KR100284335B1 - 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 - Google Patents
도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100284335B1 KR100284335B1 KR1019990000714A KR19990000714A KR100284335B1 KR 100284335 B1 KR100284335 B1 KR 100284335B1 KR 1019990000714 A KR1019990000714 A KR 1019990000714A KR 19990000714 A KR19990000714 A KR 19990000714A KR 100284335 B1 KR100284335 B1 KR 100284335B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- conductive
- fine particles
- cathode ray
- conductive film
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 15
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims description 5
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 5
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000414 polyfuran Polymers 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 claims 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 claims 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 208000003464 asthenopia Diseases 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N zinc antimony(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[Sb+3] OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/88—Vessels; Containers; Vacuum locks provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/863—Passive shielding means associated with the vessel
- H01J2229/8634—Magnetic shielding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/863—Passive shielding means associated with the vessel
- H01J2229/8635—Antistatic shielding
Landscapes
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
본 발명은 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며, 상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물을 이용하면 막특성이 우수하며 도전성이 우수하면서 그의 조절이 가능한 도전막을 얻을 수 있다. 또한, 이러한 도전막을 채용하는 음극선관은 투과율이 최대 30% 수준으로까지 감소되면서 콘트라스트 특성이 개선되며, 색순도가 우수하고 고품위의 바디칼라를 나타낼 수 있다.
Description
본 발명은 도전막에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 막 강도가 개선된 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관에 관한 것이다.
지금까지는 제조공정상의 문제점으로 인하여 소정 곡율을 갖는 곡면형 패널이 음극선관용으로서 주로 사용되고 있으나, 이러한 곡면형 패널은 패널 바깥쪽으로 갈수록 눈부심과 화상의 일그러짐이 심해진다는 문제점이 있어 고품위의 화상을 구현하는데는 한계가 있다.
이러한 단점을 보완하기 위한 것이 무한대에 가까운 곡율을 갖는 패널, 즉 평면형 패널이다.
패널은 곡율이 클수록, 즉 패널이 평면에 가까울수록 외광반사에 의한 눈부심이 억제되어 선명한 화상이 실현되고 눈의 피로도를 줄일 수 있으며 화상의 일그러짐 현상도 일어나지 않는다. 따라서, 최근 평면형 패널을 채용한 음극선관에 대한 연구가 다각도로 진행되고 있다.
평면형 패널의 일예로서 제안된 것이 도 1a에 도시된 바와 같이 패널의 내면과 외면이 모두 완전 평면인 패널이다. 그런데, 이러한 패널을 채용한 음극선관의 경우 패널 중앙부분에 구현되는 화상이 내면쪽으로 들어가 보이는 현상이 나타난다.
이러한 문제점을 극복하기 위하여, 도 1b에 도시된 바와 같이 패널의 외면은 완전 평면형이고 내면은 소정의 곡율을 갖는 곡율형 구조로 된 평면 패널이 제안되었다.
그러나, 이러한 구조를 갖는 평면 패널은 패널의 중앙부분과 주변부분의 두께 차로 인하여 투과율이 서로 다르다는 문제점이 있다. 더구나, 통상 사용되는 투과율 40% 내지 50% 정도의 다크틴트나 세미틴트 패널을 상기와 같은 구조를 갖는 평면형 패널에 적용할 경우 중앙부와 주변부와의 투과율 차이가 더욱 커져서 균일한 화상의 구현이 어려워진다.
따라서, 80% 이상의 투과율을 갖는 클리어틴트 패널을 사용하고 그 외면에 투과율 조절용 도전막을 코팅함으로써 고투과율로 인한 콘트라스트 저하를 방지하는 방법이 제안되었다.
이러한 도전막은 외광 흡수를 극대화하여 콘트라스트를 향상시키고 투과광 산란을 최소화하여 화상번짐현상을 억제하며 도전성이 있어 정전기에 의한 먼지부착방지 기능이 있어야 한다. 또한, 막 강도가 우수하여야 한다.
이러한 도전막 형성용 조성물의 일예로서 염료 또는 안료, 상기 염료 또는 안료의 도전성을 보완하기 위한 도전성 미립자, 및 실리케이트와 같은 결합제를 포함하는 도전성 코팅 조성물 및 그를 이용하는 형성된 도전막을 구비한 음극선관이 제안되었다.
그러나, 이러한 종래의 도전성 코팅 조성물은 결합제의 함량에 비하여 안료와 도전성 미립자의 함량이 높아 그로부터 형성되는 도전막의 기계적 강도가 낮고 투과율의 감소폭이 30% 정도에 불과하여 충분한 콘트라스트 개선효과를 얻을 수 없다는 문제점이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 기계적 강도가 개선된 도전막 형성용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 조성물로부터 제조되어 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 기계적 강도가 우수한 도전막을 구비한 음극선관을 제공하는 것이다.
도 1a는 종래의 평면형 패널의 단면도이다.
도 1b는 본 발명에 따른 평면형 패널의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일예에 따른 도전막이 구비된 음극선관의 단면도이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
11... 패널12... 도전막
13... 보호막14... 스프레이막
15... 펀넬16... 편향요오크
17... 전자총
본 발명의 기술적 과제는 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며, 상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물에 의하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 다른 기술적 과제는, 패널 및 상기 패널 외면 상에 순차적으로 형성된 도전막 및 보호막을 포함하는 음극선관에 있어서, 상기 도전막이 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관에 의하여 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자는 카본블랙, 티탄 블랙 (TiO2) 및 은 (Ag)으로부터 선택된 1종 이상이며, 바람직하게는 카본블랙이고 그의 평균 입경은 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하이다.
또한, 상기 전도성 고분자로는 도전성을 가지고 있고 고분자 자체의 체적저항률이 105Ωcm 이하인 고분자로서 본 발명의 분야에서 통상 사용되는 것이라면 특별하게 제한되지 않으며, 그 구체적인 예로서 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌, 폴리세레노펜 등을 들 수 있으며, 바람직한 것은 폴리티오펜계 고분자이다.
또한, 결합제는 에폭시실란, 트리메톡시실란 또는 비닐실란과 같은 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다.
상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
한편, 상기 파장조절용 안료 미립자는 본 발명의 분야에서 통상 사용될 수 있는 유기 또는 무기 안료 또는 염료로서, 바람직하게는 400∼700nm 영역에서 투과율이 우수하여 흑색 안료의 색감을 보정할 수 있는 유기 또는 무기 안료 또는 염료, 더 바람직하게는 프탈로시아닌계 안료 및 보라색계 안료로부터 선택된 1종 이상의 안료를 사용할 수 있으며, 그의 평균입경은 200nm 이하, 보다 바람직하게는 120nm 이하이다.
또한, 용매로는 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, n-부탄올 등의 알콜 용매, N-메틸 2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드, 물 등을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물은 필요에 따라서는 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 구리(Cu), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru) 또는 주석(Sn) 등과 같은 금속 미립자, 및 산화주석, 산화인듐, 산화인듐주석 (ITO), 산화안티몬, 산화안티몬아연 또는 산화안티몬주석 등과 같은 금속산화물 미립자로부터 선택된 1종 이상의 도전성 미립자를 더 포함할 수도 있는데, 이 경우 이들 미립자의 평균입경이 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하여야 한다.
한편, 본 발명에 따른 음극선관에 있어서, 보호막은 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, 필요에 따라서는 플루오로알킬실란의 가수분해물을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 음극선관에 있어서, 상기 보호막 상부에 하기 화학식 1의 금속알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상의 가수분해물, 및 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막을 더 포함할 수 있다.
[화학식 1]
[M1(OR)4]
상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
[화학식 2]
(SiO)n(OR)4-2n
상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
본 발명에 있어서, 상기 플루오르알킬실란의 구체적인 예로는 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH3)2, CF3CH2CH2Si(CH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiMeCl3또는 CF3CH2CH2SiCl3을 들 수 있다.
종래의 도전막 형성용 조성물이 안료와 도전성 미립자를 별도로 포함하고 있으며 이에 따라 결합제의 함량이 상대적으로 적은데 반해, 본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물은 외광흡수 능력이 우수한 도전성 흑색 안료 미립자를 첨가하는 대신 결합제의 함량을 증가시키고 전도성 고분자를 분산제 겸 도전제로서 첨가함으로써 도전성은 물론 막강도가 개선되도록 하며, 유기 또는 무기 안료 또는 염료를 파장조절용 안료 미립자로서 첨가함으로써 콘트라스트 특성 및 색순도를 향상시키면서 고품위의 바디칼라를 제공한다는데 특징이 있다.
도 2는 본 발명의 일예에 따른 음극선관의 단면도이다.
도면을 참조하여 보면, 본 발명에 따른 음극선관은 패널 (11), 펀넬(15), 편향요오크(16) 및 전자총(17)을 포함하는데, 이중 상기 패널(11)은 그 내면이 소정의 곡율을 갖는 곡면형이고 외면이 평면형 구조이며, 그의 외면 상에 도전막(12), 보호막(13) 및 스프레이막(14)이 순차적으로 형성되어 있다.
본 발명에 따른 음극선관의 제조방법을 구체적으로 설명하기로 한다.
먼저, 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 교반하에 용매와 혼합하여 도전막 형성용 조성물을 제조한다. 이때, 상기 도전성 흑색 안료 미립자 및 파장조절용 안료 미립자는 평균 입경이 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하인 것이 사용되는데, 평균 입경이 200nm를 초과할 경우 이 조성물로부터 형성되는 도전막에 백탁이 생기고 해상도가 저하된다는 문제점이 있어 바람직하지 않다. 또한, 필요에 따라서는 상기 조성물에 본 발명의 분야에서 통상 사용되는 도전성 미립자를 더 첨가할 수도 있는데, 이 경우에도 평균입경 범위는 상기와 동일한 범위여야 한다.
이렇게 제조된 도전막 형성용 조성물을 패널의 중앙부와 주변부의 평균투과율이 약 81%인 19인치 음극선관용 클리어틴트 패널의 외면상에 스핀코팅한 다음 건조시켜 도전막을 형성한다.
이어서, 상기 화학식 1의 금속알콕사이드 및 상기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상의 화합물과 산촉매를 교반하에 용매와 혼합하고, 이 혼합물을 상기 도전막 상에 스핀코팅한 다음 건조하여 보호막을 형성한다.
계속하여, 상기 화학식 1의 금속알콕사이드 및 상기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상의 화합물과 플루오로알킬실란을 산촉매와 함께 교반하에 용매와 혼합하고 이 혼합물을 상기 보호막 상에 스프레이코팅한 다음, 건조하여 요철구조를 갖는 반사방지용 스프레이막을 형성한다.
마지막으로, 상기 결과물을 소성하여 패널의 외면 상에 3층의 코팅막이 형성된 음극선관을 완성하였다.
본 발명에 따르면, 도전막 형성용 조성물 중의 도전성 흑색 안료 미립자 및 전도성 고분자의 함량에 따라 도전막의 저항이 102∼1010Ω/□ 범위에서, 투과율이 30∼95% 범위에서 조절될 수 있다. 또한, 종래의 도전막 형성용 조성물에 비해 다량 첨가된 결합제는 도전막 자체의 네트워크를 더욱 치밀하게 하여 성막성을 제공할 뿐 아니라 도전막과 그 상,하부막 (즉, 하부의 패널 및 상부에 형성되는 보호막)간의 결합력을 강화함으로써 막 강도를 개선한다.
또한, 상기 스프레이막 형성용 조성물 중의 플루오로알킬실란은 막이 내습성을 갖도록 함으로써 수분 흡수에 따른 막분리 현상을 방지할 수 있다.
한편, 본 발명에서 사용되는 상기 화학식 2의 실리콘알콕사이드 올리고머는 평균 분자량이 400∼6,000인 것이 바람직한데, 400 미만이면 막강도가 낮아지는 반면 6,000을 초과하게 되면 점도가 높아진다는 단점이 있다.
본 발명에 있어서, 각각의 막은 본 발명의 분야에서 통상적으로 사용될 수 있는 방법, 즉 예를 들면 스핀코팅, 스프레이코팅 또는 침적코팅 등의 용이한 코팅방법에 의해 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 음극선관은 패널 외면 상에 도전막과 보호막만이 순차적으로 형성된 2층의 코팅막 구조를 가질 수도 있다. 이 경우에는 보호막 형성용 조성물에 플루오로알킬실란을 더 첨가하여 내습성을 보강할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
실시예 및 비교예에서 얻어지는 음극선관에 대한 저항, 투과율, 막 강도 및 내습성을 하기와 같이 평가하였으며 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
저항 측정
표면저항측정기를 이용, 샘플의 4 지점의 표면저항을 측정하여 그 평균값을 산출하였다.
투과율 측정
가시광선 대역의 분광분석기를 이용, 550nm에서의 투과율을 측정하였다.
내습성의 평가
패널 외면 상에 코팅막이 형성되지 않은 패널을 대조용 샘플로서 준비하고, 이 대조용 샘플과, 실시예 및 비교예의 샘플들을 60℃의 물에 8시간 동안 침적시킨후 코팅막 형성 전,후의 막 상태 및 저항 변화를 관찰하여 평가하였으며, 그 평가 결과를 하기와 같이 표시하였다:
◎ : 매우 양호
○ : 양호
△ : 보통
× : 불량
〈실시예1>
평균입경이 200nm인 카본블랙을 물에 분산시켜 얻은 카본블랙 분산액 10g (카본블랙 함량: 0.5g), 10g의 폴리티오펜 및 2g의 테트라에톡시실란을 35g의 메탄올, 20g의 에탄올, 15g의 이소프로필알콜, 20g의 메틸셀로솔브로 이루어진 혼합용매에 용해시켜 도전막 형성용 조성물을 제조한 다음, 중앙부와 주변부의 평균투과율이 약 81%인 19인치 음극선관용 클리어틴트 패널의 외면 상에 스핀코팅하고 건조시켜 도전막을 형성하였다.
다음으로, 3g의 테트라에톡시실란을 30g의 메탄올, 50g의 에탄올, 12g의 노르말부탄올 및 4g의 물로 이루어진 혼합용매와 혼합하고 여기에 0.5g의 질산을 첨가하여 상온에서 24시간 동안 반응시켜 보호막 형성용 조성물을 제조한 다음, 상기 도전막 상에 스핀코팅하고 건조시켜 보호막을 형성하였다.
계속하여, 3g의 테트라에톡시실란과 0.3g의 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3를 30g의 메탄올, 50g의 에탄올, 12g의 노르말부탄올 및 4g의 물로 이루어진 혼합용매와 혼합하고 여기에 0.5g의 질산을 첨가하여 상온에서 24시간 동안 반응시켜 스프레이막 형성용 조성물을 제조한 다음, 상기 보호막 상에 스프레이코팅하고 건조시켜 스프레이막을 형성하였다.
마지막으로 200℃에서 30분 동안 열처리하여 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 2>
보호막 상부에 스프레이막을 제조하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 3>
PEDT 대신에 평균입경이 200nm인 산화인듐주석 3g을 사용하여 도전막 형성용 조성물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 4>
PEDT 대신에 평균입경이 200nm인 은 0.3g을 사용하여 도전막 형성용 조성물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈비교예 1>
도전막 형성용 조성물 제조시에 테트라에톡시실란을 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 2에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
저항 (Ω/□) | 투과율 (%) | 내습성 | 비고 | |
실시예 1 | 8×103 | 60 | ◎ | 저항변화 없슴 |
실시예 2 | 3×104 | 61 | ○ | 약간의 저항증가가 나타남 |
실시예 3 | 6×104 | 65 | ◎ | 저항변화 없슴 |
실시예 4 | 8×102 | 50 | ◎ | 저항변화 없슴 |
비교예 1 | 5×108 | 56 | × | 막분리가 발생함 |
상기 표 1의 결과로부터, 본 발명에 따른 음극선관 (실시예 1 내지 4)은 도전성 및 내습성이 우수할 뿐 아니라 콘트라스트가 개선된 것을 알 수 있다.
단, 실시예 2의 경우에는 발수성분인 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막이 형성되지 않아 내습성이 다소 떨어지기는 하지만 도전막에 결합제로서 첨가된 실리콘알콕사이드 올리고머에 의해 소정의 내습성은 나타내는 것을 알 수 있다.
그러나, 도전막에 결합제가 포함되어 있지도 않고 최외각층에도 발수성분인 플루오로알킬실란의 가수분해물이 포함되어 있지 않은 경우 (비교예 1)에는 내습성이 불량하며 막분리 현상이 발생하는등 막안정성이 크게 저해되는 것을 알 수 있다.
본 발명에 따른 조성물을 이용하여 제조된 도전막은 투과율을 최대 30% 수준으로까지 감소되며 성막성이 우수하다. 따라서, 이러한 도전막을 포함하는 음극선관은 도전성, 콘트라스트 특성 및 막 강도가 우수하다.
Claims (13)
- 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며,상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물.
- 제1항에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자가 카본블랙, 티타늄 블랙 및 산화은으로부터 선택된 1종 이상이며, 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
- 제1항에 있어서, 전도성 고분자가 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌 및 폴리세레노펜으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
- 제1항에 있어서, 결합제가 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.[화학식 1][M1(OR)4]상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.[화학식 2](SiO)n(OR)4-2n상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
- 제1항에 있어서, 파장조절용 안료 미립자가 최고 투과율이 400∼700nm 영역인 유기 또는 무기 안료 및 염료로부터 선택된 1종 이상이며 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
- 패널; 및상기 패널 외면 상에 순차적으로 형성된 도전막 및 보호막을 포함하는 음극선관에 있어서,상기 도전막이 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
- 제6항에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자가 카본블랙, 티타늄 블랙 및 산화은으로부터 선택된 1종 이상이며, 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 음극선관.
- 제6항에 있어서, 전도성 고분자가 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌 및 폴리세레노펜으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 음극선관.
- 제6항에 있어서, 결합제가 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 음극선관.[화학식 1][M1(OR)4]상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.[화학식 2](SiO)n(OR)4-2n상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
- 제6항에 있어서, 파장조절용 안료 미립자가 최고 투과율이 400∼700nm 영역인 유기 또는 무기 안료 및 염료로부터 선택된 1종 이상이며 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 음극선관.
- 제6항에 있어서, 보호막이 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.[화학식 1][M1(OR)4]상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.[화학식 2](SiO)n(OR)4-2n상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
- 제11항에 있어서, 보호막이 플루오로알킬실란의 가수분해물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
- 제6항에 있어서, 상기 보호막 상부에 하기 화학식 1의 금속알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상의 가수분해물, 및 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막을 더 포함된 것을 특징으로 하는 음극선관.[화학식 1][M1(OR)4]상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.[화학식 2](SiO)n(OR)4-2n상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990000714A KR100284335B1 (ko) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 |
US09/370,215 US6407497B1 (en) | 1999-01-13 | 1999-08-09 | Composition for forming conductive layer and cathode ray tube employing conductive layer formed using the same |
DE19940041A DE19940041A1 (de) | 1999-01-13 | 1999-08-24 | Zusammensetzung zur Bildung einer leitenden Schicht und Kathodenröhre mit einer solchen Schicht |
CN99118129.8A CN1196167C (zh) | 1999-01-13 | 1999-08-24 | 形成导电层的组合物及采用其形成的导电层的阴极射线管 |
JP2000004789A JP2000230152A (ja) | 1999-01-13 | 2000-01-13 | 導電膜形成用組成物、及びこれを用いた導電膜を備えた陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990000714A KR100284335B1 (ko) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000050674A KR20000050674A (ko) | 2000-08-05 |
KR100284335B1 true KR100284335B1 (ko) | 2001-03-02 |
Family
ID=19571180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990000714A KR100284335B1 (ko) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100284335B1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100420049B1 (ko) * | 2001-04-16 | 2004-02-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 투명 도전막의 보호막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조되는 보호막의 제조방법 |
US7132169B2 (en) | 2001-09-10 | 2006-11-07 | Samsung Sdi Co., Inc. | Composition for forming coating layer and flat monitor panel for display device having coating layer prepared from the same |
KR20030021985A (ko) * | 2001-09-10 | 2003-03-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 도전막 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 도전막 |
KR100475549B1 (ko) * | 2002-04-30 | 2005-03-10 | 제일모직주식회사 | 전자파 차폐용 도전성 블랙착색 코팅액 조성물, 그를이용한 코팅필름의 제조방법 및 그 코팅필름 |
KR100475550B1 (ko) * | 2002-05-01 | 2005-03-10 | 제일모직주식회사 | 전자파차폐용 도전성 블랙착색 코팅액 조성물, 그를이용한 코팅필름의 제조방법 및 그 코팅필름 |
-
1999
- 1999-01-13 KR KR1019990000714A patent/KR100284335B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000050674A (ko) | 2000-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6673142B2 (en) | Transparent conductive layered structure and method of producing the same, and transparent coat layer forming coating liquid used in the method of producing the same, and display device to which transparent conductive layered structure is applied | |
EP0848386B1 (en) | Transparent conductive film, low-reflection transparent conductive film, and display | |
US6117366A (en) | Electrically conductive composition including metal particles | |
US6482466B2 (en) | Transparent electro-conductive structure, process for its production, transparent electro-conductive layer forming coating fluid used for its production, and process for preparing the coating fluid | |
KR100236154B1 (ko) | 투명 도전막 형성용 도포액, 이것을 이용한 투명 도전막 및 그 형성 방법 | |
US6351063B1 (en) | Composition for forming conductive film method for preparing the same and display device employing conductive film formed using the composition | |
KR20000057753A (ko) | 투명 도전성 기재 및 이의 제조방법, 및 투명 도전성 기재의 제조에 사용되는 투명 도전층 형성용 코팅액 및 이의 제조방법 | |
KR100755155B1 (ko) | 투명 도전층 형성용 도액 | |
JP4035934B2 (ja) | 透明導電性基材とその製造方法および透明導電性基材の製造に用いられる透明導電層形成用塗液とその製造方法 | |
US6716480B2 (en) | Transparent conductive layered structure and method of producing the same, coating liquid for forming transparent coating layer and coating liquid for forming transparent conductive layer | |
KR100284335B1 (ko) | 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 | |
JP4411672B2 (ja) | 透明導電層形成用塗布液とその製造方法 | |
US6407497B1 (en) | Composition for forming conductive layer and cathode ray tube employing conductive layer formed using the same | |
KR100322063B1 (ko) | 도전막 형성용 조성물, 그 제조방법 및 그를 이용하여 제조된 도전막을 구비한 음극선관 | |
KR100778501B1 (ko) | 코팅막 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 코팅막 | |
JP2000001339A (ja) | 着色膜およびこの着色膜を備えた表示装置 | |
MXPA99007763A (en) | Composition to form a conductive layer and cathode rays tube that uses such formed layer from the composite | |
KR20020066505A (ko) | 전자파 차폐막 및 반사방지 형성용 조성물과 그 제조방법 | |
JPH11203943A (ja) | 透明導電性基材とその製造方法およびこの基材が適用された表示装置 | |
JP3870669B2 (ja) | 透明導電性基材とその製造方法およびこの透明導電性基材の製造に用いられる透明コート層形成用塗布液並びに透明導電性基材が適用された表示装置 | |
KR100514141B1 (ko) | 투명 도전막 형성용 조성물, 이를 이용한 전자파 차폐 및 반사방지용 투명 도전막 및 이를 포함하는 투명 도전성 기재 | |
JP2002343149A (ja) | 透明導電層の形成方法 | |
KR20030021985A (ko) | 도전막 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 도전막 | |
JP2005135722A (ja) | 透明導電層形成用塗布液及び透明導電性基材 | |
KR20030079263A (ko) | 필터막 형성용 코팅 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20071127 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |