KR100269994B1 - 디벤조일메탄유도체,1,3,5-트리아진유도체및벤잘말로네이트작용기함유규소유도체를함유하는조성물,및그의용도 - Google Patents
디벤조일메탄유도체,1,3,5-트리아진유도체및벤잘말로네이트작용기함유규소유도체를함유하는조성물,및그의용도 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 화장 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 i) 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, ii) 하나 이상의 특정 1,3,5-트리아진 유도체, 및 iii) 벤잘말로네이트 작용기를 포함하는 하나 이상의 규소 유도체를 함유하는 신규 화장 및/또는 피부 과학 조성물에 관한 것이다. 이들 조성물은 특히 광 안정성이 있다.
본 발명은 또한 화장 및/또는 피부과학 분야에서의 이들 조성물의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 UV 복사, 특히 태양 복사에 대하여 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 신규 화장 및/또는 피부 과학 조성물 (이후 하기에서 태양광 차단 (antisun) 조성물로 언급한다.) 에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 화장 및/또는 피부 과학적으로 허용 가능한 지지체에 세 가지 특정 차단제의 배합물을 함유하며광안정성이 개선된 신규의 화장 및/또는 피부 과학적 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 화장 및/또는 피부 과학 분야에서 이들 조성물의 용도에 관한 것이다.
280 nm 내지 400 nm 의 파장을 갖는 광 복사는 인간의 외피를 태운다는 것과, UV-B 선으로 알려진 특히 파장 280 내지 320 nm 를 갖는 광선은 자연적으로 피부가 타는 것에 유해할 수 있는 피부 화상 및 홍반을 유발시킨다는 것은 공지이다. 이러한 이유 뿐만 아니라 심미적인 이유로, 피부의 색을 조절하기 위하여 자연적인 피부의 태움을 조절하기 위한 수단이 계속적으로 요구되어 왔으며; 따라서, UV-B 복사는 차단되어 져야 한다.
또한 피부의 태움을 야기시키는 파장 320 내지 400 nm 의 UV-A 선은 특히 태양 복사에 계속적으로 노출된 피부 또는 민감성 피부의 경우에, 피부의 태움에 대한 나쁜 변화를 유발하기 쉽다는 것도 공지이다. UV-A 선은 특히 피부의 탄성을 손상시키게 하고 주름이 생기게 하여, 피부의 노화를 더 빠르게 진행시킨다. 이들은 홍반 반응의 자극을 증진시키거나 또는 특정 개인에 대하여 이러한 반응을 확장하며 광독성 또는 광알레르기성 반응을 유발시킬 수 도있다. 그러므로, 예를 들어 자연적인 피부의 탄성을 보존하는 것과 같은 심미적 및 화장적인 이유 때문에, 피부에 작용하는 UV-A 선의 제어를 점점더 많은 수의 사람이 희망하고 있다.
그러므로, 일반적인 UV 복사에 대한 피부 및 모발의 보호 (이러한 보호는 가능한 완전히 효과적인 것이다.) 를 제공하기 위한 목적으로, UVA 범위에 활성인 차단제 및 UVB 범위에 활성인 차단제의 배합물이 태양광 차단 조성물의 제조에 사용되는 것이 일반적이다.
이러한 관점에서, 특히 유리한 현행 UV-A 차단제의 계는 디벤조일메탄 유도체로 구성되며, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄이며, 이것은 높은 고유의 흡수능을 갖는다. UV-A 범위에서 활성인 차단제로서 공지된 현행 제품인 이들 디벤조일메탄 유도체는 특히 유럽 특허 출원 EP-A-0,114,607 호 뿐만 아니라, 프랑스 특허 출원 FR-A-2,326,405 호 및 FR-A-2,440,933 호에 기술되어 있으며; 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄은 더욱이 기보단 (Givaudan) 사에서 상표명 "Parsol 1789" 로 현재 시판되고 있다.
유사하게, 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진은 BASF 사에서 상표명 "Uvinul T 150" 으로 시판되며, UVB 복사에 대하여 높은 흡수능을 가지며, 그러므로 이들을 UV 복사 범위 전체에 걸쳐서 광범위하고 효과적인 보호를 제공하는 제품을 수득하기 위한 목적을 위하여 상술한 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄과 배합하여 사용하는 것이 매우 유리하다.
그러나, 본 출원인은 이들 1,3,5-트리아진 유도체는 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄과 사용될 때, UV 복사 하에서, 상당한 화학 붕괴를 진행시킨다는 단점을 갖는다. 이러한 조건하에서, 두 차단제의 배합은 피부 및 모발에 대하여 광범위하고, 연장된 태양광 차단 보호를 더 이상 할 수 없다.
현재, 상술한 광보호 분야에서 상당한 연구를 수행한 후, 출원인은 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진과 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 조성물에 특정한 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체의 도입은 이들 조성물에서 1,3,5-트리아진 유도체의 광안정성을 허여 하며, 그러므로 이들 조성물의 전체 효과는 상당히 실질적으로 향상된다는 것을 발견하였다.
그러므로, 본 발명의 주제는 화장 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 하기 성분 i), ii) 및 iii)을 함유하는 신규 화장 및/또는 피부과학 조성물이다:
i) 디벤조일메탄 유도체,
ii) 하기 화학식 (I) 에 해당하는 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체:
[식중:
- X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;
- R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 포함하며 그의 말단 OH 기는 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며:
(식중:
- R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;
- R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;
- n 은 0 내지 3 의 정수이고;
- m 은 1 내지 10 의 정수이며;
- A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬 라디칼이고;
- B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 아릴 라디칼이며;
- R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)];
및 iii) 하기 화학식 (V) 의 단위 하나 이상을 포함하는 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 하나 이상의 규소 유도체:
[식중:
- R7은 임의로 할로겐화된 C1-C10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내고,
- R8은 수소 원자, 히드록시 라디칼, C1-C6알킬 라디칼, C1-C6알콕시 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내며,
- R9은 C1-C8알킬 라디칼을 나타내고,
- a 는 0 내지 3에서 선택된 정수이며,
- b 는 0 또는 1 이고,
- Y 는 하기식 (1) 내지 (4) 중의 하나에 해당하는 2 가 라디칼을 나타내고:
-C(R10)2-CHR10-[C(R10)2]p- (4)
(식중:
- R10은 수소 원자 또는 C1-C5알킬 라디칼을 나타내며,
- p 는 1 내지 10 의 정수이다.);
기 -Y-(O)b- 및 두 개의 기 R8은 기-CH=C-[C(O)OR9]2에 대하여 파라 위치 및 두 메타 위치로 구별 없이 방향족 고리에 결합되어 있다.]
그러므로, 본 발명에 따라, 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체화 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 화장 및/또는 피부과학 조성물이 제조되며, 이들 조성물은 광에 작용하기 쉬울지라도 조성물중의 1,3,5-트리아진 유도체의 농도는 비교적 일정하게 남아 있는다.
더욱이, 본 발명의 문맥에서 사용된 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체는 양호한 고유 차단력을 갖는 장점이 있으며, 이것은 조성물에 제공되어 UV 복사에 대한 보호에 기여하며, 또한, 배합된 차단계 [디벤조일메탄 유도체 + 1,3,5-트리아진 유도체 + 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체] 는 UV 복사의 작용 하에 매우 양호한 전체 안정성 (광안정성) 을 제공하며, 이것은 본 발명에 따른 조성물의 또 다른 추가의 장점에 기여한다.
본 발명의 주제는 또한 조성물 중에 있는 1,3,5-트리아진 유도체의 UV 복사 안정성 (광안정성) 을 향상시키기 위하여, 상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체와 배합된 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄을 함유하는 화장 및/또는 피부과학 조성물의 제조에 사용되는 상기 정의된 바와 같은 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 주제는 또한 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄 및 상기 정의된 바와 같은 1,3,5-트리아진 유도체, 특히 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐) 아닐리노]-1,3,5-트리아진을 함유하는 화장 및/또는 피부 과학 조성물의 UV 복사에 대한 안정성 (광안정성) 을 증가시키는 방법이며, 이 방법은 상기 정의된 바와 같은 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체의 유효량을 상기 조성물에 도입하는 것으로 이루어 진다.
벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체의 유효량이란 표현은 조성물 중에 함유된 1,3,5-트리아진 유도체(들) 의 광안정성이 현저하고 의미 있는 향상을 얻기에 충분하도록 하는 양을 의미한다. 조성물을 위하여 선택된 화장학적으로 허용 가능한 지지체의 성질에 따라 변할 수 있는 사용된 안정화제의 최소량은 하기 예시되는 것과 같은, 광안정성 측정에 대한 표준 시험의 방식으로 쉽게 결정될 수 있다.
본 발명의 다른 특성, 양상 및 장점은 하기의 상세한 기술을 읽음에 따라 명백해질 것이다.
상기 지적한 바와 같이, 본 발명에 따라 사용될 수 있는 디벤조일메탄 유도체는 이미 당업자에게 잘 알려져 있으며 특히 상술한 문헌 FR-A-2,326,405 호, FR-A-2,440,933 호 및 EP-A-114,607 호에 기술되어 있다.
본 발명에 따라, 물론 하나 이상의 디벤조일메탄 유도체를 사용하는 것이 가능하다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 디벤조일메탄 유도체중에서, 특히 하기의 유도체는 비 제한적인 방식으로 만들 수 있다:
- 2-메틸디벤조일메탄,
- 4-메틸디벤조일메탄,
- 4-이소프로필디벤조일메탄,
- 4-t-부틸디벤조일메탄,
- 2,4-디메틸디벤조일메탄,
- 2,5-디메틸디벤조일메탄,
- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,
- 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2-메틸-5-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 2,6-디메틸-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,
- 4,4'-디메톡시디벤조일메탄.
상술한 디벤조일메탄 유도체 중에서, 본 발명에 따라 특히 바람직한 것은 기보단사에서 상표명 "Parsol 1789" 로 시판되는 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄을 사용하는 것이며, 이러한 차단제는 하기 구조식에 해당한다:
본 발명에 따라 바람직한 또 다른 디벤조일메탄 유도체는 머크(Merck) 사에서 상표명 "Eusolex 8020" 으로 시판되고 있는 차단제인 4-이소프로필디벤조일메탄이며, 이것은 하기 구조식에 해당한다:
디벤조일메탄 유도체는 조성물의 총 중량에 대하여, 0.2 중량 % 내지 15 중량 % 범위의 비율로 본 발명의 조성물에 존재할 수 있다. 바람직하게는 이러한 비율은 0.2 % 내지 10 % 이다.
본 발명에 의하여 관찰된 조성물에 있는 제 2 화합물은 특히 1,3,5-트리아진 유도체이다. 그러므로, 본 발명의 문맥에서 사용될 수 있는 1,3,5-트리아진 유도체는 하기 화학식 (I) 에 해당하는 것에서 선택된다:
[화학식 1]
[식중:
- X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;
- R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 그의 말단 OH 기는 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택된다:
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
(식중:
- R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;
- R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;
- n 은 0 내지 3 의 정수이고;
- m 은 1 내지 10 의 정수이며;
- A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬라디칼이고;
- B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 아릴 라디칼이며;
- R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)].
명백히, 상기 정의에서, X2및/또는 X3이 -NH- 라디칼을 나타낼 때, 해당하는 라디칼(들) R2및/또는 R3은 암모늄 라디칼 또는 알칼리 금속이 아니다.
특히 더 바람직한 1,3,5-트리아진 유도체인 제 1 군은 특히 문헌 EP-A-0,517,104 호에 기술되어 있는 상기 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며 하기 특성을 모두 갖는다:
- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
- R1은 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 화학식 (II), (III) 또는 B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 (IV) 의 라디칼에서 선택되며;
- R2및 R3은 동일하거나 상이할 수 있으며; 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 화학식 (II), (III) 또는 B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 (IV) 의 라다칼에서 선택된다.
본 발명에 따라 바람직한 1,3,5-트리아진 유도체인 제 2 군은 특히 문헌 EP-A-570,838 호에 기술되어 있는 상기 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며 하기 특성을 모두 갖는다:
- X3는 -NH- 라디칼이며;
- R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
- R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;
- X2가 -NH- 라디칼이면, R2는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;
-X2가 산소이면, R2는 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV) 의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 임의로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
특히 바람직한 1,3,5-트리아진 유도체인 제 2 군은 하기 화학식에 해당하는 것이다:
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타내며 R 은 t-부틸 라디칼을 나타낸다.]
바람직한 화합물인 제 3 군은 특히 미국 문헌 4,724,137 호에 기술된 화학식 (I) 에 해당하는 1,3,5-트리아진 유도체이며, 하기의 특성을 모두 갖는다:
- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;
- R1, R2및 R3은 동일하고, C6-C12알킬 라디칼 또는 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 말단 OH 기가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼을 나타낸다.
특히 바람직한 1,3,5-트리아진인 제 3 군은 2,4,6-트리스[p-(2'- 에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진이며, 이것은 공지된 차단제이고, UV-B 범위에서 활성이며, 고체형태이고 특히 BASF 사에서 상품명 "Uvinul T 150" 으로 시판된다. 이 제품은 하기 식에 해당한다.
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타낸다.]
1,3,5-트리아진 유도체(들) 은 일반적으로 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 내지 20 중량 %, 바람직하게는 1 중량 % 내지 10 중량 % 범위의 비율로 본 발명의 조성물에 존재한다.
본 발명에 따른 조성물의 절대적으로 필수적인 제 3 화합물은 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체이다. 더 구체적으로, 본 발명에서 사용될 수 있는 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체는 하기 화학식 (V) 의 단위 하나 이상을 함유하는 실란 또는 디오가노실록산이다:
[화학식 5]
O(3-a)/2Si(R7)a-Y-(O)b-C6(R8)2H2-CH=C-[C(O)OR9]2(V)
[식중:
- R7은 임의로 할로겐화된 C1-C10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내고,
- R8은 수소 원자, 히드록시 라디칼, C1-C6알킬 라디칼, C1-C6알콕시 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내며,
- R9은 C1-C8알킬 라디칼을 나타내고,
- a 는 0 내지 3에서 선택된 정수이며,
- b 는 0 또는 1 이고,
- Y 는 하기식 (1) 내지 (4) 중의 하나에 해당하는 2 가 라디칼을 나타내며:
-C(R10)2-CHR10-[C(R10)2]p- (4)
(식중:
- R10은 수소 원자 또는 C1-C5알킬 라디칼을 나타내며,
- p 는 1 내지 10 의 정수이다.);
기 -Y-(O)b- 및 두 개의 기 R8은 기-CH=C-[C(O)OR9]2에 대하여 파라 위치 및 두 메타 위치로 구별 없이 방향족 고리에 결합되어 있다.].
상기 화학식 (V)에서, a 가 3 이 아닐 때, 본 발명에 따라 사용될 수 있는 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체는 하기 일반식 (VI) 의 단위 하나 이상을 더 함유하는 디오가노실록산이다:
[식중:
-R11은 수소 원자 또는 임의로 할로겐화된 C1-C10수소화 라디칼을 나타내고,
-c 는 0 내지 3에서 선택된 정수이다.]
이들 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 디오가노실록산은 특허 출원 EP-A-358,584 호, EP-A-392,882 호, EP-A-538,431 호 및 EP-A-709,080 호에 그들의 제조 방법과 함께 기술되어 있다.
특히 바람직한 디오가노실록산의 군은 하기 식 (5) 및 (6) 중의 하나에 해당하는 것에서 선택된, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 디오가노실록산이다:
또는
[식 (5) 및 (6) 중:
- R12는 동일하거나 상이할 수 있으며 C1-C10알킬, 페닐 및 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼에서 선택되며, 수로 표시하면, 라디칼 R12중의 80 % 이상이 메틸이고;
- D 는 동일하거나 상이할 수 있으며, 라디칼 R12및 라디칼 Y-W에서 선택되며;
- r 은 0 내지 200 의 정수이며, s 는 0 내지 50 의 정수이고, s=0 이면, 두 기호 D 중의 하나 이상은 Y-W를 나타내고,
- u 는 1 내지 20 의 정수이고 t 는 0 내지 20 의 정수이며, t + u 는 3 이상이고,
- Y 는 상기 화학식 (V) 에서와 동일한 의미를 가지며;
- W 는 R8, R9및 b 가 상기 화학식 (V) 와 동일한 의미를 갖는 라디칼 -(O)b-C6(R8)2H2-CH=C-[C(O)OR9]2을 나타낸다.]
이러한 군에서, 하기 특성을 하나 이상 갖는 화학식 (5) 의 선형, 랜덤 또는 블록 중합체가 특히 더 바람직하다:
- R12는 메틸이고,
- D 는 메틸이며,
- R8은 수소 또는 O-CH3이고,
- R9은 에틸 또는 2-에틸헥실이며,
- r 은 0 내지 20 이고,
- s 는 1 내지 15 이다.
이러한 군 중에서 특히 바람직한 디오가노실록산은 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (5) 의 화합물 (이후에는 화합물 (c1) 으로 언급한다.) 이다:
- R12는 메틸이고,
- D 는 메틸이며,
- r=s=5,
- 및 Y-W 는 하기식을 나타낸다:
본 발명의 특히 바람직한 구현예에서, 특히 요망되는 화합물의 군은 하기 특성을 갖는 화학식 (5) 에 해당하는 화합물에서 선택된 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 디오가노실록산 및 그의 혼합물로 정의된다:
- R12는 메틸이고,
- 0 ≤ r ≤ 130 및 0 ≤ s ≤ 20,
- D 는 메틸 또는 Y-W이며,
- Y-W 는 하기식을 나타낸다:
또는
단:
- D 가 Y-W 이면, s=0 이고,
- D 가 메틸이면, 1 ≤ s ≤ 20 이다.
특히 바람직한 후자 군의 화합물은 기보단사에 의해 상표명 "Parsol SLX"로 시판되고 있는 폴리디메틸/메틸(3-(4-2,2-비스에폭시카르보닐비닐)페녹시)프로페닐)실록산이다.
따라서, 상기에 정의된 벤잘말로네이트 작용기를 함유하고 있는 충분한 량의 규소 유도체가 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 그리고 상기에 정의된 1,3,5-트리아진 유도체를 함유하고 있는 태양광 차단 조성물(antisun composition)에 첨가될 경우, 상기 1,3,5-트리아진 유도체의 광에 대한 안정성이 증가하고, 따라서 시간에 따른 태양광 차단 조성물의 효능이 증가한다.
바람직하게는, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하고 있는 규소 유도체는 본 발명에 따른 조성물내 조성물의 총 중량에 대해 적어도 0.5 중량 % 이상의 비율로 존재한다. 또한 바람직하게는, 이 비율은 상기 조성물의 총 중량에 대해 0.5 내지 20 중량%이다.
본 발명에서 목표로 하는 화장 및/또는 피부 과학 조성물은 물론 상기에 언급된 세가진 차단제이외에 일종이상의 부가적인 친수성 또는 친유성 UVA- 및/또는 UVB-활성 태양광 차단제(흡수제)를 함유할 수 있다. 이들 부가적인 차단제는 특히 신남 유도체, 살리실 유도체, 벤질리덴 캄포 유도체, 벤즈이미다졸 유도체, 상기 언급되지 않은 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 그리고 출원 WO-93/04665 호에 기술된 차단 중합체 및 차단 규소로부터 선택될 수 있다. 다른 유기 차단제의 예는 특허출원 EP-A-487,404 호에 나타나 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 예컨대 디히드록시아세톤(DHA)과 같은 피부의 인공적 태움 및/또는 그을림을 위한(자가 선탠제) 화학약품을 함유할 수 도 있다.
본 발명에 따른 화장 및/또는 피부 과학 조성물은 또한 모두가 물리적으로 UV 복사를 차단(반사 및/또는 확산)하는 그자체로 잘알려진 광 보호제인 안료 또는 산화티탄(금홍석 및/또는 아나타이즈 (anatase) 형태의 무정형 또는 결정형), 산화철, 산화아연, 산화지르코늄 또는 산화세륨과 같은 코팅되거나 코팅되지 않은 산화금속의 나노안료(주 입자의 평균 크기가 일반적으로 5 내지 100 nm, 바람직하게는 10 내지 50 nm)를 함유할 수도 있다.
덧붙여 말하면, 표준 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 이와 같은 코팅 되거나 코팅되지 않은 산화금속 나노안료는 특히 특허출원 EP-A-518,722 호 및 EP-A-518,773 호에 기술되어 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 특히 지방 물질, 유기용매, 이온 또는 비이온성 농후제, 연화제, 산화방지제, 항 자유라디칼제, 불투명화제, 안정제, 완화제, 실리콘, α-히드록시산, 항기포제, 보습제, 비타민, 방향제, 보존제, 계면활성제, 충진제, 금속이온봉쇄제, 중합체, 분사제, 염기화제 또는 산성화제, 염료, 혹은 화장 및/또는 피부 과학 분야, 특히 에멀션 형태의 태양광 차단제의 제조에 통상적으로 사용되는 기타 성분에서 선택되는 표준 화장 보조제를 함유할 수도 있다.
지방 물질은 오일 또는 왁스 혹은 그의 혼합물로 구성될 수 있다. 오일이란 용어는 실온에서 액체인 화합물을 의미한다. 왁스란 용어는 실온에서 고체 또는 실질적으로 고체이며, 그의 융점이 일반적으로 35℃이상인 화합물을 의미한다.
오일로는, 미네랄 오일(페트롤륨 젤리), 식물성 오일(스위트 아몬드 오일, 마카다미아 오일, 포도씨오일, 조조바오일); 퍼히드로스쿠알렌, 지방 알콜, 지방산 또는 지방 에스테르(예컨대, Finetex사에 의해 상표명 "Finsolv TN"으로 시판되고 있는 C12-C15 알킬 벤조에이트, 옥틸 팔미테이트, 이소프로필 라놀레이트, 카프리/카프릴산의 에스테르를 함유하는 트리글리세리드), 옥시에틸렌화 또는 옥시프로필렌화 지방 에스테르 및 지방 에테르와 같은 합성 오일; 실리콘 오일(시클로메티콘, 폴리디메틸실록산 또는 PDMS) 또는 플루오로 오일; 폴리알킬렌을 들 수 있다.
왁스성 화합물로는, 파라핀, 카르나우바 왁스, 밀랍 또는 수소첨가 캐스터 오일을 들 수 있다.
유기용매로는, 저급 알콜류와 폴리올류를 들 수 있다.
농후제는 특히 가교 폴리아크릴산 및 개질 또는 비개질 구아검 및 셀룰로스, 예컨대 히드록시프로필 구아검, 메틸히드록시에틸셀룰로스 및 히드록시프로필메틸셀룰로스에서 선택될 수 있다.
말할 필요도 없이, 당업자는 본 발명에 따른 삼성분 배합 과 본래 관련된 유리한 성질이 상기 구상된 첨가에 의해 나쁜 영향을 받지않거나, 실질적으로 나쁜 영향을 받지않는 그러한 방식으로 상기에 언급된 임의의 부가적인 화합물 (들) (특히 부가적인 차단제) 및/또는 그의 함량을 선택할 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 선행 기술에 숙련된 사람, 특히 수중유 혹은 유중수 형태의 에멀션을 제조하고자 하는 사람에게 잘 알려진 기술에 따라 제조될 수 있다.
상기 조성물은 특히 크림, 밀크와 같은 단순 혹은 복합 에멀션(O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W)의 형태로, 혹은 겔 또는 크림겔, 분말 또는 고체 스틱 형태일 수 있으며, 경우에 따라 에어로졸로 포장되거나 기포 또는 스프레이 형태일 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 수중유 에멀션의 형태이다.
에멀션의 형태일 경우, 에멀션의 수상은 공지된 방법(Bangham, Standish 및 Watkins, J.Mol.Biol. 13, 238(1965), FR 2,315,991 및 FR 2,416,008)에 따라 제조된 비이온성 액포 분산액을 함유할 수 있다.
본 발명의 화장 및/또는 피부 과학 조성물은 태양광 차단 조성물 또는 메이크-업 제품으로서 자외선에 대해 사람의 외피 또는 모발을 보호하는 조성물로 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물이 자외선에 대해 사람의 외피를 보호하거나, 혹은 태양광 차단 조성물로 사용될 경우, 용매 또는 지방 물질중의 현탁액 또는 분산액의 형태, 비이온성 액포 분산액의 형태 또는 다르게는 에멀션, 바람직하게는 수중유 형태, 예컨대 크림 또는 밀크의 형태, 혹은 연고, 겔, 크림 겔, 고체 연필, 스틱, 에어로졸 기포 또는 스프레이의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물이 모발을 보호하는데 사용될 경우, 모발용 삼푸, 로션, 겔, 에멀션, 비이온성 액포 분산액 또는 라커의 형태일 수 있으며, 예컨대 삼푸전후, 염색 또는 표백전후, 모발의 퍼머넌트 웨이브 혹은 스트레이트 동안 또는 전후에 가해지는 헹구어서 제거되는 조성물, 스타일링 또는 트리팅 로션 혹은 겔, 헤어드라이 건조 또는 모발세팅 로션 또는 겔, 혹은 모발의 퍼머넌트 웨이브, 스트레이트, 염색 또는 표백용 조성물을 구성할 수 있다.
상기 조성물이 속눈썹, 눈썹 또는 피부용 메이크-업 제품, 예컨대 피부 처리 크림, 파운데이션, 립스틱 튜브, 아이샤도, 브러쉬어, 마스카라 혹은 아이라이너로 사용될 경우, 유중수 혹은 수중유 에멀션, 비이온성 액포 분산액 또는 현탁액과 같은 고체 또는 페이스트, 무수 혹은 수성 형태일 수 있다.
지침으로서, 수중유 에멀션 형태의 지지체를 갖는 본 발명에 따른 태양광선 차단 배합물을 위해, 수상(친수성 차단제를 특히 함유하는)는 일반적으로 전체 배합물에 대해 50 내지 95 중량%, 바람직하게는 70 내지 90 중량%이며, 유상(친유성 차단제를 특히 함유하는)는 전체 배합물에 대해 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%이고, (보조)유화제는 전체 배합물에 대해 0.5 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%이다.
비제한적인 구체적인 실시예가 본 발명을 예시해 줄 것이다.
실시예:
통상적인 지지체가 하기 조성비를 가지고 있는 다섯개의 수중유 에멀션 A, B, C, D 및 E가 제조되었다(함량은 조성물의 총중량에 대해 중량%로 표시되었다).
- Tensia사에서 상표명 "Dehsconet 390"으로 시판되고 있는
세틸스테아릴 알콜과 옥시에틸렌화된 세틸스테아릴 알콜(33 EO)의
80/20 혼합물 7%
- ISP사에 의해 상표명 "Cerasynth SD"으로 시판되고 있는
글리세릴 모노- 및 디스테아레이트의 혼합물 2%
- 세틸 알콜 1.5%
- 다우 코닝사에 의해 상표명 "DC 200 Fluid"로 시판되고 있는
폴리디메틸실록산 1.5%
- Finetex사에 의해 상표명 "Finsolv TN"로 시판되고 있는
C12/C15알킬 벤조에이트 15%
- 에틸렌디아민테트라아세트산, 이나트륨염, 2H2O 0.1%
- 글리세롤 20%
- 보존제 적정량
- 탈미네랄수 적정량 100%
에멀션 A(비교)는 또한, 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진(Uvinul T 150)인 1,3,5-트리아진 유도체를 함유한다. 에멀션 B(비교)는 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄(Parsol 1789)와 배합된 Uvinul T 150을 함유한다. 본 발명에 따른 에멀션 C는 Uvinul T 150과 Parsol 1789 이외에 (c1)으로 부르는 상기 화합물을 함유하고 있다. 또한 본 발명에 따른 에멀션 D는 Uvinul T 150과 Parsol 1789 이외에 기보단사에 의해 상표명 "Parsol SLX"란 이름으로 시판되고 있는 폴리 디메틸/메틸 (3-(4-2,2-비스-에톡시카르보닐비닐)페녹시)프로페닐)실록산을 함유하고 있다. 비교 에멀션 E 그자체는 Parsol 1789와 배합된 Uvinul T 150을 함유하고 있으며, 아울러 기보단사에 의해 상표명 "Parsol MCX"란 이름으로 시판되고 있는 옥틸 메톡시신나메이트인 표준 UVB 차단제도 배합되어 있다.
상기에 언급된 각종 차단제를 함유하고 있는 에멀션 A, B, C, D 및 E의 조성이 하기 표 1 에 수록되어 있다(양은 조성물의 총중량에 대해 중량%로 표시되어 있다).
| 차단제 | A(비교) | B(비교) | C(본 발명) | D(본 발명) | E(비교) |
| Uvinul T150 | 1.5% | 1.5% | 1.5% | 1.5% | 1.5% |
| Parsol 1789 | - | 0.5% | 0.5% | 0.5% | 0.5% |
| 화합물 c1 | - | - | 10% | - | - |
| Parsol SLX | - | - | - | 10% | - |
| Parsol MCX | - | - | - | - | 10% |
이들 각 에멀션에 대해, 하기 과정에 따라 UV 조사후 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 잔류 퍼센트를 측정한다:
각 배합물에 대해, 4개의 대조 샘플과 4개의 시험샘플을 제조하였다.
배합물 16 mg을 빙점하의 PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트)판에 위치시키고, 이것을 물로 미리 헹군후 건조하고, 배합물을 2 cm × 4 cm의 면적에 바른다. 자연 UV선과 유사한 조건을 만들어 주기위해 상기 판을 온도가 약 35-40℃로 조정된 챔버내에 4시간동안 조사(Suntest CPS Heraeous)하고, 한편으로 다른 판의 조사시간동안 어둠속에서 대조 판을 저장한다.
이후 상기 샘플을 하기 방식으로 분석한다:
차단제를 용해시키기위해, 55 ml의 에탄올중에 각 판을 침적시킴으로써 차단제를 추출한다. 판과 차단제를 함유하고 있는 용매를 효과적인 추출을 위하여 5분간 초음파로 처리한다.
수득된 용액을 고성능 액체 크로마토그래피로 분석한다.
시험된 각 배합물에서, 조사후 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 잔류량은 비조사 샘플에서 그의 농도에 대한 조사 샘플에서 그의 농도의 비로 주어진다.
2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진의 잔류 퍼센트의 결과가 하기 표 2에 나타나 있다:
| 에멀션 | 잔류 Uvinul T150 |
| 에멀션 A(비교) | 79% |
| 에멀션 B(비교) | 63% |
| 에멀션 C(본 발명) | 100% |
| 에멀션 D(본 발명) | 91% |
| 에멀션 E(비교) | 77% |
본 발명에 의하여 화장 및/또는 피부과학적으로 허용가능한 지지체에 i) 디벤조일메탄 유도체, 특히 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, ii) 하나 이상의 특정 1,3,5-트리아진 유도체, 및 iii) 벤잘말로네이트 작용기를 포함하는 하나 이상의 규소 유도체를 함유하는 신규 화장 및/또는 피부 과학 조성물이 제공 되며, 이 조성물은 특히 광 안정성이 있다.
Claims (21)
- 화장, 피부과학, 또는 화장 및 피부과학 모두에 허용가능한 지지체에 하기 성분 i), ii) 및 iii)을 함유하는 화장, 피부 과학, 또는 화장 및 피부 과학 조성물:i) 조성물의 총 중량에 대하여 0.2 중량 % 내지 15 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 디벤조일메탄 유도체,ii) 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 내지 20 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는, 하기 화학식 (I) 에 해당하는 하나 이상의 1,3,5-트리아진 유도체:[화학식 1](I)
[식중:- X2및 X3, 는 동일하거나 상이하며, 산소 또는 -NH- 라디칼을 나타내고;- R1, R2및 R3, 는 동일하거나 상이하며, 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 포함하며 그의 말단 OH 기가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼; 하기 화학식 (II), (III) 또는 (IV) 의 라디칼에서 선택되며:[화학식 2](II)
[화학식 3](III)
[화학식 4](IV)
(식중:- R4는 수소 또는 메틸 라디칼이고;- R5는 C1-C9알킬 라디칼이며;- n 은 0 내지 3 의 정수이고;- m 은 1 내지 10 의 정수이며;- A 는 C4-C8알킬 라디칼이거나 C5-C8시클로알킬라디칼이고;- B 는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C8알킬 라디칼; C5-C8시클로알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 아릴 라디칼이며;- R6는 수소 또는 메틸 라디칼이다.)];및 iii) 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 이상의 비율로 조성물 내에 존재하는, 하기 화학식 (V) 의 단위 하나 이상을 포함하는 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 하나 이상의 규소 유도체:[화학식 5]O(3-a)/2Si(R7)a-Y-(O)b-C6(R8)2H2-CH=C-[C(O)OR9]2(V)[식중:- R7은 할로겐화된 C1-C10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내고,- R8은 수소 원자, 히드록시 라디칼, C1-C6알킬 라디칼, C1-C6알콕시 라디칼 또는 트리메틸실릴옥시 라디칼을 나타내며,- R9은 C1-C8알킬 라디칼을 나타내고,- a 는 0 내지 3에서 선택된 정수이며,- b 는 0 또는 1 이고,- Y 는 하기식 (1) 내지 (4) 중의 하나에 해당하는 2 가 라디칼을 나타내고:(1)
(2)
(3)
-C(R10)2-CHR10-[C(R10)2]p- (4)(식중:- R10은 수소 원자 또는 C1-C5알킬 라디칼을 나타내며,- p 는 1 내지 10 의 정수이다.);기 -Y-(O)b- 및 두 개의 기 R8은 기-CH=C-[C(O)OR9]2에 대하여 파라 위치 및 두 메타 위치로 구별 없이 방향족 고리에 결합되어 있다.] - 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (I) 의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;- R1은 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 화학식 (II), (III) 또는 B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 (IV) 의 라디칼에서 선택되며;- R2및 R3은 동일하거나 상이하며; 수소; 알칼리 금속; 하나 이상의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼로 치환된 암모늄 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼; 화학식 (II), (III) 또는 B 가 C1-C4알킬 라디칼이고, R6가 메틸 라디칼인 (IV) 의 라다칼에서 선택된다.
- 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (I) 의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- X2및 X3는 동일하고 -NH- 라디칼을 나타내며;- R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;- R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;- R2는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
- 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- X2는 산소이며;- X3은 -NH- 라디칼이고;- R3는 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되고;- R1은 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV)의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택되며;- R2는 수소; 알칼리 금속; 암모늄 라디칼; 화학식 (IV) 의 라디칼; 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4알킬 라디칼로 치환된 C5-C12시클로알킬 라디칼에서 선택된다.
- 제 4 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 화학식에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물:
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타내며 R 은 t-부틸 라디칼을 나타낸다.] - 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- X2및 X3는 동일하고 산소를 나타내며;- R1, R2및 R3은 동일하고, C6-C12알킬 라디칼 또는 1 내지 6 의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하며 말단 OH 가 메틸화된 폴리옥시에틸렌화 라디칼이다.
- 제 6 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 하기 화학식에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물:
[식중, R' 는 2-에틸헥실 라디칼을 나타낸다.] - 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 a 가 3 이 아닌 화학식 (V) 의 단위 하나 이상을 함유하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 8 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 하기 일반식 (VI) 의 단위 하나 이상을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.[화학식 6](R11)cSiO(4-c)/2(VI)[식중:-R11은 수소 원자 또는 할로겐화된 C1-C10수소화 라디칼을 나타내고,-c 는 0 내지 3에서 선택된 정수이다.]
- 제 9 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 하기 화학식 (5) 및 (6) 중의 하나에 해당하는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:[화학식 7](5)
또는[화학식 8](6)
[식중:- R12는 동일하거나 상이하며 C1-C10알킬, 페닐 및 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼에서 선택되며, 수로 표시하면, 라디칼 R12중의 80 % 이상이 메틸이고;- D 는 동일하거나 상이하며, 라디칼 R12및 라디칼 Y-W에서 선택되며;- r 은 0 내지 200 의 정수이며, s 는 0 내지 50 의 정수이고, s=0 이면, 두 기호 D 중의 하나 이상은 Y-W를 나타내고,- u 는 1 내지 20 의 정수이고 t 는 0 내지 20 의 정수이며, t + u 는 3 이상이고,- Y 는 제 1 항에서 기재된 화학식 (V) 에서와 동일한 의미를 가지며;- W 는 R8, R9및 b 가 제 1 항에서 기재된 화학식 (V) 와 동일한 의미를 갖는 라디칼 -(O)b-C6(R8)2H2-CH=C-[C(O)OR9]2을 나타낸다.] - 제 10 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 하기 특성을 하나 이상 갖는 화학식 (5) 의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- R12는 메틸이고,- D 는 메틸이며,- R8은 수소 또는 O-CH3이고,- R9은 에틸 또는 2-에틸헥실이며,- r 은 0 내지 20 이고,- s 는 1 내지 15 이다.
- 제 10 항 또는 11 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 하기 특성을 모두 갖는 화학식 (5) 의 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물:- R12는 메틸이고,- D 는 메틸이며,- r=s=5,- 및 Y-W 는 하기식을 나타낸다:
- 제 10 항 또는 11 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 하기 특성을 갖는 화학식 (5) 에 해당하는 화합물 및 그의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- R12는 메틸이고,- 0 ≤ r ≤ 130 및 0 ≤ s ≤ 20,- D 는 메틸 또는 Y-W이며,- Y-W 는 하기식을 나타낸다:
또는
단:- D 가 Y-W 이면, s=0 이고,- D 가 메틸이면, 1 ≤ s ≤ 20 이다. - 제 13 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 폴리 디메틸/메틸 (3-(4-2,2-비스-에톡시카르보닐비닐)펜옥시)프로페닐)실록산인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:- 2-메틸디벤조일메탄,- 4-메틸디벤조일메탄,- 4-이소프로필디벤조일메탄,- 4-t-부틸디벤조일메탄,- 2,4-디메틸디벤조일메탄,- 2,5-디메틸디벤조일메탄,- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,- 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,- 2-메틸-5-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,- 2,6-디메틸-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,- 4,4'-디메톡시디벤조일메탄.
- 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 수중유 에멀션 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항, 15 항 또는 16 항에서 정의된 바와 같은 디벤조일메탄 유도체, 및 제 1 항 내지 7 항 중의 어느 한 항에서 정의된 바와 같은 1,3,5-트리아진 유도체를 함유하는 화장, 피부 과학, 또는 화장 및 피부 과학 조성물의 UV 복사에 대한 안정성을 향상시키는 방법에 있어서, 제 1 항 또는 8 항 내지 14 항 중의 어느 한 항에서 정의된 바와 같은 벤잘말로네이트 작용기 함유 규소 유도체의 유효량을 상기 조성물에 도입하는 것으로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 1,3,5-트리아진 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 1 중량 % 내지 10 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 벤잘말로네이트 작용기를 함유하는 규소 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.5 중량 % 내지 20 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 조성물의 총 중량에 대하여 0.2 중량 % 내지 10 중량 % 범위의 비율로 조성물 내에 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
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