KR100255912B1 - 유해물 제거장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함되는 유해물이 케이싱 내에 충전된 유해물 처리재 전체와 극력효과적으로 접촉하도록 구성함으로써, 이 유해물처리재의 이용율을 높이고, 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 유해물제거장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리 상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판을 설치한 것을 특징으로 한다.

Description

유해물 제거장치

제1도는 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치의 단면도.

제2도는 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치의 지지판의 확대단면도.

제3도는 본 발명의 다른 실시예에 관한 유해물 제거장치의 단면도.

제4도는 본 발명 및 종래예가 적용되는 유해물 제거시스템의 구성도.

제5도는 종래예의 단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

4 : 유해물 제거장치 41 : 케이싱

42 : 유해물 처리제 43 : 입구

44 : 출구 46 : 지지판

47 : 유공판 48 : 발

49 : 입구방해판 50,51 : 주위방해판

[산업상의 이용분야]

본 발명은 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함되는 유해물을 효과적으로 제거하는 유해물 제거장치에 관한 것이다.

[종래의 기술]

근래, 컴퓨터 및 이를 응용하는 전자제어장치는 눈을 크게 뜨게될 정도로 발달되고, 그 발전의 방향 및 범위는 무한히 퍼지는 것으로 생각한다.

이 때문에 컴퓨터에 사용되는 전자부품으로써 주요한 지위를 차지하는 반도체전자소자의 제조기술 및 그 생산량도 현저히 급속하게 성장하고 있다.

이들 반도체소자의 원료로 되는 반도체로서는 게르마늄(Ge), 실리콘(Si)이 많이 쓰이고, 또 특수한 소자에는 갈륨 비소(GaAs), 갈륨인(GaP) 등도 실용되고 있다.

반도체소자 제조공정은 예를 들면 반도체의 원기둥을 형성하는 반도체기둥형성공정, 이를 슬라이스하여 반도체 웨이퍼를 형성하는 웨이퍼 형성공정, 이 반도체 웨이퍼에 마스킹, 박막형성, 도우핑, 에칭 등을 반복함으로써 다수의 소자를 형성하는 소자형성공정, 소자가 형성된 반도체웨이퍼를 각 소자에 분단되는 재단공정등으로 이루어진다.

이와 같은 반도체 제조공정에 있어서는, 예를 들면 0.01∼50μm정도의 매우 미세한 미립자 분진이 발생하는 것이 알려져 있고, 또 이 미립자분진은 그 자체가 공해방지의 관점에서 방산하는 것이 금지되는 유해물이거나, 이를 함유하는 기체가 유해물이거나, 분위기 중의 유해물을 흡착하거나 수착하거나 하는 것이 알려져 있다.

반도체 제조공정에 있어서 사용되고, 또는 생성되는 유해물로서는 이하에 예시하는 실리콘계, 비소계, 인계, 붕소계, 금속수소계, 플루오르계, 할로겐, 할로겐화물, 질소산화물, 기타의 것이 있다.

실리콘계 유해가스로서는 모노-실란(SiH₄), 디클로로실란(SiHCl₂), 3염화규소(SiHCl₃), 4 염화규소(SiCl₄), 4플루오르화수소(SiF₄), 디실란(Si₂H₆), TEOS(Si(OC₂H₅)₄) 등이 대표적이다.

비소계 유해가스로서는 아르신(AsH₃), 플루오르화비소(Ⅲ)(AsF₃), 플루오르화비소(Ⅴ)(AsF₅), 염화비소(III)( AsCl₃), 염화비소(Ⅴ)(AsCl₅) 등이 대표적이고, 인계유해가스로서는 포스핀(PH₃), 플루오르화인(Ⅲ)(PF₃), 플루오르화인(Ⅴ)(PF₅), 염화인(Ⅲ)(PCl₃), 염화인(Ⅴ)(PCl₅), 옥시염화인(POCl₃) 등이 대표적이다.

붕소계 유해가스로서는 디보론(B₂H₆), 3플루오르화붕소(BF₃). 3염화붕소(BCl₃), 3 브롬화붕소(BBr₃) 등이 대표적이고, 또 금속수소계 유해가스로서는, 세렌화수소(H₂Se), 모노게르만(GeH₄), 테르르화수소(H₂Te), 스티빈(SbH₃), 수소화주석(SnH₄) 등이 대표적이고, 플루오르화계 유해가스로서는 4플루오르화메탄(CF₄), 3플루오르화메탄(CHF₃), 2플루오르화메탄(CH₂F₂), 6플루오르화프로판(C₃H₂F₆), 8플루오르화프로판(C₃F₈)등이 그 예로서 들 수 있다.

유해가스인 할로겐 및 할로겐화물로서는 플루오르(Fa), 플루오르화수소(HF), 염소(Cl₂), 염화수소(HCl), 4염화탄소(CCl₄), 브롬화수소(HBr), 3플루오르화질소(NF₃), 4플루오르화유황(SF₄), 6플루오르화유황(SF₆), 6플루오르화텅스텐(Ⅵ)(WF₆), 6플루오르화몰리브덴(Ⅵ)(MoF₆), 4염화게르마늄(GeCl₄), 4염화주석(SnCl₄), 5염화안티몬(Ⅴ)(SbCl₅), 6염화텅스텐(Ⅵ)(WCl₆), 6염화몰리브덴(MoCl₆) 등이 대표적이다.

유해가스인 질소산화물로서는 일산화질소(NO), 2산화질소(NO₂), 일산화 2질소(N₂O)등을 들 수 있고, 기타의 유해가스로서는 황화수소(H₂S), 암모니아(NH₃), 트리메틸아민(CH₃)₃N 등을 그 예로서 들 수 있다.

이외에도 인화성이 있는 에탄(C₂H₆), 프로판(C₃H₈) 이나, 질소(N₂), 산소(O₂), 아르곤(Ar), 이산화탄소(CO₂) 등이 포함된 분위기 중에서 미립자분진이 생성되는 것이 알려져 있다.

공해방지의 정신이 철저해지는 오늘날에는 이들 유해성분이나, 분진을 포함한 배기가스를 그대로 대기 중에 방출하는 것을 허락하지 않고, 제4도에 도시하는 바와 같이 배기가스발생원(1)에서 펌프(2)로 배기가스를 꺼내고, 집진장치(3)에 의하여 배기가스 중에서 분진을 제거하고, 더욱 유해성분제거장치(4)에 의하여 산화, 환원, 수착, 흡착 등의 처리를 실시하여 안전하고 청정한 가스로서 방출하는 것이 요구되고 있다.

상기 집진장치로서는 사이클론, 스크러버, 벤투리 스크러버, 백필터, 전기집진기, 루버, 침강실 등 공지의 집진장치를 사용하여도 좋지만, 이들보다도 집진 가능한 입자경이 미세하고, 집진 능력이 높고, 게다가 부설면적이 작은 본 출원인의 선원(일본국 특원평5-113927호)에 관한 미립자 분진처리장치를 사용하는 것이 바람직하다.

상기 유해물 제거장치는 제5도에 도시하는 바와 같이 원통상의 케이싱(101) 내에 유해물처리재(102)를 충전한 것이 사용되고 있다.

이 케이싱(101)은 하단에 입구(103)를 갖고, 상단에 출구(104)를 가짐과 동시에 내주의 하부에 고정된 유지틀(105)을 구비하고 있다.

그리고, 이 유지틀(105)에 유공판으로 이루어지는 지지판(106)을 설치하고, 이 지지판(106)에 유해물처리재(102)를 지지시키고 있다.

유해물처리재(102)는 예를 들면 입경 5~18mm정도의 입상 내지 덩어리상으로 형성된 기재와, 이에 담지되는 유해물 처리재로 이루어지고, 기재는 예를 들면 활성탄 세라믹스, 합성수지 등으로 이루어지고, 유해물 처리재로서는 백금촉매, 알칼리 금속실리케이트, 인산금속염 등이 많이 사용된다.

[발명이 해결하려고 하는 과제]

이 종래의 유해물 제거장치에 있어서는 유해성분을 포함하는 배기가스가 케이싱(101)의 입구(103)로부터 곧바로 출구(104)로 향하는 범위에서(제5도에 피치의 미세한 해칭으로 도시하는 범위) 유로(108)를 형성하면서 흐르기 쉽지만, 유로 형성범위가 좁기 때문에 효율이 나쁘고, 게다가 그 유로(108)의 주위의 유해물처리재(102)의 처리능력이 거의 발휘되지 못한 채 단시간 내에 유해물 제거능력이 저하하여 파괴하여 버리고 수명이 짧아지는 결점이 있다.

또, 종래의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱(101)의 하단에 입구(103)를 설치하고, 상단에 출구(104)를 설치하고, 대기압의 작용으로 배기가스가 유로(108)을 빠져나가는 것을 억제하고, 케이싱(101) 내에서 유로(108) 외의 유해물처리재(102)에도 배기가스를 접촉시키려 하지만, 배기가스에는 펌프(2)의 압력이 작용하고 있으므로 효과를 높이는데 있어서는 거의 영향이 없다.

더욱 종래의 유해물 제거장치에서는 유해물 처리재를 지지하는 지지판(106)이 유공판이므로, 비개구부분에 대응하는 부분에는 전혀 배기가스가 유입하는 일이 없고, 또 개구부분을 입상 내지 덩어리상의 처리재가 맞닿아서 막는 결과, 유해물 처리재의 이용 효율이 낮아지고, 효율을 높이는 점에서 불리함과 동시에 파괴시간을 길게하여 수명을 길게하는 점에서 불리하게 된다.

본 발명은 상기의 기술적 과제에 비추어 이루어진 것이고, 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함된 유해물이 케이싱 내에 충전된 유해물 처리재 전체가 극력 효과적으로 접촉하도록 구성함으로써, 이 유해물 처리재의 이용율을 높이는 점, 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 유해물 제거장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

[과제를 해결하기 위한 수단]

본 발명의 유해물 제거장치는 상기 목적을 달성하기 위하여 이하에 설명하는 기술적 수단을 강구한 것이다.

즉, 본 발명의 제1의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과 이 케이싱 내에 충전되고, 동시에 유해물을 흡착 내지 분쇄하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부재로 돌출하는 주위방해판을 설치한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제2의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에, 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제3의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제4의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지관이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이것의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제5의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제6의 유해물 제거장치는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한 끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한 끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명을 명확히 하기 위하여 더욱 상세히 설명한다.

본 발명의 유해물 제거장치의 입구는 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 유해물 발생원이 접속된다.

이 유해물 발생원은 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 것이면 특히 한정되지 않고 예를 들면 반도체 제조공정중의 반도체 기둥형성공정에 있어서 사용되는 기상 성장처리실, 플라스마 기상성장처리실, 소자형성공정 중에 있어서, 사용되는 박막형성처리실, 도우핑처리실, 에칭처리실, 플라스마 에칭처리실, 각 공정 중 또는 각 공정간의 세정공정에서 사용되는 세정처리실 등을 그 전형예로서 들 수 있다.

본 발명의 유해물 제거장치의 입구는 직접 이들 유해물 발생원에 접속하여도 좋지만 유해물 발행원이 동시에 먼지를 발생하는 경우에는 먼지에 의한 눈막힘이나, 유해물이 부착한 먼지가 유해물 제거장치를 통과하는 것을 방지하기 때문에 집진장치를 사이에 두고 유해물 발생원에 접속하는 것이 바람직하다.

이 집진장치에 대하여는 본 발명이 직접문제로 하는 바는 아니므로 그 상세한 설명을 생략한다.

본 발명의 유해물 제거장치의 출구는 직접으로 대기 중에 연통시켜도 좋고, 또 별도의 유해물 제거장치와 소음기를 사이에 두고 연통시켜도 상관없다.

상기 케이싱의 현상은 통형이면 좋고, 예를 들면 4각, 6각, 8각의 다각형 통형도 좋고, 또 타원통형도 좋지만, 유해물 처리재의 열화가 될 수 있는 대로 균등하게 진행하게 하기 위하여 축심을 중심으로 전 방향으로 균등한 원통형으로 형성하는 것이 바람직하고, 또 입구 및 출구가 케이싱과 동축 상으로 설치되는 것이 바람직하다.

상기 케이싱의 소재는 특히 한정되지 않지만, 기밀성, 내약품성, 내산성, 내알칼리성, 내후성 및 충분한 기계적 강도를 구비하는 것이 바람직하고, 예를 들면 섬유강화합성섬유, 고무라이닝 등의 내식처리를 실시한 철, 스테인리스강을 포함하는 강등의 금속 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서는 내외의 청소 등의 처리가 용이 내지 불요한 것이 보다 바람직하고 예를 들면 스테인리스강이 많이 사용된다.

상기 유해물 처리재는 종래부터 사용하고 있는 것으로 충분하고, 예를 들면 입상에서 덩어리상의 기재에 처리제를 담지시킨 것이 사용된다.

기재로서는 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖지 않는 것을 사용하여도 좋지만, 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 것을 사용하는 것이 처리능력을 높이는 점에서 바람직하다. 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 기재로서는 예를 들면 활성탄, 세라믹스, 제올라이트, 알루미나, 산성백토 등을 들 수 있다.

또 기재로서 후술하는 처리제를 입상 내지 덩어리상으로 형성한 것을 사용하여도 좋다.

처리제로서는 인산알루미늄 등의 금속인산염, 알루미노규산염, 알칼리 금속실리케이트, 백금촉매 등이 많이 사용된다.

또 다른 처리제로서는 이하의 것을 그 예로서 들 수 있다.

즉, Na₂O, K₂O, CaO, MgO, CuO, Ag₂O, 알루미나, 산화지르코늄 등의 주기율표의 Ⅰ족, Ⅱ족, Ⅲ족 또는 Ⅳ족의 산화물, 또는 이들 산화물을 포함하는 화합물로서, (Mc₁)x(Mc₂)y(O)z로 표시되는 것 등이 사용된다.

다만, 상기 Mc₁은 Ⅰ족, Ⅱ족 또는 Ⅲ족의 원소이고, 상기 Mc₂는 알루미늄(An) 등의 Ⅲ족 탄소(C), 규소(Si), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr) 등의 Ⅳ족, 인(P), 바나듐(V) 등의 Ⅴ족 원소이고, O는 산소이고, x, y, z는 각각 정수이다.

본 발명의 제1의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱의 입구와 유해물 처리재가 충전되는 처리재의 충전부와의 사이에 적당한 간격이 설치되고 이 입구와 처리재의 충전부와의 사이에서 이들로부터 각각 적당한 거리를 두고 배치되는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 충돌한 주위 방해판을 설치하여 이룬다.

이 입구 방해판은 케이싱의 입구를 내측에서 덮는 것이 필요하지만 꼭 입구를 전면적으로 덮을 필요는 없고, 입구로부터 유입하는 배기가스의 흐름을 케이싱내의 중심에서 분산할 수 있는 크기로 형성되어 있으면 충분하다.

또, 입구 방해판의 형상은 특히 한정되지 않고 입구측에서 보아 망성형, 다각형 또는 타원형으로 형성하여도 좋고, 배기가스를 균등하게 분산시키기 위하여 입구와 동심의원형으로 형성하는 것이 바람직하다.

더욱 입구 방해판은 예를 들면 원뿔형, 국좌판 등의 입체적인 판이라도 좋지만 형상을 간단히 하여 코스트를 저감시킬 수 있는 평판상으로 형성하는 것이 바람직하다.

이와 같이 입구 방해판은 케이싱의 입구를 내측에서 덮으므로 유해물을 포함하는 배기가스가 처리재의 충전부상의 전체에 퍼지고, 처리재의 충전부의 특정한 곳만을 통과하는 것이 방지되고, 유해물의 제거효율이 양호하게 되는 것이다.

또, 케이싱의 내주면이 평활하기 때문에 처리재의 형상에 따라서는 처리재의 충전부내에서 유해물 처리재 사이에 형성되는 유로보다도 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이에 유동저항이 작은 유로가 형성되어 이 유동저항이 작은 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이의 유로에 배기가스가 흐르고 이로서 처리효율이 저하함과 동시에 처리재의 충전부의 주위부가 단시간 내에 파괴되기 쉬운 경우가 있다.

여기서 본 발명의 제1의 유해물 제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판이 설치되어 있다.

이 경우, 이 주위방해판은 배기가스의 이동이 처리재의 내측으로 향하도록 그 기단에서 선단을 향하여 비스듬히 설치하는 것이 바람직하다.

또, 유해물 처리재를 지지하는 지지판의 유공판이면, 비개구부분에 대응하는 부분에는 전혀 배기가스가 유입하는 일 없이 또 개구부분을 입상 내지 덩어리상의 처리재가 직접 맞닿아서 막는 결과, 유해물 처리재의 이용효율이 낮아지고, 효율을 높이는 점에는 불리하게 됨과 동시에 파괴시간을 길게 하여 수명을 길게하는 점에서도 불리하게 된다.

여기서, 본 발명의 제2의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에 가장 큰 특징을 갖는다.

이와 같이 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠오른 상태로 지지되므로 처리재의 충전부 내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈 사이에 개구하여 집합되고(유로 집합효과), 배출가스의 처리재의 충전부로의 유입이나 배기가스의 처리재의 충전부로터의 유출이 부분적으로 막혀지는 일이 없이 이로서 처리재의 충전재의 충전부 전체에 걸쳐서 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있다.

또 이 발의 높이는 유해물 처리재를 유공판에서 떼서 지지하도록 설정할 필요가 있고, 발의 높이가 3∼30mm, 특히 5∼15mm인 것이 바람직하다.

이 발의 높이가 3mm미만으로 하회하면 발의 눈을 작게 할 필요가 있고, 유로저항이 증가할 염려가 있으므로 바람직하지 않고, 한편 발의 높이가 30mm를 초과할 때에는 발에 의한 유로 집합효과가 한계에 도달하여 그 이상 높여질 수 없는데 비하여 발의 재료비가 높아지므로 바람직하지 않다.

그런데 본 발명의 제3의 유해물 제거장치에 있어서 특히 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치한 점에서 가장 큰 특징을 갖는다.

즉, 이것은 입구 방해판과, 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판의 유공판과 이것의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 또 이로서, 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 것이다. 여기서 입구 방해판 및 지지판으로서는 상술의 것을 들 수 있다.

또, 본 발명의 제4의 유해물 제거장치에 있어서는 특히 유해물의 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에서 가장 큰 특징을 갖는다.

즉, 이것은 주위 방해판과 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지는 것으로 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 높임과 동시에 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 한층 실현할 수 있는 것이다.

여기서 주위 방해판 및 지지판으로서 상술의 것을 들 수 있다.

본 발명의 제5의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에서 특징을 갖는다.

즉, 이것은 입구 방해판과 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것으로 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 한층 더 높여주는 것임과 동시에 이로서 한층 더 높은 처리능력과 한층 더 긴 수명을 실현할 수 있는 것이다.

여기서, 입구방해판, 주위방해판 및 지지판으로서는 상술한 것을 들 수 있다.

본 발명의 제6의 유해물 제거장치는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구를 설치하고 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루고, 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여, 더욱 그 설치공간을 작게하거나, 상기 각 유해물 제거장치의 부착이 더 없이 용이하게되는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 구성을 갖고, 입구 방해판과, 처리재 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판을 가짐으로서 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재와 배기가스와의 접촉이 더 없이 유효하게 행해지는 작용을 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖으면 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠오른 상태에 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈의 사이에 개구하여 집합되어(유로집합효과), 배기가스의 처리재의 충전부로의 유입이나, 배기가스의 처리재의 충전부로부터의 유출이 부분적으로 막히는 일없이 처리재의 충전부 전체에 걸쳐 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있는 작용을 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.

또, 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 유해물 처리재의 충전부에는 그의 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상면으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지므로 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.

또, 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구방해판과 상기 처리충전부에는 그의 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐으로써 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재의 접촉이 특히 양호하게되어 유해물을 한층 더 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는, 상기 각 유해물 제거장치에서 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 가짐에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어지므로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 작용에 더하여 더욱이 그 설치공간을 작게 하거나, 상기 각 유해물 제거장치의 부착이 더 없이 용이하게 되는 작용을 갖는 것이다.

[실시예]

이하, 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치를 도면에 의거하여 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.

제1도 및 제2도에 있어서, 이 유해물 제거장치는 케이싱(41)내에 유해물 처리재(42)를 충전한 것이고, 이 케이싱(41)은 상단에 입구(43)를 가짐과 동시에 하단에 출구(44)를 갖고, 상기 입구(43)는 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 유해물 발생원에 접속된다.

이 유해물 발생원은 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 것이면 특히 한정되지 않고, 예를 들면 반도체 제조공정 중의 반도체기둥형성 공정에 있어서 사용되는 기상성장처리실, 플라스마 기상성장처리실, 소자형성공정 중에 있어서 사용되는 박막형성처리실, 도핑처리실, 에칭처리실, 플라스마에칭처리실, 각 공정 또는 각 공정간의 세정공정에 사용되는 세정처리실 등을 그 전형예로서 들 수 있다.

상기 입구(43)는 직접으로 이들 유해물 발생원에 접촉하여도 좋지만, 유해물 발생원이 동시에 먼지를 발생하는 경우에는 먼지에 의한 눈막힘이나, 유해물이 부착한 먼지가 유해물 제거장치를 통과하는 것을 방지하는 것이 바람직하다.

따라서 이 유해물 제거장치(4)의 입구(43)는 예를 들면 제4도에 도시하는 바와 같이 집진장치(3)와 펌프(2)를 통하여 유해물 발생원(1)에 접속된다.

또, 이 유해물 제거장치(4)의 출구(44)는 별도의 유해물 제거장치를 통하여 대기 중에 연통시켜도 좋지만, 이 실시예서는 1단의 유해물 제거장치(4)에 의하여 충분히 유해물 제거 효과를 얻을 수 있으므로 직접 대기 중에 연통되어 있다.

상기 케이싱(41)의 형상은 통형이면 좋고 예를 들면 4각, 6각, 8각 등의 다각형 통형, 타원통형 등도 좋지만, 여기서는 유해물처리재(42)의 열화가 될 수 있는 데로 균등히 진행하도록 하기 위하여 축심을 중심으로 전방향으로 균등인 원통형으로 형성하고, 입구(43)및 출구(44)를 케이싱(41)과 동축심상으로 설치하고 있다.

상기 케이싱(41)의 소재는 특히 한정되지 않지만, 기밀성, 내약품성, 내산성, 내알칼리성, 내후성 및 충분한 기계적 강도를 구비하는 것이 바람직하고, 예를 들면 섬유강화합성수지, 내면에 고무라이닝 등의 내식처리를 실시한 철, 스테인리스강을 포함하는 강등의 금속 등을 사용할 수가 있다. 이 실시예에서는 이들 중에서 내외의 청소 등의 처리가 용이 내지 불요인 스테인리스강을 사용하여 케이싱(41)을 형성하고 있다.

이 케이싱(41)의 내주면의 하부에는 케이싱의 보강을 겸하는 지지틀(45)이 고정되고, 지지틀(45)에 지지판(46)의 둘레가장자리부가 지지된다.

이 지지판(46)은, 제2도의 확대단면도에 도시하는 바와 같이 유공판(47)과 그 상면에 고정된 발(48)로 이루어진다.

이 발(48)은 유해물처리재(42)를 유공판(47)으로부터 떼어 지지할 수 있도록 형성할 필요가 있고, 따라서 그 눈의 크기는 유해물 처리재의 입도보다도 작고, 이 경우, 특히 1∼12mm 정도로 설정된다. 또 발(48)은 평면에서 격자상이라도 좋지만 이 실시예에서는 구성을 간단히 하여 코스트다운을 도모하기 위하여 줄무늬 상으로 형성하고 있다.

또 발(48)의 높이도 유해물처리재(42)를 유공판(47)으로부터 떼어 지지할 수 있도록 설정할 필요가 있고, 3∼30mm 정도로 하는 것이 바람직하다.

발(48)의 높이가 3mm 미만으로 하회할 때에는 발(48)의 눈을 작게 할 필요가 있고, 유로저항이 현저히 증가함으로 바람직하지 않고, 한편 발(48)의 높이가 30mm를 초과할 때에는 발(48)에 의한 유로 집합효과가 한계에 도달하여 그 이상 높여지는 일이 없는데 더하여 발(48)의 재료비가 높아지므로 바람직하지 않다.

상기 유해물처리재(42)는 종래부터 사용하고 있는 것으로 충분하고, 예를 들면 입상 내지 덩어리상의 기재에 처리제를 담지시킨 것이 사용된다.

기재로서는 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖지 않는 것을 사용하여도 좋지만, 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 것을 사용하는 것이 처리능력을 높여주는 점에서 바람직하다.

유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 기재로서는 예를 들면 활성탄, 세라믹스, 제올라이트, 알루미나, 산성백토 등을 들 수 있다.

또 기재로서, 후술하는 처리제를 입상 내지 덩어리 상으로 형성한 것을 사용하여도 좋다.

처리제로서는 인산 알루미늄 등의 금속인산염, 알칼리금속 실리케이트, 알루미노 규산염, 백금촉매 등이 많이 사용된다.

또, 다른 처리제로서는 이하의 것을 그 예로서 들 수 있다.

즉, Na₂O, K₂O, CaO, MgO, CuO, Ag₂O, 알루미나, 산화지르코늄 등의 주기율표의 Ⅰ족, Ⅱ족, Ⅲ족 또는 Ⅳ족의 산화물, 또는 이들 산화물을 포함하는 화합물로서, (Mc₁)x(Mc₂)y(O)z로 표시되는 것 등이 사용된다.

다만, 상기 Mc₁은 Ⅰ족, Ⅱ족 또는 Ⅲ족이고, 상기 Mc₂는 알루미늄(Al) 등의 Ⅲ족 탄소(C), 규소(Si), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr)등의 Ⅳ족, 인(P), 바나듐(V) 등의 Ⅴ족 원소이고, O는 산소이고, x,y,z는 각각 정수이다.

이 유해물 제거장치(4)에 있어서는 그 케이싱(41)의 입구(43)와 유해물처리재(42)가 충전되는 처리재의 충전부(해칭으로 도시)와의 사이에는 적당한 간격이 설치되어 이 입구(41)와 처리재의 충전부와의 사이에서 이들로부터 각각 적당한 거리를 두고 입구방해판(49)이 설치됨과 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 충전부 또는 하부 중 적어도 상부에 이 실시예에서는 상부와 상하중간부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판(50,51)이 설치되어 있다.

이 입구방해판(49)은 케이싱(41)의 입구(43)를 내측에서 덮는 것이 필요하고, 반드시 입구(43)를 전면적으로 덮을 것은 필요하지 않지만, 이 실시예에서는 입구(43)보다도 대직경으로 형성하여 확실히 입구(43)로부터 유입하는 배기가스의 흐름을 케이싱(41)내의 중심에서 방사방향으로 분산할 수 있도록 하고 있다.

또, 입구방해판(49)의 형상은 특히 한정되는 것은 아니고, 입구(43)측에서 볼 때, 망성형, 다각형 또는 타원형으로 형성하여도 좋지만, 이 실시예에서는 배기가스를 균등히 분산시키기 위하여 입구(43)와 동심의 원형으로 형성하고 있다.

더욱, 입구방해판(49)은 예를 들면 원뿔형, 국좌판 등의 입체적인 판이라도 좋지만, 이 실시예에서는 형상을 간단히 하여 코스트를 저감할 수 있는 평판상으로 형성하고 있다.

그런데 이 입구방해판(49)을 설치함으로써, 입구(43)로부터 유입하는 배기가스는 주위 방향으로 분산되지만, 케이싱(41)의 내주면이 평활하기 때문에 처리재의 중간부 내에서 유해물 처리재 사이에 형성되는 유로보다는 케이싱(41) 내주면과 유해물 처리재와의 사이에 유동저항이 작은 유로가 형성되고, 이 유동저항이 작은 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이의 유로에 배기가스가 흘러 이로서 처리효율이 저하함과 동시에 처리재 충전부의 주위부가 단시간 내에 파괴되기 쉬워질 염려가 있다.

여기서 상기 케이싱(41)내의 처리재의 충전부의 상부에 케이싱(41)의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판(50)을 설치하고 케이싱(41)의 내주면에 따르는 배기가스의 흐름이 처리재의 충전부내에 안내되도록 하고 있다.

이 경우, 이 주위방해판(50)은 제1도에 도시하는 바와 같이 기단에서 선단으로 향하여 비스듬히 하향하고 즉, 배기가스의 이용이 처리재의 내측으로 향하도록 설치하는 것이 바람직하고, 특히 제1도에 있어서, α가 15∼80도, 특히 30∼60도의 범위로 하는 것이 바람직하고, 이 실시예에서는 45도로 형성되어 있다.

이 α가, 15도 미만에서는 그 효과가 부족하고 의미가 없는 것이고, 한편 80도를 초과하면 배기가스의 유통을 저해할 염려가 있으므로 바람직하지 않다.

또, 처리재의 충전부의 중간부에 케이싱(41)의 내주면에 고정되는 보강되므로 이루어지는 주위방해판(51)을 설치하고, 그 주위방해판(51)에도 상부의 주위방해판(50)과 꼭 같은 역할을 부여하고 있다.

이 유해물 제거장치에서는 입구(43)로부터 흘러들어가는 배기가스의 흐름이 입구방해판(49)에 맞닿아 케이싱(41)내에서 방사방향으로 넓혀진다.

또, 입구방해판(49)과 처리재의 충전부와의 사이에 적당한 간격이 설치되어 있으므로 방사방향으로 넓혀진 배기가스의 흐름의 일부분이 입구방해판(49)의 뒤쪽으로 흘러 들어가, 처리재의 충전부의 끝면전체에 걸쳐서 균등하게 배기가스가 흘러 들어간다.

이로서 유해물 처리재(42)의 전체에 걸쳐서 균등히 배기가스를 접촉시킬 수 있으므로 처리효율이 높여짐과 동시에 부분적인 유해물 처리재(42)의 열화를 방지하여 파괴시간을 연장할 수 있으므로 수명을 길게 할 수 있다.

또, 유해물 처리재의 충전층의 출구측에 있어서, 처리재의 충전부가 발(48)에 의하여 유공판(47)에서 떠오른 상태에서 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판(47)의 개구부에 의하여 막히지 않고 발(48)의 눈 사이에 개구하여 집합되고, 배기가스가 처리재의 충전부내에서 부분적으로 막히는 일없이 처리재의 충전부전체에 걸쳐서 평균적으로 흐른다.

이로서 유해물 처리재(42)의 전체에 걸쳐서 균등한 배기가스를 접촉시킬 수 있으므로 처리효율이 높여짐과 동시에 부분적인 유해물처리재(42)의 열화를 방지하여 파과시간을 한층 더 연장할 수 있으므로 한층 더 수명을 길게 할 수 있다.

그리고, 이들의 상승작용에 의하여 종래보다도 소량의 유해물처리재(42)로 종래 예와 동등 이상의 처리능력이 얻어짐과 동시에 종래와 동량의 유해물 처리재를 사용한 경우에는 파과시간이 종래 예보다 50∼100배 길게 되었다.

더욱, 이 실시예에서는 케이싱(41)의 상방에서 배기가스를 유입시키고 있으므로 배기가스의 압력으로 유해물 처리재가 상방으로 들어올려질 염려는 없지만, 출구(44)와 입구(43)를 교체시켜 케이싱(41)의 하방에서 배기가스를 유입시켜도, 상하중간부의 주위방해판(51)과 상부와 주위방해판(50)에 의하여 유해물처리재(42)가 상승하는 것이 방지되므로, 하등 문제는 없다.

제3도는 본 발명의 유해물 제거장치의 다른 실시예를 도시하고, 이 유해물 제거장치에 있어서는 상기 유해물 제거장치에서 한끝에 입구(43)를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구(44)를 가진 것에 대신하여 한끝에 입구(43)를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구(44)를 설치하여 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측(53)에서 상기 한끝의 출구(44)에 연통하는 통로(54)를 설치하여 이루어지는 것으로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여 더욱 그 설치공간을 작게 하거나, 상기 각 유해물 제거장치를 설치면에 얹어놓아 부착할 수 있으므로 그 구비가 더없이 용이하게 된다.

더욱, 제3도에 도시하는 바와 같이 입구방해판(49)은 반드시 케이싱(41)내 중앙에 설치할 필요는 없다.

즉, 이와 같이 구성하더라도 입구(43)로부터 흘러 들어가는 배기가스의 흐름이 입구방해판(49)에 맞닿아서 케이싱(41)내에서 방사방향으로 넓혀짐과 동시에 처리재의 충전부의 저항에 의하여 해당 처리재의 충전부의 끝면전체에 걸쳐서 균등히 배기가스가 흘러 들어가는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 상기 각 구성을 조합시킴으로써, 본 발명의 기술적 사상을 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형이 가능하며, 또, 이 유해물 제거장치는 그 사용에 있어서 2이상의 것을 예를 들면 직렬 또는 병렬 더욱더 병직렬로 조합시켜 유해물의 제거를 한층 더 확실히 행해지도록 하거나, 장치가 한층 더 장기간에 걸쳐서 사용할 수 있도록 구성하여도 좋다.

[발명의 효과]

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 입구방해판과, 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위방해판을 가짐으로써 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체로 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재와 배기가스와의 접촉이 더 없이 유효하게 행해지는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 동시에 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐과 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠올라간 상태에서 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈 사이에 개구하여 집합되어(유로 집합효과) 배기가스의 처리재의 충전부로의 유입이나, 배기가스의 처리재의 충전부로부터의 유출이 부분적으로 막혀지는 일 없이, 처리재의 충전부 전체에 걸쳐서 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있는 결과 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있는데 더하여 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써, 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 동시에 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.

또 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 유해물의 처리재의 충전부에는 그의 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지므로 그 상승효과에· 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재의 접촉이 더없이 양호하게 되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음에 더하여 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮은 입구방해판과 상기 처리재 충전부에는 그의 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐으로써 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 특히 양호하게 되어 유해물을 한층 더 효율 좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있는데 더하여 한층 더 높은 처리능력과 긴 수명을 확실히 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당한 끝에 출구를 설치하여 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어지는 것으로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여 더욱 더 그 설치공간을 작게 하거나 상기 각 유해물 제거장치를 설치면에 얹어 놓아 부착시킬 수 있으므로 그 구비가 더없이 용이하게 되는 효과를 갖는 것이다.

Claims (6)

1. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판을 설치한 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.
2. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.
3. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.
4. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재 충전부내에 돌출하는 주위방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판의 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.
5. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮은 입구방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.
6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한 끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한 끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어진 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.