KR100363238B1 - 제2고조파 발생 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 제2고조파 발생 방법 및 장치에 관한 것으로, 제2고조파 출력을 안정화 할 수 있는 제2고조파 발생 방법 및 장치에 관한 것이다.

본 발명의 제2고조파 발생 방법은, 제2고조파의 출력 진행 경로와 제2고조파 출력으로 분리된 빔 진행 경로 상에 제2,제3 범 스프리터를 아래의 식에 만족시킨다.

여기에서 K 는 상수,

R_II는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 나란한 p-편광의 반사율

R_⊥는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 직교되는 s-편광의 반사율이다.

그리고 본 발명 제2고조파 발생 장치는 제2고조파 출력의 진행 경로상에 제1빔스프리터를 마련하고, 상기 제1빔스프리터에 의한 제2고조파의 반사 빔 진행 경로와 투과광 진행 경로 상에는 별개의 빔스프리터를 마련한 점에 특징이 있다.

이러한 본 발명에 의하면, 광 검출기로 입사되는 반사광을 출력을 안정화할 수 있고, 이로써 실제 사용되는 출력도 안정시킬 수 있게 된다.

Description

제2고조파 발생 방법 및 장치

본 발명은 제2고조파 발진 방법 및 장치에 관한 것으로, 상세하게는 출력을 안정화할 수 있는 제2고조파 발진 방법 및 장치에 관한 것이다.

광 자기 드라이브와 같은 정보 기록 장치, 레이저 디스크 플레이어등의 오디오/비디오(A/V) 시스템에 사용되는 기록/재생 시스템에서는 선형적으로 편광화된 안정된 출력의 레이저가 요구된다. 일반적으로 레이저 장치의 출력 레이저의 진폭은 광원인 레이저 다이오드의 입력전류를 레이저 출력의 귀환 제어 구조에 의해 조절함으로써 쉽게 안정화할 수 있다. 그리고, 광증폭 고체 레이저 시스템에서의 출력은 레이저 출력과 중폭비를 제어하고 감지함으로써 안정화시킬 수 있다. 특히 비선형 단결정에 의한 고조파 발진 과정이 포함되어 있는 레이저 장치에 있어서는 정교한 출력의 귀환 제어 구조가 요구된다.

청록색 영역의 빛을 발하는 레이저 다이오드 펌핑 제2고조파 발진기는 고밀도 광자기 기록용으로서의 매우 유용한 광원이다. 특히 내부 공진기 안에 주파수 배가용 비선형 단결정이 마련되어 있는 제2고조파 발생 장치는 출력 레이저의 진폭이 불안정하다는 고유 특성을 갖는 레이저 장치 중에 하나이다. 이러한 이유에서 제2고조파 발진의 방법 및 안정화에 대한 많은 연구가 진행되고 있고, 그 결과가 다수 제안되었다.

미국 특허 No, 4.413,342와 No, 5,093,832는 상대적으로 낮은 출력에서 효과적인 제2고조파 발진을 이룰 수 있는 기술을 제안하였다. 미국 특허 No, 4,413,342는 내부 공진기 형태의 주파수 배가 방식을 선보였다. 이 레이저 공진기는 기본파에 대해 고반사율을 가지도록 코팅된 한 쌍의 거울을 적용하고 있다. 이 방식에서는 높은 강도의 기본파가 공진하고 있는 공진기 내부에 주파수 배가를 위한 비선형 단결정 물질이 놓여 졌을때 효과적인 제2고조파 발진을 최소한의 손실로 얻을 수 있다.

미국 특허 No. 5,093,832에 의하면, 외부 주파수 배가 단결정 물질내에 공진이 일어나도록 되어 있어서, 결과적으로 효율적인 제2고조파 발진은 기본파의 보강에 의해 얻을 수 있다.

어떤 다른 방식에 있어서도, 위상정합 방식은 효율적이고 안정된 제2고조파 발진을 위한 필요 조건이다. 미국 특허 No. 5,093,832에서는 안정된 제2고조파 발진을 얻기 위해 피이드백 제어 루프를 통해 주파수 배가 비선형 단결정 물질의 온도를 제어해 줌으로써 안정된 위상 정합 방식의 제2고조파가 발진되도록 하고 있다.

미국 특허 No. 3,858,056은 또 다른 온도 제어 방식을 보여준다. 이 방식에서도 빔 스프리터에 의해 분리된 출력 레이저의 일부분이 검출기예 의해 측정되도록 되어 있다. 이러한 구조에서는 레이저 출력이 적정한 온도에서 최대치를 나타냈을 지라도 에러 신호는 발생되고, 이때 이 신호는 비선형 단결정 물질의 온도를 어떤 쪽으로 조정해야 하는지를 전혀 알 수 없다. 이러한 출력 안정화를 위한 온도 제어 방식은 정확하게 최적화된 온도를 다루는데 있어서 에러 신호의 그것의 불명확성에 의해 매우 어려운 제어 방식이 된다.

미국 특허 No. 3,858,056에 제시된 온도 제어 방식의 또 다른 문제점은 빔 스프리터에서 나뉘어진 출력 레이저에서 발생되는 에러신호가 출력 빔의 편광의 변화에 그다지 민감하지 않다는 점이다. 빔 스프리터는 s-편광과 p-편광에 대해 다른 반사도를 나타내기 때문에 피이드백 회로가 올바르게 자동된다 해도 출력광의 편광이 선형 편광에서 많이 벗어났을 때 출력의 안정화가 어렵다는 문제가 발생된다.

편광 상태가 하나의 변수로 작용하는 레이저 시스템에 대해서는 출력의 안정화를 위한 온도 제어가 출력광의 편광 상태와는 무관하게 이루어짐이 요구되어진다.

본 발명은 출력을 효율적으로 안정화할 수 있는 제2고조파 발진 방법 및 장치를 제공함에 그 목적이 있다.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제2고조파 발진 방법은,

광학적 공진기 내에 기본파와 제2고조파를 발생하는 단계:

상기 제2고조파 출력의 일부를 제1빔스프리터로 분리하는 단계,

분리된 광을 피이드백시켜 상기 제2고조파 발생원의 온도를 제어하는 단계를: 포함하는 제2고조파 발생 방법에 있어서,

상기 제2고조파 출력으로 부터 분리된 광 출력을 제2빔스프리터에 의해 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축에 대해 소정 비율로 분리시키고, 분리된 광을 제2고조파 발생원의 온도 제어를 위한 출력으로 사용하는 단계:

제2고조파의 출력을 제3 빔 스프리터로 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축성분에 대해 다른 비율로 일부 분리시킨 나머지의 출력을 최종 출력으로 사용하는 단계;를 포함하며, 그리고

아래의 식을 만족하는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 방법

여기에서 K는 상수,

R_II는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 나란한 p-편광의 반사율

R_⊥는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 직교되는 s-편광의 반사율이다.

또한 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제2고조파 발진 장치는,

입력 미러와 출력 미러를 갖춘 공진기:

상기 공진기 내의 광축상에 마련되는 이득 매체와 비선형 단결정 소자,

상기 비선형 단결정 소자의 온도를 제어하는 온도 제어장치;

상기 출력 미러를 통과한 제2고조파의 진행 경로 상에 마련되어 입사된 빔의 일부를 반사하고 나머지는 통과시키는 제1빔스프리터:

상기 제1빔스프리터에 의한 제2고조파의 반사 빔 진행 경로 상에 마련되어 상기 제1빔스프리터에서 반사되어 입사하는 광을 검출하는 광 검출기:

상기 광 검출기와 상기 제l빔 스프리터의 사이에 마련되어 상기 제1빔스프터로부터 반사된 광의 일부를 반사하는 제2빔스프리터:

상기 제1빔스프리터를 통과한 투과빔의 진행 경로상에 마련되어 제1빔스트리터를 통과한 광의 일부를 반사하는 제3빔스프리터:

상기 광검출기로 부터의 신호에 의해 상기 온도 제어장치를 제어하는 제어 회로: 를 갖춘 점에 특징이 잇다.

상기 본 발명 제2고조파 발생 장치에 있어서, 상기 제2빔스프리터와 제3빔 스프리터는 제1빔 스프리터에서 반사된 반사빔과 투과함 투과빔의 광축에 대해 45도 경사각을 유지하고, 제1빔스프리터의 입사면에 대해서는 직교되게 배치하는 것이 필요하다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명 방법과 장치의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.

본 발명 제2고조파 발진 방법에서는 레이저 다이오우드로 펌핑되는 고체 레이저의 일종으로 기본파에 대해 고반사률을 가지는 두개의 미러로 이루어 지는 공진기 내의 레이저 공진 광축상에 Nd:YAG 등의 단결정 이득 매체를 마련하여 공진기 내부로 주입된 펌핑 레이저로 부터 기본파를 얻고, 그리고 동 광축상에 비선형 단결정 물질을 위치시켜 기본파로 부터 제2고조파을 얻는다. 그리고 이득 매체와 비선형 단결정 물질의 사이에는 기본파는 선형 편광으로 만들어주는 블루스터 플레이트 등의 편광 소자를 위치시킨다. 주파수 배가를 위한 비선형 단결정은 타입 II방향으로 위상 정합되게 하며, 이 비선형 단결정 소자는 펠티어 효과에 의한 열전 냉각 소자에 의해 온도가 제어되도록 한다. 제2고조파 출력은 주파수 배가 비선형 단결정 소자의 엑스트라 오디너리(extra-ordinary)축에 가깝게 편광 성분을 갖는데, 편광 소자와 비선형 단결정 소자는 제2고조파 출력의 편광 방향이 지면과 평행하도록 위치시킨다. 그러나 실제로 실험을 통해 알아 본 결과 제2고조파의 편광은 정확히 선형 편광되어 있지 않았으며, 이것은 주파수 배가 비선형 단결정을 통과할 때 편광의 성질이 소멸된 것이며, 이러한 편광 소멸의 정도는 단결정의 온도에 따라 달라졌다.

공진기의 출력 미러 앞에 공진기를 통과하여 나온 기본파를 제거하고, 제2고조파는 그대로 통과시키는 필터를 마련하고, 이에 이어 빔스프리터를 마련하여 필터를 통과한 제2고조파가 두개의 경로로 나누어 지게 한다.

빔 스프리터로 부터 분기된 광축상에는 광검출기를 마련하여 빔스프리터에 의해 분리된 제2고조파가 검출되게 하고, 상기 검출기는 상기 열전 냉각 소자를 제어하는 피이드 백 회로에 연결하여 검출된 신호를 전송할 수 있게 한다.

위에서 언급된 부품들의 제2고조파가 완벽하게 선형 편광으로 되었을 경우에 주파수 배가 비선형 단결정의 온도제어에 있어서 아무런 문제가 없을 것이나, 실제적으로 편광 소멸 정도에 따라 피이드백 회로로 보내지는 신호의 에러량이 10%이상이 될 수도 있다. 따라서 본 발명에서는 이러한 문제점을 해소하기 위하여 광검출기의 전방에 또 다른 빔 스프리터를 마련하였다.

제1도는 본 발명의 방법이 실시되는 본 발명 제2고조파 발생 장치의 개략적 구성도이다.

제1도에서 부호 10 은 공진기이다. 이 공진기(10)는 기본파에 대해 고반사도를 갖는 코팅이 되어 있는 입력 미러(11)과 출력 미러(12)로 이루어져 있다. 이 공진기(10)내의 광축 상에는 Nd:YAG 등의 이득매체와, 편광 소자인 블루스터 플레이트(14), 여기서는 KTiOPO₄등의 비선명단결정 물질이 그 순서대로 위치하여 있다. 상기 비선형 단결정 소자(15)는 온도 제어를 위한 열전 냉각소자인 펠티어 소자(16) 위에 놓았다.

상기 공진기(10)를 구성하는 입력 미러(11)와 출력 미러(12)가 적절히 배열되었을 때, 기본파에 대한 최대의 공진이 가능하게 된다. 입력 미러를 통해 주입된 펌핑 레이저(17)는 이득매체(13)를 여기시켜 이로부터 기본파를 발생시킨다. 발생된 기본파는 블루스터 플레이트(14)를 통과하여 편광화된 빔(18)이 된다. 편광 빔(18)은 주파수 배가 비선형 단결정 소자(15)를 지나면서 제2고조파(19)를 발생시키고, 이 제2고조파(19)는 출력 미러(12)를 통해 출사된다. 이때에 약간의 기본파가 출력 미러(12)를 통해 나오게 되는데, 대부분의 기본파는 공진기(10) 내부에 갇혀 있어 공진된다. 그리고 출력 레이저(20)에 포함된 약간의 기본파는 필터(21)에서 걸러지게 됨으로서 필터(21)를 통과한 빔은 순수 제2고조파(22)이다.

본 발명 제2고조파 발생 장치에서, 제2고조파를 발생시키기 위해 주파수 배가 비선형 단결정 소자(15)에 타입II의 위상정합 방식을 적용시켰다. 이 위상정합을 시키기 위해서는 블루스터 플레이트(14)의 입사면과 주파수 배가 비선형 단결정 소자(15)의 익스트라 오디너리(extra-ordianary) 축이 45° 의 경사를 이루도록 하였다.

제2고조파의 편광(23)은 주파수 배가 단결정의 익스터라 오디너리축을 따라 발생된다. 편의상 블루스터 플레이트(14)과 주파수 배가 비선형 단결정(15)을편광(23)이 지면(紙面)과 평행하도록 배열하였다.

제2고조파(22)는 빔 스프리터(24)에 45° 로 입사하여 두개의 경로로 나누어 진다. 도면에서 빔스프리터의 입사평면(241)은 코팅이 되어있지 않지만 출사평면(242)에는 제2고조파의 반사에 의한 손실을 막기 위해 반반사막(anti-reflection layer)을 코팅한다.

일반적으로 빔 스프리터의 반사도는 입사빔의 편광에 의해 결정된다. 이하에서는 빔스프리터(24)의 입사면(241)에 평행한 제2고조파 출력 레이저의 편광을 P-편광이라 하고, 입사면(241)에 수직한 방향의 편광을 s-편광이라 하고, 그리고 p-편광, s-편광화된 빛에 대한 반사율을 각각 R_II와 R_⊥로 정하여 설명한다.

본 발명 제2고조파 발생 장치에서는 빔 스프리터(24)에서 반사된 제2고조파의 반사빔(26)이 제2고조파(22)의 출력 변화를 감지하는데 사용되고, 투과 빔(27)이 실질적인 출력이 된다.

상기 제1빔스프리터(24)와는 별도로 반사 빔(26)과 투과 빔(27)의 진행 경로 상에 별개의 제2,제3빔스프리터(28)(29)를 각각 마련하였다. 각 빔스프리터는 광축에 45°가 되도록 하고, 그 입사면들이 상기 제1빔스프리터의 입사면에 수직이 되도록 한다. 그림에서 편광 23 은 제1빔스프리터(24)에 대해 P-편광이고, 편광 30과 31은 제2빔스프리터(28)와 제3빔스프리터(29)에 대해서 s-편광이 된다. 빔 스프리터의 각 반사빔(32,33)을 지면(紙面)과 수직한 방향으로 움직이도록 한다.

빔 스프리터(28)에 의해 반사된 빔(32)은 광검출기(36)에 의해 전기적 신호로 바뀌고 이 신호는 기준치(37)과 비교하여 온도 오차 신호를 발생시킨다.

이 온도오차 신호에 의해 피이드 백 회로가 적절히 작동하여 최적화되었을 때, 온도오차 신호는 '0'에 가깝게 되고 최종 출력(35)은 안정화된다.

주목해야할 문제는 이러한 편광소멸의 정도가 온도에 따라 달라진다는 사실인데, 이것은 아래와 같은 간단한 이론적 고찰에 의해 명확히 증명되는데, 이하에 이에 관하여 이론적으로 설명한다.

이론적으로 본 발명 제2고조파 발생 방법과 비교하기 위하여 제2도에 종래 제2고조파 발생 방법에서의 제2고조파 출력과 피이드 백 구조를 발췌하여 도시하였는데, 각 도면 부호는 편의상 본 발명의 대출요소와 같이 사용하였다.

제2도의 피이드 백 구조에서 제2고조파 22는 편광이 소멸된 빔이란 사실이 다른점이다. 본 발명의 피이드 백에 의한 안정화의 이론 설명에 앞서 제2도를 참조하며 기존 방법에서 이론을 설명한다. 종래 방법에서의 제2고조파(22)에는 주류 성분(231)과 비주류 성분(232)이 동시에 존재하며, 이들을 출력을 이하에 P^e, P^o로 나타낸다. 제2도에서 26과 27은 제1빔스프리터(24)에서 반사되어 피이드 백되는 빔과 그대로 투과한 실질적 출력 빔을 나타내는데 이들은 각각 주류성분(301,311)과 비주류성분(302, 312)을 가진다. 따라서, 반사빔(26)과 투과빔(27)의 출력을 P_fb와 P_us라 할때, 반사빔(26)과 투과빔(27)의 각 주류성분(301,311)은 주류출력성분 P^e _fb와 P^o _us를 가지고, 그리고 이들 비주류성분(302, 312)은 비주류출력성분 P^o _fb와 P^o _us를각각 가진다. 따라서, 출력성분은 다음과 같은 식으로 표현이 가능하다.

위의 식에서 P^e _fb, P^o _fb, P^e _us과 P^o _us는 전술한 바와 같이 제2도에서 301, 302, 311과 312에 해당하는 편팡방향에서의 출력을 나타내며, 전체 출력 P_fb와 P_us는 식 (1)과 (2), (3)과 (4)의 각각의 합으로 나타낼 수 있다.

따라서, 중요한 페라미터인 K를 P_fo와 P_us의 비로 다음과 같이 정의할 수 있다.

P_fb는 온도오차 신호를 발생시키기 위하여 광검출기(36)에서 측정되는 출력이기 때문에 정상적인 광검출에 의해 온도제어를 위하여 상수가 되어야 한다. 만약 K가 상수라면, 피이드백 회로가 작동되는 한 P_us는 상수가 되어야 한다. 그러나 실제적으로 편광소멸에 의해 생긴 파우어 P^o의 변화에 의해 K는 상수가 아닐 수 있으므로 P_us또한 상수가 될 수 없다 즉, 이것은 출력이 안정화될 수 없다는 것을 의미한다.

본 발명 제2고조파 출력 및 피이드 백 구조를 이론적으로 살펴보면 다음과 같다 제3도는 제1도에 도시된 본 발명 제2고조파 발생 장치의 출력 및 피이드 백 구조를 발췌한 도면이다. 제2고조파 진행 경로 상에 세개의 빔 스프리터 24, 28 그리고 29가 배열되어 있다. 필터(21)를 통과한 빔(22)은 주류출력성분(231)과 비주류출력성분(232)를 가진다. 빔(22)이 제1의 빔스프리터(24)를 통해 발생되는 반사빔 (26)과 투과빔(27)은 각각 301, 302와 311,312 로 표시되는 두개의 편광방향성분, 즉 주류 성분과 비주류성분을 각각 가진다. 빔 34, 35는 제2,제3빔 스프리터(28)(29)를 각각 투과한다. 제2빔스프리터(28)에 의해 반사된 빔(32)는 피이드백 회로에 사용되며, 제3빔스프리터(29)를 투과한 빔(35)을 최종 출력으로서 사용된다. 상기 최종출력빔(35)과 최종반사빔(32)은 여전히 두개의 편광성분 즉, 주류성분(361)(321) 및 비주류성분(362)(322)를 가진다. 한편, 제3빔스프리터(29)로 부터 반사되는 광은 제4도에 도시된 바와 같이 주류성분(331)과 비주류성분(332)를 가지는데 이것은 사용되지않는 버려지는 광이다.

여기에서 1차반사빔(26)의 주류성분(301)의 출력을 P^e _fb, 비주류성분(302)의 출력을 P^o _fb, 2차반사빔(32)의 주류성분(321)의 출력을 P^e _fb', 비주류성분(322)의 출력을 Pofb', 그리고 1차투과빔(27)의 주류성분(311)의 출력을 P^e _us, 비주류성분(312)의 출력을 P^o _us, 2차투과빔(35)의 주류성분(361)의 출력을 P^e _us', 비주류성분(362)의 출력을 P^o _us' 라고 정의 할때, 각 출력의 성분은 다음과 같은 식으로 표현될 수 있다.

이때 2차 반사빔(32)과 2차투과빔(35)의 전체 출력을 P'_fb과 P'_us라고 정의 할때에, 각각의 전체 출력 P'_fb과 P'_us은 각각 (6)식과 (7), (8)과 (9)의 합이 된다. 그리고 파라메터 K'를 P'_fo과 P'_us의 비로 다음과 같이 정의할 수 있다.

식 (10-3)을 보면 K'은 편광소멸과 무관하게 상수임을 알수 있다. 따라서,피이드백 회로에서 P'_fb를 일정하게 유지시켜주는 한 P'_us는 상수가 된다. 결과적으로 실제 출력인 P'_us는 항상 안정하게 된다.

이상에서 설명에 있어서, 식 (5-3)과 (10-3)식을 비교하여 보면, (5-3)식에서의 K는 P^e와 P^o의 함수로서 상수가 아니다. 그러므로 P_fo가 피이드백 회로에서 일정하게 유지된다 하더라도 출력 파우어 P_us는 일정치 않게 된다. 식 (10-3)에서는 별개의 빔 스프리터를 반사빔과 투과빔 진행 경로상에 마련한 결과식으로서 P^e와 P^o에 대해 독립된 식으로 상수가 된다. 즉, P_fo가 피이드백 회로에서 일정하게 유지되므로 투과 빔의 출력 P_us도 역시 일정하게 된다.

이상과 같은 본 발명은 기존의 제2고조파 발생 방법에서 가장 큰 문제로 대두되었던 출력의 안정화의 문제를 크게 개선하는 것으로 그 활용면 등에 있어서의 기대 큰 획기적인 발명이다.

제1도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치의 개략적 구성도,

제2도는 본 발명을 설명하기 위하여 발췌 도시한 종래 피이드 백 제어 구조의 개략적 구성도,

제3도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치의 피이드 백 제어구조의 발췌 구성도, 그리고

제4도는 제3도에 도시된 피이드백 제어구조에서 제2반사빔의 경로를 보인 발췌도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

10: 공진기 11: 입력 미러 12: 출력 미러 13: 이득 매체

14:블루스터 플레이트 15:비선형 단결정 소자

17:펌핑 레이저 18:(블루스터 플레이트 에서) 편광된 빔

19: (비선형 단결정 소자에서 발생된) 제2고조파

20:(출력미러를 통과한) 제2고조파 출력 레이저

21:필터 22:(순수)제2고조파 23:편광 24:빔스프리터

241 : (빔스프리터의) 입사평면

242: (빔스프리터의) 출사평면

Claims (3)

1. 광학적 공진기 내에 기본파와 제2고조파를 발생하는 단계:

   상기 제2고조파 출력의 일부를 제1빔스프리터로 분리하는 단계;

   분리된 광을 피이드백시켜 상기 제2고조파 발생원의 온도를 제어하는 단계를: 포함하는 제2고조파 발생 방법에 있어서,

   상기 제2고조파 출력으로 부터 분리된 광 출력을 제2빔스프리터에 의해 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축에 대해 소정 비율로 분리시키고, 분리된 광을 제2고조파 발생원의 온도 제어를 위한 출력으로 사용하는 단계:

   제2고조파의 출력을 제3 임 스프리터로 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축 성분에 대해 다른 비율로 일부 분리시킨 나머지의 출력을 최종 출력으로 사용하는 단계:를 포함하며, 그리고

   아래의 식을 만족하는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 방법.

   여기에서 K는 상수,

   R_II는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 나란한 p-편광의 반사율

   R_⊥는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 직교되는 s-편광의 반사율이다.
2. 입력 미러와 출력 미러를 갖춘 공진기;

   상기 공진기 내의 광축상에 마련되는 이득 매체와 비선형 단결정 소자;

   상기 비선형 단결정 소자의 온도를 제어하는 온도 제어장치:

   상기 출력 미러를 통과한 제2고조파의 진행 경로 상에 마련되어 입사된 빔의 일부를 반사하고 나머지는 통과시키는 제1빔스프리터:

   상기 제1빔스프리터에 의한 제2고조파의 반사 빔 진행 경로 상에 마련되어 상기 제1빔스프리터에서 반사되어 입사하는 광을 검출하는 광 검출기:

   상기 광 검출기와 상기 제1빔 스프리터의 사이에 마련되어, 상기 제1빔스프터로부터 반사된 광의 일부를 반사하는 제2빔스프리터:

   상기 제1빔스프리터를 통과한 투과빔의 진행 경로상에 마련되어 제1빔스트리터를 통과한 광의 일부를 반사하는 제3빔스프리터:

   상기 광검출기로 부터의 신호에 의해 상기 온도 제어장치를 제어하는 제어 회로: 를 갖춘 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 제2빔스프리터와 제3빔 스프리터는 제1빔 스프리터에서 반사된 반사빔과 투과한 투과빔의 광축에 대해 45도 경사각을 유지하고, 상기 제1빔스프리터의 입사면에 대해서는 직교되게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치.