KR100257399B1 - Pust removing apparatus for light exposure equipment - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus and a method of removing dust are to reduce an error during an auto focusing process in an exposure equipment, thereby obtaining a preferable accuracy. CONSTITUTION: The apparatus comprises a frame(32), an operating motor(33) and an ion blower(37). The frame is attached to one side of a stage(31). Ions are generated from the ion blower. The ions have a positive charge or a negative charge. The ions can be engaged with dust, which is attached to a wafer(38) by an electrostatic force. A pump(39) is disposed on one side of the ion blower. The pump is intended to transfer a pressurized air into an inner side of the ion blower. The inner side is formed to be hollow. The pump is connected to the ion blower via a tube. One end of the ion blower is fixed to a clamp(36), which is fixed to a belt(35). The belt is rotatably disposed on a pulley(34). When the motor operates one of the pulleys, the belt is traveled on a periphery of the pulley.

Description

노광 장비용 먼지 제거 장치 및, 그에 의한 먼지 제거 방법Dust removal apparatus for exposure equipment and dust removal method by it

본 발명은 노광 장비용 먼지 제거 장치 및, 그에 의한 먼지 제거 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이온 발생기로부터 발생된 이온에 의해 먼지를 제거할 수 있는 노광 장비용 분진 제거 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dust removal apparatus for exposure equipment and a dust removal method thereby, and more particularly, to a dust removal apparatus for exposure equipment that can remove dust by ions generated from an ion generator.

노광 장비는 액정 표시 장치의 패널 글래스나 반도체의 웨이퍼에 소정의 패턴을 형성하기 위한 장비로서, 노광 장비에 설치되는 레티클에 형성된 패턴은 결상 렌즈를 통하여 감광 재료가 도포된 패널 글래스나 웨이퍼에 전사된다. 이때 패널 글래스나 웨이퍼의 표면에 레티클의 상을 정확하게 결상시키려면, 패널 글래스 또는 웨이퍼로부터 렌즈까지의 거리를 정확하게 유지하여야 한다. 이는 레티클의 상이 정확하게 결상되어야만 해상도가 우수하고 왜곡이 없는 상을 얻을 수 있기 때문이다. 이와 같이 결상 렌즈의 성능이 저하되지 않고 상을 전사시킬 수 있도록 정해진 범위를 결상 광학계의 초점 심도(depth of focus)라 한다. 즉, 초점 심도내에서는 패널 글래스나 웨이퍼가 어느 위치에 있더라도 결상 광학계의 성능이 발휘되지만, 초점 심도를 벗어나면 해상도의 저하 혹은 상의 왜곡이 나타나 정확한 결상이 곤란하다.The exposure equipment is a device for forming a predetermined pattern on the panel glass of the liquid crystal display device or the wafer of the semiconductor. The pattern formed on the reticle provided in the exposure equipment is transferred to the panel glass or wafer coated with the photosensitive material through the imaging lens. . At this time, to accurately image the image of the reticle on the surface of the panel glass or the wafer, the distance from the panel glass or the wafer to the lens must be maintained accurately. This is because the image of the reticle must be accurately formed to obtain an image having excellent resolution and no distortion. In this manner, a predetermined range of the imaging optical system may be referred to as a depth of focus of the imaging optical system without degrading the performance of the imaging lens. That is, within the depth of focus, the performance of the imaging optical system is exhibited no matter where the panel glass or the wafer is located. However, when the depth of focus is out of the focus depth, image degradation or image distortion appears, making it difficult to accurately form an image.

도 1은 노광 장비의 구조를 개략적으로 도시하는 설명도이다.1 is an explanatory diagram schematically showing a structure of an exposure apparatus.

도면을 참조하면, 노광 장비는 패널 글래스나 웨이퍼(2)를 지지하는 진공 척(vacuum chuck )이 구비된 스테이지(1)와, 레티클(3)에 형성된 패턴을 패널 글래스나 웨이퍼(2)에 결상시키는 결상 렌즈 광학계(4)를 포함한다. 도시되지 아니한 광원으로부터 입사된 광은 레티클(3)의 패턴을 가지고 결상 렌즈 광학계(4)를 통과하게 되며, 패널 글래스나 웨이퍼(2)의 표면에 결상된다. 이때 초점 심도는 도면 부호 5 로 표시된다. 즉, 패널 글래스나 웨이퍼(2)의 표면이 초점 심도(5)의 영역 내에 위치하여야만 레티클(3)의 패턴이 정확하게 전사될 수 있는 것이다. 실제에 있어서, 액정 표시 장치의 패널 글래스 노광에서는 광학계의 초점 심도가 약 20 마이크로이고, 웨이퍼의 노광에서는 1 마이크로 내외이므로, 초점 심도의 조절은 매우 정밀한 제어를 필요로 한다.Referring to the drawings, the exposure apparatus is configured to form the stage 1 with a vacuum chuck supporting the panel glass or the wafer 2 and the pattern formed on the reticle 3 on the panel glass or the wafer 2. The imaging lens optical system 4 is included. Light incident from a light source (not shown) passes through the imaging lens optical system 4 with a pattern of the reticle 3 and forms an image on the surface of the panel glass or the wafer 2. In this case, the depth of focus is indicated by reference numeral 5. That is, the pattern of the reticle 3 can be accurately transferred only when the panel glass or the surface of the wafer 2 is located in the region of the focal depth 5. In practice, since the depth of focus of the optical system is about 20 microns in the panel glass exposure of the liquid crystal display device and about 1 micron in the exposure of the wafer, the adjustment of the depth of focus requires very precise control.

노광 장비에 배치된 글래스 패널 또는 웨이퍼가 결상 광학계의 초점 심도 영역을 이탈하는 원인은 여러 가지가 있다. 예를 들면, 노광 대상과 관련이 있는 것으로서, 패널 글래스나 웨이퍼 자체 두께의 불균일성, 그 표면에 도포되는 감광제 피복의 불균일성을 들 수 있다. 또한 노광 장비 자체의 문제로서, 노광 스테이지의 평면도 불량, 노광 스테이지의 진공척이 패널 글래스나 웨이퍼를 진공 흡착할 때 발생하는 휨 현상을 들 수 있다. 그리고, 공기중에 떠 다니는 먼지 입자들이 정전기에 의해 패널 글래스나 웨이퍼의 표면에 부착함으로써 휨 현상이 발생될 수 있다.There are various reasons for the glass panel or wafer disposed in the exposure equipment to deviate from the depth of focus area of the imaging optical system. For example, as a thing related to exposure object, the nonuniformity of panel glass and the thickness of a wafer itself, and the nonuniformity of the photosensitive agent coating apply | coated to the surface are mentioned. Moreover, as a problem of exposure apparatus itself, the flatness of an exposure stage and the curvature phenomenon which arises when a vacuum chuck of an exposure stage vacuum-adsorbs a panel glass or a wafer are mentioned. In addition, warpage may occur because dust particles floating in the air adhere to the surface of the panel glass or the wafer by static electricity.

위와 같은 초점 심도 불량을 해소하기 위하여 노광 장비에서는 노광 스테이지상의 패널 글래스나 웨이퍼를 자동 레벨링(auto-leveling) 또는 자동 포커싱(auto focusing)을 통해 조절하게 된다. 자동 레벨링은 노광 대상물의 전영역에 대한 기울기를 보정하는 작용을 말하며, 자동 포커싱은 노광 대상의 높이를 초점 심도의 범위내에 들어오도록 한 후에 노광을 행하는 것을 말한다. 그러나 자동 포커싱을 수행한다 할지라도, 먼지 입자에 의해 발생된 휨 현상은 정상적으로 보정될 수 없다는 문제점이 있다.In order to eliminate the depth of focus defects described above, the exposure apparatus adjusts the panel glass or the wafer on the exposure stage through auto-leveling or auto focusing. Automatic leveling refers to the function of correcting the inclination of the entire area of the exposure object, and automatic focusing refers to performing exposure after bringing the height of the exposure object into the range of the depth of focus. However, even if auto focusing is performed, the warpage phenomenon caused by the dust particles cannot be corrected normally.

도 2a 내지 도 2c에 도시된 것은 먼지 입자에 의한 휨 현상 발생시에 이를 자동 포커싱으로 보정하는 것을 도시하는 설명도이다.2A to 2C are explanatory diagrams for correcting this by automatic focusing when warpage occurs due to dust particles.

도면을 참조하면, 노광 대상인 패널 글래스 또는 웨이퍼(21)는 진공척과 같은 스테이지(24)의 상부에 배치되며, 이때 노광 대상(21)의 저면과 스페이지(24)의 상부 표면 사이에 게재된 먼지 입자(p)는 노광 대상을 도면에 도시된 바와 같이 휘게 만든다. 도면 번호 22로 표시된 것은 기준면을 나타내며, 도면 번호 5는 초점 심도 영역을 나타낸다. 도 2a, 도 2b 및, 도 2c는 스테이지(24)가 모두 동일한 높이에 있는 것을 나타낸다.Referring to the drawings, the panel glass or wafer 21 to be exposed is disposed on an upper portion of the stage 24 such as a vacuum chuck, and dust disposed between the bottom surface of the exposure object 21 and the upper surface of the swept 24. Particles p cause the exposure object to bend as shown in the figure. Reference numeral 22 denotes a reference plane, and reference numeral 5 denotes a depth of focus area. 2A, 2B and 2C show that the stage 24 is all at the same height.

도 2a를 참조하면, 노광 대상(21)이 먼지(P)에 의해 볼록해진 부분의 정상(25)에 입사된 비임(B)이 반사되는 각도는 기준면(22)에서 반사되는 비임(B)의 각도와 같으며, 따라서 평면(23)에서는 L1의 거리 편차를 가져오게 된다. 따라서 자동 포커싱을 통해 스테이지(24)를 상기의 거리 편차(L1)에 해당하는 높이만큼 하강시키면 자동 포커싱의 정상적인 작업이 이루어지는 것이다.Referring to FIG. 2A, the angle at which the beam B incident on the top 25 of the portion of the exposed object 21 convex by the dust P is reflected is the angle of the beam B reflected on the reference plane 22. It is equal to the angle, and thus brings about a distance deviation of L1 in the plane 23. Therefore, when the stage 24 is lowered by the height corresponding to the distance deviation L1 through the automatic focusing, the normal operation of the automatic focusing is performed.

도 2b를 참조하면, 비임(B)은 경사면(26)에 입사되며, 그로부터 반사된 비임의 각도는 기준면(22)으로부터 반사된 비임의 각도와 상이하게 된다. 따라서 평면(23)에서 -L2의 거리 편차가 발생하게 되며, 따라서 자동 포커싱을 수행하게 되면 스테이지(24)를 상승시키는 결과를 초래한다.2B, the beam B is incident on the inclined surface 26, and the angle of the beam reflected therefrom is different from the angle of the beam reflected from the reference plane 22. As a result, a distance deviation of -L2 occurs in the plane 23, and thus performing the auto focusing results in raising the stage 24.

도 2c를 참조하면, 비임(B)은 도 2b와 상이한 측면의 경사면(27)에 입사되며, 그로부터 거리 편차(L3)가 발생하게 된다. 이것은 자동 포커싱에서 스테이지(24)를 하강시키게 하지만, 정상적인 경우의 L1보다 큰 거리를 하강시키게 된다.Referring to FIG. 2C, the beam B is incident on the inclined surface 27 on the side different from that in FIG. 2B, from which a distance deviation L3 occurs. This causes the stage 24 to be lowered in auto focusing but lowers the distance greater than L1 in the normal case.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 노광의 대상이 되는 패널 글래스나 웨이퍼에 존재하는 먼지를 제거하는 노광 장비용 먼지 제거 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a dust removal apparatus for exposure equipment for removing dust present in the panel glass or wafer to be exposed.

본 발명의 다른 목적은 자동 포커싱이 정상적으로 수행될 수 있도록 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dust removing apparatus for exposure equipment which enables automatic focusing to be performed normally.

본 발명의 다른 목적은 이온 기체 분자의 발생을 통해 먼지를 제거할 수 있는 노광 장비용 먼지 제거 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dust removal apparatus for exposure equipment that can remove dust through generation of ionic gas molecules.

본 발명의 다른 목적은 제거된 먼지를 저장할 수 있는 먼지 흡입기를 구비한 노광 장비용 먼지 제거 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dust removal apparatus for exposure equipment having a dust inhaler capable of storing the removed dust.

본 발명의 다른 목적은 이온 기체 분자의 발생을 통해 먼지를 제거할 수 있는 먼지 제거 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dust removal method capable of removing dust through the generation of ionic gas molecules.

도 1은 노광 장비에 대한 개략적인 설명도.1 is a schematic explanatory diagram of an exposure apparatus.

도 2a 내지 도 2c는 먼지 입자에 의한 패널 글래스 또는 웨이퍼의 변형이 오토 포커싱에 미치는 영향을 도시하는 설명도.2A to 2C are explanatory diagrams showing the effect of deformation of panel glass or wafer due to dust particles on auto focusing;

도 3은 본 발명에 따른 먼지 제거 장치의 일 실시예에 대한 개략적인 사시도.3 is a schematic perspective view of one embodiment of a dust removal apparatus according to the present invention;

도 4는 도 5의 일부에 대한 개략적인 단면도.4 is a schematic cross-sectional view of a portion of FIG. 5.

도 5는 본 발명에 따른 먼지 제거 장치의 다른 실시예에 대한 개략적인 사시도.5 is a schematic perspective view of another embodiment of a dust removing apparatus according to the present invention.

〈 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 〉<Brief Description of Major Codes in Drawings>

1. 스테이지 2. 패널 글래스 또는 웨이퍼1. Stage 2. Panel Glass or Wafer

3. 레티클 4. 결상 광학계3. Reticle 4. Imaging Optics

5. 초점 심도 21. 패널 글래스 또는 웨이퍼5. Depth of Focus 21. Panel Glass or Wafer

24. 스테이지 31.51. 스테이지24. Stage 31.51. stage

32.52. 프레임 33. 53. 구동 모터32.52. Frame 33. 53.Drive motor

34.54. 풀리 35.55. 벨트34.54. Pulley 35.55. belt

37.57. 이온 블로워 39. 펌프37.57. Ion Blower 39. Pump

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 노광 장비에 스테이지의 일측에 설치된 구동 수단, 상기 스테이지와 상기 스테이지에 안착될 패널 글래스 또는 웨이퍼의 사이에서 왕복 운동하며, 중공형 내부를 통해 유동하는 공기를 음이온과 양이온 기체 분자로 배출시키는 이온 발생 수단 및, 상기 구동 수단의 구동력으로 상기 이온 발생 수단을 왕복 운동시키는 왕복 이송 수단을 구비하는 노광 장비용 먼지 제거 장치가 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, the air flows through the hollow inside, reciprocating between the drive means installed on one side of the stage in the exposure equipment, between the stage and the panel glass or wafer to be seated on the stage There is provided a dust removing apparatus for exposure equipment comprising ion generating means for discharging anion into anion and cationic gas molecules, and a reciprocating conveying means for reciprocating the ion generating means with a driving force of the driving means.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 이온 발생 수단에 의해 발생된 양이온 또는 음이온 기체 분자는 상기 스테이지 또는 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면의 대전 상태를 중화시킴으로써, 정전기력에 의해 표면에 유지되었던 먼지 입자가 제거된다.According to one aspect of the invention, the cation or anion gas molecules generated by the ion generating means neutralizes the state of charge of the surface of the stage or panel glass or wafer, thereby removing dust particles held on the surface by electrostatic force. .

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 이온 발생 수단은 중공형 내부 및 다수의 공기 배출 노즐이 형성된 파이프 부재와, 상기 파이프 부재에 설치되어 전류가 인가되는 탐침을 구비한다.According to another feature of the present invention, the ion generating means includes a pipe member having a hollow interior and a plurality of air discharge nozzles, and a probe installed on the pipe member to which a current is applied.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 이온 발생 수단의 중공형 내부로 공기를 가압할 수 있는 펌프가 더 구비된다.According to another feature of the invention, there is further provided a pump capable of pressurizing air into the hollow interior of the ion generating means.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 스테이지와 상기 스테이지의 상부에 안착될 패널 글래스 사이에서 왕복 운동하면서 먼지를 흡입하는 먼지 흡입기를 더 구비한다.According to another feature of the invention, there is further provided a dust inhaler for sucking dust while reciprocating between the stage and the panel glass to be seated on top of the stage.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 먼지 흡입기는 중공형 단면 및 다수의 흡입구를 가지는 파이프 부재 및, 상기 중공형 단면을 통해서 먼지를 흡입하기 위한 진공 펌프를 구비한다.According to another feature of the invention, the dust inhaler includes a pipe member having a hollow cross section and a plurality of suction ports, and a vacuum pump for sucking dust through the hollow cross section.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 이송 수단은, 상기 스테이지의 일측에 회전 가능하게 설치된 풀리 및, 상기 풀리를 따라 주행 가능한 벨트 부재이며, 상기 구동 수단은 상기 풀리들중 하나를 회전시키는 모터이다.According to another feature of the invention, the conveying means is a pulley rotatably installed on one side of the stage, a belt member that can run along the pulley, the driving means is a motor for rotating one of the pulleys.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 이온 발생 수단은 클램프를 통해 상기 벨트 부재에 연결되어 있다.According to another feature of the invention, the ion generating means is connected to the belt member via a clamp.

또한 본 발명에 따르면, 노광 장비의 스테이지와 상기 스테이지에 안착될 패널 글래스 또는 웨이퍼를 소정 간격으로 유지하는 단계, 상기 스테이지와 패널 글래스 또는 웨이퍼 사이에 이온화된 기체 분자를 발생시킬 수 있는 이온 블로워를 통과시킴으로써, 상기 스테이지 및 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면에 형성된 정전기력을 무력화시키는 단계 및, 상기 스테이지와 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면에 부착된 먼지 입자를 흡입하는 단계를 구비한 노광 장비의 먼지 제거 방법이 제공된다.Further, according to the present invention, the step of maintaining the stage of the exposure equipment and the panel glass or wafer to be seated on the stage at a predetermined interval, passing through an ion blower that can generate ionized gas molecules between the stage and the panel glass or wafer Thereby neutralizing the electrostatic forces formed on the surface of the stage and panel glass or wafer, and sucking dust particles adhered to the surface of the stage and panel glass or wafer. .

이하 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment shown in the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 노광 장비용 먼지 제거 장치의 개략적인 사시도이다.3 is a schematic perspective view of a dust removing apparatus for exposure equipment according to the present invention.

도면을 참조하면, 먼지 제거 장치는 노광 장비의 스테이지(31)의 일측에 설치된다. 먼지 제거 장치는 스테이지(31)의 일측에 고정된 프레임(32)과, 상기 프레임(32)의 일측에 설치된 구동 모터(33)와, 상기 구동 모터(33)의 구동력에 의해 직선 왕복 운동할 수 있는 이온 블로워(ion blower,37)를 구비한다. 이온 블로워(37)는 스테이지(31)의 상부에 패널 글래스 또는 웨이퍼(38)가 안착되기 전에 그 사이를 왕복하면서 이온을 발생시킨다. 이온 블로워(37)에 의해 발생된 이온들은 양전기 또는 음전기를 가질 수 있으며, 이러한 이온들은 스테이지(31)의 표면과 패널 글래스 또는 웨이퍼(38)의 표면에 정전기력에 의해 부착된 먼지들과 결합될 수 있다.Referring to the drawings, the dust removing apparatus is installed on one side of the stage 31 of the exposure equipment. The dust removing device can linearly reciprocate by a frame 32 fixed to one side of the stage 31, a drive motor 33 provided on one side of the frame 32, and a drive force of the drive motor 33. With an ion blower 37. The ion blower 37 generates ions while reciprocating therebetween before the panel glass or wafer 38 is seated on top of the stage 31. The ions generated by the ion blower 37 can have a positive or negative charge, which can be combined with dust attached by electrostatic forces to the surface of the stage 31 and the surface of the panel glass or wafer 38. have.

이온 블로워(37)의 일측에는 펌프(39)가 설치되어 있다. 펌프(39)는 중공형 내부를 가진 이온 블로워(37)의 내측으로 공기를 가압 이송시키기 위한 것이다. 도면에 도시되지 아니한 다른 실시예에서 펌프(39)는 별도로 설치될 수 있으며, 튜브(미도시)를 통해 이온 블로워(37)와 연결될 수 있다.One side of the ion blower 37 is provided with a pump 39. The pump 39 is for pressurizing and conveying air to the inside of the ion blower 37 having a hollow interior. In another embodiment, not shown in the figure, the pump 39 may be installed separately and connected to the ion blower 37 through a tube (not shown).

이온 블로워(37)의 일 단부는 클램프(36)에 고정되며, 클램프(36)는 벨트(35)에 고정되어 있다. 벨트(35)는 프레임(32)에 회전 가능하게 설치된 풀리(34)에 설치됨으로써, 구동 모터(33)가 풀리(34)들중 하나를 회전 구동시키면 벨트(35)는 풀리(34)의 둘레를 따라 주행할 수 있다. 따라서 구동 모터(33)의 회전은 이온 블로워(37)를 스페이지(32)의 상부에서 왕복 운동시킬 수 있다.One end of the ion blower 37 is fixed to the clamp 36, and the clamp 36 is fixed to the belt 35. The belt 35 is installed in the pulley 34 rotatably installed in the frame 32, so that when the drive motor 33 drives one of the pulleys 34 to rotate, the belt 35 moves around the pulley 34. You can drive along. Therefore, the rotation of the drive motor 33 can cause the ion blower 37 to reciprocate at the top of the stool 32.

도면에 도시되지 아니한 다른 실시예에서 이온 블로워(37)는 다른 방식에 의해 이송될 수 있다. 예를 들면, 구동 모터(33)의 단부에 피니언 기어를 달고, 클램프(36)를 랙 기어에 고정시켜서, 상기 피니언 기어 및 랙 기어를 상호 맞물리게 유지하는 것이다. 또다른 실시예에서는 리니어 모터 또는 볼 스크류를 이용하여 이온 블로워(37)를 왕복 운동시킬 수 있다.In other embodiments, not shown in the figure, the ion blower 37 may be conveyed by other means. For example, the pinion gear is attached to the end of the drive motor 33, and the clamp 36 is fixed to the rack gear to keep the pinion gear and the rack gear meshed with each other. In another embodiment, the ion blower 37 can be reciprocated using a linear motor or a ball screw.

도 4에 도시된 것은 도 3에 도시된 먼지 제거 장치의 설명을 위한 개략적인 구성도이다.4 is a schematic configuration diagram for explaining the dust removing apparatus illustrated in FIG. 3.

도면을 참조하면, 스테이지(31)와 패널 글래스(38) 사이에는 단면으로 도시된 이온 블로워(37)가 위치하고 있다. 이온 블로워(37)는 패널 글래스 또는 웨이퍼(38)가 스테이지(31)의 상부에 안착되기 전에 그 사이를 왕복하면서 양이온 또는 음이온을 발생시킨다. 이온 블로워(37)는 도면에 도시된 바와 같이 중공형 단면을 가지는 파이프 부재이며, 상부 및 저부에 공기 배출 노즐(41)이 다수개 형성된다. 또한 내측에는 다수의 이온 발생용 탐침(42)이 설치된다.Referring to the figure, an ion blower 37 shown in cross section is located between the stage 31 and the panel glass 38. The ion blower 37 generates cations or anions while reciprocating between the panel glass or wafer 38 before they are seated on top of the stage 31. As shown in the figure, the ion blower 37 is a pipe member having a hollow cross section, and a plurality of air discharge nozzles 41 are formed at the top and the bottom. Also, a plurality of ion generating probes 42 are provided inside.

이온 블로워(37)의 작동시에 탐침(42)에는 도시되지 아니한 회로를 통해 고전압이 인가된다. 고전압이 인가된 탐침의 단부는 국부적인 방전이 발생하게 되고, 이러한 방전 현상은 탐침의 주위에 있는 공기중에 존재하는 전자를 가속화시켜서 중성 상태의 공기 분자와 충돌하게 한다. 이 과정에서 전기적으로 중성인 공기 분자는 양전기를 가진 기체 분자 이온과, 음전기를 가진 전자로 분리되고, 이렇게 분리된 전자는 다시 가속화된다. 가속화된 전자는 다시 인접한 중성의 공기 분자와 충돌하게 되며, 충돌된 공기 분자는 또다른 기체 분자 이온과 전자로 연쇄 분리된다. 이와 같은 과정을 통해 생성되는 기체 분자 이온은 양이온이 되고, 전자가 주위의 중성 기체 분자와 결합하면 음이온이 된다. 즉, 펌프(39)의 가압력에 의해 이온 블로워(37)의 중공형 내부를 통해 유동하는 공기는 양이온과 음이온 기체 분자 상태로 배출 노즐(41)을 통해 배출된다.In operation of the ion blower 37, a high voltage is applied to the probe 42 through a circuit (not shown). At the end of the probe to which a high voltage is applied, a local discharge occurs, and this discharge phenomenon accelerates electrons present in the air around the probe and collides with neutral air molecules. In this process, electrically neutral air molecules are separated into gas-molecule ions with a positive charge and electrons with a negative charge, and the separated electrons are then accelerated again. The accelerated electrons again collide with adjacent neutral air molecules, which are then separated into electrons by another gas molecule ion. The gas molecule ions generated through this process become cations, and when electrons combine with surrounding neutral gas molecules, they become anions. That is, the air flowing through the hollow interior of the ion blower 37 by the pressing force of the pump 39 is discharged through the discharge nozzle 41 in the form of positive and negative gas molecules.

도 4에 도시된 바와 같이, 패널 글래스(38)의 표면은 양전기로 대전되고, 반대로 스테이지(31)의 표면은 음전기로 대전될 수 있다. (물론 이는 예시적인 것이며, 그 반대의 전기로 대전될 수 있다.) 이처럼 대전된 표면은 정전기력에 의해 먼지 입자를 유지하게 되므로, 정전기력을 상쇄시켜주는 수단이 강구되면 먼지 입자가 용이하게 제거될 수 있다. 이온 블로워(37)의 배출 노즐(41)을 통해 배출되는 양이온 또는 음이온 기체 분자는 각각 반대의 극성을 가지는 표면으로 이동하여 해당 표면을 전기적으로 중화시킴으로써, 먼지 입자를 제거할 수 있게 한다.As shown in FIG. 4, the surface of the panel glass 38 is positively charged, while the surface of the stage 31 may be negatively charged. (Of course, this is exemplary and can be charged with the opposite electric charge.) The charged surface thus retains the dust particles by the electrostatic force, so that the dust particles can be easily removed if a means for counteracting the electrostatic force is taken. have. The cation or anion gas molecules discharged through the discharge nozzle 41 of the ion blower 37 move to the surfaces having opposite polarities and electrically neutralize the surfaces, thereby making it possible to remove dust particles.

도 5에 도시된 것은 본 발명에 따른 다른 실시예에 대한 개략적인 사시도이다.Shown in Figure 5 is a schematic perspective view of another embodiment according to the present invention.

도면을 참조하면, 먼지 제거 장치는 노광 장비의 스테이지(51)의 일측에 설치되며, 프레임(52)과, 상기 프레임에 설치된 구동 모터(53)와, 상기 구동 모터(53)의 구동력에 의해 상기 스테이지(51)의 표면 상부를 왕복 이동할 수 있는 이온 블로워(57) 및, 흡입기(59)를 구비한다. 흡입기(59)는 이온 블로워(57)와 평행하게 설치되며, 내부는 중공형으로 형성되고 주변에 먼지를 흡입할 수 있는 흡입공이 형성된 파이프 부재 및, 진공 펌프(62)를 가진다. 이온 블로워(57)의 일측에는 펌프(61)가 설치되고, 흡입기(59)의 일측에는 진공 펌프(62)가 설치된다. 펌프(61)는 위에서 설명한 바와 같이 이온 블로워(57)의 중공형 내부를 통해 공기를 가압 송풍하기 위한 것이며, 반대로 진공 펌프(62)는 주변의 공기와 함께 공기중에 떠있는 먼지를 흡입하기 위한 것이다. 도면에 도시되지는 않았으나 펌프(61)와 진공 펌프(62)가 별도로 설치되고 튜브(미도시)로써 이온 블로워(57) 및 흡입기(59)에 연결될 수 있다.Referring to the drawings, the dust removing apparatus is installed on one side of the stage 51 of the exposure equipment, and the dust is removed by the driving force of the frame 52, the driving motor 53 installed in the frame, and the driving motor 53. An ion blower 57 capable of reciprocating the upper surface of the stage 51 and an inhaler 59 are provided. The inhaler 59 is installed in parallel with the ion blower 57, and has a pipe member formed in a hollow shape and formed with a suction hole for sucking dust around the vacuum pump 62. A pump 61 is installed at one side of the ion blower 57, and a vacuum pump 62 is installed at one side of the inhaler 59. The pump 61 is for pressurizing and blowing air through the hollow interior of the ion blower 57 as described above, while the vacuum pump 62 is for sucking dust floating in the air together with the surrounding air. . Although not shown in the drawings, the pump 61 and the vacuum pump 62 may be separately installed and connected to the ion blower 57 and the inhaler 59 as a tube (not shown).

프레임(52)에는 풀리(55)가 설치되며, 벨트(55)는 풀리(55)에 의해 주행 가능하도록 지지된다. 이온 블로워(57)와 흡입기(59)의 일 단부는 클램프(56)를 통해 벨트(55)에 연결됨으로써, 구동 모터(53)가 풀리(55)들중 하나를 회전 구동시키면 그에 의해 벨트(55)가 왕복 이동할 수 있다.The pulley 55 is installed in the frame 52, and the belt 55 is supported by the pulley 55 to be capable of traveling. One end of the ion blower 57 and the inhaler 59 is connected to the belt 55 via a clamp 56, whereby the drive motor 53 drives the rotation of one of the pulleys 55 thereby causing the belt 55 to rotate. Can reciprocate.

이하, 본 발명에 따른 노광 장비용 먼지 제거 장치의 작동을 설명하기로 한다.Hereinafter, the operation of the dust removing apparatus for exposure equipment according to the present invention will be described.

패널 글래스 또는 웨이퍼(38,58)는 도시되지 아니한 이송 장치에 의해 스테이지(31,51)의 상부로 진입하여 안착하게 된다. 이때 패널 글래스 또는 웨이퍼(38,58)가 스테이지(31,51)에 완전히 안착되기 이전에, 즉, 패널 글래스 또는 웨이퍼(38,58)와 스테이지(31,51) 사이에 소정 간격을 유지하고, 본 발명에 따른 먼지 제거 장치를 작동시킨다. 먼지 제거 장치는 구동 모터(33,53)의 구동력으로 이온 블로워(37,57)와 흡입기(59)를 스테이지의 상부에서 왕복 이송시킴으로써 작동된다. 이온 블로워(37,57)로부터 배출된 양이온 및 음이온은 패널 글래스 또는 웨이퍼(38,58)의 표면 및, 스테이지(31,51)의 표면에 형성된 대전 상태를 전기적으로 중화시킴으로써, 먼지 입자를 끌어당기는 정전기력을 무력화시킨다. 흡입기(59)는 이처럼 정전기력을 잃고 공기중에 떠 다니는 먼지 입자를 흡입한다. 먼지 제거 작업이 종료된 이후에는 이온 블로워(37)를 일측으로 이동시키게 되며, 따라서 패널 글래스 또는 웨이퍼(38,58)가 스테이지(31,51)상에 안착될 수 있다.The panel glass or wafers 38 and 58 enter the upper portion of the stages 31 and 51 by a transfer device (not shown) and are seated thereon. At this time, before the panel glass or wafers 38 and 58 are completely seated on the stages 31 and 51, that is, a predetermined distance is maintained between the panel glass or wafers 38 and 58 and the stages 31 and 51, Operate the dust removal device according to the invention. The dust removing device is operated by reciprocating the ion blowers 37 and 57 and the inhaler 59 at the top of the stage with the driving force of the drive motors 33 and 53. The positive and negative ions discharged from the ion blowers 37 and 57 electrically neutralize the surfaces of the panel glass or wafers 38 and 58 and the charged state formed on the surfaces of the stages 31 and 51, thereby attracting dust particles. Neutralizes electrostatic forces. The inhaler 59 thus loses electrostatic force and sucks dust particles floating in the air. After the dust removal operation is completed, the ion blower 37 is moved to one side, and thus, the panel glass or the wafers 38 and 58 may be seated on the stages 31 and 51.

본 발명에 따른 노광 장비용 먼지 제거 장치는 패널 글래스나 웨이퍼의 표면에 정전기력에 의해 부착된 먼지를 효과적으로 제거할 수 있다는 장점을 가진다. 노광 장비는 효과적인 먼지 제거에 의해 자동 포커싱 작업에서의 에러를 감소시킬 수 있으며, 따라서 노광 작업이 초점 심도내에서 이루어지므로 정밀성과 신뢰성이 향상될 수 있다.Dust removal apparatus for exposure equipment according to the present invention has the advantage that can effectively remove the dust adhered to the surface of the panel glass or the wafer by the electrostatic force. The exposure equipment can reduce errors in the automatic focusing operation by effective dust removal, and thus the precision and reliability can be improved because the exposure operation is performed within the depth of focus.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예지적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, this is only illustrative, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (9)

노광 장비에 스테이지의 일측에 설치된 구동 수단,Drive means provided on one side of the stage in the exposure equipment, 상기 스테이지와 상기 스테이지에 안착될 패널 글래스 또는 웨이퍼의 사이에서 왕복 운동하며, 중공형 내부를 통해 유동하는 공기를 음이온과 양이온 기체 분자로 배출시키는 이온 발생 수단 및,Ion generating means for reciprocating between the stage and the panel glass or wafer to be seated on the stage, and discharging air flowing through the hollow interior to anions and cationic gas molecules; 상기 구동 수단의 구동력으로 상기 이온 발생 수단을 왕복 운동시키는 왕복 이송 수단을 구비하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.And a reciprocating conveying means for reciprocating the ion generating means with a driving force of the driving means. 제1항에 있어서, 상기 이온 발생 수단에 의해 발생된 양이온 또는 음이온 기체 분자는 상기 스테이지 또는 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면의 대전 상태를 중화시킴으로써, 정전기력에 의해 표면에 유지되었던 먼지 입자를 제거 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.The method of claim 1, wherein the cation or anion gas molecules generated by the ion generating means neutralize the state of charge of the surface of the stage or panel glass or wafer, thereby making it possible to remove dust particles held on the surface by electrostatic force. Dust removal apparatus for exposure equipment characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 중공형 내부 및 다수의 공기 배출 노즐이 형성된 파이프 부재와, 상기 파이프 부재에 설치되어 전류가 인가되는 탐침을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.The dust removing apparatus of claim 1, wherein the ion generating unit comprises a pipe member having a hollow interior and a plurality of air discharge nozzles, and a probe installed on the pipe member to apply a current. . 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 이온 발생 수단의 중공형 내부로 공기를 가압할 수 있는 펌프가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.The dust removing apparatus for exposure equipment according to claim 1 or 3, further comprising a pump capable of pressurizing air into the hollow interior of said ion generating means. 제1항에 있어서, 상기 스테이지와 상기 스테이지의 상부에 안착될 패널 글래스 사이에서 왕복 운동하면서 먼지를 흡입하는 먼지 흡입기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.The dust removing apparatus of claim 1, further comprising a dust inhaler that sucks dust while reciprocating between the stage and a panel glass to be mounted on an upper portion of the stage. 제5항에 있어서, 상기 먼지 흡입기는 중공형 단면 및 다수의 흡입구를 가지는 파이프 부재 및, 상기 중공형 단면을 통해서 먼지를 흡입하기 위한 진공 펌프를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.6. The dust removing apparatus for exposure equipment according to claim 5, wherein the dust inhaler includes a pipe member having a hollow cross section and a plurality of suction ports, and a vacuum pump for sucking dust through the hollow cross section. 제1항에 있어서, 상기 이송 수단은, 상기 스테이지의 일측에 회전 가능하게 설치된 풀리 및, 상기 풀리를 따라 주행 가능한 벨트 부재이며, 상기 구동 수단은 상기 풀리들중 하나를 회전시키는 모터인 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.The method of claim 1, wherein the conveying means is a pulley rotatably installed on one side of the stage, a belt member that can run along the pulley, and the driving means is a motor for rotating one of the pulleys. Dust removal apparatus for exposure equipment to do. 제7항에 있어서, 상기 이온 발생 수단은 클램프를 통해 상기 벨트 부재에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 먼지 제거 장치.8. The dust removing apparatus for exposure equipment according to claim 7, wherein the ion generating means is connected to the belt member through a clamp. 노광 장비의 스테이지와 상기 스테이지에 안착될 패널 글래스 또는 웨이퍼를 소정 간격으로 유지하는 단계,Maintaining the stage of the exposure equipment and the panel glass or wafer to be seated on the stage at predetermined intervals, 상기 스테이지와 패널 글래스 또는 웨이퍼 사이에 이온화된 기체 분자를 발생시킬 수 있는 이온 블로워를 통과시킴으로써, 상기 스테이지 및 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면에 형성된 정전기력을 무력화시키는 단계 및,Neutralizing the electrostatic forces formed on the surface of the stage and panel glass or wafer by passing an ion blower capable of generating ionized gas molecules between the stage and the panel glass or wafer; 상기 스테이지와 패널 글래스 또는 웨이퍼의 표면에 부착된 먼지 입자를 흡입하는 단계를 구비한 노광 장비의 먼지 제거 방법.And sucking the dust particles attached to the surface of the stage and the panel glass or wafer.
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