KR100355560B1 - Flat polishing device for glass panel for cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 음극선관용 유리패널의 평면연마장치에 있어서, 원호상을 따라 상호 이격배치되는 베드와, 상기 베드상에 슬라이딩 가능하도록 결합되는 지지프레임과, 상기 지지프레임에 기립되게 배치된 회전축을 중심으로 회전가능하도록 설치되는 웨어테이블과, 상기 지지프레임에 설치되어 상기 웨어테이블을 회전구동시키는 테이블구동모터와, 상기 지지프레임을 상기 베드에 대해 슬라이딩 왕복운동시키는 왕복동수단을 갖는 복수의 연마부와; 상기 각 연마부로 연장된 복수의 아암을 가지고 회전가능하도록 설치되는 구동축과; 상기 구동축을 회전구동시키기 위한 회전구동수단; 상기 각 아암의 자유단부영역에 상기 웨어테이블의 축선방향을 따라 승강가능함과 동시에 회전가능하도록 설치되는 스핀들과, 상기 스핀들의 하부영역에 상기 스핀들에 대해 편심운동가능하도록 결합되어 유리패널을 흡착지지하는 흡착부재를 갖는 흡착헤드를 더 포함하며, 상기 흡착헤드의 선회방향을 따라 연마부의 전후영역에는 가공될 유리패널이 최초 연마부에 투입되는 투입스테이션과, 최종 연마부로부터 가공완료된 유리패널이 취출되는 취출스테이션이 각각 마련되어 있고, 상기 투입 및 취출스테이션과 상기 각 연마부는 상호 등각도간격으로 배치되는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 패널의 가공 및 이송을 동시에 행함으로서 연마시간을 단축시킬 있으며, 연마력을 향상시킬 수 있는 음극선관용 유리패널의 평면연마장치가 제공된다.The present invention is a planar polishing apparatus for a glass panel for a cathode ray tube, the center of the bed spaced apart from each other along an arc, a support frame coupled to be slidably on the bed, and a rotation axis disposed to stand on the support frame A plurality of polishing units having a wear table rotatably mounted to the support frame, a table driving motor installed on the support frame to rotate the wear table, and reciprocating means for sliding the support frame against the bed; A drive shaft installed to be rotatable with a plurality of arms extending to the respective polishing portions; Rotary drive means for rotating the drive shaft; A spindle which is installed on the free end of each of the arms so as to be able to move up and down along the axial direction of the wear table, and is rotatably coupled to the lower area of the spindle to eccentrically move with respect to the spindle to adsorb and support the glass panel. And an adsorption head having an adsorption member, wherein an input station into which the glass panel to be processed is put in the initial polishing part and a processed glass panel from the final polishing part are taken out in front and rear regions of the polishing part along the rotational direction of the adsorption head. Dispensing stations are provided, respectively, and the dispensing and dispensing stations and the respective grinding units are arranged at an equiangular interval. Thereby, the planar polishing apparatus of the glass panel for cathode ray tubes which can shorten a grinding | polishing time by simultaneously processing and conveying a panel, and can improve a grinding | polishing power is provided.
Description
본 발명은, 음극선관용 유리패널의 평면연마장치에 관한 것으로서, 특히 연마효율을 향상시킬 수 있도록 한 음극선관용 패널의 평면연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to a planar polishing apparatus for a glass panel for a cathode ray tube, and more particularly, to a planar polishing apparatus for a cathode ray tube panel to improve polishing efficiency.
일반적으로 음극선관은 화상이 투사되는 패널과, 패널의 배후에 결합되는 깔때기 형상의 펀넬과, 전자총을 구비하여 펀넬에 결합되는 넥크를 가진다. 패널은 화상이 투사되는 페이스부와, 페이스부의 연부로부터 둘레 방향을 따라 절곡형성된 스커트부를 가지며 스커트부의 접합단면을 통하여 플리트 실링에 의해 펀넬에 접합된다.Generally, a cathode ray tube has a panel on which an image is projected, a funnel-shaped funnel coupled to the rear of the panel, and a neck coupled to the funnel with an electron gun. The panel has a face portion on which an image is projected, and a skirt portion bent from the edge of the face portion along the circumferential direction, and is joined to the funnel by pleat sealing through the bonding end face of the skirt portion.
통상의 음극선관용 패널은, 전면 페이스부가 전방을 향하여 만곡되게 형성되어 있어 전체적 설치공간이 증대하고, 모서리영역은 시각에 대해 경사각을 가지므로 화상인식이 용이하지 않다는 단점이 있다. 따라서, 최근에는 패널의 전면 페이스부를 평탄화한 평면패널이 고안되어 사용되고 있다.The conventional cathode ray tube panel has a disadvantage that the front face portion is formed to be bent toward the front to increase the overall installation space, and the edge region has an inclination angle with respect to vision, so that image recognition is not easy. Therefore, in recent years, flat panel which planarized the front face part of a panel is devised and used.
이러한 평면패널의 성형은, 글라스용융로에서 글라스원료를 가열하여 소정의 용융상태로 만들고, 글라스용융로로부터 제공된 용융 글라스고브를 프레스 성형장치에 의해 가압성형함으로써 이루어지게 된다.The flat panel is formed by heating a glass raw material in a glass melting furnace to a predetermined molten state, and pressing the molten glass gob provided from the glass melting furnace by a press molding apparatus.
이러한 스커트부를 갖는 패널의 접합단면과, 평면패널의 표면은 소정의 평탄도 및 표면거칠기를 가지도록 연마공정을 거치게 되며, 연마공정에는 이러한 평탄면을 연마할 수 있도록 평면연마장치가 마련된다.The bonding end surface of the panel having such a skirt portion and the surface of the flat panel are subjected to a polishing process to have a predetermined flatness and surface roughness, and the polishing process is provided with a planar polishing device for polishing such a flat surface.
도 9는 종래의 음극선관용 유리패널의 평면연마장치의 종단면도이다. 도시된 바와 같이, 종래의 음극선관용 유리패널의 평면연마장치는 소정의 평탄면상에 회전가능하도록 설치되는 래핑툴(101)과, 래핑툴(101)의 축선방향을 따라 기립되게 설치되어 유리패널(120)의 상부면을 흡착지지하는 흡착헤드(103)를 가진다. 흡착헤드(103)는 래핑툴(101)에 대해 승강가능함과 동시에 회전가능하도록 설치되는 스핀들(105)과, 스핀들(105)의 하단에 결합되어 가공될 유리패널(120)의 상부면을 흡착지지하는 흡착부재(107)를 가진다. 래핑툴(101)의 일측에는 래핑툴(101)과 패널(120)의 접촉영역을 향하여 슬러리상의 연마재를 공급하도록 연마재공급관(109)이 설치되어 있다. 그리고, 래핑툴(101)의 둘레영역에는 패널(120)의 연마가공시 연마재공급관(109)을 통하여 공급되는 연마재를 수집하여 연마재탱크(미도시)로 제공할 수 있도록 케이싱(111)이 마련되어 있다.9 is a longitudinal cross-sectional view of a planar polishing apparatus of a glass panel for a conventional cathode ray tube. As shown in the drawing, the planar polishing apparatus of the conventional cathode ray tube glass panel is installed so as to stand up along the axial direction of the wrapping tool 101 and the wrapping tool 101 installed to be rotatable on a predetermined flat surface. It has a suction head 103 for supporting the upper surface of the 120. The suction head 103 is capable of lifting and lowering the lapping tool 101 and simultaneously supporting the spindle 105 which is installed to be rotatable and the upper surface of the glass panel 120 to be coupled to the lower end of the spindle 105 to be processed. It has a suction member (107). One side of the lapping tool 101 is provided with an abrasive supply pipe 109 to supply slurry-like abrasives toward the contact area between the lapping tool 101 and the panel 120. In addition, a casing 111 is provided in the circumferential region of the lapping tool 101 so that the abrasive supplied through the abrasive supply pipe 109 may be collected and provided to an abrasive tank (not shown) during the polishing of the panel 120. .
이러한 구성에 의하여, 전공정으로부터 제공된 패널(120)의 가공면이 래핑툴(101)과 접촉되도록 래핑툴(101)상에 적치시키고, 흡착부재(107)가 패널(120)의 상부면을 흡착하도록 스핀들(105)을 하강시킨다. 흡착부재(107)에 의해 패널(120)이 상측으로부터 흡착지지되면, 래핑툴(101)과 스핀들(105)을 상호 반대방향으로 회전되도록 하여 패널면이 가공되도록 한다. 이 때, 연마재공급관(109)을 통하여 래핑툴(101)과 패널(120)의 접촉영역으로 슬러리상의 연마재가 공급되어 연마작용을 수행하며, 래핑툴(101)로부터 낙하된 연마재는 케이싱(111)내 저부영역에 일시수용되었다가 연마재탱크로 유동하게 된다.By this configuration, the processing surface of the panel 120 provided from the previous process is placed on the wrapping tool 101 to be in contact with the wrapping tool 101, and the adsorption member 107 adsorbs the upper surface of the panel 120. The spindle 105 is lowered to make it. When the panel 120 is supported by the adsorption member 107 from above, the panel surface is processed by rotating the wrapping tool 101 and the spindle 105 in opposite directions. At this time, the slurry-like abrasive is supplied to the contact area between the wrapping tool 101 and the panel 120 through the abrasive supply pipe 109 to perform the polishing action, and the abrasive dropped from the wrapping tool 101 is casing 111. It is temporarily contained in the bottom area and flows into the abrasive tank.
그런데, 이러한 종래의 음극선관용 패널의 평면연마장치에 있어서는, 패널의 투입 및 취출을 위해서 별도의 작업자가 배치되어야 하며, 래핑툴과 흡착헤드가 거의 동일 선상에 배치됨으로써, 상대 이송속도가 큰 래핑툴의 외주연부영역이 중앙영역에 비해 상대적으로 쉽게 마모가 발생하게 된다. 그럴 경우, 래핑툴이 적절한 평면상태를 유지할 수 있도록 패널이 제거된 상태에서 래핑툴을 보정하게 되어 연마중단시간이 증가하게 되는 문제점이 있다.By the way, in the conventional planar polishing apparatus of the cathode ray tube panel, a separate worker must be arranged for the input and withdrawal of the panel, and the lapping tool and the adsorption head are arranged on substantially the same line, so that the lapping tool having a large relative conveyance speed is obtained. The outer circumferential edge of the wear is relatively easy to wear compared to the center region. In this case, the lapping tool is corrected in the state where the panel is removed so that the lapping tool maintains a proper planar state, thereby increasing the polishing stop time.
따라서, 본 발명의 목적은, 전술한 문제점을 고려하여 패널의 투입 및 취출과 이송을 자동으로 수행되도록 할 수 있으며, 연마작업을 효율적으로 행할 수 있는 음극선관용 패널의 평면연마장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a planar polishing apparatus for a cathode ray tube panel, which can perform the input, withdrawal, and transfer of a panel automatically in consideration of the above-described problems, and can efficiently perform a polishing operation.
도 1은 본 발명에 따른 음극선관용 유리패널의 평면연마장치의 종단면도,1 is a longitudinal sectional view of a planar polishing apparatus of a glass panel for a cathode ray tube according to the present invention;
도 2는 도 1의 평면연마장치의 개략적인 평면도,Figure 2 is a schematic plan view of the planar polishing apparatus of Figure 1,
도 3 내지 도 5는 각각 도 1의 연마부영역의 개략적인 확대평면도, 확대정면도 및 확대측면도,3 to 5 are schematic enlarged plan views, enlarged front views, and enlarged side views of the polishing part region of FIG. 1, respectively;
도 6 및 도 7은 각각 보정툴설치영역의 개략적인 평면도 및 측면도,6 and 7 are schematic plan and side views of the calibration tool installation area, respectively;
도 8a 내지 도 8e는 각각 도 1의 제1 내지 제6연마부에 각각 설치되는 래핑툴을 개략적으로 도시한 도면,8A to 8E schematically illustrate lapping tools respectively installed in the first to sixth polishing parts of FIG. 1;
도 9는 종래의 음극선관용 유리패널의 평면연마장치의 종단면도이다.9 is a longitudinal cross-sectional view of a planar polishing apparatus of a glass panel for a conventional cathode ray tube.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
1 : 베이스 2,4,6,8,10,12 : 각 연마부1 Base 2, 4, 6, 8, 10, 12
3 : 구동축 5 : 상부지지부3: drive shaft 5: upper support part
7 : 하부지지부 9 : 구동모터7: lower support portion 9: drive motor
15 : 스핀들구동모터 21 : 아암15: spindle drive motor 21: arm
23 : 흡착헤드 27 : 스핀들23: suction head 27: spindle
29 : 흡착부재 41 : 베드29 adsorption member 41 bed
43 : 지지프레임 45 : 웨어테이블43: support frame 45: wear table
47 : 유압실린더기구 59 : 스탠드47: hydraulic cylinder mechanism 59: stand
61 : 지지아암 63 : 승강구동부61: support arm 63: lifting drive unit
65 : 보정툴 69 : 연마재공급장치65: correction tool 69: abrasive supply device
81~85 : 래핑툴81 ~ 85: Lapping Tool
상기 목적은, 본 발명에 따라, 음극선관용 유리패널의 평면연마장치에 있어서, 원호상을 따라 상호 이격배치되는 베드와, 상기 베드상에 슬라이딩 가능하도록 결합되는 지지프레임과, 상기 지지프레임에 기립되게 배치된 회전축을 중심으로 회전가능하도록 설치되는 웨어테이블과, 상기 지지프레임에 설치되어 상기 웨어테이블을 회전구동시키는 테이블구동모터와, 상기 지지프레임을 상기 베드에 대해 슬라이딩 왕복운동시키는 왕복동수단을 갖는 복수의 연마부와; 상기 각 연마부로 연장된 복수의 아암을 가지고 회전가능하도록 설치되는 구동축과; 상기 구동축을 회전구동시키기 위한 회전구동수단; 상기 각 아암의 자유단부영역에 상기 웨어테이블의 축선방향을 따라 승강가능함과 동시에 회전가능하도록 설치되는 스핀들과, 상기 스핀들의 하부영역에 상기 스핀들에 대해 편심운동가능하도록 결합되어 유리패널을 흡착지지하는 흡착부재를 갖는 흡착헤드를 더 포함하며, 상기 흡착헤드의 선회방향을 따라 연마부의 전후영역에는 가공될 유리패널이 최초 연마부에 투입되는 투입스테이션과, 최종 연마부로부터 가공완료된 유리패널이 취출되는 취출스테이션이 각각 마련되어 있고, 상기 투입 및 취출스테이션과 상기 각 연마부는 상호 등각도간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 음극선관용유리패널의 평면연마장치에 의해 달성된다.According to the present invention, in the planar polishing apparatus of a glass panel for a cathode ray tube, a bed spaced apart from each other along an arc, a support frame slidably coupled to the bed, and to stand on the support frame. A plurality of wear tables provided to be rotatable about an axis of rotation disposed, a table driving motor mounted on the support frame to rotate the wear table, and reciprocating means for sliding reciprocating the support frame against the bed. A polishing portion of; A drive shaft installed to be rotatable with a plurality of arms extending to the respective polishing portions; Rotary drive means for rotating the drive shaft; A spindle which is installed on the free end of each of the arms so as to be able to move up and down along the axial direction of the wear table, and is rotatably coupled to the lower area of the spindle to eccentrically move with respect to the spindle to adsorb and support the glass panel. And an adsorption head having an adsorption member, wherein an input station into which the glass panel to be processed is put in the initial polishing part and a processed glass panel from the final polishing part are taken out in front and rear regions of the polishing part along the rotational direction of the adsorption head. A take-out station is provided, respectively, and the said input and take-out station and each said grinding | polishing part are achieved by the planar polishing apparatus of the glass tube for cathode ray tubes characterized by arrange | positioning at equal angle intervals.
그리고, 상기 각 웨어테이블에는 상기 흡착헤드에 의해 흡착지지된 유리패널과의 접촉 및 상대운동에 의해 상기 유리패널을 연마하는 래핑툴이 착탈가능하도록 결합되는 것이 더 효과적일 수 있다.In addition, it may be more effective for the wear table to be detachably coupled with a wrapping tool for polishing the glass panel by contact and relative movement with the glass panel supported by the suction head.
또한, 상기 회전구동수단은, 상기 구동축의 일측에 설치되는 구동모터와, 상기 구동모터와 상기 구동축사이에 개재되도록 설치되어 상기 구동모터로부터의 구동력을 상기 구동축에 선택적으로 전달되도록 함으로써, 상기 각 아암이 상기 각 연마부 및 스테이션상에 정위치되도록 하는 클러칭수단을 포함하는 것이 더 바람직할 수 있다.In addition, the rotation drive means, the drive motor is provided on one side of the drive shaft, and installed so as to be interposed between the drive motor and the drive shaft to selectively transmit the driving force from the drive motor to the drive shaft, each of the arms It may be further desirable to include clutching means to be positioned on each said polishing part and station.
상기 왕복동수단은 일단이 상기 베드에 피봇지지되며, 타단이 상기 지지프레임에 결합되는 유압실린더기구인 것이 효과적일 수 있다.One end of the reciprocating means is pivotally supported by the bed, the other end may be an effective hydraulic cylinder mechanism coupled to the support frame.
상기 스핀들의 상측에 승강가능하도록 배치되어 상기 스핀들을 구동시키는 스핀들구동모터를 더 포함하며, 상기 웨어테이블의 상측에 상기 웨어테이블로부터 접근 및 이반가능하도록 배치되어 상기 래핑툴을 보정연마하는 툴보정수단을 포함하는 것이 더 효과적일 수 있다.And a spindle drive motor arranged to move up and down on the spindle to drive the spindle, and to be accessible and transferable from the wear table on the upper side of the wear table, to compensate for the lapping tool. It may be more effective to include.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 음극선관용 유리패널의 평면연마장치의 종단면도이고, 도 2는 도 1의 개략적인 평면도이다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 평면연마장치는, 베이스(1)와, 베이스(1)의 중앙영역에 기립되게 회전가능하도록 설치되는 구동축(3)과, 구동축(3)의 상하측에 각각 결합되어 구동축(3)을 회전지지하는 상부지지부(5) 및 하부지지부(7)와, 베이스(1)상에 구동축(3)에 대해 원호상으로 배치되어 유리패널(20)을 연마하는 제1연마부(2), 제2연마부(4), 제3연마부(6), 제4연마부(8), 제5연마부(10) 및 제6연마부(12)를 가진다. 구동축(3)의 회전방향을 따라 제1연마부(2)의 전방영역에는 전공정으로부터 제공된 유리패널(20)이 제1연마부(2)에 투입대기하는 투입스테이션(14)이 형성되어 있으며, 제6연마부(12)의 후방영역에는 제6연마부(12)로부터 가공완료된 유리패널(20)이 취출되어 후공정으로 이송대기하는 취출스테이션(16)이 형성되어 있다.1 is a longitudinal sectional view of a planar polishing apparatus of a glass panel for a cathode ray tube according to the present invention, Figure 2 is a schematic plan view of FIG. As shown in these figures, the planar polishing apparatus according to the present invention includes a base 1, a drive shaft 3 provided to be rotatably rotatable in a central region of the base 1, and a top and bottom of the drive shaft 3; The upper support part 5 and the lower support part 7 which are respectively coupled to the side to rotate and support the drive shaft 3, and are disposed in an arc shape with respect to the drive shaft 3 on the base 1 to polish the glass panel 20. And a first polishing unit 2, a second polishing unit 4, a third polishing unit 6, a fourth polishing unit 8, a fifth polishing unit 10, and a sixth polishing unit 12. . In the front region of the first polishing portion 2 along the rotational direction of the drive shaft 3, an input station 14 is formed in which the glass panel 20 provided from the previous process is put into the first polishing portion 2 and waits. In the rear region of the sixth polishing portion 12, the takeout station 16 is formed to take out the finished glass panel 20 from the sixth polishing portion 12 and wait for the transfer to the post process.
하부지지부(7)는 베이스(1)에 고정설치되어 구동축(3)의 하단을 회전지지하며, 하부지지부(7)의 일측에는 구동축(3)을 회전시키는 구동모터(9)가 설치되어 있다. 구동모터(9)의 출력측에는 구동모터(9)로부터의 구동력을 간헐적으로 구동축(3)에 전달되도록 하는 에어클러치(11)가 연결되어 있다.The lower support 7 is fixed to the base 1 to support the lower end of the drive shaft 3, and one side of the lower support 7 is provided with a drive motor 9 for rotating the drive shaft 3. An air clutch 11 is connected to the output side of the drive motor 9 to intermittently transmit the driving force from the drive motor 9 to the drive shaft 3.
상부지지부(5)는 구동축(3)의 상단을 회전가능하도록 수용지지하며, 반경방향을 따라 각 연마부를 향하여 연장된 복수의 연장아암(13)이 형성되어 있다. 각 연장아암(13)의 자유단부영역에는 연장아암(13)의 길이방향에 가로로 스핀들구동모터(15)가 승강가능하도록 설치되어 있으며, 스핀들구동모터(15)의 샤프트에는 다수의 물림턱이 형성된 클러치(17)가 결합되어 있다. 스핀들구동모터(15)의 일측에는 스핀들구동모터(15)가 하강하여 후술할 스핀들과의 결합시 발생되는 충격을 완화시킬 수 있도록 완충실린더기구(19)가 설치되어 있다.The upper support part 5 is rotatably received and supports the upper end of the drive shaft 3, and a plurality of extension arms 13 are formed extending in the radial direction toward each polishing part. The free end region of each of the extension arms 13 is provided so that the spindle drive motor 15 can move up and down in the longitudinal direction of the extension arm 13, and a plurality of bite jaws are provided on the shaft of the spindle drive motor 15. The formed clutch 17 is engaged. One side of the spindle drive motor 15 is provided with a shock absorbing cylinder mechanism 19 so that the spindle drive motor 15 is lowered to mitigate the impact generated when the spindle is coupled to the spindle to be described later.
구동축(3)의 상부영역에는 상호 등각도간격으로 배치되어 각 연마부로 연장된 복수의 아암(21)이 형성되어 있으며, 각 아암(21)의 자유단부영역에는 흡착헤드(23)가 형성되어 있다. 흡착헤드(23)는 아암(21)의 자유단부영역에 아암(21)의 길이방향에 가로로 결합된 중공체의 스핀들하우징(25)과, 스핀들하우징(25)내에 승강가능함과 동시에 회전가능하도록 수용결합된 스핀들(27)과, 스핀들(27)의 하단에 스핀들(27)의 축선에 대해 편심되게 결합되어 유리패널(20)을 흡착지지하는 흡착부재(29)를 가진다. 스핀들(27)의 상단에는 다수의 물림턱이 형성된 클러치(31)가 결합되어 있어 스핀들구동모터(15)의 회전축에 결합된 클러치(17)와 상호 맞물림결합되어 스핀들구동모터(15)와 함께 스핀들(27)이 일체로 회전하게 된다.In the upper region of the drive shaft 3, a plurality of arms 21 are formed at equal angle intervals and extend to each polishing portion, and a suction head 23 is formed in the free end region of each arm 21. . The suction head 23 is rotatable and rotatable in the spindle housing 25 and the spindle housing 25 of the hollow body horizontally coupled to the free end region of the arm 21 in the longitudinal direction of the arm 21. It has a spindle 27 accommodated and the suction member 29 is eccentrically coupled to the axis of the spindle 27 at the lower end of the spindle 27 to support the glass panel 20. The upper end of the spindle 27 is coupled to the clutch 31 is formed with a plurality of bite jaw is engaged with the clutch 17 coupled to the rotation axis of the spindle drive motor 15 is interlocked with the spindle drive motor (15) (27) rotates integrally.
도 3 내지 도 5는 각각 도 1의 연마부영역의 개략적인 확대평면도, 확대정면도 및 확대측면도이고, 도 6 및 도 7은 각각 보정툴설치영역의 개략적인 평면도 및 측면도이다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 각 연마부는 베이스(1)상에 구동축(3)에 대해 방사상으로 배치고정되는 베드(41)와, 베드(41)상에 슬라이딩 가능하도록 결합되는 지지프레임(43)과, 지지프레임(43)에 기립되게 회전가능하도록 설치되는 웨어테이블(45)을 가진다. 베드(41)와 지지프레임(43)은 소위 도브테일 형상으로 상호 맞물림결합되어 있으며, 베드(41)와 지지프레임(43)에는 베드(41)에 대해 지지프레임(43)을 슬라이딩 구동시키기 위한 유압실린더기구(47)가 결합되어 있다. 유압실린더기구(47)는 일단이 베드(41)에 피봇지지된 실린더(49)와, 실린더(49)내에 왕복운동가능하도록 수용결합되는 피스톤(미도시)과, 일단이 피스톤에 결합되고 타단이 지지프레임(43)에 회동가능하도록 결합된 피스톤로드(51)를 가진다.3 to 5 are schematic enlarged plan views, enlarged front views, and enlarged side views of the polishing part region of FIG. 1, respectively, and FIGS. 6 and 7 are schematic plan views and side views of the correction tool installation region, respectively. As shown in these figures, each polishing unit has a bed 41 fixed radially on the drive shaft 3 on the base 1 and a support frame 43 slidably coupled on the bed 41. And a wear table 45 installed to be rotatable to stand on the support frame 43. The bed 41 and the support frame 43 are engaged with each other in a so-called dovetail shape, and the bed 41 and the support frame 43 are hydraulic cylinders for slidingly driving the support frame 43 with respect to the bed 41. The mechanism 47 is coupled. Hydraulic cylinder mechanism 47 has a cylinder 49, one end of which is pivotally supported on the bed 41, a piston (not shown) that is accommodated to reciprocate in the cylinder 49, one end is coupled to the piston and the other end is It has a piston rod 51 rotatably coupled to the support frame 43.
지지프레임(43)의 하부영역에는 웨어테이블(45)의 회전구동을 위한 테이블구동모터(53)와, 테이블구동모터(53)의 출력측에 연결되어 테이블구동모터(53)의 구동력을 웨어테이블(45)에 감속전달하는 감속기(55)가 설치되어 있다. 감속기(55)의 출력측에는 벨트풀리가 마련되어 있어 웨어테이블(45)의 회전축 하단에 형성된 벨트풀리와 벨트(57)에 의해 상호 연결되어 있다.The lower portion of the support frame 43 is connected to the table driving motor 53 for rotating the wear table 45 and the output side of the table driving motor 53, thereby driving the driving force of the table driving motor 53 to the wear table. The reduction gear 55 which transmits deceleration to 45 is provided. A belt pulley is provided on the output side of the reducer 55 and is connected to each other by a belt pulley and a belt 57 formed at the lower end of the rotation shaft of the wear table 45.
제1 및 제2연마부(2,4)와, 제3 및 제4연마부(6,8)와, 제5 및 제6연마부(10,12)의 상호 인접영역에는 스탠드(59)가 기립되게 설치되어 있으며, 스탠드(59)의 상부영역에는 각 연마부의 웨어테이블(45)측으로 각각 연장된 한 쌍의 지지아암(61)이 형성되어 있다. 각 지지아암(61)의 자유단부영역에는 웨어테이블(45)에 대해 접근이반가능하도록 승강가능한 승강구동부(63)가 형성되어 있으며, 승강구동부(63)에는 웨어테이블(45)의 판면과 나란하게 연마면이 배치되도록 보정툴(65)이 결합되어 있다. 지지아암(61)에는 승강구동부(63)를 승강구동시키기 위한승강실린더기구(67)가 결합되어 있다.A stand 59 is provided in an adjacent area between the first and second polishing parts 2 and 4, the third and fourth polishing parts 6 and 8, and the fifth and sixth polishing parts 10 and 12. It is provided upright, and the upper region of the stand 59 is provided with a pair of support arms 61 extending to the wear table 45 side of each polishing section, respectively. The free end region of each support arm 61 is provided with a lift drive part 63 which can be lifted and lifted so as to be accessible to the wear table 45, and the lift drive part 63 is parallel to the plate surface of the wear table 45. The correction tool 65 is coupled so that the polishing surface is arranged. The lifting arm mechanism 67 is coupled to the support arm 61 for lifting and lowering the lifting drive portion 63.
웨어테이블(45)의 상측에는 각 웨어테이블(45)상으로 슬러리형태의 연마재를 낙하공급하기 위한 연마재공급장치(69)가 설치되어 있으며, 지지프레임(43)의 상부영역에는 웨어테이블(45)을 둘러 싸도록 테이블케이싱(71)이 마련되어 있으며, 테이블케이싱(71)의 저부에는 웨어테이블(45)로부터 낙하한 연마재를 안내하도록 외측을 향하여 하향경사지게 안내경사부(73)가 마련되어 있다. 안내경사부(73)의 일측에는 일단이 도시 않은 연마재탱크와 연결되어 연마작용을 수행한 연마재를 연마재탱크로 제공하는 드레인부(75)가 형성되어 있다.An abrasive feeding device 69 is provided on the upper side of the wear table 45 to drop-supply slurry in the form of slurry onto each wear table 45. The wear table 45 is provided in the upper region of the support frame 43. The table casing 71 is provided so that it may enclose | circulate, and the guide inclination part 73 is provided in the bottom part of the table casing 71 so that it may be inclined downward toward the outer side to guide the abrasive falling from the wear table 45. As shown in FIG. One side of the guide inclined portion 73 is connected to an abrasive tank (not shown), and a drain portion 75 is provided to provide the abrasive to the abrasive tank.
한편, 각 연마부의 연마량은 구동축(3)의 회전방향을 따라 제1연마부(2)로부터 제6연마부(12)를 향할수록 점진적으로 작아지게 되며, 이에 대응하여 각 연마부의 웨어테이블(45)상에 착탈가능하도록 결합된 래핑툴의 형상 및 재질과, 공급되는 연마재의 입도의 크기도 달라지게 된다.On the other hand, the polishing amount of each polishing portion gradually decreases toward the sixth polishing portion 12 from the first polishing portion 2 along the rotational direction of the drive shaft 3, and correspondingly, the wear table of each polishing portion ( 45) The shape and material of the lapping tool detachably coupled on the size and the size of the particle size of the abrasive to be supplied will also be different.
도 8a 내지 도 8e는 각각 도 1의 제1 내지 제6연마부에 각각 설치되는 래핑툴을 개략적으로 도시한 도면이다. 도 8a는 제1 및 제2연마부(2,4)에 각각 설치되는 제1래핑툴(81)로서 재질은 주철로 형성된다. 제1래핑툴(81)은 거친 연마용으로서 비교적 조밀한 정방형의 연마눈(a)을 가지며, 연마눈(a)의 피치는 대략 15㎜내외로 형성되도록 하는 것이 바람직하다. 도 8b는 제3연마부(6)에 사용되는 제2연마툴(82)로서 재질은 구상흑연주철로 형성되며, 제1래핑툴(81)에 비해 상대적으로 큰 연마눈(b)을 가진다. 도 8c는 제4연마부(8)에 적용되는 제3래핑툴(83)로서 원주를 둘레방향을 따라 16등분하여 연마면(c)이 형성되도록 하였으며, 재질은 구상흑연주철로 형성한다. 여기서, 제2래핑툴(82) 및 제3래핑툴(83)은 각각 제3연마부(6) 및 제4연마부(8)에 호환사용이 가능하며, 이들 제1 내지 제3래핑툴(81,82,83)의 크기는 직경이 1000㎜내외를 가지도록 형성된다.8A to 8E schematically illustrate lapping tools respectively installed in the first to sixth polishing parts of FIG. 1. FIG. 8A is a first lapping tool 81 installed on the first and second polishing parts 2 and 4, respectively, and is formed of cast iron. The first lapping tool 81 has a relatively compact square polishing eye a for rough polishing, and the pitch of the polishing eye a is preferably about 15 mm. FIG. 8B is a second polishing tool 82 used for the third polishing portion 6, which is formed of spherical graphite cast iron, and has a relatively large polishing eye b as compared with the first lapping tool 81. As shown in FIG. FIG. 8C is a third lapping tool 83 applied to the fourth polishing part 8 to divide the circumference into 16 equal parts along the circumferential direction so that the polishing surface c is formed, and the material is formed of spherical graphite cast iron. Here, the second lapping tool 82 and the third lapping tool 83 can be used interchangeably for the third polishing portion 6 and the fourth polishing portion 8, respectively, and the first to third lapping tools ( 81, 82, and 83 are formed to have a diameter of about 1000 mm.
도 8d는 제5연마부(10)에 결합되는 제4래핑툴(84)로서 재질은 구리합금으로 형성되며, 연마눈(d)은 제2래핑툴(82)의 연마눈(b)보다 상대적으로 크게 형성된다. 도 8e는 제6연마부(12)에 적용되는 제5래핑툴(85)로서 재질은 구리합금을 사용하게 되며, 원주를 둘레방향을 따라 32등분 또는 16등분하여 연마면(e)을 형성하게 된다. 이들 제4 및 제5래핑툴(84,85)은 각각 제5 및 제6연마부(10,12)에 호환설치가 가능하며, 크기는 직경이 800㎜내외에서 형성되도록 한다.FIG. 8D illustrates a fourth lapping tool 84 coupled to the fifth polishing part 10. The material of the fourth lapping tool 84 is formed of a copper alloy, and the grinding eye d is relative to the grinding eye b of the second lapping tool 82. It is largely formed. FIG. 8E is a fifth lapping tool 85 applied to the sixth polishing part 12. The material is copper alloy, and the circumference is divided into 32 equals or 16 equals along the circumferential direction to form the polishing surface e. do. These fourth and fifth lapping tools 84 and 85 can be interchangeably installed on the fifth and sixth polishing parts 10 and 12, respectively, and the size of the fourth and fifth lapping tools 84 and 85 is about 800 mm in diameter.
이러한 구성에 의하여, 전공정으로부터 도시 않은 트랜스퍼에 의해 투입스테이션(14)에 유리패널(20)이 적치되면, 투입스테이션(14)에 위치된 아암(21)의 자유단부영역에 결합된 스핀들(27)이 하강하게 되고 흡착부재(29)에 의해 유리패널(20)이 진공흡착된다. 흡착부재(29)에 의해 유리패널(20)이 흡착픽업되면 베이스(1)에 설치된 에어클러치(11)가 작동하여 구동모터(9)로부터의 회전력을 구동축(3)에 전달하며 구동축(3)을 소정 구간회동시키게 된다. 흡착된 유리패널(20)이 제1연마부(2)에 도달하면 에어클러치(11)가 구동모터(9)로부터 이격되면서 구동모터(9)로부터의 구동력을 차단하여 유리패널(20)이 웨어테이블(45)상에 위치되도록 한다.With this arrangement, when the glass panel 20 is loaded on the feeding station 14 by transfer (not shown) from the previous process, the spindle 27 is coupled to the free end region of the arm 21 located at the feeding station 14. ) Is lowered and the glass panel 20 is vacuum-absorbed by the adsorption member (29). When the glass panel 20 is picked up by the adsorption member 29, the air clutch 11 installed in the base 1 is operated to transmit the rotational force from the drive motor 9 to the drive shaft 3 and drive shaft 3. Will be rotated for a predetermined interval. When the adsorbed glass panel 20 reaches the first polishing part 2, the air clutch 11 is spaced apart from the driving motor 9 to block the driving force from the driving motor 9 so that the glass panel 20 wears. It is positioned on the table 45.
제1연마부(2)에 유리패널(20)이 위치되면, 연장아암(13)에 설치된 스핀들구동모터(15)가 하강하게 되고, 스핀들구동모터(15)의 클러치(17)와 스핀들(27)의 상단에 형성된 클러치(31)가 상호 맞물림결합되어 스핀들구동모터(15)와 스핀들(27)이 일체로 회전하게 된다. 이 때, 웨어테이블(45)의 상측에 설치된 연마재공급장치(69)로부터 슬러리 형태의 연마재가 공급되며, 웨어테이블(45)의 하측에 설치된 테이블구동모터(53)가 작동함으로써 테이블구동모터(53)의 회전력은 감속기(55)를 거쳐 웨어테이블(45)에 전달된다. 이에 따라, 웨어테이블(45)은 스핀들(27)과 반대방향으로 회전하게 되어 연마를 개시하게 되고, 스핀들(27)의 하단에 편심되게 결합된 흡착부재(29)에 의해 흡착지지된 유리패널(20)은 스핀들(27)의 회전중심으로부터 편심운동을 하게 된다. 연마가 진행됨과 거의 동시에 베드(41)와 지지프레임(43)에 각각 연결된 유압실린더기구(47)는 비교적 저속으로 지지프레임(43)을 베드(41)에 대해 슬라이딩 왕복동시키게 된다.When the glass panel 20 is positioned on the first polishing part 2, the spindle drive motor 15 installed on the extension arm 13 is lowered, and the clutch 17 and the spindle 27 of the spindle drive motor 15 are lowered. Clutch 31 formed on the top of the) is engaged with each other to rotate the spindle drive motor 15 and the spindle 27 integrally. At this time, the slurry-type abrasive is supplied from the abrasive supply device 69 provided on the upper side of the wear table 45, and the table driving motor 53 is operated by operating the table driving motor 53 provided on the lower side of the wear table 45. The rotational force of) is transmitted to the wear table 45 via the reducer 55. Accordingly, the wear table 45 rotates in the opposite direction to the spindle 27 to start polishing, and the glass panel 45 is sucked and supported by the suction member 29 eccentrically coupled to the lower end of the spindle 27. 20 is an eccentric movement from the center of rotation of the spindle (27). Almost at the same time as the polishing proceeds, the hydraulic cylinder mechanism 47 connected to the bed 41 and the support frame 43, respectively, slides the support frame 43 against the bed 41 at a relatively low speed.
제1연마부(2)에서 연마가 이루어짐과 동시에 제2연마부(4) 내지 제6연마부(12)에서도 유리패널(20)의 연마가 진행되며, 제6연마부(12)에서 가공완료된 유리패널(20)은 구동축(3)의 회전에 따라 취출스테이션(16)으로 이동하게 된다. 제6연마부(12)로부터 취출스테이션(16)으로 이송된 유리패널(20)은 도시 않은 트랜스퍼에 의해 후공정으로 이송된다.As the polishing is performed on the first polishing unit 2, the polishing of the glass panel 20 is also performed on the second polishing unit 4 to the sixth polishing unit 12, and the processing is completed on the sixth polishing unit 12. The glass panel 20 moves to the take-out station 16 as the drive shaft 3 rotates. The glass panel 20 transferred from the sixth polishing part 12 to the take-out station 16 is transferred to a later step by a transfer (not shown).
한편, 각 래핑툴(81~85)에는 사용기간이 경과하게 됨에 따라 가공면의 평탄도저하가 불가피하게 발생된다. 따라서, 일정시간이 경과하게 되면 각 웨어테이블(45)상에 승강가능하도록 마련된 보정툴(65)을 하강시켜 각 래핑툴(81~85)과 접촉되도록 하여 마모가 상대적으로 적게 발생된 부분을 연마가공함으로써 래핑툴(81~85)의 가공면이 일정한 평탄도를 유지할 수 있도록 한다.On the other hand, as the use period elapses in each of the wrapping tools 81 to 85, the flatness of the processing surface is inevitably generated. Therefore, when a certain time has elapsed, the correction tool 65 provided to be lifted on each wear table 45 is lowered to be brought into contact with each lapping tool 81 to 85 to polish a portion where wear is relatively low. By processing, the machined surface of the wrapping tools 81 to 85 can maintain a constant flatness.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 원호상을 따라 복수의 연마부가 배치되도록 하여 동시에 가공 및 이송이 이루어 지도록 함으로써 유리패널을 효율적으로 가공할 수 있다. 또한, 유리패널과 래핑툴이 상대 슬라이딩 접촉되도록 함으로써 평탄정밀도를 향상시킬 수 있으며, 유리패널을 흡착지지하는 흡착부재가 스핀들에 대해 편심운동가능하도록 함으로써 연마효율을 향상시킬 수 있는 음극선관용 유리패널의 평면연마장치가 제공된다.As described above, according to the present invention, the glass panel can be efficiently processed by arranging a plurality of polishing portions along an arc shape so as to simultaneously process and convey the same. In addition, it is possible to improve the flatness accuracy by allowing the glass panel and the lapping tool to be in relative sliding contact, and the adsorption member supporting the glass panel to be eccentric with respect to the spindle can improve the polishing efficiency of the glass panel for cathode ray tube. A planar polishing device is provided.
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