KR100370064B1 - 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

고밀도 정보 저장 장치에 사용되는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상부 면에 할로우(hollow) 영역을 갖는 기판과, 기판의 하부 면에 형성되어 기판을 부양시키는 에어-베어링 서페이스(air-bearing surface)로 구성된다. 또한, 기판의 하/상부에 각각 제 1마스크와 제 2마스크를 형성하는 제 1단계와, 제 1마스크를 1차 패터닝 하여 기판 하부 가장자리 일부분을 노출시키고, 노출된 영역을 식각하여 리세스(recess) 영역을 형성하는 제 2단계와, 제 1마스크를 2차 패터닝하여 기판 일부를 노출시키고, 노출된 기판을 식각하여 리세스 영역 근처에 ABS를 형성하는 제 3단계와, 제 2마스크를 패터닝하여 기판 상부의 중심부 및 가장자리 일부분을 노출시키는 제 4단계와, 노출된 기판을 식각하여 기판 상부의 중심부에는 할로우 영역을 형성하고, 기판 상부의 가장자리에 경사면을 형성하는 제 5단계로 이루어진다. 따라서, 소형 경량화된 슬라이더 헤드를 이용하여 응답 속도와 트래킹 속도 및 트래킹 정밀도를 향상시킨 광 픽업 장치 및 그 제조방법을 얻을 수 있다.

Description

광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법 {slider head of optical pick up device and method for fabricating the same}
본 발명은 고밀도 정보 저장 장치에 사용되는 미세 광학계에 관한 것으로, 특히 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근 보다 선명한 화상 정보에 대한 요구와 개인 정보 단말기에서 필수적인 소형, 경량화 된 대용량의 정보 저장 장치의 요구를 충족시키기 위해서는 정보 기록 밀도의 비약적인 증가가 필요하게 되었다.
이에 대한 기술적 대응으로 컴퓨터의 대용량 보조기억 장치로서 광자기디스크(Magneto Optical Disk:MOD)가 주 보조기억 장치로 각광을 받으면서 대용량으로 발전하고 있다.
광자기디스크는 일반 하드 디스크(hard disk)와는 달리 컴팩트 디스크 롬(Compact Disk Read Only Memory:CD-ROM)과 같이 착탈식으로 되어 있어 휴대가 가능할 뿐만 아니라 기록이 가능한 장점이 있다.
또한, 광자기디스크의 기록 방식은 하드 디스크와 같이 자계변조 기록방식을 채택하기 때문에 향후 더욱 고밀도화 될 추세에 있다.
따라서, 광자기디스크의 기록 밀도 향상이 계속되고 있으며, 컴팩트 디스크(CD), DVD(Digital Versatile Disc) 등의 광디스크의 기록 밀도를 증가시키기 위한 연구가 다양하게 진행되고 있다.
그런데, 대용량의 정보저장 장치의 요구 성능에는 높은 기록 밀도뿐만 아니라 정보의 기록/재생을 위한 데이터 액세스(access) 역시 고속화되어야 한다.
또한, 데이터 기록 밀도의 증가는 데이터 비트(bit) 크기의 축소를 의미하며, 이에 상응하여 데이터 트랙 피치가 줄어들게 된다.
따라서, 기록/재생을 위한 픽업 헤드의 트래킹(tracking) 정밀도 역시 기록 밀도의 증가에 대응하여 높아져야 한다.
즉, 정보를 기록하는 비트 크기가 축소됨에 따라 픽업 장치와 디스크 기판 간의 간극 역시 줄어들어야 하며, 간극 자체의 변화량(variation) 역시 동일한 비율로 정밀하게 제어되어야 한다.
이러한 미세 간극 제어 기술로서 이용되는 것이 유체 역학적인 부양력을 이용하여 픽업 장치가 장착된 구조물을 기판 표면으로부터 일정 높이만큼 부양시키는 이른바 부양형 슬라이더 헤드 기술이다.
이와 같이 트래킹 속도 및 정밀도를 향상시키기 위해서는 픽업 장치의 소형 경량화가 필수적이다.
광 기록/재생 장치의 정보를 기록/재생하는 과정에는 습동형(sliding contact type) 또는 부상형(flying type) 슬라이더 헤드(slider head)가 사용된다.
이러한 슬라이더 헤드 방식에는 디스크에 정보를 기록하고자할 때에는 디스크 외부면에 위치한 헤드가 디스크 임의의 위치에 착륙(landing)하여 디스크 표면과 접촉되어야 한다.
습동형 슬라이더 헤드인 경우 정보기록의 개시시점에서 헤드는 디스크의 표면과 접촉되고(contact start) 정보기록 완료시점에서 디스크 표면과의 접촉이 종료(contact stop)된다.
또한, 부상형 슬라이더 헤드인 경우, 디스크 표면과 헤드표면에는 디스크의 상대운동에 따른 공기막의 압력(air file pressure)에 의해 자기 헤드는 디스크 표면으로부터 소정량만큼 부상한 채 기록을 하게 된다.
그리고, 광 기록/재생 장치는 광 픽업 구동방식에 따라서 캐리어 구동방식과, 스윙암(swing arm) 구동방식으로 구분된다.
캐리어 구동방식은 베이스 상에 직선 이송이 가능하게 광 픽업을 설치하고, 소정의 구동수단에 의해 광 픽업을 광디스크의 내외주 방향으로 이동시키는 방식이다.
한편, 스윙암 구동방식은 베이스 상에 회동 가능하게 설치된 스윙암의 회동을 이용하여 광 픽업에 의해 광디스크에 형성된 광 스폿을 이송시키는 방식으로, 광디스크에 맺힌 광 스폿의 위치를 일 힌지점을 기준으로 스윙암을 회동시킴에 의해 결정함으로서, 통상의 캐리어 구동방식에 비하여 액세스 시간을 단축시킬 수 있다는 이점이 있다.
이러한 픽업 장치의 응답 특성(transient characteristics)을 결정하는 변수로는 현가된(suspended) 픽업 장치의 탄성 계수(spring constant)와 픽업 장치의 유효 질량(effective mass)과 감쇄 상수(damping constant) 등이 있다.
일반적으로 기계적 시스템의 응답 속도는 이 시스템의 공진 주파수(resonantfrequency)에 비례하게 되며, 구조물의 공진 주파수는 수학식 1과 같이 표현된다.
위의 수학식 1에서f r 은 구조물의 공진 주파수,k는 진동 방향에 대한 구조물의 탄성 계수,M은 구조물의 질량을 각각 나타낸다.
즉, 부상형 슬라이더 구조를 갖는 픽업 장치의 경우 동일한 스윙암 구조의 외팔보 서스펜션을 사용하게 되면 탄성 계수는 일정하게 되므로, 슬라이더 헤드의 질량을 줄임으로서 고속 트래킹 용도의 응답 속도를 얻을 수 있게 된다.
그러나 이상에서 설명한 종래 기술에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조 방법에는 다음과 같은 문제점이 있다.
종래의 픽업 슬라이더 헤드는 질량이 커서 픽업 장치의 응답 속도가 느리고, 위치 제어 정밀도가 낮다.
또한, 유체 역학적인 부양을 위한 ABS와 경사면이 슬라이더 헤드와 분리되어 제조되기 때문에 슬라이더 헤드의 부피가 크고, 가공 정밀도가 낮다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 소형 경량화된 슬라이더 헤드를 이용하여 응답 속도와 트래킹 속도 및 트래킹 정밀도를 향상시킨 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 구조사시도.
도 2a와 도 2b는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 구조사시도.
도 3a와 도 3b는 본 발명의 제 2실시 예에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 구조사시도.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조공정단면도.
도 5는 본 발명의 제 2실시 예에 따른 광 픽업 장치 의 슬라이더 헤드 제조공정단면도.
도 6a 내지 도 6b는 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 할로우 영역 제조공정단면도.
도 7a와 도 7b는 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 제조공정사시도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
51 : 기판 56 : 지지대
52, 53 : 마스크 57 : 할로우 영역
54 : 경사면 58 : 솔리드 이머션 렌즈 부착부
55 : ABS
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법의 특징은 상부 면에 할로우(hollow) 영역을 갖는 기판과, 기판의 하부 면에 형성되어 기판을 부양시키는 에어-베어링 서페이스(air-bearing surface)로 구성되는데 있다.
본 발명의 또 다른 특징은, 기판 하부의 일측에 자기장을 발생시키는 자기 헤드가 부착되거나, 할로우 영역의 중심부에는 개구부가 형성되며, 개구부에는 솔리드 이머션 렌즈(SIL)이 부착된다.
또한, ABS는 상기 기판 하부의 양 가장 자리에 서로 대칭적으로 형성되며, 직선 형태이거나 또는 일부가 곡선 형태이다.
그리고, 할로우 영역의 측면은 기판에 대해 수직하거나 일정 각도로 경사진 형태이다.
본 발명의 또 다른 특징은, 기판의 하/상부에 각각 제 1마스크와 제 2마스크를 형성하는 제 1단계와, 제 1마스크를 1차 패터닝 하여 기판 하부 가장자리 일부분을 노출시키고, 노출된 영역을 식각하여 리세스(recess) 영역을 형성하는 제 2단계와, 제 1마스크를 2차 패터닝하여 기판 일부를 노출시키고, 노출된 기판을 식각하여 리세스 영역 근처에 ABS를 형성하는 제 3단계와, 제 2마스크를 패터닝하여 기판 상부의 중심부 및 가장자리 일부분을 노출시키는 제 4단계와, 노출된 기판을 식각하여 기판 상부의 중심부에는 할로우 영역을 형성하고, 기판 상부의 가장자리에 경사면을 형성하는 제 5단계로 이루어지는데 있다.
여기서, 리세스 영역은 비등방성 식각, 반응성 이온 식각(RIE), 이온밀링(ion milling), 경사 폴리싱(taperde polishing) 중 어느 하나의 방법으로 식각한다.
본 발명에 따르면, 소형 경량화된 슬라이더 헤드를 이용하여 응답 속도와 트래킹 속도 및 트래킹 정밀도를 향상시킨 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법을 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 목적, 특성 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시 예들의 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
본 발명에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 그 제조방법의 바람직한 실시 예에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 1은 원판형 정보 저장 디스크(11)를 저장 매체로 하는 스윙암 형태 정보 저장 장치의 구조사시도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 픽업 헤드는 외팔보 서스펜션(cantilever suspension)(14)의 일부에 형성되어 있는 짐벌(gimbal)(15)에 부착되어 회전하는 디스크(11)에 저장되어 있는 광학적 또는 자기 신호를 검출하게 된다.
외팔보 서스펜션(14)의 고정축(16)에 연결된 모터(17)의 회전량 제어에 의해 짐벌(15)의 위치는 디스크(11)의 반경 방향을 따라 왕복 운동을 하면서 특정한 위치의 데이터 트랙을 찾아가게 된다.
이 때, 외팔보 서스펜션(14)의 끝 부분이 짐벌(15)에 매달린 픽업 헤드의 질량에 비례하여 스윙암의 응답 특성이 달라지게 되며, 픽업의 질량이 작을수록 고속 탐색과 정밀 제어가 용이하게 된다.
도 2는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 자기 저장 장치의 픽업용 슬라이더 헤드의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 2a는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 자기 저장 장치의 픽업용 슬라이더 헤드의 정면을 나타내는 구조사시도이다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 슬라이더 헤드의 일 면은 공기 부양을 위한 ABS(air-bearing system)(22) 및 일정한 각도를 갖고 경사지게 가공된 경사면(23)이 집적되어 있으며, 자기 헤드(25)가 슬라이더 헤드의 일부에 부착되어 픽업 장치 표면을 구성하게 된다.
여기서, ABS(22)가 형성되는 슬라이더 헤드의 표면은 실리콘 지지대(rim)(21)에 의해 기계적으로 지지되어 트래킹 중 요구되는 기계적 강성을 제공한다.
또한, 도 2b는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 슬라이더 헤드의 배면을 나타내는 구조사시도이다.
도 2b에 도시한 바와 같이, 동일한 크기의 슬라이더 헤드의 중량을 최소화하기 위해 픽업 기능과 무관한 슬라이더 구조물의 일부분을 제거함으로서, 속이 빈 할로우(hollow) 영역(24)을 형성하게 된다.
도 3은 본 발명의 제 2실시 예에 따른 근접장 광학계를 응용한 고밀도 광 정보 저장 장치의 픽업용 슬라이더 헤드의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 3a는 본 발명의 제 2실시 예에 따른 슬라이더 헤드의 정면을 나타내는 구조사시도이고, 도 3b는 배면을 나타내는 구조사시도이다.
도 3a와 도 3b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 2실시 예는 도 4에 도시된 제 1실시 예와 비슷한 구조를 가진다.
즉, 도 3a에 도시한 바와 같이, 슬라이더 헤드의 일 면은 공기 부양을 위한 ABS(32) 및 일정한 각도를 갖고 경사지게 가공된 경사면(33)이 집적되어 픽업 장치 표면을 구성한다.
그리고, 도 3b는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 슬라이더 헤드의 배면을 나타내는 구조사시도로서, 슬라이더 헤드의 중량을 최소화하기 위해 픽업 기능과 무관한 슬라이더 구조물의 일부분을 제거함으로서, 속이 빈 할로우(hollow) 영역(34)을 형성하게 된다.
그러나, 제 1실시 예와 다른 점은 슬라이더 헤드의 일부분에 솔리드 이머션 렌즈(Solid immersion lens:SIL)(36)가 부착되어 광학 픽업으로 이용된다는 것이다.
이와 같은 초소형 경량화 된 슬라이더 헤드를 제조하는 공정을 설명하면 다음과 같다.
도 4a 내지 도 4g는 도 2a에 표시된 본 발명의 제 1실시 예에 따른 자기 저장 장치의 픽업용 슬라이더 헤드의 a-b선을 따른 제조과정을 나타내는 공정단면도이다.
먼저, 도 4a에 도시한 바와 같이, 실리콘 웨이퍼(silicon wafer) 등의 기판(41)에 상/하부 면에 슬라이더 헤드의 표면 형상 및 할로우 영역 등을 패터닝하기 필요한 식각 마스크(42, 43)를 형성한다.
여기서, 식각 마스크 박막(42, 43)을 형성하는 방법은 산화(oxidation), 증착(deposition) 방법 등 반도체 소자 제조 공정에 이용되는 박막 형성 방법을 이용한다.
그리고, 도 4b에 도시한 바와 같이, 기판(41)의 상부에 형성된 마스크(42)의 일부를 포토리소그래피(photolithogaphy) 공정 및 박막 식각(etching) 공정 등의 반도체 소자 제조 공정을 이용하여 1차 패터닝한다.
이어, 도 4c에 도시한 바와 같이, 비등방성 식각(anisotropic etching)을 이용하여 기판과 일정한 각도를 갖도록 하여 패터닝된 상부 기판을 미세 가공하여 리세스(recess)(44)를 형성한다.
이 때, 비등방성 식각으로는 KOH, EDP, TMAH, 히드라진(hydrazine), NaOH 등의 습식 식각액을 이용하며, 반응성 이온 식각(Reactive Ion Etching:RIE) 방법, 이온 밀링(ion milling), 경사 폴리싱(tapered polishing) 등으로도 일정한 각도의 비등방성을 갖도록 리세스(44)을 얻을 수도 있다.
그리고, 도 4d에 도시한 바와 같이, 마스크(42)를 다시 포토리소그래피 공정 및 박막 식각 공정을 이용하여 2차 패터닝한다.
이 단계에서 패터닝된 형상은 적정한 부양력을 얻기 위한 슬라이더 표면의 ABS(45) 구조물을 식각 방법에 의해 구현하기 위한 것이다.
이어, 도 4e에 도시한 바와 같이, 2차 패터닝된 마스크(42)를 이용하여 기판(41)을 일정 깊이만큼 식각하는 방법으로 ABS(45)를 형성한다.
본 발명에 따른 ABS(45) 구조물의 구현 방법으로는 도 4d와 도 4e에 도시한방법인 식각 공정 외에, ABS(45)이 형성될 부분에 선택적으로 특정한 박막을 일정 두께로 증착하여 구현하는 방법이 있다.
도 4f에 도시한 바와 같이, 기판(41)의 하부에 할로우 영역(47) 형성을 위한 식각 마스크(43)를 포토리소그래피 공정 및 박막 식각 공정을 이용하여 패터닝한다.
그리고, 도 4g에 도시한 바와 같이, 기판(41)의 하부에 형성된 식각 마스크(43) 형상을 통하여 기판을 선택적으로 식각하여 할로우 영역(47), 실리콘 지지대(46) 등의 슬라이더 배면 구조를 완성한다.
여기서, 기판(41) 가장자리 부분은 리세스(44) 영역과 마주보는 위치로 리세스(44) 영역의 하부와 관통되도록 식각하여, 기판의 가장자리 영역이 분리되도록 한다.
또한, 리세스(44) 영역의 식각 깊이는 할로우 영역의 하부 기판 두께를 고려하여 식각하여야 한다.
최종적으로,웨이퍼 형태의 기판에 다수 형성되어있는 완성된 동일한 초소형 슬라이더를 분리한다.
본 발명의 제 2실시 예인 근접장 광학계를 이용한 고밀도 광 정보 저장 장치용 픽업 슬라이더 헤드의 제조방법은 위에서 설명한 제 1실시 예인 자기 저장 장치용 픽업 슬라이더 헤드와 그 과정이 동일하다.
단, 도 5에 도시한 바와 같이, 슬라이더 헤드의 할로우 영역(53)과 실리콘 지지대(55)를 형성한 후에, 할로우 영역(53)에 솔리드 이머션 렌즈를 조립할 수 있는 솔리드 이머션 렌즈 부착부(54)을 포토리소그래피 공정 및 선택적 식각 기술을 이용하여 형성하는 단계가 추가된다.
그리고 나서, 솔리드 이머션 렌즈 부착부(54)에 솔리드 이머션 렌즈를 조립한다.
도 6a와 도 6b는 본 발명에 따른 슬라이더 헤드의 중량을 감소시키기 위한 할로우 영역(64)을 가공하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.
할로우 영역은 ABS(62)가 형성된 기판의 표면이 일정한 두께가 남도록 식각 깊이를 조절함으로써 형성된다.
식각 깊이 조절을 위해서는 식각 시간의 조절, 식각 정지막의 채용(SOI(Silicon On Insulator) 웨이퍼 사용), 전기 화학적 식각 정지법 등 다양한 방법을 활용한다.
또한, 식각 방법은 건식 식각 및 습식 식각 등 적당한 가공 방법을 활용한다.
도 6a은 건식 식각에 의해 식각 벽면을 수직으로 가공한 경우에 형성된 지지대(61)와 할로우 영역(64)을 보여주는 단면도이다.
그리고, 도 6b는 비등방성 습식 식각 공정으로 가공한 경우에 형성된 지지대(61)와 할로우 영역(64)을 보여주는 단면도이다.
슬라이더 헤드의 크기가 축소될수록 실리콘 지지대(61)의 폭 역시 줄어들어야하므로, 습식 식각에 의한 가공법보다는 수직 식각 단면을 얻을 수 있는 건식 식각에 의한 가공이 더 효과적이다.
도 7는 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드의 제조공정을 나타내는 제조공정사시도이다.
도 7에 도시한 바와 같이, 위에서 설명한 방법으로 제조된 슬라이더 헤드(70)가 트래킹용 서스펜션(71)에 조립된다.
즉, 서스펜션(71)의 일부분에 형성되어 있는 수평 유지 기능의 짐벌(72) 내에 본 발명에 의한 소형/경량화 슬라이더 헤드(70)가 부착된다.
본 발명에서는 스윙암 방식의 서스펜션에 대한 실시 예를 들어 설명하였으나, 선형 제어기를 이용한 슬레드(sled) 형태의 트래킹 장치에 있어서도 동일한 이유에 의해 소형/경량의 픽업 헤드를 사용한다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 및 제조방법에는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 할로우 영역을 형성함으로서, 슬라이더 헤드의 소형화, 경량화를 통하여 고밀도 정보 저장 장치의 픽업 장치에 요구되는 응답 속도의 개선 및 위치 제어 정밀도를 향상시킨다.
둘째, 고밀도 광 정보 저장 장치 및 고밀도 자기 기록 장치의 픽업 장치에 응용이 가능하다.
셋째, 제조 공정을 반도체 소자 제조 공정 및 마이크로머시닝 기술을 이용하여 ABS 및 경사면을 일체 집적화함으로서, 가공 정밀도를 높일 수 있으며 양산성을 제고할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 이탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시 예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.

Claims (13)

  1. 상부 면에 할로우(hollow) 영역을 갖는 기판;
    상기 기판의 하부 면에 형성되어 상기 기판을 부양시키는 에어-베어링 서페이스(air-bearing surface)로 구성되는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 하부 면의 가장 자리 영역 중 일부는 일정 각도로 경사진 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 하부의 일측에 자기장을 발생시키는 자기 헤드가 부착된 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 할로우 영역의 중심부에는 개구부가 형성되며, 상기 개구부에는 솔리드 이머션 렌즈(SIL)이 부착된 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 에어-베어링 서페이스는 상기 기판 하부의 양 가장 자리에 서로 대칭적으로 형성되며, 직선 형태이거나 또는 일부가 곡선 형태인 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 할로우 영역의 측면은 기판에 대해 수직하거나 일정 각도로 경사진 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드.
  7. 기판의 하/상부에 각각 제 1마스크와 제 2마스크를 형성하는 제 1단계;
    상기 제 1마스크를 1차 패터닝 하여 상기 기판 하부 가장자리 일부분을 노출시키고, 상기 노출된 영역을 식각하여 리세스(recess) 영역을 형성하는 제 2단계;
    상기 제 1마스크를 2차 패터닝하여 상기 기판 일부를 노출시키고, 상기 노출된 기판을 식각하여 상기 리세스 영역 근처에 에어-베어링 서페이스를 형성하는 제 3단계;
    상기 제 2마스크를 패터닝하여 상기 기판 상부의 중심부 및 가장자리 일부분을 노출시키는 제 4단계;
    상기 노출된 기판을 식각하여 기판 상부의 중심부에는 할로우 영역을 형성하고, 상기 기판 상부의 가장자리에 경사면을 형성하는 제 5단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 제 5단계 후, 상기 기판의 일 측면에 자기장을 발생시키는 자기 헤드를 부착하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 제 5단계 후, 상기 할로우 영역의 중심부를 관통하도록 식각하여 개구부를 형성하고, 상기 개구부에 솔리드 이머션 렌즈를 부착하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  10. 제 7항에 있어서,
    상기 제 2단계에서, 리세스 영역은 비등방성 식각, 반응성 이온 식각(RIE), 이온 밀링(ion milling), 경사 폴리싱(tapered polishing) 중 어느 하나의 방법으로 식각하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  11. 제 7항에 있어서,
    상기 제 2단계에서, 리세스 영역의 식각 깊이는 상기 할로우 영역의 하부 기판 두께를 고려하여 식각하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  12. 제 7항에 있어서,
    상기 제 4단계에서, 노출되는 기판 상부의 가장자리 부분은 상기 기판 하부의 리세스 영역과 마주보는 위치인 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
  13. 제 7항에 있어서,
    상게 제 5단계에서, 노출된 기판을 식각할 때, 기판 상부의 가장자리 영역은 상기 기판 하부의 리세스 영역의 하부와 관통되어 상기 기판의 가장자리 영역이 분리되는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치의 슬라이더 헤드 제조방법.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0352874A (ja) * 1989-07-14 1991-03-07 Ciba Geigy Ag 置換ベンゾニトリル
JPH0467248U (ko) * 1990-10-15 1992-06-15
JPH04111006U (ja) * 1991-03-07 1992-09-28 日本電気株式会社 浮動型磁気変換素子
JPH11185417A (ja) * 1997-12-17 1999-07-09 Hitachi Metals Ltd スライダーおよびヘッドアッセンブリ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0352874A (ja) * 1989-07-14 1991-03-07 Ciba Geigy Ag 置換ベンゾニトリル
JPH0467248U (ko) * 1990-10-15 1992-06-15
JPH04111006U (ja) * 1991-03-07 1992-09-28 日本電気株式会社 浮動型磁気変換素子
JPH11185417A (ja) * 1997-12-17 1999-07-09 Hitachi Metals Ltd スライダーおよびヘッドアッセンブリ

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