KR100284335B1 - 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며, 상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물을 이용하면 막특성이 우수하며 도전성이 우수하면서 그의 조절이 가능한 도전막을 얻을 수 있다. 또한, 이러한 도전막을 채용하는 음극선관은 투과율이 최대 30% 수준으로까지 감소되면서 콘트라스트 특성이 개선되며, 색순도가 우수하고 고품위의 바디칼라를 나타낼 수 있다.

Description

도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관{Composition for forming conductive film and cathode ray tube employing conductive film formed by using the same}
본 발명은 도전막에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 막 강도가 개선된 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막이 구비된 음극선관에 관한 것이다.
지금까지는 제조공정상의 문제점으로 인하여 소정 곡율을 갖는 곡면형 패널이 음극선관용으로서 주로 사용되고 있으나, 이러한 곡면형 패널은 패널 바깥쪽으로 갈수록 눈부심과 화상의 일그러짐이 심해진다는 문제점이 있어 고품위의 화상을 구현하는데는 한계가 있다.
이러한 단점을 보완하기 위한 것이 무한대에 가까운 곡율을 갖는 패널, 즉 평면형 패널이다.
패널은 곡율이 클수록, 즉 패널이 평면에 가까울수록 외광반사에 의한 눈부심이 억제되어 선명한 화상이 실현되고 눈의 피로도를 줄일 수 있으며 화상의 일그러짐 현상도 일어나지 않는다. 따라서, 최근 평면형 패널을 채용한 음극선관에 대한 연구가 다각도로 진행되고 있다.
평면형 패널의 일예로서 제안된 것이 도 1a에 도시된 바와 같이 패널의 내면과 외면이 모두 완전 평면인 패널이다. 그런데, 이러한 패널을 채용한 음극선관의 경우 패널 중앙부분에 구현되는 화상이 내면쪽으로 들어가 보이는 현상이 나타난다.
이러한 문제점을 극복하기 위하여, 도 1b에 도시된 바와 같이 패널의 외면은 완전 평면형이고 내면은 소정의 곡율을 갖는 곡율형 구조로 된 평면 패널이 제안되었다.
그러나, 이러한 구조를 갖는 평면 패널은 패널의 중앙부분과 주변부분의 두께 차로 인하여 투과율이 서로 다르다는 문제점이 있다. 더구나, 통상 사용되는 투과율 40% 내지 50% 정도의 다크틴트나 세미틴트 패널을 상기와 같은 구조를 갖는 평면형 패널에 적용할 경우 중앙부와 주변부와의 투과율 차이가 더욱 커져서 균일한 화상의 구현이 어려워진다.
따라서, 80% 이상의 투과율을 갖는 클리어틴트 패널을 사용하고 그 외면에 투과율 조절용 도전막을 코팅함으로써 고투과율로 인한 콘트라스트 저하를 방지하는 방법이 제안되었다.
이러한 도전막은 외광 흡수를 극대화하여 콘트라스트를 향상시키고 투과광 산란을 최소화하여 화상번짐현상을 억제하며 도전성이 있어 정전기에 의한 먼지부착방지 기능이 있어야 한다. 또한, 막 강도가 우수하여야 한다.
이러한 도전막 형성용 조성물의 일예로서 염료 또는 안료, 상기 염료 또는 안료의 도전성을 보완하기 위한 도전성 미립자, 및 실리케이트와 같은 결합제를 포함하는 도전성 코팅 조성물 및 그를 이용하는 형성된 도전막을 구비한 음극선관이 제안되었다.
그러나, 이러한 종래의 도전성 코팅 조성물은 결합제의 함량에 비하여 안료와 도전성 미립자의 함량이 높아 그로부터 형성되는 도전막의 기계적 강도가 낮고 투과율의 감소폭이 30% 정도에 불과하여 충분한 콘트라스트 개선효과를 얻을 수 없다는 문제점이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 기계적 강도가 개선된 도전막 형성용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 조성물로부터 제조되어 도전성이 우수하고 콘트라스트 특성, 해상도 및 기계적 강도가 우수한 도전막을 구비한 음극선관을 제공하는 것이다.
도 1a는 종래의 평면형 패널의 단면도이다.
도 1b는 본 발명에 따른 평면형 패널의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일예에 따른 도전막이 구비된 음극선관의 단면도이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
11... 패널12... 도전막
13... 보호막14... 스프레이막
15... 펀넬16... 편향요오크
17... 전자총
본 발명의 기술적 과제는 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며, 상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물에 의하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 다른 기술적 과제는, 패널 및 상기 패널 외면 상에 순차적으로 형성된 도전막 및 보호막을 포함하는 음극선관에 있어서, 상기 도전막이 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관에 의하여 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 도전막에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자는 카본블랙, 티탄 블랙 (TiO2) 및 은 (Ag)으로부터 선택된 1종 이상이며, 바람직하게는 카본블랙이고 그의 평균 입경은 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하이다.
또한, 상기 전도성 고분자로는 도전성을 가지고 있고 고분자 자체의 체적저항률이 105Ωcm 이하인 고분자로서 본 발명의 분야에서 통상 사용되는 것이라면 특별하게 제한되지 않으며, 그 구체적인 예로서 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌, 폴리세레노펜 등을 들 수 있으며, 바람직한 것은 폴리티오펜계 고분자이다.
또한, 결합제는 에폭시실란, 트리메톡시실란 또는 비닐실란과 같은 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다.
[M1(OR)4]
상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
(SiO)n(OR)4-2n
상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
한편, 상기 파장조절용 안료 미립자는 본 발명의 분야에서 통상 사용될 수 있는 유기 또는 무기 안료 또는 염료로서, 바람직하게는 400∼700nm 영역에서 투과율이 우수하여 흑색 안료의 색감을 보정할 수 있는 유기 또는 무기 안료 또는 염료, 더 바람직하게는 프탈로시아닌계 안료 및 보라색계 안료로부터 선택된 1종 이상의 안료를 사용할 수 있으며, 그의 평균입경은 200nm 이하, 보다 바람직하게는 120nm 이하이다.
또한, 용매로는 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, n-부탄올 등의 알콜 용매, N-메틸 2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드, 물 등을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물은 필요에 따라서는 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 구리(Cu), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru) 또는 주석(Sn) 등과 같은 금속 미립자, 및 산화주석, 산화인듐, 산화인듐주석 (ITO), 산화안티몬, 산화안티몬아연 또는 산화안티몬주석 등과 같은 금속산화물 미립자로부터 선택된 1종 이상의 도전성 미립자를 더 포함할 수도 있는데, 이 경우 이들 미립자의 평균입경이 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하여야 한다.
한편, 본 발명에 따른 음극선관에 있어서, 보호막은 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, 필요에 따라서는 플루오로알킬실란의 가수분해물을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 음극선관에 있어서, 상기 보호막 상부에 하기 화학식 1의 금속알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상의 가수분해물, 및 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막을 더 포함할 수 있다.
[화학식 1]
[M1(OR)4]
상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
[화학식 2]
(SiO)n(OR)4-2n
상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
본 발명에 있어서, 상기 플루오르알킬실란의 구체적인 예로는 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH3)2, CF3CH2CH2Si(CH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiMeCl3또는 CF3CH2CH2SiCl3을 들 수 있다.
종래의 도전막 형성용 조성물이 안료와 도전성 미립자를 별도로 포함하고 있으며 이에 따라 결합제의 함량이 상대적으로 적은데 반해, 본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물은 외광흡수 능력이 우수한 도전성 흑색 안료 미립자를 첨가하는 대신 결합제의 함량을 증가시키고 전도성 고분자를 분산제 겸 도전제로서 첨가함으로써 도전성은 물론 막강도가 개선되도록 하며, 유기 또는 무기 안료 또는 염료를 파장조절용 안료 미립자로서 첨가함으로써 콘트라스트 특성 및 색순도를 향상시키면서 고품위의 바디칼라를 제공한다는데 특징이 있다.
도 2는 본 발명의 일예에 따른 음극선관의 단면도이다.
도면을 참조하여 보면, 본 발명에 따른 음극선관은 패널 (11), 펀넬(15), 편향요오크(16) 및 전자총(17)을 포함하는데, 이중 상기 패널(11)은 그 내면이 소정의 곡율을 갖는 곡면형이고 외면이 평면형 구조이며, 그의 외면 상에 도전막(12), 보호막(13) 및 스프레이막(14)이 순차적으로 형성되어 있다.
본 발명에 따른 음극선관의 제조방법을 구체적으로 설명하기로 한다.
먼저, 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 교반하에 용매와 혼합하여 도전막 형성용 조성물을 제조한다. 이때, 상기 도전성 흑색 안료 미립자 및 파장조절용 안료 미립자는 평균 입경이 200nm 이하, 바람직하게는 120nm 이하인 것이 사용되는데, 평균 입경이 200nm를 초과할 경우 이 조성물로부터 형성되는 도전막에 백탁이 생기고 해상도가 저하된다는 문제점이 있어 바람직하지 않다. 또한, 필요에 따라서는 상기 조성물에 본 발명의 분야에서 통상 사용되는 도전성 미립자를 더 첨가할 수도 있는데, 이 경우에도 평균입경 범위는 상기와 동일한 범위여야 한다.
이렇게 제조된 도전막 형성용 조성물을 패널의 중앙부와 주변부의 평균투과율이 약 81%인 19인치 음극선관용 클리어틴트 패널의 외면상에 스핀코팅한 다음 건조시켜 도전막을 형성한다.
이어서, 상기 화학식 1의 금속알콕사이드 및 상기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상의 화합물과 산촉매를 교반하에 용매와 혼합하고, 이 혼합물을 상기 도전막 상에 스핀코팅한 다음 건조하여 보호막을 형성한다.
계속하여, 상기 화학식 1의 금속알콕사이드 및 상기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상의 화합물과 플루오로알킬실란을 산촉매와 함께 교반하에 용매와 혼합하고 이 혼합물을 상기 보호막 상에 스프레이코팅한 다음, 건조하여 요철구조를 갖는 반사방지용 스프레이막을 형성한다.
마지막으로, 상기 결과물을 소성하여 패널의 외면 상에 3층의 코팅막이 형성된 음극선관을 완성하였다.
본 발명에 따르면, 도전막 형성용 조성물 중의 도전성 흑색 안료 미립자 및 전도성 고분자의 함량에 따라 도전막의 저항이 102∼1010Ω/□ 범위에서, 투과율이 30∼95% 범위에서 조절될 수 있다. 또한, 종래의 도전막 형성용 조성물에 비해 다량 첨가된 결합제는 도전막 자체의 네트워크를 더욱 치밀하게 하여 성막성을 제공할 뿐 아니라 도전막과 그 상,하부막 (즉, 하부의 패널 및 상부에 형성되는 보호막)간의 결합력을 강화함으로써 막 강도를 개선한다.
또한, 상기 스프레이막 형성용 조성물 중의 플루오로알킬실란은 막이 내습성을 갖도록 함으로써 수분 흡수에 따른 막분리 현상을 방지할 수 있다.
한편, 본 발명에서 사용되는 상기 화학식 2의 실리콘알콕사이드 올리고머는 평균 분자량이 400∼6,000인 것이 바람직한데, 400 미만이면 막강도가 낮아지는 반면 6,000을 초과하게 되면 점도가 높아진다는 단점이 있다.
본 발명에 있어서, 각각의 막은 본 발명의 분야에서 통상적으로 사용될 수 있는 방법, 즉 예를 들면 스핀코팅, 스프레이코팅 또는 침적코팅 등의 용이한 코팅방법에 의해 형성될 수 있다.
본 발명에 있어서, 음극선관은 패널 외면 상에 도전막과 보호막만이 순차적으로 형성된 2층의 코팅막 구조를 가질 수도 있다. 이 경우에는 보호막 형성용 조성물에 플루오로알킬실란을 더 첨가하여 내습성을 보강할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
실시예 및 비교예에서 얻어지는 음극선관에 대한 저항, 투과율, 막 강도 및 내습성을 하기와 같이 평가하였으며 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
저항 측정
표면저항측정기를 이용, 샘플의 4 지점의 표면저항을 측정하여 그 평균값을 산출하였다.
투과율 측정
가시광선 대역의 분광분석기를 이용, 550nm에서의 투과율을 측정하였다.
내습성의 평가
패널 외면 상에 코팅막이 형성되지 않은 패널을 대조용 샘플로서 준비하고, 이 대조용 샘플과, 실시예 및 비교예의 샘플들을 60℃의 물에 8시간 동안 침적시킨후 코팅막 형성 전,후의 막 상태 및 저항 변화를 관찰하여 평가하였으며, 그 평가 결과를 하기와 같이 표시하였다:
◎ : 매우 양호
○ : 양호
△ : 보통
× : 불량
〈실시예1>
평균입경이 200nm인 카본블랙을 물에 분산시켜 얻은 카본블랙 분산액 10g (카본블랙 함량: 0.5g), 10g의 폴리티오펜 및 2g의 테트라에톡시실란을 35g의 메탄올, 20g의 에탄올, 15g의 이소프로필알콜, 20g의 메틸셀로솔브로 이루어진 혼합용매에 용해시켜 도전막 형성용 조성물을 제조한 다음, 중앙부와 주변부의 평균투과율이 약 81%인 19인치 음극선관용 클리어틴트 패널의 외면 상에 스핀코팅하고 건조시켜 도전막을 형성하였다.
다음으로, 3g의 테트라에톡시실란을 30g의 메탄올, 50g의 에탄올, 12g의 노르말부탄올 및 4g의 물로 이루어진 혼합용매와 혼합하고 여기에 0.5g의 질산을 첨가하여 상온에서 24시간 동안 반응시켜 보호막 형성용 조성물을 제조한 다음, 상기 도전막 상에 스핀코팅하고 건조시켜 보호막을 형성하였다.
계속하여, 3g의 테트라에톡시실란과 0.3g의 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3를 30g의 메탄올, 50g의 에탄올, 12g의 노르말부탄올 및 4g의 물로 이루어진 혼합용매와 혼합하고 여기에 0.5g의 질산을 첨가하여 상온에서 24시간 동안 반응시켜 스프레이막 형성용 조성물을 제조한 다음, 상기 보호막 상에 스프레이코팅하고 건조시켜 스프레이막을 형성하였다.
마지막으로 200℃에서 30분 동안 열처리하여 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 2>
보호막 상부에 스프레이막을 제조하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 3>
PEDT 대신에 평균입경이 200nm인 산화인듐주석 3g을 사용하여 도전막 형성용 조성물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈실시예 4>
PEDT 대신에 평균입경이 200nm인 은 0.3g을 사용하여 도전막 형성용 조성물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
〈비교예 1>
도전막 형성용 조성물 제조시에 테트라에톡시실란을 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 2에서와 동일한 방법에 따라서 음극선관을 완성하였다.
저항 (Ω/□) 투과율 (%) 내습성 비고
실시예 1 8×103 60 저항변화 없슴
실시예 2 3×104 61 약간의 저항증가가 나타남
실시예 3 6×104 65 저항변화 없슴
실시예 4 8×102 50 저항변화 없슴
비교예 1 5×108 56 × 막분리가 발생함
상기 표 1의 결과로부터, 본 발명에 따른 음극선관 (실시예 1 내지 4)은 도전성 및 내습성이 우수할 뿐 아니라 콘트라스트가 개선된 것을 알 수 있다.
단, 실시예 2의 경우에는 발수성분인 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막이 형성되지 않아 내습성이 다소 떨어지기는 하지만 도전막에 결합제로서 첨가된 실리콘알콕사이드 올리고머에 의해 소정의 내습성은 나타내는 것을 알 수 있다.
그러나, 도전막에 결합제가 포함되어 있지도 않고 최외각층에도 발수성분인 플루오로알킬실란의 가수분해물이 포함되어 있지 않은 경우 (비교예 1)에는 내습성이 불량하며 막분리 현상이 발생하는등 막안정성이 크게 저해되는 것을 알 수 있다.
본 발명에 따른 조성물을 이용하여 제조된 도전막은 투과율을 최대 30% 수준으로까지 감소되며 성막성이 우수하다. 따라서, 이러한 도전막을 포함하는 음극선관은 도전성, 콘트라스트 특성 및 막 강도가 우수하다.

Claims (13)

  1. 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제, 파장조절용 안료 미립자 및 용매를 포함하며,
    상기 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자가 조성물중 고형분의 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량%인 도전막 형성용 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자가 카본블랙, 티타늄 블랙 및 산화은으로부터 선택된 1종 이상이며, 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 전도성 고분자가 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌 및 폴리세레노펜으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 결합제가 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
    [화학식 1]
    [M1(OR)4]
    상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
    [화학식 2]
    (SiO)n(OR)4-2n
    상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
  5. 제1항에 있어서, 파장조절용 안료 미립자가 최고 투과율이 400∼700nm 영역인 유기 또는 무기 안료 및 염료로부터 선택된 1종 이상이며 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 도전막 형성용 조성물.
  6. 패널; 및
    상기 패널 외면 상에 순차적으로 형성된 도전막 및 보호막을 포함하는 음극선관에 있어서,
    상기 도전막이 도전성 흑색 안료 미립자, 전도성 고분자, 결합제 및 파장조절용 안료 미립자를 총중량에 대하여 각각 0.01∼1.0중량%, 0.03∼0.5중량%, 0.1∼10중량% 및 0.01∼0.2중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
  7. 제6항에 있어서, 도전성 흑색 안료 미립자가 카본블랙, 티타늄 블랙 및 산화은으로부터 선택된 1종 이상이며, 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 음극선관.
  8. 제6항에 있어서, 전도성 고분자가 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리푸란, 폴리파라페닐렌 및 폴리세레노펜으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 음극선관.
  9. 제6항에 있어서, 결합제가 실란 커플링제, 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 음극선관.
    [화학식 1]
    [M1(OR)4]
    상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
    [화학식 2]
    (SiO)n(OR)4-2n
    상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
  10. 제6항에 있어서, 파장조절용 안료 미립자가 최고 투과율이 400∼700nm 영역인 유기 또는 무기 안료 및 염료로부터 선택된 1종 이상이며 그의 평균 입경 200nm 이하인 것을 특징으로 하는 음극선관.
  11. 제6항에 있어서, 보호막이 하기 화학식 1의 금속 알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
    [화학식 1]
    [M1(OR)4]
    상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
    [화학식 2]
    (SiO)n(OR)4-2n
    상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
  12. 제11항에 있어서, 보호막이 플루오로알킬실란의 가수분해물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
  13. 제6항에 있어서, 상기 보호막 상부에 하기 화학식 1의 금속알콕사이드의 가수분해물 및 하기 화학식 2의 실리콘 알콕사이드 올리고머의 가수분해물로부터 선택된 1종 이상의 가수분해물, 및 플루오로알킬실란의 가수분해물을 포함하는 스프레이막을 더 포함된 것을 특징으로 하는 음극선관.
    [화학식 1]
    [M1(OR)4]
    상기식중, M1은 Si, Ti, Sn 또는 Zr이고, R은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.
    [화학식 2]
    (SiO)n(OR)4-2n
    상기식중, n은 0∼1이고, R은 탄소수 1∼4의 알킬기이다.
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