
도 3의 (a)는 생산 제어 시스템(10)의 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부(12)의구성의 일례를 나타내는 도면이다. 도 3의 (a)를 참조하면, 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부(12)는 선반 관리 시스템(21) 및 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경 지시를 관리하는 변경 지시 관리부(121)와, 데이터 베이스(11)에 있어서 레퍼런스 웨이퍼의 변경 전의 품명과 변경 후의 품명을 대응시키는 품명 대응부(122)와, 데이터 베이스(11)에 있어서 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 변경하는 품명 변경부(123)를 구비하고 있다.
도 3의 (b)는 생산 제어 시스템(10)의 로트·데이터 관리부(13)의 구성의 일례를 나타내는 도면이다. 도 3의 (b)를 참조하면, 로트·데이터 관리부(13)는 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 종료시에 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터의 종료 신호를 받아 하나의 배치로서 처리된 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 관리하는 로트 관리부(131)와, 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치(40)에서의 측정 데이터를 제품 웨이퍼의 데이터로 설정하는 데이터 전개부(132)를 구비하고 있다.
도 4는 생산 제어 시스템(10)의 규격치 관리부(14)의 구성의 일례를 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 규격치 관리부(14)는 웨이퍼 프로세스 장치(30)에 있어서의 조건마다의 규격치(상한·하한)의 데이터 베이스(11)로의 설정 관리를 행하는 데이터 관리부(141)와, 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치(40)에서의 측정 데이터를 규격치와 비교하는 데이터 비교부(142)와, 데이터 비교부(142)에서의 비교의 결과, 측정 데이터가 규격치를 오버 혹은 규격치에 미치지 않는 경우에 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트, 레퍼런스 웨이퍼의 처리를 정지하도록 제어하고 또한 알람을 출력하는 이상 검출부(143)와, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터가 규격치를 오버 혹은 규격치에 미치지 않는 경우에 대상의 제품 웨이퍼, 레퍼런스 웨이퍼에 필요로 되는 처치를 표시 장치에 출력하여 작업을 지시하는 작업 지시부(144)를 구비하고 있다.
레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부(12)와, 로트·데이터 관리부(13)와, 규격치 관리부(14)와, 전체를 제어하는 제어부(15)는 생산 제어 시스템을 구성하는 컴퓨터로 실행되는 프로그램에 의해 그 기능이 실현된다. 이 경우, 상기 프로그램을 기록한 기록 매체(FD, MT(자기 테이프), CD-ROM, DVD(digital versatile disk), 반도체 메모리 등) 혹은 유선 또는 무선의 통신 매체로부터 상기 프로그램을 판독 장치 및 소정의 인터페이스(모두 도시되지 않음)로 판독하고, 컴퓨터의 주기억에서 실행함으로써 본 발명을 실시할 수 있다.
즉, 생산 제어 시스템(10)을 구성하는 데이터 처리 장치(컴퓨터)에서 실행되는 프로그램으로서는, (a) 레퍼런스 웨이퍼의 라인으로의 투입시, 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 웨이퍼 프로세스 장치(30) 상에서 상기 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼가 처리되는 시점에서 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터의 처리 개시의 통지를 받아 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 대표 품명으로부터 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 조건으로 변경하는 처리와, (b) 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 종료시에 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터의 종료 신호를 받아 동일 배치조로서 처리된 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 관리하는 처리와, (c) 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치(40)에 의한 측정 데이터를 제품 웨이퍼의 데이터로 설정하는 처리와, (d) 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼에 관해서 측정 장치(40)에 의한 측정 데이터를 규격치와 비교하는 처리와, (e) 비교의 결과, 불가인 경우, 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트의 처리를 정지시키도록 제어하는 처리의 상기 (a) 내지 (e)의 처리로 이루어진다.
이하, 본 발명의 일실시예의 동작에 관해서 구체예에 의거하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경을 설명하기 위한 도면이다.
도 5의 (a)에 도시한 바와 같이, 제품 웨이퍼(품명 「JP01」)는 공정 순서로서 산세정 공정 A(AAA), 성막 공정 B(BBB), 에칭 공정 C(CCC), 플라즈마 처리 D(DDD), …를 포함한다. 또, 공정 A∼D의 「AAA」, 「BBB」, 「CCC」, 「DDD」는 각각 각 공정에 있어서의 조건을 나타내는 정보이다. 제품 웨이퍼의 공정 순서에 있어서의 각 공정마다의 조건 정보는 각 공정에 대응시켜 생산 제어 시스템(10)의 데이터 베이스(11) 내에서 기억 관리된다.
도 5의 (b)에 도시한 바와 같이, 레퍼런스 웨이퍼는 투입시의 품명은 대표명으로서 예를 들면 「성막 REF」로 설정되어 있고, 공정 순서는 레퍼런스 웨이퍼의 투입 E(EEE), 성막 공정 B(???), 막 두께 측정 F(FFF), …, 레퍼런스 웨이퍼 입고 G(GGG)로 이루어진다. 「EEE」, 「???」, 「FFF」, 「GGG」는 레퍼런스 웨이퍼의 각 공정에 있어서의 조건을 나타내는 정보이다.
생산 제어 시스템(10)에 있어서 관리되는 레퍼런스 웨이퍼에 있어서, 성막 공정 B의 조건 정보는「???」로 되어 있고, 이 중 3자릿수의 「?」는 와일드 카드이다. 또, 성막 공정 B의 조건 정보는 「???」는 어디까지나 설명을 위한 것이고, 조건의 자릿수는 3자릿수 등으로 한정되는 않는 것은 물론이다.
레퍼런스 웨이퍼는, 성막 공정 B에 있어서 제품 웨이퍼와 동일한 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시 처리된다. 성막 공정 B에 있어서 제품 웨이퍼의 성막 공정 B의 조건 정보(조건 키)는 도 5의 (a)의 제품 웨이퍼와 마찬가지로 「BBB」로 되고(도 5의 (c) 참조), 이 레퍼런스 웨이퍼의 품명은 성막 공정 B의 조건을 반영한 「성막 BBB」로 변경된다. 도 5의 (d)는 데이터 베이스(11) 내에서 기억 관리되는 레퍼런스 웨이퍼의 변경후의 품명, 투입시의 품명을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 있어서의 품명 변경의 처리 순서를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 1 및 도 6을 참조하여, 본 발명의 일실시예에 있어서의 품명 변경의 처리 순서에 관해서 설명한다.
보관 선반(20)으로의 입고시, 레퍼런스 웨이퍼는 투입시의 품명은 대표명 「성막 REF」로 되어 있고(도 6의 ①), 선반 관리 시스템(21)이 생산 제어 시스템(10)으로부터의 지시를 받아 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리하기 위한 제품 웨이퍼를 선반으로부터 추출하여 캐리어에 장전하는 데에 임하여, 동일 조건으로 처리되는 레퍼런스 웨이퍼를 1로트 추출하여 제품 로트와 배치조로 하는 시점에서도 레퍼런스 웨이퍼의 품명은 대표명 「성막 REF」 그대로 되어 있다.
보관 선반으로부터 출고시, 선반 관리 시스템(21)은 생산 제어 시스템(10)에품명 변경 지시를 송출한다(도 6의 ②). 레퍼런스 웨이퍼의 품명은 대표명 「성막 REF」 그대로 되어 있다.
반송차(50)로 웨이퍼 프로세스 장치(30)로 반송한다(도 6의 ③). 이 때도 레퍼런스 웨이퍼의 품명은 대표명 「성막 REF」 그대로 되어 있다.
그리고 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리 개시시에 웨이퍼 프로세스 장치(30)는 생산 제어 시스템(10)에 처리 개시 신호를 통지하고(도 6의 ④), 이것을 받아 생산 제어 시스템(10) 내에서는 데이터 베이스의 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 제품 웨이퍼의 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 조건 정보 「BBB」를 반영한 「성막 BBB」로 설정한다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 있어서의 품명 변경을 설명하기 위한 설명도이다. 웨이퍼 프로세스 장치(30)가 산화 장치이고, 레퍼런스 웨이퍼(품명 A)는 투입 공정(조건 「EEE」), 산화 공정(조건 「???」), 산화막 두께 측정 공정(조건 「FFF」), 레퍼런스 웨이퍼의 완료 공정(조건 「GGG」)의 각 공정이 공정 순서의 순으로 조건 정보와 함께 데이터 베이스(11)에서 기억 관리되어 있고, 레퍼런스 웨이퍼의 투입·반송시에는 산화 공정의 조건은 「???」로 유지되어 있고, 산화 공정에서의 처리 개시시에 제품 웨이퍼의 조건에 대응하여 레퍼런스 웨이퍼의 조건에 따라서 투입, 반송시의 「???」로부터 각각, 「BB1」, 「BB2」, 「BB3」으로 변경되고, 이와 같이, 조건에 따라서 처리 개시 후, 3종의 다른 품명(B, C, D)이 파생한다. 3종의 다른 품명(B, C, D)은 조건 「BB1」, 「BB2」, 「BB3」을 각각 반영하는 품명(예를 들면 「성막 BB1」, 「성막 BB2」, 「성막 BB3」 등)으로 된다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 일실시예의 처리를 설명하기 위한 도면이다. 도 10은 본 발명의 일실시예의 처리를 흐름도로 나타낸 것이다. 도 8 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 일실시예의 처리의 흐름을 설명한다.
웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터의 제품 로트의 요구를 선반 관리 시스템(21)에 통지한다(도 8의 ①).
투입시에 생산 제어 시스템(10)측에서 미리 정해진 공통의 대표 품명이 부여되어 있는 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼를 보관하는 보관 선반(20)에 있어서, 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 동일 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼를 선택하여 로트마다 캐리어에 수용함과 함께, 레퍼런스 웨이퍼의 1로트를 캐리어에 수용하여 이들의 로트를 하나의 배치조로 한다(도 8의 ②, 도 10의 스텝 101).
선반 관리 시스템(21)에 있어서, 보관 선반(20)으로부터 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 출고시, 생산 제어 시스템(10)의 데이터 베이스(11)에 있어서 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 제품 웨이퍼와 동일 조건 키를 갖는 공정 순서명으로 변경하도록 지시를 송출한다(도 10의 스텝 102).
하나의 배치조를 선반(20)으로부터 웨이퍼 프로세스 장치(30)로 반송한다(도 8의 ③, 도 10의 스텝 103).
웨이퍼 프로세스 장치(30)의 챔버 내에 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼를 장전하고(도 10의 스텝 104), 처리를 행할 때에 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 상기 생산 제어 시스템(10)으로 처리 개시의 통지를 행하고, 이에 따라 품명 변경의 실행을 지시한다(도 10의 스텝 105).
이 지시를 받아 생산 제어 시스템(10)의 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리부(12)는 처리가 확정된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경한다(도 10의 스텝 106).
웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 처리 종료시, 웨이퍼 프로세스 장치(30)는 생산 제어 시스템(10)에 대하여 동일 배치조로 처리된 제품 로트 ID와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID의 조합을 통지하고(도 9의 ①, 도 10의 스텝 107), 이 지시를 받아 생산 제어 시스템(10)의 로트·데이터 관리부(13)는 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응을 관리한다(도 10의 스텝 108).
제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼를 회수한다(도 8의 ⑤, 도 10의 스텝 109).
제품 로트를 다음 공정으로 반송한다(도 8의 ⑥).
레퍼런스 웨이퍼를 측정 장치(40)로 반송하여 측정을 행한다(도 8의 ⑦, 도 10의 스텝 110).
측정 데이터는 생산 제어 시스템(10)에 송신되고(도 10의 ②), 생산 제어 시스템(10)의 로트·데이터 관리부(13)에서 데이터 베이스(11) 내의 제품 웨이퍼의 데이터에 측정 데이터를 부가한다(도 9의 ③, 도 10의 스텝 111).
또한, 생산 제어 시스템(10)의 규격치 관리부(14)에 있어서 측정 데이터를 규격치와 비교 판정하고(스텝 112), NG인 경우에는 동시에 처리된 제품의 공정 진척을 정지시킨다(도 9의 ④, 도 10의 스텝 113).
도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 있어서는 생산 제어 시스템 (10)은 데이터 베이스(11)에 있어서, 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 통지된 제품로트와 레퍼런스 웨이퍼의 대응의 통지를 받아 웨이퍼 프로세스 장치(30)의 공정(전개 공정 : 「게이트 산화」)에 관련시켜, 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID(NPW 로트의 「A」)와 제품 로트 ID(전개 로트 「B」)와의 대응 관계를 등록 관리한다[도 9의 레코드 데이터(111) 참조].
또한, 생산 제어 시스템(10)은 데이터 베이스(11)에 있어서, 측정 장치(40)에의한 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터의 상한과 하한을 조건마다 기억 관리하고 있고[도 9의 레코드 데이터(112)], 또한 측정 장치(40)로부터의 측정 데이터를 수취하여 제품 웨이퍼(제품 로트 ID는 전개 로트 「B」))의 데이터로서 전개 공정인 「게이트 산화」 공정에 대응한 데이터 영역에 측정 장치(40)에 의한 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터가 저장된다[도 9의 레코드 데이터(113) 참조].
다음에, 본 발명의 제2 실시예에 관해서 설명한다. 도 16은 본 발명이 적용되는 웨이퍼 프로세스 장치를 설명하기 위한 도면이다. 웨이퍼 프로세스 장치(30)는 장치 내에 레퍼런스 웨이퍼 로트를 저장한 레퍼런스 캐리어(35)를 구비하고, 웨이퍼 프로세스 장치(30) 내에 레퍼런스 웨이퍼를 소정 매수 유지하고, 챔버(31) 내로의 제품 웨이퍼 장전시, 장치 내의 레퍼런스 웨이퍼를 소트하여 장전하는 기구를 구비하고 있다. 본 발명의 제2 실시예는 이러한 구성의 웨이퍼 프로세스 장치에 본 발명을 적용한 것이다.
반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 생산 제어 시스템에서는 공통의 대표 품명을 미리 부여하고, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 상기 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고, 통합하여 보관 선반에 수용하는 것은 상기 실시예와 마찬가지이다. 본 발명의 제2 실시예에 있어서도 상기 실시예와 마찬가지로 하여, 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 처리 개시시에 레퍼런스 웨이퍼의 품명이 변경된다.
도 11은 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 품명 변경의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 11을 참조하면, 레퍼런스 웨이퍼의 품명은 투입시 「A」로 되고, 웨이퍼 프로세스 장치(30)에서의 조건이 「BBB」인 경우, 레퍼런스 웨이퍼는 제품 웨이퍼와 동시에 처리 개시시, 제품 웨이퍼와 동일한 조건 「BBB」를 반영한 품명으로 변경되고(제품명은 「B」), 회수 캐리어로 회수되는 레퍼런스 웨이퍼의 로트(도 11의 회수 로트)의 품명은 「B」(제품 웨이퍼의 조건 「BBB」를 반영한 품명)로 설정되어 있다. 또, 도 11에 있어서, 보관 선반(20)으로부터 제품 로트를 웨이퍼 프로세스 장치(30)에 공급하는 경우, 레퍼런스 웨이퍼의 로트 회수용에 빈 캐리어를 반송한다. 이것에 대해서는 후술한다.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 공급 과정을 설명하기 위한 도면이다. 도 14는 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 공급 과정을 흐름도로서 설명한 것이다. 도 12 및 도 14를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 공급 과정을 설명한다.
웨이퍼 프로세스 장치(30)에 있어서, 레퍼런스 웨이퍼가 비게 되면, 빈 레퍼런스 캐리어를 웨이퍼 프로세스 장치로부터 인출한다(도 12의 ①, 도 14의 스텝 201, 202).
레퍼런스 캐리어를 회수한다(도 12의 ②, 도 14의 스텝 203).
웨이퍼 프로세스 장치(30)는 새로운 레퍼런스 캐리어를 선반 관리 시스템(21)에 요구한다(도 12의 ③, 도 14의 스텝 204).
보관 선반(20)으로부터 레퍼런스 웨이퍼를 소정 매수(1로트분, 예를 들면 25매) 추출하여 레퍼런스 캐리어에 수용하고, 웨이퍼 프로세스 장치(30)로 반송한다(도 12의 ④, 도 14의 스텝 205).
반송된 레퍼런스 웨이퍼의 로트를 웨이퍼 프로세스 장치(30) 내에 수용한다(도 12의 ⑤, 도 14의 스텝 206).
도 13은 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 회수 과정을 설명하기 위한 도면이다. 도 15는 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 회수 과정을 흐름도로서 나타낸 것이다. 도 13 및 도 15를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 회수 과정을 설명한다.
웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 제품 로트의 요구를 선반에 통지한다(도 13의 ①, 도 15의 스텝 301).
웨이퍼 프로세스 장치(30)에서 동일 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼를 자동 선별하여 로트마다 캐리어에 수용하여 하나의 배치로 한다(도 13의 ②, 도 15의 스텝 302).
선반(20)으로부터 하나의 배치조 및 빈 회수 캐리어를 웨이퍼 프로세스 장치(30)로 반송한다(도 13의 ③, 도 15의 스텝 303).
웨이퍼 프로세스 장치(30)에 있어서 배치조 및 웨이퍼 프로세스 장치(30) 내의 레퍼런스 웨이퍼를 소트하여 챔버 내에 장전하고 처리를 행한다(도 13의 ④, 도 15의 스텝 304, 305). 그 때에, 상기 실시예와 마찬가지로 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 생산 제어 시스템(10)의 데이터 베이스(11)에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 처리 조건에 대응한 품명으로의 자동 변경의 실행을 지시한다. 이 이후의 처리는 도 10의 스텝 108 이후의 처리와 마찬가지로 된다.
즉 도 13을 참조하면, 웨이퍼 프로세스 장치(30)로부터 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼를 수용한 회수 캐리어를 회수한다(⑤). 상기 제품 로트를 다음 공정으로 반송한다(⑥). 회수 캐리어에 수용되는 레퍼런스 웨이퍼를 측정 장치(40)로 반송하여 측정을 행한다(⑦). 측정 장치(40)에서 측정 데이터의 제품 웨이퍼에의 데이터로의 전개 및 측정 데이터 이상시의 처치는 상기 실시예와 마찬가지이다.
또 상기 실시예에 있어서, 기준치의 관리 및 측정 장치(40)에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터와 기준치의 비교를 생산 제어 시스템(10)측에서 일원 관리하고 있지만, 측정 장치(40)에 있어서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터와 기준치의 비교를 측정 장치(40)측에서 행하여 비교 결과를 생산 제어 시스템(10)에 통지한다고 하는 분산 처리 구성으로 하여도 좋다. 또한 도 1에 있어서 선반 관리 시스템(21)은 보기 쉽게 하기 위해서 보관 선반(20)의 외부에 설치하는 구성으로 나타냈지만, 보관 선반(20) 내에 구비하여도 좋은 것은 물론이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 하기 기재의 효과를 발휘한다.
본 발명의 제1 효과는 레퍼런스 웨이퍼를 보관하는 선반 스페이스를 유효하게 이용할 수 있다는 것이다.
그 이유는 본 발명에 있어서는 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 처리 조건에 의해서 구분하지 않고 통합하여 선반에 보관하는 구성으로 하고, 선반 내의 레퍼런스 웨이퍼의 재고수를 삭감 가능하게 하고 있기 때문이다.
본 발명의 제2 효과는 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과가 NG일 때 필요에 따라서 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 웨이퍼의 공정 진척을 즉시 정지시킬 수 있다는 것이다.
그 이유는, 본 발명에 있어서는 생산 제어 시스템에서 레퍼런스 웨이퍼와 제품 로트와의 대응을 관리하고, 레퍼런스 웨이퍼의 측정 결과의 이상 검출시, 제조 라인의 각 장치에 대하여 제품 로트의 처리 정지에 필요한 지시를 송출하는 구성으로 하고 있기 때문이다.
본 발명의 제3 효과는 제품 웨이퍼와 레퍼런스 웨이퍼의 관리를 확실하게 행할 수 있다는 것이다.
그 이유는, 본 발명에 있어서는 웨이퍼 프로세스 장치의 처리 종료 시점에서 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 관리를 행하고 있기 때문이다.
발명의 제4 효과는 제품의 불량 해석을 용이화하는 것이다.
그 이유는, 본 발명에 있어서는 레퍼런스 웨이퍼의 측정 데이터를 제품 웨이퍼의 데이터로서 관리하고 있기 때문이다.
본 발명이 제품으로서의 웨이퍼에 대해 기술되었다는 것에 특히 유의하여야 한다. 그러나, 본 발명은 다른 제품 및 레퍼런스 제품에 대해 제품의 품질을 로트마다 검사하는데 동일하게 적용가능하다.
따라서, 본 발명은 레퍼런스 제품 또는 일반적인 제품에도 일반화할 수 있으며, 이 경우 용어 "웨이퍼"는 "레퍼런스 제품" 또는 간단하게 "제품"으로 치환될 수 있고 "웨이퍼 프로세스 장치"는 일반적인 "제품 프로세스 장치"로 치환될 수 있다.

Claims (33)

  1. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 웨이퍼를 관리하는 방법에 있어서,
    상기 제조 라인을 관리하는 시스템측에 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 변경하는 기능을 포함하고,
    웨이퍼 프로세스 장치의 보수 또는 평가용으로 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 시스템에 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고,
    상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반으로의 입고시에 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고, 통합하여 상기 보관 선반에 수용 가능하게 한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  2. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 웨이퍼를 관리하는 방법에 있어서,
    웨이퍼 프로세스 장치에 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 미리 부여하여 기억 관리하고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼의 보관 선반으로의 입고시로부터 상기 보관 선반으로부터 출고되어 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실제의 처리가 행해지는 것이 확정되기까지 동안, 상기 레퍼런스 웨이퍼는 상기 대표명을 유지하고,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리가 행해지는 것이 확인된 경우에, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리의 개시 시점에서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  4. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법에 있어서,
    제조 라인의 관리를 행하는 생산 제어 시스템에 투입되는 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 공통의 대표 품명을 부여하고, 상기 공통의 대표 품명이 부여된 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 보관 선반에 입고하여 두고,
    상기 생산 제어 시스템에서는 상기 레퍼런스 웨이퍼에 부여된 상기 대표 품명을 상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리하기 위해서 상기 보관 선반으로부터 출고 반송되어 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리될 때까지 유지하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 제품 웨이퍼와 함께 처리되는 시점에서, 상기 생산 제어 시스템에 있어서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리의 조건을 나타내는 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 보관 선반으로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼의 출고시, 상기 보관 선반측으로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시되는 처리 조건에 대응한 품명으로의 변경 지시를 상기 생산 제어 시스템측에 송출하고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 보관 선반으로부터 목적의 웨이퍼 프로세스 장치로 반송되어, 상기 웨이퍼 프로세스 장치의 처리실 내에 장전되어 처리가 개시된 시점에서 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 처리 개시의 통지를 받아 상기 생산 제어 시스템에서, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표 품명으로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시되는 처리 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리가 종료된 경우, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서 동일한 조(組)로서 처리된 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID(식별 정보)와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID를 상기 생산 제어 시스템에 통지하고, 상기 생산 제어 시스템에서, 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 등록 관리하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  8. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    장치 본체 내에 소정 매수의 레퍼런스 웨이퍼의 로트를 수용하는 웨이퍼 프로세스 장치에서, 레퍼런스 웨이퍼의 로트가 비어 있을 때, 상기 보관 선반으로부터 레퍼런스 웨이퍼를 출고하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치 내에 수용 보관하고,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서, 상기 보관 선반으로부터 반송된 제품 로트와, 상기 웨이퍼 프로세스 장치 내의 상기 레퍼런스 웨이퍼가 처리실 내에 장전되어 처리가 개시되는 경우에 처리 개시의 취지를 상기 생산 제어 시스템에 통지하고,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 통지를 받아 상기 생산 제어 시스템에서, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시되는 처리 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  9. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서, 상기 제품 웨이퍼의 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 조의 처리가 종료된 후, 상기 제품 웨이퍼의 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 조가 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 반출되어 회수되고, 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대해서는 측정 장치에서 측정을 행하고,
    상기 생산 제어 시스템에서, 상기 측정 장치로부터 수취한 상기 측정 결과를 상기 제품 웨이퍼의 상기 웨이퍼 프로세스 장치의 공정에 관한 데이터에 부가하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  10. 반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템측에서 미리 정해진 공통의 대표 품명이 부여되어 있는 레퍼런스 웨이퍼와, 제품 웨이퍼를 보관하는 보관 선반에서, 웨이퍼 프로세스 장치에서 동일 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼를 선택하여 로트마다 캐리어에 수용함과 함께, 레퍼런스 웨이퍼의 1로트를 캐리어에 수용하여 이들의 로트를 하나의 조로 하는 공정과,
    상기 보관 선반으로부터 상기 제품 웨이퍼의 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 출고시, 상기 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리되는 조건으로 설정하기 위한 지시를 상기 생산 제어 시스템에 송출하는 공정과,
    상기 제품 웨이퍼의 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트의 조를 상기 보관 선반으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치로 반송하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치의 챔버 내에 상기 제품 웨이퍼와 상기 레퍼런스 웨이퍼를 장전하여 처리를 개시할 때에, 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 상기 생산 제어 시스템에 대하여 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경의 실행을 지시하는 공정과,
    상기 생산 제어 시스템에서, 상기 품명 변경의 실행 지시를 받아 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 대표 품명으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료시, 동시에 처리된 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응을 상기 생산 제어 시스템에 통지하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 통지를 받아 상기 생산 제어 시스템에서 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응을 등록 관리하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 처리 종료의 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트를 회수하는 공정과,
    상기 회수된 상기 제품 로트를 다음 공정으로 반송하는 공정과,
    상기 회수된 레퍼런스 웨이퍼를 측정 장치로 반송하여 측정을 행하는 공정과,
    상기 측정 장치에서 측정된 레퍼런스 웨이퍼를 상기 보관 선반에 입고하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  11. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여, 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템에서 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 상기 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 보관 선반에 수용하고,
    장치 본체 내에 소정 매수의 레퍼런스 웨이퍼를 수용하는 레퍼런스 캐리어를 포함하고, 제품 웨이퍼와 함께 레퍼런스 웨이퍼를 조로서 동시에 처리하는 웨이퍼 프로세스 장치에서, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트가 비게 되면, 빈 레퍼런스 캐리어를 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 인출하는 공정과,
    상기 레퍼런스 캐리어를 상기 보관 선반에 자동 반송하는 공정, 및
    상기 보관 선반으로부터 레퍼런스 웨이퍼를 수용한 레퍼런스 캐리어를 출고하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치로 반송하고, 상기 레퍼런스 웨이퍼를 상기 웨이퍼 프로세스 장치 내에 수용하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  12. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여, 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템에서 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를 상기 레퍼런스 웨이퍼가 앞으로 처리될 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 보관 선반에 수용하고,
    장치 본체 내에 소정 매수의 레퍼런스 웨이퍼를 수용하는 레퍼런스 캐리어를 포함하고, 제품 웨이퍼와 함께 레퍼런스 웨이퍼를 동시에 처리하는 웨이퍼 프로세스 장치로부터 제품 로트의 요구를 상기 보관 선반에 통지하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동일 조건으로 처리되는 제품 웨이퍼를 자동 선별하여 로트마다 캐리어에 수용하여 조로 하는 공정과,
    상기 보관 선반으로부터 상기 제품 로트의 조의 캐리어 및 레퍼런스 웨이퍼 회수를 위한 빈 회수 캐리어를 상기 웨이퍼 프로세스 장치로 반송하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서, 상기 제품 로트 및 상기 웨이퍼 프로세스 장치 내의 레퍼런스 웨이퍼를 챔버 내에 장전하고, 처리를 행할 때에 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 상기 생산 제어 시스템에 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경의 실행을 지시하는 공정과,
    상기 생산 제어 시스템에서, 상기 품명 변경의 실행 지시를 받아 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 대표 품명으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료시, 동시에 처리된 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응을 상기 생산 제어 시스템에 통지하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 통지를 받아 상기 생산 제어 시스템에서 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응을 등록 관리하는 공정과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 상기 제품 로트와 상기 레퍼런스 웨이퍼를 수용한 캐리어를 회수하는 공정과,
    상기 제품 로트를 다음 공정으로 반송하는 공정과,
    상기 회수된 레퍼런스 웨이퍼를 측정 장치로 반송하여 측정을 행하는 공정, 및
    상기 측정 장치에서 측정된 레퍼런스 웨이퍼를 상기 보관 선반에 입고하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일한 조로서 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트의 다음 공정으로의 투입 및 다음 공정에서의 처리를 정지시키도록 제어하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 경보를 출력함과 함께 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일 조로서 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트를 특정하여 작업자에게 필요한 처치를 통지하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법.
  15. 삭제
  16. 레퍼런스 웨이퍼의 변경 전과 변경 후의 품명을 관리하는 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리 수단과,
    웨이퍼 프로세스 장치로 처리된 제품 웨이퍼의 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응, 및 데이터의 관리를 행하는 로트·데이터 관리 수단과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리에 관한 각 조건 마다의 규격치를 관리하는 규격치 관리부 수단
    을 포함하고,
    공정 순서, 및 웨이퍼 데이터를 기억 관리하기 위한 데이터 베이스에 접속되고,
    레퍼런스 웨이퍼의 라인에의 투입시, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 보관 선반에는, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를, 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 앞으로 처리될 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 수용하고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리 수단은,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경 지시를 관리하는 수단과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치상에서 상기 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼가 처리되는 시점에서 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 처리 개시의 통지를 받았을 때에 해당 통지를 품명 변경 실행 지시로서 인식하고, 상기 데이터 베이스에 있어서, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표 품명으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건을 반영한 품명으로 변경하는 수단
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 생산 제어 시스템.
  17. 제조 라인에 투입되는 웨이퍼를 보관하는 보관 선반을 포함하여 상기 웨이퍼의 자동 입출고를 제어하는 선반 관리 시스템과,
    웨이퍼 프로세스 장치와,
    웨이퍼의 자동 반송을 제어하는 시스템과,
    반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템과,
    표본으로서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정을 행하는 측정 장치
    를 포함하는 시스템으로서,
    상기 생산 제어 시스템에서는 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 라인에 투입하고,
    상기 보관 선반에는, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼가, 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 앞으로 처리될 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 수용 가능하게 되고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리하기 위해, 상기 보관 선반으로부터 출고된 후에 처리가 확정된 시점에서 상기 생산 제어 시스템에서 상기 출고된 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시하는 조건에 대응한 품명으로 변경하는 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리의 개시 시점에서, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표명으로부터 상기 처리의 조건에 대응한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 선반 관리 시스템이 상기 보관 선반으로부터의 상기 레퍼런스 웨이퍼의 출고시, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 실시하는 조건에 대응한 품명으로 변경하도록 지시하는 신호를 상기 생산 제어 시스템에 대하여 송출하고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 보관 선반으로부터 목적의 웨이퍼 프로세스 장치로 반송되어 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 장전되고, 상기 레퍼런스 웨이퍼의 처리가 개시되는 시점에서 상기 웨이퍼 프로세스 장치는 처리 개시 신호를 상기 생산 제어 시스템에 송출하고,
    상기 생산 제어 시스템에서, 상기 선반 관리 시스템으로부터의 품명 변경을 지시하는 신호를 미리 받아 두고, 또한, 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터 처리 개시 신호를 받았을 때에 상기 생산 제어 시스템의 데이터 베이스에 저장되어 있는 레퍼런스 웨이퍼의 상기 품명을 상기 처리 조건에 대응한 품명으로 변경하는 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  20. 제17항 또는 제18항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리가 종료된 경우, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID를 상기 생산 제어 시스템에 통지하고, 상기 생산 제어 시스템에서, 상기 제품 웨이퍼의 로트 ID와 상기 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 등록 관리하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  21. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료 후, 상기 레퍼런스 웨이퍼가 상기 측정 장치에서 측정되고, 상기 측정 장치에서의 상기 측정 결과를 상기 생산 제어 시스템이 수취하고, 상기 생산 제어 시스템에서 상기 제품 웨이퍼의 데이터에 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 데이터를 부가하는 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  22. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼의 측정 장치에서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일 조로서 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트의 다음 공정으로의 반송 및 다음 공정에서의 처리를 정지시키도록 제어하는 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에서의 상기 측정 결과의 양호, 불량을 자동 판정하고, 판정 결과가 불량인 경우, 경보를 출력함과 함께 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동일 조로서 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트를 특정하여 작업자에게 필요한 처치를 통지하는 수단을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템.
  24. 제조 라인에 투입되는 웨이퍼를 보관하는 보관 선반을 포함하여 상기 웨이퍼의 자동 입출고를 행하는 선반 관리 시스템과,
    웨이퍼 프로세스 장치와,
    반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템과,
    표본으로서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정을 행하는 측정 장치
    를 적어도 포함하고,
    상기 생산 제어 시스템은,
    레퍼런스 웨이퍼의 변경 전과 변경 후의 품명을 관리하는 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리 수단과,
    웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 웨이퍼의 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트와의 대응, 및 데이터의 관리를 행하는 로트·데이터 관리 수단과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리에 관한 각 조건마다의 규격치를 관리하는 규격치 관리부 수단을 포함하고,
    공정 순서 및 웨이퍼 데이터를 기억 관리하기 위한 데이터 베이스에 접속되고,
    레퍼런스 웨이퍼의 라인으로의 투입시, 상기 생산 제어 시스템에서는 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 보관 선반에는 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를, 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 앞으로 처리될 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 수용되어 있고,
    상기 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리 수단은 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경 지시를 관리하는 수단과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치 상에서 상기 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼가 처리되는 시점에서, 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 처리 개시의 통지를 받았을 때에 상기 통지를 품명 변경 실행 지시로서 인식하고, 상기 데이터 베이스에서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 상기 대표 품명으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건을 반영한 품명으로 변경하는 수단을 포함하고,
    상기 로트·데이터 관리 수단은 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 종료시에, 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 제품 웨이퍼의 로트 ID와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID의 통지를 받아 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 제품 웨이퍼의 로트 ID와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 상기 데이터 베이스 상에 등록 관리하는 수단과,
    상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에 의한 측정 데이터를 상기 데이터 베이스 상의 제품 웨이퍼의 데이터에 전개하는 수단을 포함하고,
    상기 규격치 관리부 수단은 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼에 관해서 상기 측정 장치에 의한 측정 데이터를 규격치와 비교하는 수단과,
    비교의 결과, 불가인 경우, 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트의 처리를 정지시키도록 제어하는 수단
    을 포함한 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼 관리 시스템.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 레퍼런스 웨이퍼 품명 관리 수단은 상기 선반 관리 시스템 및 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 레퍼런스 웨이퍼의 품명 변경의 지시 및 품명 변경 실행의 지시를 수취하여 관리하는 변경 지시 관리 수단과,
    상기 데이터 베이스에서 레퍼런스 웨이퍼의 변경 전의 품명과 변경 후의 품명을 대응시키는 품명 대응 수단과,
    상기 데이터 베이스에서 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 변경하는 품명 변경 수단을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼 관리 시스템.
  26. 제24항에 있어서,
    상기 로트·데이터 관리 수단은 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서의 처리 종료시에 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 종료 신호를 받아, 하나의 조로서 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리된 제품 로트와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 관리하는 로트 관리 수단과,
    처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에 의한 측정 데이터를 제품 웨이퍼의 데이터로 설정하는 데이터 전개 수단
    을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼 관리 시스템.
  27. 제24항에 있어서,
    상기 규격치 관리 수단은 상기 웨이퍼 프로세스 장치에 있어서의 조건마다의 규격치의 상기 데이터 베이스로의 설정 관리를 행하는 데이터 관리 수단과,
    상기 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에서의 측정 데이터를 규격치와 비교하는 데이터 비교 수단과,
    상기 데이터 비교 수단에 있어서의 비교의 결과, 상기 측정 데이터가 규격치를 오버 혹은 규격치에 미치지 않는 경우에 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트 및 레퍼런스 웨이퍼의 처리를 정지하도록 제어하고, 필요에 따라서 알람 또는 지시를 출력하는 이상 검출 수단
    을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 웨이퍼 관리 시스템.
  28. 제조 라인에 투입되는 웨이퍼를 보관하는 보관 선반을 포함하여 상기 웨이퍼의 자동 입출고를 행하는 선반 관리 시스템과,
    배치 방식의 웨이퍼 프로세스 장치와,
    반도체 장치의 제조 라인을 관리하는 생산 제어 시스템과,
    표본으로서의 레퍼런스 웨이퍼의 측정을 행하는 측정 장치
    를 포함하는 시스템으로서,
    레퍼런스 웨이퍼의 라인으로의 투입시, 상기 생산 제어 시스템에서는 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 보관 선반에는 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼를, 상기 각 레퍼런스 웨이퍼가 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 앞으로 처리될 조건에 따라서 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 수용되어 있고,
    상기 생산 제어 시스템은 공정 관리 데이터, 웨이퍼 데이터를 저장하는 데이터 베이스를 포함하고,
    (a) 레퍼런스 웨이퍼의 라인으로의 투입시, 상기 복수의 레퍼런스 웨이퍼에 대하여 미리 정해진 공통의 대표 품명을 부여하여 두고, 상기 웨이퍼 프로세스 장치 상에서 상기 레퍼런스 웨이퍼와 제품 웨이퍼가 처리되는 시점에서 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 처리 개시의 통지를 받아, 상기 데이터 베이스 상에 있어서 상기 레퍼런스 웨이퍼의 품명을 대표 품명으로부터 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서의 처리 조건으로 변경하는 처리와,
    (b) 상기 웨이퍼 프로세스 장치로부터의 종료시, 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 제품 웨이퍼의 로트 ID와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID의 통지를 받아 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 동시에 처리된 제품 웨이퍼의 로트 ID와 레퍼런스 웨이퍼의 로트 ID와의 대응을 상기 데이터 베이스 상에 등록 관리하는 처리와,
    (c) 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼의 상기 측정 장치에 의한 측정 데이터를 상기 데이터 베이스 상에 있어서 제품 웨이퍼의 데이터에 전개하는 처리와,
    (d) 상기 웨이퍼 프로세스 장치에서 처리 종료의 레퍼런스 웨이퍼에 관해서 상기 측정 장치에 의한 측정 데이터를 상기 데이터 베이스 상의 규격치와 비교하는 처리와,
    (e) 비교의 결과, 불가인 경우, 상기 레퍼런스 웨이퍼와 동시에 처리된 제품 로트의 처리를 정지하도록 제어하는 처리
    의 상기 (a) 내지 (e)의 각 처리를 상기 생산 제어 시스템을 구성하는 컴퓨터로 실행하기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체.
  29. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 제품을 관리하는 방법에 있어서,
    상기 제조 라인을 관리하는 시스템측에 상기 레퍼런스 제품의 품명을 변경하는 기능을 제공하고,
    상기 시스템에서, 제품 프로세스 장치의 보수 또는 평가용으로 투입된 복수의 레퍼런스 제품들에 대하여 미리 설정된 공통의 대표 품명을 부여하고,
    상기 복수의 레퍼런스 제품들을 보관 선반에 입고할시, 상기 레퍼런스 제품들이 처리될 상기 제품 프로세스 장치에서의 처리 조건에 따라 구분하지 않고 통합하여 상기 보관 선반에 상기 레퍼런스 제품들을 수용하는
    것을 특징으로 하는 레퍼런스 제품의 관리 방법.
  30. 반도체 장치의 제조 라인에 표본으로서 투입되는 레퍼런스 제품을 관리하는 방법에 있어서,
    제품 프로세스 장치에 투입된 복수의 레퍼런스 제품들에 대하여 미리 설정된 공통의 대표 품명에 따라 대표 품명을 기억 관리하고,
    상기 레퍼런스 제품의 상기 보관 선반으로의 입고시로부터, 상기 보관 선반으로부터 출고되어 상기 제품 프로세스 장치에서 실제의 처리가 행해진다는 것이 확인되기까지 동안, 상기 레퍼런스 제품의 상기 대표 품명을 유지하고,
    상기 제품 프로세스 장치에서의 처리가 행해지는 것이 확인된 경우에, 상기 레퍼런스 제품의 품명을 상기 대표 품명으로부터 상기 실제 처리의 조건에 적합한 품명으로 변경하는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 제품의 관리 방법.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 제품 프로세스 장치에서의 처리의 개시 시점에서, 상기 레퍼런스 제품의 품명은 상기 대표 품명으로부터 상기 처리 조건에 적합한 품명으로 변경되는 것을 특징으로 하는 레퍼런스 제품의 관리 방법.
  32. 제1항, 제2항, 제4항, 제10항, 제l1항, 제12항, 제29항, 및 제30항 중 어느 한 항에 기재된 레퍼런스 웨이퍼의 관리 방법에 이용되는 웨이퍼 보관 선반.
  33. 제17항 또는 제24항에 기재된 레퍼런스 웨이퍼의 관리 시스템에 이용되는 웨이퍼 보관 선반.
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