KR100262101B1

KR100262101B1 - 2 축 배향 적층 필름 및 자기 기록 매체

Info

Publication number: KR100262101B1
Application number: KR1019970003488A
Authority: KR
Inventors: 도시후미 오사와; 마꼬또 한다; 히데아끼 와따나베; 미쓰오 도조
Original assignee: 야스이 쇼사꾸; 데이진 가부시키가이샤
Priority date: 1996-02-05
Filing date: 1997-02-05
Publication date: 2000-07-15
Also published as: DE69716145D1; TW328062B; DE69716145T2; US5912063A; EP0787579A1; KR970076525A; EP0787579B1

Abstract

본 발명은 열가소성 수지 층 A 그리고 열가소성 수지 층 A 의 한 면 상에 적층된 열가소성 수지 층 B를 포함하는 2 축 배향 적층 필름에 관한 것이다. 열가소성 수지 층 A 의 표면은 4 내지 2,500/㎜²에서 2 내지 85 ㎚ 의 평균 높이 그리고 20 내지 500 ㎛ 의 평균 폭의 돌기를 갖는다. 열가소성 수지 층 B 가 불활성 미립자를 함유하고, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 열가소성 수지 층 A 의 표면보다 더 거칠다. 또한 적층 필름이 열가소성 수지 층 A 상에서 층 C를 가질 수 있다. 열가소성 수지 C 의 표면은 4 내지 2,500/㎜²의 밀도에서 2 내지 85 ㎚ 의 평균 높이 그리고 20 내지 500 ㎛ 의 평균 폭의 돌기를 갖는다. 이들 적층 필름은 자기 기록 필름용 베이스 필름으로서 유용하다.

Description

이축 배향 적층 필름 및 자기 기록 매체 {BIAXIALLY ORIENTED LAMINATE FILMS AND MAGNETIC RECORDING MEDIA}

본 발명은 2 축 배향 적층 필름과 베이스 필름으로서 상기 필름을 포함하는 자기 기록 매체에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 탁월한 권취성, 무결점성, 윤활성 그리고 취급성을 갖는 2 축 배향 적층 필름에 관한 것이고, 전자 변환 특성, 드롭아우트 (drop-out), 주행성 및 내구성이 탁월한 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름에 유용한데, 자기 기록 매체는 베이스 필름과 동일한 것을 포함한다.

최근에, 강자성 금속 박필름이 스퍼터링 (sputtering) 또는 플레이팅 방법과 같은 진공 증착과 물리 증착 방법에 의해 비자기 베이스 필름상에서 형성된 강자성 금속 박필름 자기 기록 매체 그리고 금속분 또는 산화철분과 같은 침상 자기 분 을 2 ㎛ 이하의 두께로 피복하는 박층 피복 자기 기록 매체의 개발과 실용으로 예시된 고밀도 자기 기록에서 현저한 진보가 있었다.

전자의 예는 Co-증착 테이프 (참조, 일본 특개소 54-147010) 그리고 Co-Cr 합금에서 형성된 수직 자기 기록 매체 (참조, 일본 특개소 52-134706)를 포함하지만, 후자의 예는 고밀도 자기 기록용 극박층 도포 매체 (참조, 일본 전자기 통신 학회 (1995-02) 에 의해 발행된 "Technical Report MR 93-78") 를 포함한다.

종래의 기술의 피복 자기 기록 매체, 즉 자기분과 유기폴리머 바인더의 혼합물이 비자기 베이스 필름 상에서 피복된 자기 기록 매체는 기록 밀도가 낮고 긴 기록 파장을 갖고 자기층 의 두께는 약 2 ㎛ 이상 만큼 두껍다. 반면에, 증착, 스퍼터링 또는 이온 플레이팅과 같은 박필름 형성 수단에 의해 형성된 박금속 필름은 0.2 ㎛ 이하의 극소 두께를 갖는다. 극박층 비피복형 매체의 경우에, 비자기 지하층을 제공하지만, 0.13 ㎛ 정도의 얇은 피복 자기층이 제안되었다.

따라서, 상기 고밀도 자기 기록 매체에서, 비자기 베이스 필름의 표면 상태는 자기 기록층의 표면 특성에 대해 큰 영향을 가진다. 특히 박금속 필름자기 기록 매체의 경우에, 비자기 베이스 필름의 표면 상태는 자기 기록층의 요철한 표면이 직접 발견됨에 따라, 기록과 재생 신호의 노이증의 원인이 된다. 따라서, 비자기 베이스 필름의 표면이 가능한 평탄하다는 것이 바람직하다.

다른 한편으로, 비자기 베이스 필름의 형성과 취급성, 예컨대 반송, 스크래칭, 권취성 및 필름 형성 과정의 권출성의 관점에서, 아주 평활한 필름 표면을 갖는 필름은 필름 사이의 윤활성이 나빠지고, 블록킹 현상이 일어나고, 베이스 필름의 롤 형성이 열등하므로 바람직하지 않고, 결과적으로 생성물 수율이 낮게 됨에 따라, 생산비가 증가하게 된다. 따라서, 생산비의 관점에서, 비자기 베이스 필름의 표면이 가능한한 거칠다는 것은 바람직하다.

상기와 같이, 비자기 베이스 필름의 표면은 전자기 변환 특성의 견해에서 평활한 것이 요구되지만, 취급성과 필름 코스트의 견해에서는 거친 것이 요구된다.

또한, 증착 박금속 필름형 자기 기록 매체의 경우에, 실제적으로 사용될 때 직면하게 되는 문제점은 박급속 필름의 표면의 주행성이 불충분하다는 것이다. 자기분을 유기 폴리머 바인더에 혼합하고 수득한 혼합물을 베이스 필름 상에 피복하는 피복형 자기 기록 매체의 경우에, 자기 표면의 주행성은 바인더 중 윤활제를 분산시켜서 향상될 수 있다. 그러나, 박금속 필름형 자기 기록 매체의 경우에, 그와 같이 측정할 수 없고, 안정한 주행성을 유지한다는 것은 아주 어렵다. 주행성은 특히 고온과 고습 조건 하에서 나쁘다.

따라서, 고밀도 기록 매체용 저렴한 양질의 베이스 필름을 제공하기 위해서, 따라서 상기의 상반된 성질을 동시에 만족시킬 필요가 있다.

이것을 실현시키는 수단으로서, 필름의 표면 상에 특정의 피복제를 피복해서 불연속 필름을 형성하는 방법 (참조, 특공평 3-80410 호 공보, 특개소 60-180839 호 공보, 특개소 60-180838 호 공보, 특개소 60-180837 호 공보, 특개소 56- 16937 호 공보 및 특개소 58-68223 호 공보), (2) 미세하게 요철한 표면을 갖는 연속 필름의 형성 방법 (참조, 특개평 5-194772 호 공보 및 특개평 5-210833 호 공보), (3) 공압출과 같은 기술에 의한 상이한 표면과 이면의 형성 방법 (참조, 특개평 2-214657 호 공보 및 특개평 7-80282 호 공보), 그리고 (4) 상기의 방법 (1)과 (3) 또는 (2)와 (3)을 조합하는 방법 (참조, 특개평 3-73409 호 공보) 이 제안되었다.

그러나, 불연속 필름 또는 미세한 요철면의 연속 필름의 형성 방법은 필름과 블록킹 사이의 윤활성과 같은 문제점을 해결할 수 있고, 베이스 필름 형성과 취급성, 예컨대 반송, 스크래칭, 필름 형성 공정에서의 권취성 및 권출성에 대해서 여전히 만족스럽지 못하다. 따라서, 수율과 생산 비용의 견해로부터 고밀도 대용량 자기 기록 매체용 베이스 필름에 적용하기 위해서는 해결해야할 문제점이 있다. 또한, 선행 기술의 공압출 기술과 공압출 기술과 불연속 필름 또는 연속 필름을 결합하는 기술은 동일한 문제를 일으킨다. 또한, 박금속 필름형 자기 기록 매체 연전히 고온과 고습 조건 하 주행성의 문제가 있다.

본 발명의 목적은 선행 기술의 결점을 극복하고 반송성, 내스크래취성 및 필름 형성의 공정 중의 권취성이 탁월한 2 축 배향 적층 필름을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 예를 들어 박금속 필름형 자기 기록 매체로서 사용될 때, 상기의 탁월한 특성을 나타내고 고온과 고습 조선 하에서 주행성이 탁월한 저렴한 고밀도 자기 기록 매체를 제공하는 것이다.

상기와 기타 목적 그리고 본 발명의 이점은 하기의 서술에서 분명하게 될 것이다.

본 발명에 따라, 먼저 상기의 목적과 본 발명의 이점은 열가소성 수지 층 A 와 열가소성 수지 층 A 의 한 면 상에 적층된 열가소성 수지 층 B 를 포함하는 2 축 배향 적층 필름 (이하, "본 발명의 첫 번째 적층 필름" 으로 칭함) 으로 얻는데, 여기서,

열가소성 수지 층 B 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 A 의 표면이 4 내지 2,500 ㎜²의 밀도로 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 및 평균 폭 20 내지 500 ㎛의 돌기를 갖고,

열가소성 수지 층 B 가 불활성 미립자를 함유하고, 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 열가소성 수지 층 B 와 접촉되지 않는 열가소성 수지 층 A 의 표면 보다 더 거칠다.

본 발명의 첫 번째 적층 필름은 상기처럼 열가소성 수지 층 A (때때로, 이하 "수지 층 A "로 칭함) 와 열가소성 수지 층 B (때때로, 이하 "수지 층 B" 로 칭함) 로 구성된다. 수지 층 B 는 수지 층 A 의 한 면 상에서 적층된다.

열가소성 수지 A 와 B 는 동일하거나 상이한 수지가 될 수 있다. 열가소성 수지는 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에테르 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리비닐 수지, 폴리올레핀 수지 등으로부터 선택된다. 이들 중에서, 폴리에스테르 수지가 바람직하고 방향족 폴리에스테르가 특히 바람직하다.

방향족 폴리에스테르는 바람직하게는 주된 디카르복실산 성분으로서 방향족 디카르복실산 그리고 주된 디올 성분으로서 지방족 디올을 포함하는 폴리에스테르이다. 방향족 디카르복실산의 바람직한 예는 테레프탈산, 이소프탈산 및 2,6-나프탈렌디카르복실산을 포함하고, 디올의 바람직한 예는 에틸렌 글리콜, 시클로헥산 디메탄올 그리고 테트라에틸렌 글리콜을 포함한다.

방향족 폴리에스테르는 호모폴리에스테르 또는 코폴리에스테르가 될 수 있다. 코폴리에스테르의 경우에, 상기의, 두 종 이상의 디카르복실산 또는 디올은 방향족 디카르복실산과 디올 성분으로 함유될 수 있다. 대안적으로, 상기의 디카르복실산과 디올 그리고 다른 디카르복실산 또는 디올로부터 선택되는 각각의 구성원을 함유할 수 있다.

다른 카르복실산은 바람직하게는 아디프산, 세박산, 프탈산 또는 5-소듐 술포이소프탈산이다. 다른 디올은 바람직하게는 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 헥사메틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 또는 p-실릴렌 글리콜이다. 또한, p-옥시벤조산과 같은 옥시카르복실산은 공종합가능한 성분으로서 사용될 수 있다.

코폴리에스테르는 바람직하게는 각각 전체 모든 디카르복실산 성분과 전체 모든 디올 성분의 80 몰 % 이상의 비율로 주된 디카르복실산 성분과 주된 디올 성분을 함유한다.

또한 코폴리에스테르는 3 이상의 작용기, 예컨대 트리멜리트산 또는 피로멜리트산을 갖는 다가 성분을 함유한다. 이 경우에, 다가 화합물이 폴리머가 실질적으로 예를 들어 2 몰 % 이하의 선형인 양으로 공중합될 수 있는 것이 권장된다.

방향족 폴리에스테르의 바람직한 예는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 이소프탈레이트, 폴리테트라메틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥실렌 디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트, (바람직하게는 전체의 모든 순환 단위의 80 몰 % 이상의 비율로) 주된 순환 단위로서 이들 폴리에스테르의 순환 단위를 포함하는 코폴리에스테르 등을 포함한다. 이들 중, 특히 바람직한 것은 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 그리고 코폴리에스테르인데, 그것은 주된 순환 단위로서 에틸렌 테레프탈레이트 또는 에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트를 함유한다.

첫 번째 적층 필름에서, 수지 층 A 와 접촉하지 않는, 수지 층 B 의 표면 (이하, "수지 층 B 의 노출된 표면" 이라 칭함) 은 수지 층 B 의 접촉하지 않는, 수지 층 A 의 표면 (이하, "수지 층 A 의 노출된 표면" 이라 칭함)보다 더 거칠다.

수지 층 A 의 노출된 표면은 4 내지 2,500/㎜²의 밀도에서 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 그리고 평균 폭 20 내지 500 ㎛ 의 돌기를 갖는다. 열가소성 수지 베이스 물질에 함유되어 있는 불활성 미립자로 직접 제조된 돌기와 비교해서 높이에 비해 아주 큰 폭의 완만한 기울기의 돌기라고 알려져 있다.

돌기가 2 ㎚ 이하의 평균 높이 또는 500 ㎛ 이상의 평균 폭을 가질 때, 필름은 필름 형성 과정 중 반송, 필름의 내스크래취성, 롤 형성, 필름 사이의 블록킹 현상이 만족스럽지 못하고, 필름이 박금속 필름형 자기 기록 매체용 베이스 필름으로 사용될 때는 고온과 고습 조건 하의 테이프의 주행성에 대해 만족스럽지 못할 것이다.

다른 한편으로, 돌기가 85 ㎚ 이상의 평균 높이를 가질 때, 필름의 전자기 변환 특성은 나빠질 것이고 필름은 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름으소 적합하지 않을 것이다. 돌기가 20 ㎛ 이하의 평균 폭과 25 ㎚ 이하의 돌기의 평균 높이를 가질 때, 필름 형성 과정의 반송성과 테이프의 주행성은 불충분 할 것이다.

돌기의 평균 높이는 바람직하게는 2 내지 50 ㎚, 더욱 바람직하게는 2 내지 25 ㎚ 이다. 돌기의 평균 폭은 바람직하게는 20 내지 300 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 20 내지 200 ㎛ 이다. 또한, 돌기의 밀도는 바람직하게는 10 내지 2,000/㎜², 더욱 바람직하게는 10 내지 1,000/㎜²이다.

수지 층 A 의 노출된 표면 상에 형성된 돌기는 제한없이 공지된 방법으로 형성될 수 있지만, 수지 층 A 를 위로 밀어내는 행동을 이용해서 돌기를 형성하는 것이 유익한데, 그 행동이 2 축 배향 과정 중 불활성 미립자에 의해 일어나는 것은 수지 층 A 와 접촉하는 수지 층 B 가 본 발명의 불활성 미립자 (이하, "불활성 미립자 B" 라 칭함) 를 함유한다.

이러한 행동을 효율적으로 발현시키기 위해, 열가소성 수지 층 A 의 두께와 불활성 미립자 의 평균 입경이 하기:

4 ≤ t_A/ d_B≤ 40 (1)

(식중, t_A는 열가소성 수지 층 A 의 두께 (㎛) 이고, d_B는 불활성 미립자 B 의 평균 입경 (㎛) 이다).

상기 불활성 미립자 B 는 0.5 이하의 상대 표준 편차의 입자 크기 분포를 갖는 첫 번째 입자 또는 첫 번째 입자와 다른 입자로 이루어진 두 번째 입자가 될 수 있는데, 첫 번째 입자의 평균 입경은 두 번째 입자 중에서 가장크다. 상기 표현 (1) 에서, 불활성 미립자 B 가 오로지 첫 번째 입자로 이루어질 때, d_B는 첫 번째 입자의 평균 입경 (㎛) 이고, 불활성 미립자 B 가 두 번째 입자로 이루어질 때, d_B는 두 번째 입자 중에 함유된 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경 (㎛) 이다.

두 번째 입자 중에 함유된 다른 입자는 결합되는 첫 번째 입자와 상이한 상대 표준 편차를 갖는 첫 번째 입자 또는 첫 번째 입자와 동일한 상대 표준 편차를 갖지 않고 첫 번째 입자와 상이한 다른 입자가 될 수 있다.

T_A/T_B는 바람직하게는 4 내지 25, 더욱 바람직하게는 4 내지 16, 특히 바람직하게는 4 내지 8 이다.

첫 번째 입자의 평균 입경 또는 두 번째 입자 중에 함유된 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경은 바람직하게는 0.2 내지 1 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 0.8 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 0.6 ㎛ 이다. 두 번째 입자의 부분으로 함유되어 있는 경우를 포함하는) 첫 번째 입자의 함량은 바람직하게는 0.001 내지 5.0 중량 %, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 1 중량 %, 특히 바람직하게는 0.01 내지 0.5 중량 % 이다.

상기 넓은 돌기는 고밀도 자기 기록 매체의 표면 상의 (1.0 ㎛ 이하의 돌기를 기초로한) 의 파장과 비교해서 아주 큰 폭과 주기를 갖고 특히 전자기 변환 특성에 대한 역효과를 나타내지 않는 것은 수지층 A 가 함유할 수 있는 불활성 미립에 기인한 돌기와 동일하거나 더 작은 높이를 갖기 때문이다. 고밀도 자기 기록 매체용 선행 기술 베이스 필름의 문제 모두는 수지층 A 에 함유되어 있는 불활성 미립자, 넓은 돌기와 수지 층 B 의 거친 표면에 기인한 (존재한다면) 돌기의 상승 효과로 해소될 수 있다.

수지 층 A 는 불활성 미립자를 함유할 수 있다. 불활성 입자를 함유하고 있을 때, 불활성 미립자 (이하, "불활성 미립자 A" 라 칭함) 는 바람직하게는 40 내지 400 ㎛ 의 평균 입경 그리고 0.1 내지 π/6 의 체적 형상 계수를 갖는다.

불활성 미입자 A 의 평균 입경이 40 ㎚ 이하일 때, 바람직하지 않게 자기 헤드에 대한 자기 층의 마찰은 클 것이고, 자기 층의 반복 주행 내구성은 나빠질 것이고, 필름 형성 공정 중의 반송성과 내스크래취성은 만족시럽지 못할 것이다. 다른 한편으로, 평균 입경이 400 ㎚ 이상일 때, 본 발명의 적층 필름에서 형성된 고밀도 자기 기록 매체의 전자기 변환 특성은 만족시럽지 못할 것이다.

불활성 미립자 A의 평균 입경은 바람직하게는 50 내지 200 ㎚, 더욱 바람직하게는 60 내지 120 ㎚ 이다.

하기 표현 (2) 로 나타낸 체적 형상 계수 (f) 는 바람직하게는 0.3 내지 π/6, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 π/6 이다.

f = V/R³

(여기서, f 는 부피 형상 계수이고, V 는 입자의 체적 (㎛³) 이고 R 는 입자의 평균 입경 (㎛) 이다).

체적 형상 계수 (f) π/6 를 갖는 형상은 볼(구형) 이다. 따라서, 0.4 내지 π/6 의 체적 형상 계수 (f)를 갖는 입자의 형상은 실질적으로 볼 또는 구형이거나, 럭비공과 같은 타원형 볼이 특히 바람직하다. 침상 입자와 같은 0.1 이하의 체적 형상 계수 (f)를 갖는 입자가 바람직하지 않는 것은 자기 층의 자기 특성의 감소의 원인이 되기 때문이다.

불활성 미립자 A 는 입자 A를 함유하는 수지 층 A 의 노출된 표면이 바람직하게는 5,000 내지 50,000/㎜²의 밀도로 돌기를 갖는 양으로 함유된다. 밀도는 더욱 바람직하게는 7,500 내지 40,000/㎜², 특히 바람직하게는 10,000 내지 30,000/㎜²이다.

노출된 표면 상의 돌기의 밀도가 5,000/㎜²이하일 때, 자기 헤드에 대한 자기 층의 마찰은 크게 될 것이고, 자기 층의 반복 주행 내구성은 나빠질 것이고, 필름 형성의 과정 중 반성성과 내스트래취성은 만족스럽지 못할 것이다. 다른 한편으로, 돌기의 밀도가 50,000/㎜²이상일 때, 떨어진 돌기와 드롭 아우트의 수는 불리하게 증가할 것이다.

수지 층 A 가 불활성 미립자를 함유해서는 안되는 것은 바람직하고, 특히 불활성 미립자는 40 ㎚ 이상의 평균 입경을 갖는다. 자기 층은 수지 층 A 의 노출된 표면상에 제공되어 자기 기록 매체를 형성한다. 수지 층 A 가 불활성 미립자 A를 함유할 때, 예를 들어 자기 층으로서 박금속 필름 층을 형성하기에 적합하다. 다른 한편으로, 수지 층 A 가 불활성 미립자를 함유하지 않을 때, 자기 층 상에 다이아몬드 형태의 탄소를 다 형성하는 것은 적합하다.

수지 층 A 용 불활성 미립자 A 와 수지 층 B 용 불활성 미립자 B 는 내부적으로 분리된 입자 또는 첨가된 입자가 될 수 있다. 첨가된 입자가 바람직하다. 첨가된 입자는 예를 들어 내열 유기 폴리머, 예컨대 가교결합 실리콘 수지, 가교결합 폴리스티렌, 가교결합 스티렌 디비닐벤젠 공중합체, 폴리메틸 메타아크릴레이트, 메틸 메타아크릴레이트 공주????체, 폴리테트라플루오로에티렌, 폴리비닐리덴 플로라이드, 폴리아크릴로니트릴, 벤조구안아민 수지, 등의 미립자; 무기 화합물, 예컨대 실리카, 알루미나, 이산화 티타늄, 카올린 탈크, 흑연, 탄산 칼슘, 펠드스파, 이황화 몰리브덴, 카본 블랙, 황산 바륨 등 의 미립자를 포함한다.

불활성 입자 B 가 두 번째 입자로 이루어지는 경우의 다른 입자로서, 0.001 내지 0.1 ㎛ 의 평균 입경을 갖는 콜로이드성 실리카와 알루미나 그리고 α, γ, δ, θ 등과 같은 결정 형태가 불활성 미립자 B, 또한 0.001 내지 0.1 ㎛ 의 평균 입경을 갖는 상기 미립자에 사용되는 것이 특히 바람직하다.

본 발명의 상기 첫 번째 적층 필름에서, 수지 층 A 의 노출된 표면은 바람직하게는 중심 면 평균 거칠기^AWR_a10 ㎚ 이하, 바람직하게는 5 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 2 ㎚ 이하, 특히 바람직하게는 1 ㎚ 이하를 갖는다.

수지 층 B 의 노출된 표면은 바람직하게는 중심 면 평균 거칠기^BWR_a2 ㎚ 내지 15 ㎚ 이다.^BWR_a는 더욱 바람직하게는 3 내지 10 ㎚ , 특히 바람직하게는 3 내지 7 ㎚ 를 갖는다.

또한,^BWR_a는 바람직하게는 1 ㎚ 이상 정도, 바람직하게는 1.5 ㎚ 이상 정도^AWR_a보다 더 크다.

^BWR_a가 15 ㎚ 이상일 때, 수지 층 A 의 노출된 표면 상의 넓은 돌기는 상기 높이와 폭을 가지기는 어려울 것이다.^BWR_a가 2 ㎚ 이하일 때, 적층 필름에서 형성된 테이프의 반송성과 주행성과 같은 취급성은 만족스럽지 못하게 될 것이다.

또한,^BWR_a가^AWR_a보다 더 작을 때, 필름 형성 공정 중의 반송성, 스크래칭, 권취성 그리고 권출성과 같은 취급성은 수지 층 B 의 평면에 기인해서 나빠질것이고, 블록킹 현상은 필름 사이의 저하된 윤활성에 기인해서 일어날 것이고, 롤 형성은 나빠질 것이고, 생산성과 생성물의 수율은 감소할 것이므로, 부스팅 생산은 불리하게 비용이 들 것이다.

본 발명의 첫 번째 적층 필름은 전통적으로 공지된 방법 또는 산업에서의 축적된 방법으로 제조될 수 있다. 방법 중에서, 공압출 방법이 바람직하다. 예를 들어, 2 축 배향 폴리에스테르 필름은 하기와 같이 제조된다. 상기 불활성 미립자 A 를 함유하는 평활 표면 층의 폴리에스테르 A 그리고 불활성 미립자 B를 함유하는 거친 표면 층의 폴리에스테르 B 는 공압출 노즐 내 또는 노즐 전방에서 (통상 전자는 통상 멀티 매니폴드 시스템이라 불리고 후자는 피드 블록 시스템이라 불린다), 용융 상태에서 함께 적층되고, 두께비에 적합한 상기의 적층 구조로 형성되고, 용융 온도 Tm ℃ 내지 (Tm + 70) ℃ 의 온도에서 노절에서 필름으로 공압출된 다음, 40 내지 90 ℃에서 냉각 응결되어 비신장 적층 필름을 얻는다. 그 후, 비신장 적층 필름을 (Tg - 10) 내지 (Tg + 70) ℃ (Tg : 폴리 에스테르의 유리 전이 온도) 에서 하나의 방향으로 (종방향 또는 횡방향으로) 2.5 내지 8.0 배, 바람직하게는 3.0 내지 7.5 배로 신장된 다음, 통상의 사용된 방법에 따른 Tg 내지 (Tg + 70) ℃ 에서 상기의 방향에 수직한 방향으로 2.5 내지 8.0 배, 바람직하게는 3.0 내지 7.5 배로 신장된다. 필요에 따라 필름은 또한 종방향 또는 횡방향으로 재신장될 수 있다. 즉, 2-, 3-, 4- 또는 다단계 스트레칭을 수행할 수 있다. 전체 스트레취 비는 면적 스트레취비에 대해 통상 9 배 이상, 바람직하게는 12 내지 35 배, 더욱 바람직하게는 15 내지 26 배이다. 계속해서, 결정화하기 위해 2 축 배향 필름을 가열해서 (Tg + 70) 내지 (Tm - 10) ℃, 예를 들어 180 내지 250 ℃ 온도의 열로 고정함으로써, 필름에 탁월한 치수 안정성을 제공한다. 열고정 시간은 바람직하게는 1 내지 60 ℃ 이다.

상기 방법으로, 층 사이의 우수한 밀착성을 갖는 2 축 배향 적층 필름 폴리에스테르 필름을 얻는다.

상기 실시예의 방법은 수지 층 A 와 B 모두가 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트에서 형성되는 경우에 적합하고, 또한 유일한 층 A 또는 유일한 층 B 가 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트에서 형성되는 경우에 적합하다.

첫 번째 적층 필름의 제조에서, 열가소성 수지는 원하는 대로 상기 불활성 미립자 이외의 첨가제, 예컨대 안정화제, 착색제, 용융 폴리머의 고유저항 조절제 등을 함유할 수 있다.

본 발명에서, 자기 기록 매체로서 헤드 터치와 주행성과 같은 각종 성능을 향상시키고 동시에 필름의 두께를 감소시키기 위해, 본 발명의 첫 번째 적층 필름의 종방향과 횡방향의 영률은 각각 바람직하게는 450 kg/㎜²이상 및 600 kg/㎜²이상, 더욱 바람직하게는 480 kg/㎜²이상 및 680 kg/㎜²이상, 특히 바람직하게는 550 kg/㎜²이상 및 800 kg/㎜²이상, 가장 바람직하게는 550 kg/㎜²이상 및 1000 kg/㎜²이상이다. 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 층의 결정화도는 30 내지 50 % 이고 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트 층인 28 내지 38 % 이다. 하한 이하이면, 열수축율은 클것이고, 상한 이상이면, 수드한 적층 필름의 내마모성이 악화됨에 따라, 백색 분말은 적층 필름이 롤 또는 가이드 핀의 표면과 접촉하는 슬라이드로 이동한다.

본 발명의 첫 번째 적층 필름에서, 수지 층 A 의 두께는 0.8 ㎛ 이상이고 수지층 B 의 두께는 함유된 불활성 미립자의 (상기와 동일하게 정의된) 평균 입경 d_B의 1/2 이상이 바람직하다.

본 발명의 첫 번째 적층 필름은 바람직하게는 2.5 내지 20 ㎛, 바라직하게는 2.5 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 3.0 내지 7.0 ㎛ 의 두께를 갖는다.

본 발명의 첫 번째 적층 필름에서, 고밀도 기록용 증착형 자기 기록 매체를 형성할 수 있는데, 그 매체는 단 파장에서의 출력 그리고 S/N 과 C/N 과 같은 전자기 변환 특성이 탁월하고, 철, 코발트, 크롬 또는 합금 또는 진공 증착, 스퍼터링 또는 철 플레이팅으로 수지 층 A 의 노출된 표면 상의 주된 성분으로서 상기를 함유하는 산화물의 강자성 금속 박필름층, 하기 순서의 강자성 금속 박 필름층의 표면 상의 다이아몬드형 탄소 (DLC) 등의 보호층 그리고 불소 함유 카르복실산 기재 윤활층, 그리고 또한 수지 층 B 의 노출된 표면 상의 공지된 백피복층을 형성해서 드롭-아우트와 에라레이트가 작은 것에서 자유롭다. 이러한 증착형 전자기 기록 매체는 아날로그 신호 기록 Hi8, 디지탈 신호 기록용 디지탈 비디오 카세트 레코더 (DVC), 데이타 8 ㎜ 및 DDSIV 용 테이프 매체로서 아주 유용하다.

달리, 본 발명에 따라, 본 발명의 첫 번째 적층 필름 그리고 수지 층 A 의 노출된 표면 상에서 형성된 자기 기록 층을 구성하는 자기 기록 매체를 제공한다.

본 발명의 첫 번째 수지 층에서, 고밀도 기록용 금속 피복 자기 기록 매체를 형성할 수 있는데, 그 매체는 특히 단파장에서의 출력 그리고 S/N 과 C/N 과 같은 전자기 변환 특성이 탁월하고, 철의 침상 자기 미립분을 균일하게 분산시키거나 비닐 클로라이드 또는 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체와 같은 바인더 중 주된 성분으로서 철을 함유하고, 자기 층의 두께가 1㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 1 ㎛ 인 것을 보장하기 위해 수지 층 A 의 노출된 표면 상에 수득한 분산물을 피복하고, 또한 공지된 방법으로 수지 층 B 의 노출된 표면상에 백피복 층을 형성해서 드롭아우트와 에라율이 작은 것에서 자유롭다. 산화 티타늄 미립자는 자기층과 동일한 유기 바인더에 분산될 수 있고 필요에 따라 수득한 분산물을 층 A 상에 피복해서 금속 함유 자기 층의 지하층으로서 비자기 층을 형성한다. 이러한 금속 피복 자기 기록 매체는 아날로그 신호 기록 8 ㎜ 비디오, Hi8, b-cam SP, W-VHS, 디지탈 신호 기록 디지탈 비디오 카세트 레코더 (DVC), 데이타 8 ㎜, DDSIV, 디지탈 b-cam, D2, D3, SX 등의 테이프 매체로서 유용하다.

또한, 본 발명의 첫 번째 수지 층에서, 고밀도 기록용 금속 피복 자기 기록 매체를 형성할 수 있는데, 그 매체는 특히 단파장에서의 출력 그리고 S/N 과 C/N 과 같은 전자기 변환 특성이 탁월하고, 비닐 클로라이드 또는 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 공중합체와 같은 바인더 중 산화 철 또는 산화 크로뮴과 같은 철의 침상 자기 미립분 또는 바륨 페라이트와 같은 라멜라 자기 미립분을 균일하게 분산시키거나, 자기 층의 두께가 1㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 1 ㎛ 인 것을 보장하기 위해 열가소성 수지 층 A 의 평활한 표면 상에 수득한 분산물을 피복하고, 또한 공지된 방법으로 수지 층 B 의 노출된 표면상에 백피복 층을 형성해서 드롭아우트와 에라레이트가 작은 것에서 자유롭다. 산화 티타늄 미립자는 자기층과 동일한 유기 바인더에 분산될 수 있고 필요에 따라 수득한 분산물을 층 A 상에 피복해서 금속 함유 자기 층의 지하층으로서 비자기 층을 형성한다. 이러한 피복 자기 기록 매체는 디지탈 신호 기록용 데이터 스트리머 QIC 와 같은 고밀도 산화 피복 자기 기록 매체로서 유용하다.

상기의 W- VHS 는 아날로그 HDTV 신호 기록용 VTR 이고, DVC 는 디지탈 HDTV 신호 기록에 적합하다. 본 발명의 필름은 HDTV 신호에 적합한 VTR용 자기 기록 매체용 아주 유용한 베이스 필름이다.

본 발명에 따라, 세 번째로, 본 발명의 상기 목적과 이점은 순서로 적층된 열가소성 수지 층 C, 열가소성 수지 층 A 그리고 열가소성 수지 층 B 를 포함하는 2 축 배향 적층 필름 (이하, "본 발명의 두 번째 적층 필름" 이라 칭함) 에서 얻을 수 있는데, 여기서,

열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 C 의 표면이 4 내지 2,500/㎜²의 밀도로 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 그리고 평균 폭 20 내지 500 ㎛의 돌기를 갖고,

열가소성 수지 층 B 가 불활성 미립자를 함유하고, 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는 열가소성 수지 층 C 의 표면 보다 더 거칠다.

본 발명의 두 번째 적층 필름은 열가소성 수지 층 C (이하, "수지층 C" 라 칭함), 수지 층 A 및 수지층 B 를 포함한다. 이들 수지 층은 상기 순서로 적층된다. 따라서, 수지 층 C 는 수지 층 A 와 접촉하는 표면 그리고 수지 층 A 와 접촉하지 않는 노출된 표면을 가지고 있고, 수지 층 A 는 현재 수지 층 C 및 수지층 B 와 접촉되어 있고 노출된 표면을 가지고 있지 않으며, 수지 층 B 는 수지 층 A 와 접촉되어 있는 표면과 수지 층 A 와 접촉되어 있지 않는 노출된 표면을 가지고 있다.

이들 수지층을 구성하는 열가소성 수지는 동일하거나 상이할 수 있고, 첫 번째 적층 필름용 동일한 수지를 사용할 수 있다.

수지 층 C 의 노출된 표면은 4 내지 2,500/㎜²의 밀도에서 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 그리고 평균 폭 20 내지 500 ㎛ 의 돌기를 갖는다. 두 번째 적층 필름의 수지 층 C 상의 돌기는 첫 번째 적층 필름의 수지 층 A 의 넓은 돌기에 상응한다. 따라서, 첫 번째 적층 필름의 수지 층 A 상의 넓은 돌기는 여기에서 서술되지 않은 두 번째 적층 필름의 수지 층 C 상의 돌기에 직접 적용되는 것으로 이해된다.

두 번째적층 필름에서, 수지 층 B 에 함유되어 있는 불활성 미립자 B 에 기인한 위로 밀어내는 행동을 이용해서 수지 층 C 의 노출된 표면 상에 넓은 돌기를 형성하는 것은 유익하다.

이러한 행동 효율을 향상시키기 위해, 수지 층 A 의 두께와 불활성 미립자 B 의 평균 입경은 상기에서 서술된 표현 (1)을 만족시키는 것은 바람직하다.

불활성 미립자 B 에 관한 첫 번째 적층 필름의 서술이 불활성 미립자에 관련되어 있고, 두 번째 적층 필름 중 입자에 직접 적용될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.

("피복 층 C" 로 간주되는) 수지 층 C 는 평균 입경 10 내지 50 ㎚, 바람직하게는 12 내지 45 ㎚, 더욱 바람직하게는 15 내지 45 ㎚, 그리고 체적 형상 계수 0.1 내지 π/6 , 바람직하게는 0.3 내지 π/6, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 π/6의 불활성 미립자 C 를 함유할 수 있다.

불활성 미립자 C 의 평균 입경은 10 ㎚ 일 때, 베이스 필름의 권취성은 불충분하기 쉽고 헤드와 테이프의 반복된 접촉에 기인한 출력의 감소는 큰 경향이 있다 (즉, 필름은 스틸 모드에서 내구성이 좋지 않다). 다른 한편으로, 평균 입경이 50 ㎚ 이상일 때, 전자기 변환 특성은 악화되기 쉽다.

이것은 권취성의 경우에 베이스 필름의 롤 형성이 열등하기 때문이고 박필름 자기 기록 매체가 본 발명의 베이스 필름에서 형성될 때, 체적 형상 계수 (f)가 0.1 이하, 예를 들어 플레이크형 입자인 경우에, 박 필름 자기 층의 자기 특성은 나빠지는 경향이 있다.

불활성 미립자 C 에 기인한 돌기의 밀도는 바람직하게는 2.0 내지 50.0/㎛², 더욱 바람직하게는 3.0 내지 40.0/㎛², 특히 바람직하게는 4.0 내지 30.0/㎜²이다.

불활성 미입자 C 에 기인한 돌기의 평균 높이는 바람직하게는 불활성 미립자 C 의 평균 입경의 30 이상 내지 200 %, 더욱 바람직하게는 40 내지 180 %, 특히 바람직하게는 50 내지 160 % 이다.

불활성 미립자 C 의 재질은 첫 번째 적층 필름의 불활성 미립자 A 와 B, 또는 코아가 가교결합된 폴리스티렌 또는 실리카에서 형성되고 쉘이 폴리메틸 메타아크릴레이트에서 형성된 코아쉘 구조 입자, 예를 들어 코아-쉘 입자의 재질과 동일하다.

피복 층 C 의 노출된 표면 상의 불활성 미립자 C 에 기인한 돌기의 밀도가 2.0/㎛²이하일 때, 베이스 필름의 롤 형성이 열등하게 되고, 자기 기록 매체가 본 발명의 베이스 필름에서 형성될 때 헤드와 반복 접촉에 의한 출력의 감소가 크다 (필름의 스틸 모드에서 내구성이 좋지 않다). 이들 결과는 실질적인 적용에 문제가 있다. 밀도가 50.0/㎛²이상일 때, 전자기 변환 특성은 나빠지고, 또한 입자는 불리하게도 떨어져 나가기 쉽다.

피복 층 C 상의 불활성 미립자 C 에 속한 돌기의 평균 높이가 불활성 미립자 C 의 평균 입경의 30 % 이하일 때, 베이스 필름에서 형성된 자기 기록 매체의 헤드와의 마찰은 아주 불리하게 된다. 돌기의 평균 높이가 불활성 미립자 C 의 평균 입경의 200 % 이상일 때, 전자기 변환 특성은 불리하게도 악화된다.

피복 층 C 의 폴리머 물질은 수지 층 A 또는 수지 층 B 의 물질과 동일하거나 상이할 수 있고, 피복층 C 에 관한 어떤 폴리머 물질은 예를 들어 공지된 공압출법, 인라인 (in-line) 또는 오프라인 (off-line) 피복법에 의해 형성된다. 피복층 C 가 피복 방법으로 형성될 때 사용된 바인더 수지는 바람직하게는 수성 폴리에스테르 수지, 수성 아크릴 수지, 수성 폴리우레탄 수지 등이고, 수성 폴리에스테르 수지가 특히 바람직하다.

수성 폴리에스테르 수지는 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4-디페닐디카르복실산, 아디프산, 세르박산, 도데칸디트리멜리트산, 숙신산, 5-Na 술포이소프탈산, 2-K 술포 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 트리멜리트산 모노포테슘 염, p-히드록시벤조산 등에 의해 예시된 다가 카르복실산과 같은 산 성분 그리고 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산 디메탄올, p-실릴렌 글리콜, 디메틸올프로피온산, 산화 에틸렌과 비스페놀 A 의 첨가 생성물 등에 의해 예시된 다가히드록시 화합물과 같은 글리콜 성분을 포함하는 폴리에스테르 수지이다. 수성 폴리에스테르 수지는 또한 아크릴 폴리머 사슬이 상기 폴리에스테르 수지의 폴리에스테르 수지에 결합된 그라프트 폴리머와 블록 공중합체; 두 개의 폴리머가 미세 입자 중 구체적인 물리 구조 (IPN, 코아-쉘) 를 구성하는 아크릴 변성 폴리에스테르 수지를 포함한다. 수성 폴리에스테르 수지는 수용성 에멀션 또는 미세분산형이 될 수 있다. 친수성을 제공하기 위해, 술폰산기, 카르복실산기 또는 폴리에테르 단위는 수성 폴리에스테르 수지의 분자내로 도입될 수 있다.

피복 층 C 의 평균 두께 (t_c)는 바람직하게는 1 내지 500 ㎚ 이고 더욱 바람직하게는 하기 표현 (3) 에 나타난 관계를 만족시키는데, 하기 표현 (3) 에서, 불활성 미립자 C 의 평균 입경은 d_c로 나타낸다.

0.1 ≤ t_c/d_c≤ 10 (3)

본 발명의 피복 층 C 의 예는 하기에 나타나 있다.

피복 층 C 는 용액, 바람직하게는 수성 피복 용액을 사용해서 형성할 수 있는데, 그 용액은 수지 층 A 의 한 표면에 불활성 미립자 C 와 바인더 수지를 함유한 다음, 건조시킨다. 피복 용액의 고체 함량 농도는 바람직하게는 1 내지 10 중량 % , 더욱 바람직하게는 1.5 내지 8 중량 %, 특히 바람직하게는 2 내지 6 중량 % 이다. 피복 용액 (바람직하게는 수성 피복 용액) 은 원한다면 다른 성분, 예컨대 계면활성제, 안정화제, 분산제, UV 흡수제, 증점제 등을 함유할 수 있다.

최종 연신과 필름이 피복후 바람직하게 한 방향 이상으로 연신되기 전에 열가소성 수지 적층 필름 상에서 피복을 수행한다. 이러한 연신전이나 동안에, 피복 필름을 건조시킨다. 이러한 공정 동안에, 피복을 비연신 열가소성 수지 적층 필름 또는 세로로 (일축으로)연신된 열가소성 수지 적층 필름 , 특히 바람직하게는 세로로 (일축으로)연신된 열가소성 수지 적층 필름 상에서 수행하는 것이 바람직하다. 피복 방법은 중요하기 않고 바람직하게는 롤 피복, 다이 피복 등이다.

수지 층 C 는 바람직하게는 상기에서 처럼 1 축 또는 2 축 으로 연신된다.

첫 번째 적층 필름의 수지 층 A 의 서술은 노출된 표면 상의 돌기를 제외하고 두 번째 적층 필름의 수지 층 A 에 대해 서술되지 않은 문제에 직접 적용될 수 있는 것으로 이해된다.

마찬가지로, 첫 번째 적층 필름의 수지 층 B 의 서술이 두 번째 적층 필름의 수지 층 B 에 대해 서술되지 않은 문제에 직접 적용될 수 있다.

본 발명의 두 번째 적층 필름에서, 수지 층 B 의 노출된 표면은 수지 층 C, 예를 들어 피복 층 C 의 노출된 표면보다 더 거칠다.

본 발명의 상기 두 번째 적층 필름에서, 수지 층 C 의 노출된 표면은 바람직하게는 10 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 2 ㎚, 특히 바람직하게는 1 ㎚ 이하의 중심면 평균 거칠기^cWR_a을 갖는다.

수지층 B 의 노출된 표면은 2 ㎚ 내지 15 ㎚ 의 중심면 평균 거칠기^BWR_a를 갖는다.^BWR_a는 더욱 바람직하게는 3 내지 10 ㎚, 특히 바람직하게는 3 ㎚ 내지 7 ㎚ 이다.

또한,^BWR_a는 바람직하게는 1 ㎚ 이상 정도, 더욱 바람직하게는 1.5 ㎚ 이상 정도^CWR_a보다 더 크다.

^BWR_a의 값이 상기 범위 밖이고^CWR_a보다 더 작을 때 접하게되는 성가심의 이유는^BWR_a의 값이 구체적인 범위 밖이고^AWR_a보다 더 작을 때와 동일하다.

본 발명의 두 번째 적층 필름은 첫 번째 적층 필름와 같이 공압출, 2 축 연신 및 열고정에 의해 제조될 수 있다. 수지층 C 의 제조 방법은 이미 상기에서 서술되어 있다.

본 발명의 두 번째 적층 필름에서, 자기 층은 수지 층 C 의 노출된 표면 상에서 형성된다.

달리, 본 발명에 따라, 네 번째로, 본 발명의 두 번째 적층 필름을 포함하는 자기 기록 매체 그리고 적층 필름의 수지 층 C 의 노출된 표면 상에 형성된 자기 기록 매체를 제공한다.

첫 번째 적층 필름의 상기 서술은 자기 기록 층과 자기 기록 매체에 직접 적용될 수 있는 것으로 이해된다.

따라서, 본 발명에 따라, 권취성, 무결점성, 윤활성 그리고 취급성, 특히, 전자기 변환 특성, 드롭 아우트, 주행성 그리고 자기층의 내구성이 탁월한 고밀도 자기 기록 매체로서 유용한 적층 필름을 제공한다.

하기의 예는 본발명을 더 설명한다. 본발명에서 사용된 측정 방법은 하기와 같다.

(1) 고유 점도

35 ℃에서, 오르토클로로페놀 용매에서 측정한 값으로 상기를 얻는다.

(2) 입자의 평균 입경 Ⅰ(평균 입경 : 0.06 ㎛ 이하)

시마쓰 가부시끼가이샤의 CP-50 모델 원심 입자 크기 분석기를 사용해서 측정한다. 50 질량 % 에 상당하는 입경, "등가구직경" 은 각 직경의 입자 그리고 수득한 원심 침강 곡선을 기초로 계산된 그의 양의 적산 곡선에서 얻는데, 그것을 평균 입경으로 취한다 (참조, Nikkan Kogyo Press 에 의해 발행된 "Book of Particle Size Measurement Technology", pp. 242-247, 1975).

(3) 입자의 평균 입경 Ⅱ (평균 입경 : 0.06 ㎛ 이하)

소돌기를 형성하는 0.06 ㎛ 이하의 평균 입경을 갖는 입자를 광산란 방법으로 측정한다. 즉, Nippon Instruments Inc. 의 NICOMP 모델 270 초미세한 입자 사이저로 수득한 50 중량 % 의 전체의 모든 입자를 설명하는 입자의 "등가구직경" 으로 표현한다.

(4) 체적 형상 계수 F

각 입자의 사진을 주사형 전자 현미경으로 각 크기의 배율로 촬영한다. 투영면의 최대 직경과 입자의 체적을 Nippon Regulator Co., Ltd. 의 상분석기 Luzex 500 을 사용하는 사진에서 계산하고, 체적 형상 계수 F 는 하기 표현 (5) 로 얻는다:

F = V/D³(5)

(여기서, V 는 입자의 체적 (㎛³) 이고 D 는 투영면의 최대 직경 (㎛) 이다).

(5) 열가소성 수지 층 C를 갖지 않는 적층의 표면 상의 돌기의 밀도

필름의 표면 상의 돌기 밀도를 주사 전자 현미경으로 측정한다. 즉, 적층 필름의 표면의 5 장의 사진을 5,000 배 또는 10,000 배의 배율로 무작위로 촬영하고, 표면 상의 돌기의 수를 센다. 1 ㎜²당 돌기의 수를 수득한 카운트의 평균 값으로부터 변환하고 필름의 표면 상의 돌기의 밀도로 간주한다.

(6) 열가소성 수지 층 C 를 갖는 적층의 열가소성 수지 층 A 의 표면 상의 돌기의 밀도

열가소성 수지 층 A 의 표면 상의 돌기의 밀도를 조사 전자 현미경으로 측정한다. 즉, 열가소성 수지 층 A 의 표면 상의 돌기의 5 장의 사진을 5,000 배 또는 10,000 배의 배율로 무작위로 피복 층 C 의 표면에서 얻고 표면 상의 돌기의 수를 센다. 1 ㎜²당 돌기의 수를 수득한 카운트의 평균 값으로부터 변환하고 열가소성 수지 층 A 의 표면 상의 돌기의 밀도로 간주한다.

(7) 피복층 C 의 표면 상의 돌기의 밀도

피복 층 C 의 표면 상의 돌기의 밀도를 주사 전자 현미경으로 측정한다. 즉, 피복 층 C의 표면의 30 장의 사진을 30,000 배의 배율로 무작위로 촬영하고, 표면의 돌기의 수를 센다. 1 ㎜²당 돌기의 수를 수득한 카운트의 평균 값으로부터 변환하고 피복층 C 의 표면 상의 돌기의 밀도로 간주한다.

(8) 층 두께

마이크로미터로 무작위로 10 곳에서 필름의 두께를 측정하고, 측정 값의 평균 값을 필름의 전체 두께로 간주한다. 박층의 두께를 하기 방법으로 측정하지만, 후층의 두께를 전체 두께에서 박층의 두께를 빼서 얻는다. 즉, 2 차 이온 질량 스펙트로미터 (SIMS)를 사용해서, 원소 (M⁺) 대 폴리에스테르의 탄소 원소 (C⁺) 의 농도비 (M⁺/C⁺)를 입자 농도고 간주하고 표면에서 깊이 5000 ㎚ 깊이의 부분을 두께 방향으로 분석하는데, 여기서, 원소 M⁺은 층에서의 가장 높은 농도를 갖는 원소고 두께를 측정한다. 층의 표면 근처에서, 입자 농도는 낮게 측정되지만, 표면에서의 측정된 지점의 거리가 증가함에 따라 더 높게 된다. 본 발명의 경우에, 두 경우, 즉 한 경우는 입자 농도가 안정한 값 1이 된 후, 안정된 값 2 로 증가하거나 감소하는 경우이고, 다른 경우는 입자 농도가 안정된 값 1 이된 후, 계속해서 감소하는 경우이다. 전자의 경우, 상기 분포 곡선을 기초로 해서, (안정한 값 1 + 안정한 값 2)/2 의 입자 농도를 제공하는 깊이를 층의 두께로 간주하지만, 후자의 경우, (안정한 값 1을 제공하는 깊이보다 더 깊은) 안정한 값 1 의 1/2 의 입자 농도를 제공하는 깊이를 층의 두께로 간주한다. 측정 조건을 하기와 같다:

(1) 측정 장치

1 차 이온 질량 스펙트로미터 (SIMS) : Physical Electronics Co. 의 6300 SIMS

(2) 측정 조건

1 차 이온의 종류 : O₂ ⁺

2 차 이온의 극성 : 양이온

입사각 : 60 °

1 차 이온의 에너지 : 2 keV (1 keV/입자)

1 차 이온 전류의 양 : 200 mA

러스터 (luster) 면적 : 400 ㎛ × 400 ㎛

분석 면적 : 120 ㎛ × 120 ㎛

전자빔 보정 : 예

표면 층에서 5,000 ㎚ 의 면적에 함유된 대부분의 입자가 실리콘 수지 이외의 유기 폴리머인 경우에, SIMS 로 그 입자를 특정하기 어렵다. 따라서, 표면에서 필름을 조금씩 에칭하는 동안, 상기와 유사한 농도 분포 곡선을 FT-IR (포리에르 변환 적외선 분광법) 또는 XPS (X-선 전자 분광법) 로 측정해서 층의 두께를 얻는다.

(9) 필름 표면 상의 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 그리고 평균 폭 20 내지 500 ㎛ 의 돌기

WYKI Co. Ltd 의 비접촉 3-D 거칠기 미터 (TOPO-3D)를 사용해서, 돌기의 크기와 높이에 의존하는, 측정 면적 234 ㎛ × 240 ㎛ (0.056 ㎜²) 와 측정 배율 40 배 또는 측정 면적 956㎛ × 980 ㎛ (0.937 ㎜²) 와 측정 배율 10 배와 같은 조건 하에서 측정하고, 돌기의 평균 높이와 평균 폭을 수득한 3 차원 차트에서 읽는다.

(10) 비접촉 3 차원 중심 면 평균 거칠기 (WR_a)

WYKO Co., Ltd. 의 비접촉 3 차원 거칠기 미터 (TOPO-3D)를 사용해서, 측정 면적 242 ㎛ × 239 ㎛ (0.058 ㎜²) 와 측정 배율 40 배의 조건 하에서 측정하고, WR_a는 거칠기 미터에서 제조된 소프트웨어를 사용하는 표면 분석에서 부터 하기 표현 (6)을 기초로해서 계산한다.

Z_jk는 각 방향에서 j-번째 위치와 k-번째 위치에서의 3 차원 거칠기 챠트의 높이인데, 그때 측정 방향 (242 ㎛) 과 그 방향에 수직한 방향 (239 ㎛)을 M 과 N 분할로 각각 나눈다

(11) 영률

Toyo Baldwin Co. 의 Tention 장력 시험기를 사용해서, 온도 20 ℃ 와 습도 50 % 로 조절된 챔버에서, 분당 10 % 의 스트레인 속도로 길이 300 ㎜ 와 폭 12.7 ㎜ 샘플 필름을 당기고, 인장 응력 변형 곡선의 초기 직선 부분을 사용해서 하기 표현 (7) 을 기초로 한 필름의 영률을 계산한다.

E = Δσ / Δε (7)

(여기서, E 는 영률 (kg/㎜²)이고, Δσ 는 초기 평균 단면적에 기인한 직선 상의 두 점 사이의 응력 차이이고, Δε 는 두점 사이의 변형 차이이다).

(12) 권취성

슬리트의 시간에서의 권취 조건을 최적화한 후, 폭 560 ㎜ 와 길이 9000 ㎜ 인 필름을 슬리트하고 한 주간 방치한 10 롤로 로울한다. 롤의 권취성을 필름 주름의 발생 상태로부터의 제품화 가능성있는 롤의 수로부터 하기의 기준에 따라 필름을 평가한다.

제품화 가능롤의 수 판정

8 이상 ◎

5 내지 7 ○

3 내지 4 ×

2 이하 ××

(13) 자기테이프의 제조와 특성 평가

두 개의 100 % 코발트 강자성 필름 박층을 최외층 A 또는 진공 증착 방법에 의한 2 축 배향 적층 필름의 피복층 C의 표면 상에서 형성해서 0.2 ㎛ 의 전체 두께 (각 층은 약 0.1 ㎛ 의 두께를 갖는다)를 가지며, 다이아몬드형 탄소 (DLC) 필름층 그리고 불소 함유 카르복실산 기재 윤활제층을 필름 박층의 상기 표면 상에서 순차적으로 형성하고, 또한 공지된 방법으로 열가소성 수지층 B 의 표면 상에서 백피복층을 형성한다. 그 후, 수득한 적층을 폭 8 ㎜ 로 슬리트하고, 그렇게 수득한 테이프를 시판 8 ㎜ 비디오 카세트로 로드한다. 차후, 상기 테이프의 하기 특성을 측정한다.

사용 기기 : 8 ㎜ 비디오 테이프 레코더, Sony Corporation의 EDV-6000

C/N 측정 : Shibasoku K.K. 의 노이즈 메터

(a) C/N 측정

기록 파장 0.5 ㎛ (주파수 약 7.4 MHz) 의 신호를 기록하고, 6.4 MHZ 와 7.4 MHz 에서의 재생신호의 값의 비를 상태치로 표현되는 테이프의 C/N 으로 간주하는데, 그때 시판 8 ㎜ 비디오용 증작 테이프의 C/N 은 0 dB 이다.

(b) 고온과 고습 조건 하의 주행성

40 ℃ 의 고온과 80 % RH 의 고습의 조건 하, 통상의 속도로, 테이프의 기록과 재생을 500 회 반복한 후, 테이프의 C/N를 측정하고 초기값의 편차를 하기 기준으로 판정한다.

◎ : 기준치에 대해 + 0.0 dB 이상

○ : 기준치에 대해 - 1.0 내지 + 0.0 dB

× : 기준치에 대해 - 1.0 dB 이하

(c) 스틸 특성

4.2 MHz 영상 신호를 상기의 증착 테이프 상에서 기록하고 재생 출력이 50 % 로 감쇄되기 전의 경과 시간을 측정한다. 상기 시간을 하기 기준으로 판정한다.

◎ : 120 분 이상

○ : 60 분 내지 120

× : 60 분 이하

(14) 필름의 내스크래취성

슬리트 후, 최종 제품 롤로부터 필름을 샘플링하고, 필름의 평탄 표면을 배율 100 배로 광학 현미경으로 관찰해서 20 시야 이내의 스트래취의 수를 카운트한다. 판정기준은 하기와 같다.

스크래취의 수 판정

0 ◎

1 ○

2 이상 ×

(15) 돌기의 평균 높이

Digital Instrummments Co. 의 Nano Scope Ⅱ 원자력 현미경 (AFM) 을 사용해서, 2 ㎛ × 2 ㎛ 의 면적을 256 라인 × 256 픽셀의 픽셀 수로 측정하고 측정된 Rz (10 점 평균 거칠기)를 돌기의 평균 높이로 간주한다.

실시예 1

디메틸 테레프탈레이트와 에틸렌 글리콜에 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 안티몬 트리옥시드, 안정화제로서 인산 그리고 윤활제로서 표 1 과 표 2 의 불활성 입자를 첨가하고, 통상 사용되는 방법으로 상기 혼합물을 중합시켜서 0.60 의 고유 점도를 갖는 (각각 수지 A 와 수지 B 로 불려지는) 층 A 와 층 B 용 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 수득한다.

수지 A 와 수지 B 는 170 ℃에서 3 시간 동안 건조되고, 두 대의 압출기에 공급되고, 280 내지 300 ℃에서 용융되고, 수지 층 B 가 수지 층 A 의 한 면 상에 위치하는 방법으로 멀티 매니폴드 공압출 다이를 통해 함께 적층되고, 급냉되어 83 ㎛ 두께의 미연신 적층 필름을 수득한다.

따라서 수득한 미연신 필름을 예열하고, 95 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.2 배로 연신하고, 급냉한다. 계속해서, 표 1 의 수지와 입자 재질을 함유하는 (1.5 중량 % 의 전체 고체 함량 농도를 갖고 15 중량 % 의 전체 고체 함량으로 계면 활성제로서 HLB 값 17.1을 갖는 폴리옥시에틸렌 노닐페닐에테르를 함유하는) 수성 피복 용액을 키스롤 피복으로 종으로 연신된 필름의 층 A 의 표면 상에 피복해서 피복 층 C를 형성한다. 그 다음, 종으로 연신된 필름은 스펜터에 공급되고 110 ℃에서 4.1 의 연신비에서 횡방향으로 연신된다. 따라서 수득한 2 축 배향 필름을 220 ℃ 에서, 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 9.8 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 각 층의 두께를 두 대의 압출기의 배출량을 변화시켜서 조절한다. 상기 필름의 영률은 종방향으로 500 kg/㎜²이고 횡방향으로는 700 kg/㎜²이다.

표면 특성, 거친 표면 층 B 에 함유된 불활성 입자 중 가장 큰 입자의 평균 입경 d_B에 대한 평활 표면 층 A 의 두께 t_A의 비 t_A/t_B그리고 평균 입경 d_B그리고 수득한 필름의 권취성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 3 에 나타나 있다.

실시예 2 내지 4 그리고 비교예 3

2 축 배향 적층 필름 폴리에스테르 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득하지만, 피복 층 C 를 형성하는 수지와 불활성 입자, 열가소성 수지 층 A 와 B 에 함유된 입자, 그리고 그의 각 층의 두께는 표 1 과 2 와 같이 변경된다. 비교예 3 는 선행 기술의 단층 구조 필름이다. 수득한 필름의 특성과 이들 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프의 특성은 표 3 에 나타나 있다.

실시예 5 내지 9 그리고 비교예 1 및 2

평활 표면 층 A 와 거친 표면 층 B 용 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 (PEN)을 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득하지만, 표 1 과 표 2 의 입자를 사용하고 디메틸 2,6-나프탈렌 디카르복실레이트를 디메틸 테레프탈레이트 대신 사용한다.

수지 A 와 B를 170 ℃에서 6 시간 동안 건조시키고, 각 층의 두께는 실시예 1 과 동일한 방법으로 조절해서 실시예 5 내지 9 그리고 비교예 1 과 2 의 미연신 적층 필름을 얻는다.

따라서, 수득한 미연신 적층 필름을 예열하고, 135 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.6 배로 연신하고, 급냉한다. 계속해서, 적층 필름을 실시예 1 과 동일한 방법으로 표 1 의 피복 층 C 용 수성 피복 용액으로 피복하고, 스텐더에 공급하고 155 ℃에서 횡방향으로 연신 비 6.0 으로 연신한다. 수득한 2 축 배향 필름을 200 ℃에서 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 4.6 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이들 필름의 영률은 종방향으로 560 kg/㎜²이고 횡방향으로는 1,100 kg/㎜²이다. 실시예 8, 8 및 9 는 종방향 연신비 4.9 그리고 횡방향 연신비 5.0 이고, 이들 실시예의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름은 종방향으로 600 kg/㎜²그리고 횡방향으로 900 kg/㎜²의 영률을 갖는다. 수득한 필름의 특성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 3 에 나타나 있다.

	피복층 C
	수지 종류 *1	입자 재질	체적형상계수	평균 입경(㎚)	입자 밀도(수/㎛²)
실시예 1	A	실리카	0.5	16	13
실시예 2	A	가교결합 폴리스티렌	0.4	30	10
실시예 3	A	실리콘	0.4	28	15
실시예 4	B	아크릴	0.5	45	2.5
실시예 5	B	실리카	0.5	24	9
실시예 6	B	실리콘	0.4	20	17
실시예 7	B	가교결합 폴리스티렌	0.4	20	12
실시예 8	B	실시카	0.5	28	6
실시예 9	C	실리콘	0.4	35	10
비교예 1	A	실리카	0.5	24	12
비교예 2	A	실리카	0.5	24	12
비교예 3	A	가교결합 폴리스티렌	0.4	30	10
*1 : 피복층 C 의 수지 종류A : 아크릴 변성 폴리에스테르 (다까마쓰 유시 가부시끼가이샤의 SH551A) B : 아크릴 변성 폴리에스테르 (다까마쓰 유시 가부시끼가이샤의 IN-170-6) C : 코폴리에스테르 (2,6-나프탈렌 디카르복실레이트/이소프탈산/5-소듐 술포이소프탈산/에틸렌 글리콜/2 몰의 산화 프로필렌과의 1 몰의 비스페놀 A 의 부가 생성물) = 90/5/5/70/30

	열가소성 수지층 B
	수지 종류*2	최대 평균 입경	다른 입자
	수지 종류*2	입자 재질	평균 입경(㎛)	함유량(중량 %)	입자 재질	평균 입경(㎛)	함유량 (중량 %)
실시예 1	PET	실리콘	0.6	0.05	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 2	PET	실리카	0.5	0.15	실리카	0.08	0.2
실시예 3	PET	실리카	0.6	0.1	지르코니아	0.04	0.2
실시예 4	PET	실리콘	0.5	0.2	θ-알루미나	0.03	0.3
실시예 5	PEN	실리콘	0.6	0.05	실리카	0.08	0.2
실시예 6	PEN	실리카	0.5	0.15	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 7	PEN	실리콘	0.6	0.08	실리카	0.08	0.2
실시예 8	PEN	탄산 칼슘	0.3	0.3	실리카	0.08	0.3
실시예 9	PEN	가교결합 폴리스티렌	0.5	0.1	지르코니아	0.03	0.2
비교예 1	PEN	실리카	0.8	0.2	θ-알루미나	0.04	0.2
비교예 2	PEN	실리카	0.1	0.3	θ-알루미나	0.04	0.2
비교예 3	PET	-	-	-	-	-	-
2 : 열가소성 수지층 B 의 수지 종류PET : 폴리에틸렌 테레프탈레이트PEN : 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트3 : 상기 표의 "-" 는 불활성 미립자를 함유하지 않는다는 것을 나타낸다.

	열가소성 수지 층 A	층 두께
	수지의 종류*2	입자 재질	평균 입자 직경(㎚)	체적 형상 계수	입자 밀도(수/㎜²)	층 A	층 B	층 C
	수지의 종류*2	입자 재질	평균 입자 직경(㎚)	체적 형상 계수	입자 밀도(수/㎜²)	(㎛)	(㎚)
실시예 1	PET	실리콘	100	0.4	25,000	5.5	0.8	4
실시예 2	PET	탄산 칼슘	100	0.4	30,000	8.6	1.2	5
실시예 3	PET	실리카	60	0.5	10,000	5.1	1.2	5
실시예 4	PET	실리카	60	0.5	12,000	9.0	0.8	5
실시예 5	PEN	실리카	50	0.5	45,000	4.2	1.0	4
실시예 6	PEN	실리카	80	0.5	15,000	2.5	1.5	3
실시예 7	PEN	실리카	60	0.5	15,000	5.3	1.0	3
실시예 8	PEN	실리카	100	0.5	15,000	4.0	0.6	5
실시예 9	PEN	실리콘	120	0.4	8,000	6.9	0.4	6
비교예 1	PEN	실리카	60	0.5	20,000	2.6	2.0	4
비교예 2	PEN	실리콘	100	0.4	20,000	4.7	0.1	4
비교예 3	PET	실리카	100	0.5	25,000	9.8	0.0	5
*2 : 열가소성 수지 층 A 의 수지 종류PET : 폴리에틸렌 테레프탈레이트PEN : 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트

	피복층 C 의 표면 성상	표면 거칠기
	돌기	돌기의 높이AFM-Rz(㎚)	WR_a
	높이(㎚)	돌기의 높이AFM-Rz(㎚)	평균 폭(㎛)	밀도(수/㎜²)	층 C(㎚)	층 B(㎚)
실시예 1	7	60	130	20	1.7	4.0
실시예 2	6	80	70	25	1.8	4.5
실시예 3	7	100	50	29	0.9	4.2
실시예 4	6	60	120	50	0.7	4.8
실시예 5	6	85	60	30	1.0	4.0
실시예 6	8	50	200	23	1.3	3.5
실시예 7	7	70	100	20	0.8	3.7
실시예 8	4	55	160	30	1.3	3.6
실시예 9	3	40	330	38	0.8	4.3
비교예 1	100	330	4	29	3.5	16.5
비교예 2	검출되지 않음	0	26	1.5	2.8
비교예 3	검출되지 않음	0	27	1.3	0.5

	t_A/t_B	권취성	전자기 변환 특성C/N(λ=0.5 ㎛)(dB)	주행 내구성	스틸 특성	내스크래취
실시예 1	9.2	○	± 0	◎	○	◎
실시예 2	17.2	○	± 0	◎	◎	◎
실시예 3	8.5	○	+ 3.0	○	◎	○
실시예 4	18.0	◎	+ 3.5	○	○	○
실시예 5	7.0	○	+ 2.0	○	○	○
실시예 6	5.0	○	+ 1.0	◎	◎	◎
실시예 7	8.8	◎	+ 3.0	○	◎	○
실시예 8	13.3	○	+ 1.0	◎	○	◎
실시예 9	8.4	○	+ 2.0	○	◎	○
비교예 1	3.3	○	- 5.0	◎	○	◎
비교예 2	47	X	+ 1.5	X	○	X
비교예 3	∞	XX	+ 1.5	○	○	○

표 3 에서 분명한 것처럼, 본 발명의 적층 필름은 아주 평탄하고, 탁월한 전자기 변환성을 나타내고, 피복 층 C 에 함유된 구체적인 형상의 극세 입자에 의한 표면 상에 형상된 미세 돌기 그리고 전자기 변환 특성에 대한 역효과를 가지지 않을 정도로 작은 높이와 큰 폭을 갖는 돌기의 상승 효과에 기인해서 자기 기록 매체를 만들 때, 고온과 고습에서 주행 내구성 그리고 스틸 특성이 아주 탁월하다. 또한, 본 발명의 적층 필름은 작은 높이와 큰 폭을 갖는 돌기 그리고 거친 반대면의 양효과에 기인해서 베이스 필름으로서 아주 탁월한 권취성을 갖는다. 다른 한편으로, 비교예의 선행 기술의 필름은 동시에 이들 4 개의 조건을 만족시키지 못한다.

실시예 10

디메틸 테레프탈레이트와 에틸렌 글리콜에 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 안티몬 트리옥시드, 안정화제로서 인산 그리고 윤활제로서 표 4 의 불활성 입자를 첨가하고, 통상 사용되는 방법으로 상기 혼합물을 중합시켜서 0.60 의 고유 점도를 갖는 층 A 와 층 B (수지 A 와 수지 B ) 용 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 를 수득한다.

수지 A 와 수지 B 는 170 ℃ 에서 3 시간 동안 건조되고, 두 대의 압출기에 공급되고, 280 내지 300 ℃ 에서 용융되고, 수지 층 B 가 수지 층 A 의 한 면 상에 위치하는 방법으로 멀티 매니폴드 공압출 다이를 통해 함께 적층되고, 급냉되어 87 ㎛ 두께의 미연신 적층 필름을 수득한다.

따라서 수득한 미연신 필름을 예열하고, 100 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.3 배로 연신하고, 급냉한다. 계속해서, 표 5 의 바인더 수지와 입자 C 를 함유하는 (1.5 중량 % 의 전체 고체 함량 농도를 갖고 15 중량 % 의 전체 고체 함량으로 HLB 값 17.1을 갖는 폴리옥시에틸렌 노닐페닐에테르를 함유하는) 수성 피복 용액을 키스롤 피복으로 종으로 연신된 필름의 층 A 의 표면 상에 표 5 의 입자 C 를 피복한다. 그 다음, 종으로 연신된 필름은 스펜터에 공급되고 110 ℃에서 4.2 의 연신비에서 횡방향으로 연신된다. 따라서 수득한 2 축 배향 필름을 220 ℃ 에서, 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 6.3 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 각 층의 두께를 두 대의 압출기의 배출량을 변화시켜서 조절한다. 상기 필름의 영률은 각각 종방향으로 500 kg/㎜²이고 횡방향으로는 700 kg/㎜²이다.

표면 특성, 층 B 에 함유된 불활성 입자 중 가장 큰 입자의 평균 입경 d_B에 대한 층 A 의 두께 t_A의 비 t_A/t_B그리고 이축 배향 적층 필름의 권취성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 6 에 나타나 있다.

실시예 11 내지 13

2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 실시예 10 과 동일한 방법으로 수득하지만, 피복층 C 용 바인더 수지와 입자, 열가소성 수지 층 A 와 B 에 함유된 입자, 그리고 그의 각 층의 두께는 표 4 및 5 와 같이 변경된다. 수득한 필름의 특성과 이들 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프의 특성은 표 6 에 나타나 있다.

실시예 14 내지 18

층 A 와 층 B 용 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 (PEN) 을 실시예 4 와 동일한 방법으로 수득하지만, 표 4 의 입자 B 를 사용하고 동일한 몰의 디메틸 2,6-나프탈렌 디카르복실레이트를 디메틸 테레프탈레이트 대신 사용한다.

수지 A 와 B를 170 ℃ 에서 6 시간 동안 건조시키고, 각 층의 두께는 실시예 4 와 동일한 방법으로 조절해서 실시예 14 내지 18 의 미연신 적층 필름을 얻는다.

따라서, 수득한 미연신 적층 필름을 예열하고, 135 ℃ 의 필름 온도에서 고속과 저속 롤 사이에서 3.6 배로 연신하고, 급냉한다. 그 후, 필름을 실시예 4 와 동일한 방법으로 표 5 의 피복 층 C 용 수성 피복 용액으로 피복하고, 스텐더에 공급하고 155 ℃ 에서 횡방향으로 연신 비 6.0 으로 연신한다. 수득한 2 축 배향 필름을 200 ℃에서 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 4.6 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이들 필름의 영률은 종방향으로 560 kg/㎜²이고 횡방향으로는 1,100 kg/㎜²이다. 실시예 14 의 종방향과 횡방향의 연신비는 각각 4.0 배와 5.0 배이고, 상기 실시예의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름의 영률은 종방향으로는 600 kg/㎜²이고 , 횡방향으로는 900 kg/㎜²이다. 수득한 필름의 특성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 6 에 나타나 있다.

표 6 에서 분명한 것처럼, 본 발명의 적층 필름은 아주 평탄하고, 탁월한 전자기 변환성을 나타내고, 피복 층 C 에 함유된 구체적인 형상의 극세 입자에 의한 표면 상에 형상된 미세 돌기 그리고 전자기 변환 특성에 대한 역효과를 가지지 않을 정도로 작은 높이와 큰 폭을 갖는 돌기의 상승 효과에 기인해서 자기 기록 매체를 만들 때, 고온과 고습에서 주행 내구성 그리고 스틸 특성이 아주 탁월하다. 또한, 본 발명의 적층 필름은 베이스 필름으로서 아주 탁월한 권취성을 갖는다. 다른 한편으로, 본 발명의 요구를 만족시키지 못하는 필름은 동시에 이들 특성을 성취하지 못한다.

	열가소성 수지 층 A
	종류	함유 입자
	종류	입자 재질	평균 입자 직경 (㎚)	함유량(중량 %)
실시예 10	PET	-	-	-
실시예 11	PET	-	-	-
실시예 12	PET	-	-	-
실시예 13	PET	-	-	-
실시예 14	PEN	-	-	-
실시예 15	PEN	-	-	-
실시예 16	PEN	-	-	-
실시예 17	PEN	-	-	-
실시예 18	PEN	-	-	-
비교예 10	PET	-	-	-

	열가소성 수지 층 B
	종류	최대 평균 입경 입자	다른 입자
	종류	입자 재질	평균 입경(㎚)	함유량(중량 %)	입자 재질	평균 입경(㎚)	함유량(중량 %)
실시예 10	PET	가교결합 실리콘 수지	0.6	0.05	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 11	PET	실리카	0.5	0.15	실리카	0.08	0.2
실시예 12	PET	실리카	0.6	0.10	지르코니아	0.04	0.2
실시예 13	PET	가교결합 실리콘 수지	0.5	0.20	θ-알루미나	0.03	0.3
실시예 14	PEN	가교결합 실리콘 수지	0.6	0.05	실리카	0.08	0.2
실시예 15	PEN	실리카	0.5	0.15	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 16	PEN	가교결합 실리콘 수지	0.6	0.08	실리카	0.08	0.2
실시예 17	PEN	탄산 칼슘	0.3	0.30	실리카	0.08	0.3
실시예 18	PEN	가교결합 폴리스티렌	0.5	0.10	지르코니아	0.03	0.2
비교예 10	PET	가교 결합 실리콘 수지	0.5	0.20	실리카	0.08	0.2

	피복 층 C	층 두께
	수지 종류*	함유 입자	입자 밀도(수/㎜²)	층 A(㎛)	층 B(㎛)	층 C(㎚)
	수지 종류*	입자 재질	입자 밀도(수/㎜²)	층 A(㎛)	층 B(㎛)	층 C(㎚)	체적 형상 계수	평균 입경 (㎚)
실시예 10	A	실리카	0.5	16	13,000,000	5.5	0.8	4
실시예 11	A	코아쉘형 유기 입자	0.4	30	10,000,000	8.6	1.2	5
실시예 12	A	가교결합 실리콘 수지	0.4	28	15,00,000	5.1	1.2	5
실시예 13	A	아크릴	0.5	45	2,500,000	9.0	0.8	5
실시예 14	B	실리카	0.5	24	9,000,000	4.2	1.0	4
실시예 15	B	가교결합 실리콘 수지	0.4	20	17,00,000	2.5	1.5	3
실시예 16	B	코아쉘형 유기 입자	0.4	20	12,000,000	5.3	1.0	3
실시예 17	B	실리카	0.5	28	6,000,000	4.0	0.6	4
실시예 18	C	가교결합실리콘 수지	0.4	35	10,000,000	4.2	0.4	7
* : 피복층 C 의 수지 종류A : 아크릴 변성 폴리에스테르 (다까마쓰 유시 가부시끼가이샤의 SH551A) B : 아크릴 변성 폴리에스테르 (다까마쓰 유시 가부시끼가이샤의 IN-170-6) C : 코폴리에스테르 (2,6-나프탈렌 디카르복실레이트/이소프탈산/5-소듐 술포이소프탈산/에틸렌 글리콜/2 몰의 산화 프로필렌과의 1 몰의 비스페놀 A 의 부가 생성물) = 90/5/5/70/30

	피복층 C 의 표면 성상	표면 거칠기
	돌기	돌기의 높이AFM-Rz(㎚)	WR_a
	높이(㎚)	돌기의 높이AFM-Rz(㎚)	평균 폭(㎛)	밀도(수/㎜²)	층 C(㎚)	층 B(㎚)
실시예 10	7	60	150	20	1.4	4.0
실시예 11	6	80	90	25	1.2	4.5
실시예 12	7	100	40	29	1.3	4.2
실시예 13	6	60	120	50	1.7	4.8
실시예 14	6	85	60	30	1.2	4.0
실시예 15	8	50	210	23	0.9	3.5
실시예 16	7	70	110	20	1.0	3.7
실시예 17	4	55	160	30	0.6	3.6
실시예 18	5	130	25	38	0.5	4.3

	t_A/t_B	권취성	전자기 변환 특성 (dB)	주행 내구성	스틸 특성
실시예 10	9.2	○	± 0	◎	◎
실시예 11	17.2	○	± 0	○	○
실시예 12	8.5	○	+ 1.0	○	◎
실시예 13	18.0	◎	+ 0	○	○
실시예 14	7.0	○	+ 1.0	◎	○
실시예 15	5.0	○	+ 2.0	◎	◎
실시예 16	8.8	◎	+ 1.5	○	◎
실시예 17	13.3	○	+ 3.0	○	○
실시예 18	8.4	○	+ 3.5	○	○

실시예 19

디메틸 테레프탈레이트와 에틸렌 글리콜에 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 안티몬 트리옥시드, 안정화제로서 인산 그리고 윤활제로서 표 7 과 8 의 불활성 입자를 첨가하고, 통상 사용되는 방법으로 상기 혼합물을 중합시켜서 0.60 의 고유 점도를 갖는 층 A 와 층 B (수지 A 와 수지 B ) 용 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 를 수득한다.

수지 A 와 수지 B 는 170 ℃ 에서 3 시간 동안 건조되고, 두 대의 압출기에 공급되고, 280 내지 300 ℃ 에서 용융되고, 수지 층 B 가 수지 층 A 의 한 면 상에 위치하는 방법으로 멀티 매니폴드 공압출 다이를 통해 함께 적층되고, 급냉되어 129 ㎛ 두께의 미연신 적층 필름을 수득한다.

따라서 수득한 미연신 필름을 예열하고, 95 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.2 배로 연신하고, 스텐더에 공급하고, 110 ℃ 에서 연신비 4.1 로 횡방향으로 연신된다. 따라서 수득한 2 축 배향 필름을 220 ℃ 에서, 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 9.8 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 각 층의 두께를 두 대의 압출기의 배출량을 변화시켜서 조절한다. 상기 필름의 영률은 종방향으로 500 kg/㎜²이고 횡방향으로는 700 kg/㎜²이다.

표면 특성, 거친 표면 층 B 에서 함유된 불활성 입자 중 가장 큰 입자의 평균 입경 d_B에 대한 평활 표면 층 A 의 두께 t_A의 비 t_A/t_B그리고 이축 배향 적층 필름의 권취성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 9 에 나타나 있다.

실시예 20 및 21

2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 실시예 19 와 동일한 방법으로 수득하지만, 표 7 과 8 의 입자를 사용하고 거친 표면 층 B 의 두께와 평활 표면 층 A 는 표 7 및 8 과 같이 변경된다. 수득한 2 축 배향 적층 필름의 특성과 이들 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프의 특성은 표 9 에 나타나 있다.

실시예 22 내지 25

평활 표면 층 A 와 거친 표면 층 B 용 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 (PEN) (수지 A 및 B) 을 실시예 19 와 동일한 방법으로 수득하지만, 표 7 및 8 의 입자를 사용하고 동일한 몰의 디메틸 2,6-나프탈렌 디카르복실레이트를 디메틸 테레프탈레이트 대신 사용한다.

수지 A 와 B 를 170 ℃ 에서 6 시간 동안 건조시키고, 각 층의 두께는 실시예 19 와 동일한 방법으로 조절해서 실시예 22 내지 25 의 미연신 적층 필름을 얻는다.

따라서, 수득한 미연신 적층 필름을 예열하고, 135 ℃ 의 필름 온도에서 고속과 저속 롤 사이에서 3.6 배로 연신하고, 급냉하고, 스텐더에 공급하고, 155 ℃에서 연신비 6.0 으로 횡방향으로 연신한다. 수득한 2 축 배향 필름을 200 ℃에서 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 4.8 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 이들 필름의 영률은 종방향으로 560 kg/㎜²이고 횡방향으로는 1,100 kg/㎜²이다. 실시예 24 에서, 종방향의 영률 700 kg/㎜²및 횡방향의 영률 730 kg/㎜²그리고 전체 두께 4.8 ㎛ 을 갖는 필름은 4.85 (종방향) × 5.0 (횡방향) 배의 연신비로 수득한다. 실시예 25 에서, 종방향의 영률 600 kg/㎜²및 횡방향의 영률 900 kg/㎜²그리고 전체 두께 7.5 ㎛ 을 갖는 필름은 4.0 (종방향) × 5.0 (횡방향) 배의 연신비로 수득한다. 수득한 필름의 특성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 9 에 나타나 있다.

표 9 에서 분명한 것처럼, 본 발명의 적층 필름은 탁월한 내스크래취성 그리고 극도의 평탄 표면을 갖고, 탁월한 전자기 변환성을 나타내고, 전자기 변환 특성에 대한 역효과를 가지지 않을 정도로 작은 높이와 큰 폭을 갖는 돌기의 효과에 기인해서 테이프로서 고온과 고습에서의 안정한 주행성, 그리고 돌기와 반대면의 거친 표면의 양 영향에 기인해서 베이스 필름으로서 아주 탁월한 권취성을 가지고 있다. 다른 한편으로, 선행 기술의 필름은 동시에 이들 4 개의 요구를 만족시키지 못한다.

	거친 표면층 B의 불활성 입자
	종류	최대 평균 입경 입자	다른 입자
	종류	입자 종류	평균 입경(㎛)	함유량(중량 %)	입자 종류	평균 입경(㎛)	함유량(중량 %)
실시예 19	PET	이산화 실리콘	0.60	0.10	θ-알루미나	0.03	0.3
실시예 20	PET	실리콘 수지	0.50	0.05	이산화 실리콘	0.05	0.2
실시예 21	PET	이산화 실리콘	0.60	0.10	이산화 실리콘	0.05	0.2
실시예 22	PEN	실리콘 수지	0.50	0.05	θ-알루미나	0.03	0.1
실시예 23	PEN	이산화 실리콘	0.30	0.05	이산화 실리콘	0.02	0.2
실시예 24	PEN	실리콘 수지	0.50	0.05	이산화 실리콘	0.03	0.1
실시예 25	PEN	이산화 실리콘	0.30	0.10	θ-알루미나	0.03	0.3

	평활 면 층 A 의 불활성 미립자	층 두께(㎛)
	입자 종류	평균 입경(㎚)	함유량(중량 %)	층 B	층 A
실시예 19	-	-	-	1.30	8.50
실시예 20	-	-	-	0.60	6.70
실시예 21	-	-	-	0.50	5.90
실시예 22	-	-	-	0.70	4.10
실시예 23	-	-	-	1.80	3.00
실시예 24	-	-	-	0.70	4.10
실시예 25	-	-	-	0.50	7.00
(각주) "-" 는 불활성 미립자를 함유하지 않는다는 것을 의미한다.

	층 A 의 돌기
	측정 방향(도)	높이(㎚)	평균 폭(㎛)	밀도(수/㎜²)	거칠기[WR_a](㎚)	t_A/t_B
실시예 19	5	5	80	50	1.15	14.2
실시예 20	5	6	100	30	1.40	13.4
실시예 21	9	10	120	25	1.50	9.8
실시예 22	9	5	50	100	0.65	8.2
실시예 23	9	6	80	40	0.80	10.0
실시예 24	9	5	100	25	0.75	8.2
실시예 25	9	4	25	400	0.60	23.3

	층 B 의 거칠기[WR_a](㎚)	베이스필름의 영률(kg/㎜²)	권취성	전자기 변환특성 C/N(λ= 0.5㎛)	고온과 고습에서의 주행성	내스크래취성
	층 B 의 거칠기[WR_a](㎚)	MD	권취성	전자기 변환특성 C/N(λ= 0.5㎛)	고온과 고습에서의 주행성	내스크래취성	TD
실시예 19	4.50	500	700	◎	+ 2	○	◎
실시예 20	3.20	500	700	◎	+ 1	○	◎
실시예 21	3.50	500	700	◎	± 0	○	◎
실시예 22	2.80	560	1100	○	+ 3	○	◎
실시예 23	3.10	560	1100	○	+ 2	○	◎
실시예 24	3.20	700	730	○	+ 1.5	○	◎
실시예 25	2.50	600	900	○	+ 3	○	◎

실시예 26

디메틸 테레프탈레이트와 에틸렌 글리콜에 에스테르 교환 촉매로서 망간 아세테이트, 중합 촉매로서 안티몬 트리옥시드, 안정화제로서 인산 그리고 윤활제로서 표 10 과 11 의 불활성 입자를 첨가하고, 통상 사용되는 방법으로 상기 혼합물을 중합시켜서 0.60 의 고유 점도를 갖는 층 A 와 층 B (수지 A 와 수지 B ) 용 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 를 수득한다.

따라서 수득한 미연신 필름을 예열하고, 95 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.2 배로 연신하고, 급냉하고, 스텐더에 공급하고, 110 ℃에서 4.1 의 연신비에서 횡방향으로 연신된다. 따라서 수득한 2 축 배향 필름을 220 ℃ 에서, 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 9.8 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다. 각 층의 두께를 두 대의 압출기의 배출량을 변화시켜서 조절한다. 상기 필름의 영률은 각각 종방향으로 500 kg/㎜²이고 횡방향으로는 700 kg/㎜²이다.

표면 특성, 거친 표면 층 B 에 함유된 불활성 입자 중 가장 큰 입자의 평균 입경 d_B에 대한 평활 표면 층 A 의 두께 t_A의 비 t_A/t_B그리고 이축 배향 적층 필름의 권취성 그리고 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 12 에 나타나 있다.

실시예 27 및 28

2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 실시예 26 과 동일한 방법으로 수득하지만, 표 10 의 입자를 사용하고 거친 표면 층 B 그리고 평활 표면 층 A 의 두께가 표 10 및 11 와 같이 변경된다. 수득한 필름의 특성과 이들 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프의 특성은 표 12 에 나타나 있다.

실시예 29 내지 32

평활 표면 층 A 와 거친 표면 층 B 용 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 (PEN) (수지 A 와 수지 B) 을 실시예 26 과 동일한 방법으로 수득하지만, 표 10 의 입자를 사용하고 동일한 몰의 디메틸 2,6-나프탈렌 디카르복실레이트를 디메틸 테레프탈레이트 대신 사용한다.

수지 A 와 B를 170 ℃ 에서 6 시간 동안 건조시키고, 각 층의 두께는 실시예 26 과 동일한 방법으로 조절해서 미연신 적층 필름을 얻는다.

따라서, 수득한 미연신 적층 필름을 예열하고, 135 ℃ 의 필름 온도에서 저속과 고속 롤 사이에서 3.6 배로 연신하고, 스텐더에 공급하고, 155 ℃ 에서 연신 비 6.0 으로 연신한다. 수득한 2 축 배향 필름을 200 ℃에서 4 초 동안 더운 공기로 고정해서 4.6 ㎛ 두께의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름을 얻는다.

이들 필름의 영률은 종방향으로 650 kg/㎜²이고 횡방향으로는 1,100 kg/㎜²이다. 실시예 31 의 필름의 종방향과횡방향의 연신비는 각각 4.85 와 5.0 이고 전체 두께는 5.9 ㎛ 이고, 실시예 32 의 필름의 종방향과 횡방향의 연신비는 각각 4.0 과 5.0 이고, 전체 두께는 7.5 ㎛ 이다. 실시예 31 의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름의 영률은 종방향으로는 700 kg/㎜²이고 , 횡방향으로는 730 kg/㎜²이고, 실시예 32 의 2 축 배향 적층 폴리에스테르 필름의 영률은 종방향으로는 600 kg/㎜²이고 , 횡방향으로는 900 kg/㎜²이다. 상기 필름의 표면 특성과 상기 필름에서 형성된 강자성 금속 박필름 증착 자기 테이프는 표 12 에 나타나 있다.

표 12 에서 분명한 것처럼, 본 발명의 적층 필름은 탁월한 내스크래취성 그리고 극도의 평탄성을 가지며, 탁월한 전자기 변환성을 나타내고, 전자기 변환 특성에 대한 역효과를 가지지 않을 정도로 작은 높이와 큰 폭을 갖는 돌기의 효과에 기인해서 테이프로서 고온과 고습에서의 안정한 주행성, 그리고 돌기와 반대면의 거친 표면의 양 영향에 기인해서 베이스 필름으로서 아주 탁월한 권취성을 가지고 있다. 다른 한편으로, 비교예의 필름은 동시에 이들 4 개의 요구를 만족시키지 못한다.

	거친 표면층 B의 불활성 입자
	종류	최대 평균 입경 입자	다른 입자
	종류	입자 종류	평균 입경(㎛)	함유량(중량 %)	입자 종류	평균 입경(㎛)	함유량(중량 %)
실시예 26	PET	실리콘 수지	0.6	0.05	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 27	PET	이산화 실리콘	0.6	0.05	θ-알루미나	0.03	0.2
실시예 28	PET	실리콘 수지	0.5	0.1	이산화 실리콘	0.05	0.2
실시예 29	PEN	실리콘 수지	0.5	0.02	이산화 실리콘	0.05	0.2
실시예 30	PEN	이산화 실리콘	0.3	0.1	이산화 실리콘	0.03	0.3
실시예 31	PEN	이산화 실리콘	0.5	0.05	이산화 실리콘	0.05	0.2
실시예 32	PEN	실리콘 수지	0.6	0.1	θ-알루미나	0.03	0.2

	평활 면 층 A 의 불활성 미립자	층 두께(㎛)
	입자 종류	평균 입경(㎚)	체적형상 계수	필름 표면상의 입자의 밀도 (수/㎜²)	층 B	층 A
실시예 26	실리콘 수지	100	0.5	25,000	0.8	9.00
실시예 27	탄산 칼슘	120	0.4	30,000	0.6	6.70
실시예 28	이산화 실리콘	60	0.5	10,000	0.8	5.60
실시예 29	이산화 실리콘	60	0.5	12,000	0.8	3.80
실시예 30	이산화 실리콘	50	0.5	10,000	2.00	2.60
실시예 31	실리콘 수지	60	0.5	9,000	0.90	3.70
실시예 32	이산화 실리콘	50	0.5	10,000	2.00	5.50

	층 A 의 돌기
	측정 방향(도)	높이(㎚)	평균 폭(㎛)	거칠기[WR_a](㎚)	t_A/t_B
실시예 26	5	4	150	1.8	15
실시예 27	5	4	100	1.5	11.2
실시예 28	9	5	50	0.9	11.2
실시예 29	9	5	50	0.7	7.6
실시예 30	9	5	25	0.8	8.7
실시예 31	9	5	25	0.5	7.4
실시예 32	9	4	100	0.5	9.2

	층 B 의거칠기[WR_a](㎚)	베이스필름의 영률(kg/㎜²)	권취성	전자기 변환 특성C/N(λ= 0.5㎛)	고온과 고습에서의 주행성	내스크래취성
	층 B 의거칠기[WR_a](㎚)	MD	권취성	전자기 변환 특성C/N(λ= 0.5㎛)	고온과 고습에서의 주행성	내스크래취성	TD
실시예 26	4.6	500	700	◎	± 0	○	◎
실시예 27	4.2	500	700	◎	± 0	○	◎
실시예 28	2.9	500	700	◎	+ 3	○	◎
실시예 29	2.5	560	1100	○	+ 3	○	◎
실시예 30	2.8	560	1100	○	+ 3.5	○	◎
실시예 31	5	700	730	◎	+ 3	○	◎
실시예 32	4.6	600	900	◎	+ 3	○	◎

본 발명은 2 축 배향 적층 필름과 베이스 필름으로서 상기 필름을 포함하는 자기 기록 매체에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 탁월한 권취성, 무차점성, 윤활성 그리고 취급성을 갖는 2 축 배향 적층 필름에 관한 것이고, 전자 변환 특성, 드롭아우트 (drop-out), 주행성 및 내구성이 탁월한 고밀도 자기 기록 매체용 베이스 필름에 유용한데, 자기 기록 매체는 베이스 필름으로서 동일한 필름을 포함한다.

Claims

열가소성 수지 층 A 와 열가소성 수지 층 A 의 한 면 상에 적층된 열가수성 수지 층 B를 포함하는 필름으로서,

열가소성 수지 층 B 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 A 의 표면이 4 내지 2,500/㎜²의 밀도로 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 그리고 평균 폭 20 내지 500 ㎛의 돌기를 갖고,

열가소성 수지 층 B 가 불활성 미립자를 함유하고 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 열가소성 수지 층 B 와 접촉되지 않는 열가소성 수지 층 A 의 표면 보다 더 거친 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 가 4 내지 400 ㎚ 그리고 체적 형상 계수 0.1 내지 π/6 을 갖는 불활성 미립자 A 를 포함하는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 2 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 의 표면이 밀도 5,000 내지 50,000/㎜²로 불활성 미립자 A 의 돌기를 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 가 40 ㎚ 이상의 평균 입경을 갖는 불활성 미립자를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 B 에 함유된 불활성 미립자가 0.5 이하의 상대 표준 편차의 입자 크기 분포를 갖는 첫 번째 입자 또는 첫 번째 입자와 다 른 입자를 포함하는 두 번째 입자이고, 첫 번째 입자의 평균 입경은 두 번째 입자 중 가장 크고, 열가소성 수지 층 A 의 두께와 불활성 미립자의 평균 입경이 하기:

4 ≤ t_A/ d_B≤ 40 (1)

(식중, t_A는 열가소성 수지 층 A 의 두께 (㎛) 이고, 불활성 미립자가 첫 번째 입자로 이루어질 때 d_B는 첫 번째 입자의 평균 입경 (㎛) 이거나 불활성 미립자가 두 번째 입자로 이루어질 때 d_B는 두 번째 입자에 함유된 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경 (㎛) 이다)

를 만족시키는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름
제 5 항에 있어서, 첫 번째 입자의 평균 입경 또는 두 번째 입자 중에 함유된 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경이 0.2 내지 1 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 첫 번째 입자의 함량이 0.001 내지 5.0 중량 % 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 B 와 접촉하지 않는, 열가소성 수지 층 A 의 표면이 10 ㎚ 이하의 중심면 평균 거칠기^AWR_a을 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 와 접촉하지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 2 ㎚ 내지 15 ㎚ 의 중심면 평균 거칠기^BWR_a을 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 의 두께가 0.8 ㎛ 이상이고, 열가소성 수지 층 B 의 두께가 열가소성 수지 층 B 에 함유된 불활성 입자의 평균 입경 d_B(상기와 동일하게 정의됨) 의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 두께가 2.5 내지 20 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 와 열가소성 수지 층 B를 구성하는 열가소성 수지가 동일하거나 상이한 방향족 폴리에스테르(류)인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 12 항에 있어서, 방향족 폴리에스테르가 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 1 항의 2 축 배향 적층 필름 그리고 열가소성 수지 층 B 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 A 의 표면 상에 적층된 자기 기록 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 14 항에 있어서, 자기 기록 층이 증착 금속 박층인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 14 항에 있어서, 자기 기록 층이 두께 1 ㎛ 이하의 피복 자기 기록 층인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 14 항에 있어서, 디지탈 신호 기록 테이프인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
베이스 필름으로서 제 1 항의 2 축 배향 적층 필름을 사용하는 것을 특징으로 하는, 자기 기록 매체의 제조 방법.
순서로 적층된 열가소성 수지 층 C, 열가소성 수지 층 A 그리고 열가소성 수지 층 B 를 포함하는 필름으로서,

열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 C 의 표면이 4 내지 2,500/㎜²의 밀도로 평균 높이 2 내지 85 ㎚ 및 평균 폭 20 내지 500 ㎛의 돌기를 갖고,

열가소성 수지 층 B 가 불활성 미립자를 함유하고 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는 열가소성 수지 층 C 의 표면 보다 더 거친 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 C 가 10 내지 50 ㎚ 그리고 체적 형상 계수 0.1 내지 π/6 를 갖는 불활성 미립자 C 를 함유하는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 C 의 표면이 밀도 2 내지 50/㎛²에서 불활성 미립자 C 의 30 내지 200 % 의 평균 입경인 평균 높이의 돌기를 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 가 평균 입경 40 내지 400 ㎚ 그리고 체적 형상 계수 0.1 내지 π/6 의 불활성 미립자 A 를 함유하는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 가 40 ㎚ 이상의 평균 입경을 갖는 불활성 미립자를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 B 에 함유된 불활성 미립자가 0.5 이하의 상대 표준 편차의 입자 크기 분포 첫 번째 입자, 또는 첫 번째 입자및 다른 입자를 포함하는 두 번째 입자인데, 첫 번째 입자의 평균 입경은 두 번째 입자 중 가장 크고, 열가소성 수지 층 A 의 두께와 불활성 미립자 의 평균 입경이 하기 표현 (1):

4 ≤ t_A/ d_B≤ 40 (1)

(식중, t_A는 열가소성 수지 층 A 의 두께 (㎛) 이고, 불활성 미립자가 단지 첫 번째 입자로 이루어질 때 d_B는 첫 번째 입자의 평균 입경 (㎛) 이거나, 불활성 미립자가 두 번째 입자로 이루어질 때 d_B는 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경 (㎛) 이다)

를 만족시키는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름
제 24 항에 있어서, 첫 번째 입자의 평균 입경 또는 두 번째 입자 중에 함유된 첫 번째 입자의 가장 큰 평균 입경이 0.2 내지 1 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 24 항 또는 제 25 항에 있어서, 첫 번째 입자의 함량이 0.001 내지 5.0 중량 % 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 와 접촉하지 않는, 열가소성 수지 층 C 의 표면이 10 ㎚ 이하의 중심면 평균 거칠기^CWR_a를 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 와 접촉하지 않는, 열가소성 수지 층 B 의 표면이 2 ㎚ 내지 15 ㎚ 의 중심면 평균 거칠기^BWR_a를 갖는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 C 가 일축 또는 이축으로 연신되는 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 의 두께가 0.8 ㎛ 이상이고, 열가소성 수지 층 B 의 두께가 열가소성 수지 층 B 에 함유된 불활성 입자의 평균 입경 d_B(상기와 동일하게 정의됨) 의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 두께가 2.5 내지 20 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항에 있어서, 열가소성 수지 층 A 와 열가소성 수지 층 B를 구성하는 열가소성 수지가 동일하거나 상이한 방향족 폴리에스테르인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 32 항에 있어서, 방향족 폴리에스테르가 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 적층 필름.
제 19 항의 2 축 배향 적층 필름 그리고 열가소성 수지 층 A 와 접촉되지 않는, 열가소성 수지 층 C 의 표면 상에 적층된 자기 기록 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 34 항에 있어서, 자기 기록 매체가 증착 금속 박층인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 34 항에 있어서, 자기 기록 층이 두께 1 ㎛ 이하의 피복 자기 기록 층인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
제 34 항에 있어서, 디지탈 신호 기록 테이프인 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체.
베이스 필름으로서 제 19 항의 2 축 배향 적층 필름을 사용하는 것을 특징으로 하는, 자기 기록 매체의 제조 방법.