KR100233704B1

KR100233704B1 - 차단제의 상승성 혼합물 기재의 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장조성물 및 이의 용도

Info

Publication number: KR100233704B1
Application number: KR1019960707596A
Authority: KR
Inventors: 안느-마리 삐쏭; 쟝-마르끄 아씨욘느
Original assignee: 조지안느 플로; 로레알
Priority date: 1995-05-12
Filing date: 1996-04-23
Publication date: 1999-12-01
Also published as: WO1996035409A1; MX9700275A; EP0742003A1; AU684686B2; PL185705B1; US5753209A; CA2194798C; ES2110855T3; JP2845626B2; HUP9700064A3; CN1153471A; CN1119989C; AR001906A1; DE69600057T2; BR9606470A; FR2733909B1; HUP9700064A2; ZA963586B; RU2158586C2; CA2194798A1

Abstract

본 발명은 화장품적으로 허용가능한 담체내에, (i) 제1차단제로, 임의적으로 부분적 또는 완전히 중화된 형태로, 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산 및 (ii) 제2차단제로, 적절히 선택한 벤조트리아졸 실리콘을 함유하는 것을 특징으로 하는, 국부용, 특히 피부 및/또는 모발을 광보호시키기위한 새로운 화장 조성물에 관한 것이다. 제1 및 제2차단제의 상승효과로 인해, 상기 조성물은 태양광 보호 인자를 향상시킨다. 자외선의 영향에 대한 피부 및 모발보호에의 용도.

Description

차단제의 상승성 혼합물 기재의 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장조성물 및 이의 용도

본 발명은 국부용, 좀더 구체적으로는 자외선으로부터의 피부 및/또는 모발의 광보호용의 신규 화장 조성물 (이후 좀더 간략히 항-태양광 조성물로 칭한다) 및 전술한 화장품 분야에서의 이의 용도에 관한 것이다. 조금더 구체적으로는, 화장품적으로 허용가능한 담체중에, 제1특이 차단제, 즉 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산 및 벤조트리아졸 실리콘에서 적절히 선택한 1종이상의 제2차 특이 차단제의 배합물을 함유하는 항-태양광 조성물에 관한 것이다.

280㎚내지 400㎚파장의 광선은 사람의 표피를 태우고 UV-B로 공지된, 280 내지 320㎚파장의 광선은 자연적인 피부 그을림의 진행을 방해하는 홍반 및 피부화상을 유발하는 것으로 공지되어 있으며 ; 따라서 상기 UV-B 광은 차단되어야 한다.

또한 피부가 타는 것을 유발하는, 파장 320 내지 400㎚의 UV-A 광은 피부, 특히 민감성 피부 또는 태양광에 지속적으로 노출된 피부의 경우에서 손상을 입힐 수 있다는 것이 공지되어 있다. UV-A광은 특히 피부의 탄성의 손실 및 조숙한 노화를 가져오는 주름의 발생을 유발한다. 이는 표피 홍반 반응의 개시를 촉진하거나 몇몇의 개인에게는 이러한 반응을 증폭시키며, 광독성 또는 광알러지 반응이 될 수 있기조차하다. 그러므로 UV-A 광을 차단하는 것이 바람직하다.

피부의 광보호 (UV-A 및/또는 UV-B) 용의 수많은 화장 조성물이 현재까지 제안되어 왔다.

상기 항-태양광 조성물은, 빈번하게, 다양한 농도로, 유해한 UV 광선을 선택적으로 흡수할 수 있는, 1 종이상의 통상의 친유성 및/또는 친수성 유기 차단제를 함유하는 수중유형 에멀션 (즉 수성 분산 연속상 및 유성 분산 불연속상으로 구성된 화장품적으로 허용가능한 담체) 의 형태로 제공되며, 상기 차단제 (및 이들의 양)은 원하는 태양광 보호인자로부터 선택한다 (태양광 보호인자(SPF) 는 UV-차단제로 흥반 유발성 역치에 도달하는데 필요한 조사시간 대 UV-차단제없이 흥반 유발성 역치에 도달하는데 필요한 시간의 비로 수학적으로 나타낸다).

전술한 광보호 분야에서 연구조사한 결과, 본 출원인은 놀랍게도 예기치않게, 제품상태 그자체로 이미 공지된 2개의 특이적 차단제의 배합은, 상승효과로 인해, 실질적으로 강화된 태양광 보호 인자를 갖는 항-태양광 조성물을 수득할 수 있음을 발견하였다.

상기 발견이 본 발명의 기초를 이룬다.

따라서, 본 발명의 주제중의 하나에 따라, 화장품적으로 허용가능한 담체중에, (i) 제1차단제로, 임의적으로 부분적 또는 완전히 중화된 형태로, 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산 및 (ii) 제2차단제로, 하기의 화학식들중의 하나에 대응하는 벤조트리아졸 실리콘으로부터 선택한 벤조트리아졸 실리콘을 함유하는 것을 주특징으로하는, 신규의 화장 조성물, 특히 항-태양광 조성물이 제안된다 :

[화학식 1]

또는

[화학식 2]

[상기 화학식 1 및 2에서,

-R은 동일하거나 상이하고, C₁-C₁₀알킬, 페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼 (R 라디칼의 80%이상은 메틸이다) 로부터 선택되고,

-r 은 정수 0 내지 50이고, s 는 정수 1 내지 20 이며 ;

-u 는 정수 1 내지 6 이고, t는 정수 1내지 10 이며, t + u 은 3 이거나 그 이상이고,

- 부호 A 는 규소원자에 직접 결합된 1가 라디칼을 나타내고, 이는 하기 화학식 3 에 대응한다 :

[화학식 3]

(상기 화학식 3에서,

-Y 는 동일하거나 상이하고, C₁-C₈알킬 라디칼, 할로겐원자 및 C₁-C₄알콕시 라디칼로부터 선택하며, 후자의 경우에서 물론 동일한 방향족 핵의 2개의 인접 Y는 함께 알킬리덴기가 1 또는 2개의 탄소원자를 포함하는 알킬리덴디옥시기를 형성할 수 있으며,

-X 는 0또는 NH를 나타내고,

-Z 는 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내며,

-n 은 정수 0 내지 3이고,

-m 은 0 또는 1이며,

-p 는 정수 1내지 10을 나타낸다)].

또한 본 발명의 주제는 자외선, 특히 태양광으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기위한 화장 조성물과 같은 조성물, 또는 제조를 위한 조성물의 용도이다.

또한 본 발명의 또 다른 주제는 자외선, 특히 태양광으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기위한 화장처리 방법을 포함하며, 이는 기본적으로 본 발명에 따른 유효량의 조성물을 피부 및/또는 모발에 도포하는 것으로 구성된다.

본 발명의 기타 특성, 특질 및 장점은 하기에 주어진 상세한 설명에 나타내었다.

특허 출원 FR-A-2,528,420 및 FR-A-2,639,347 에 특히 기재된, 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산 및 이의 각종 염 (화합물 (I)) 은 사실 파장 280㎚내지 400㎚의 자외선, 320㎚내지 400㎚에서 흡수최대치로, 특히 약 345㎚의 자외선을 흡수할 수 있는 이미 그 자체로 공지된 차단제 (소위 광범위 차단제)이다. 이 차단제는 하기의 화학식 4에 대응한다 :

[화학식 4]

[식중, B는 수소원자, 알칼리금속 또는 이와는 달리 라디칼 NH(R)₃ ⁺(식중, R 라디칼은 동일하거나 상이하고, 수소원자, C₁-C₄알킬 또는 히드록시알킬라디칼 또는 이와는 달리 기 Mⁿ⁺/n를 나타내고, Mⁿ⁺는 n이 2 또는 3 또는 4인 다가 금속양이온을 나타내며, Mⁿ⁺는 바람직하게는 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺으로부터 선택된 금속 양이온이다)를 나타낸다]. 상기 화학식 4의 화합물은 하나이상의 이중결합주위에서 "시스-트랜스" 이성질체를 일으킬 수 있고 모든 이성질체는 본 발명의 범위내에 포함된다.

본 발명의 구성내에서 사용하는 벤조트리아졸 실리콘 (화합물 (II)) 은 특히 FR-A-2,642,968 에 기재되어 있는 벤조트리아졸 실리콘의 일반적인 족에 속한다. 전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 벤조트리아졸 실리콘은 하기 화학식에 대응되는 것이다 :

[화학식 1]

또는

[화학식 2]

[상기 화학식 1 및 2에서,

-R은 동일하거나 상이하고, C₁-C₁₀알킬, 페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼 (R 라디칼의 80% 이상은 메틸이다) 로부터 선택되고,

-r은 정수 0내지 50이고, s는 정수 1내지 20이며:

-u는 정수 1내지 6이고, t는 정수 0내지 10이며, t + u 은 3이상이고,

-부호 A는 규소원자에 직접 결합된 1가 라디칼을 나타내고, 이는 하기 화학식 3에 대응한다 :

[화학식 3]

(식중,

-Y 는 동일하거나 상이하고, C₁-C₈알킬 라디칼, 할로겐원자 및 C₁-C₄알콜시 라디칼로부터 선택하며, 후자의 경우에서 물론 동일한 방향족 핵의 2개의 인접 Y 는 함게 알킬리덴기가 1 또는 2개의 탄소원자를 포함하는 알킬리덴디옥시기를 형성할 수 있으며,

-X 는 0또는 NH를 나타내고,

-Z 는 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내며,

-n 은 정수 0내지 3이고,

-m 은 0또는 1이며,

-P 는 정수 1내지 10을 나타낸다)].

전술한 화학식 3으로부터 명백한 바와 같이, 벤조트리아졸 단위체의 실리콘 사슬의 규소원자에의 연결을 확실케하는, -(X)_m-(CH₂)_p-CH(Z)-CH₂- 의 벤조트리아졸 단위체상의 결합은, 본 발명에 따라, 벤조트리아졸의 2개의 방향족 핵에의해 제공되는 모든 이용가능한 위치에서 발생할 수 있다 :

바람직하게는, 상기 결합은 3, 4, 5 위치 (히드록실 작용기를 운반하는 방향족 핵) 또는 4' 위치 (트리아졸 고리에 인접한 벤젠핵), 좀더 바람직하게는 3, 4 또는 5위치에서 일어난다. 본 발명의 바람직한 양태로는, 결합은 3위치에서 일어난다.

마찬가지로, 치환 단위체 Y의 결합은 벤조트리아졸내의 모든 기타 이용가능한 위치에서 일어날 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 이 결합은 3, 4, 4', 5 및/또는 6위치에서 일어난다. 본 발명의 바람직한 양태로는, 결합은 5위치에서 일어난다.

전술한 화학식 1 및 2에서, 알킬 라디칼은 선형 또는 분지형이고, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-아밀, 아소아밀, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실 및 tert-옥틸 라디칼로부터 선택한다. 본 발명에 따른 바람직한 알킬 라디칼 R 은 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 및 2-에틸헥실 라디칼이다. 좀더 바람직하게는, R 라디칼은 모두 메틸 라디칼이다.

전술한 화학식 1또는 2의 화합물중에서, 화학식 1에 대응하는 화합물, 즉 선형 단쇄 디오르가노실록산을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명 범위내의 선형 디오르가노실록산중에서, 좀더 구체적으로는 하기의 특성들중의 하나, 조금더 바람직하게는 하기의 특성 모두를 갖는 랜덤 또는 명확히 한정 블록 유도체가 바람직하다 :

-R 은 알킬, 좀더 바람직하게는 메틸이고,

-r 은 0내지 10이며, s는 1내지 5이고,

-n 은 0이 아니고, 바람직하게는 1이며, Y는, 이경우에서, 메틸, tert-부틸 또는 C₁-C₄알콕시로부터 선택되며,

-Z 는 수소 또는 메틸이고,

-m = 0, 또는 [m=1 및 X=0],

-p 는 1이다.

본 발명에 특히 적합한 화합물의 족은 하기의 화학식으로 정의된 적이다 :

[화학식 5]

[0 ≤ r ≤ 15, 바람직하게는 0 ≤ r ≤ 10

1 ≤ s ≤ 5, 바람직하게는 1 ≤ x ≤ 3 이고

D 는 2가 라디칼을 나타낸다 :

또는

본 발명의 특히 바람직한 양태로는, 벤조트리아졸 실리콘은

r = 0

s = 1

D =

인, 화학식 5에 대응한다.

본 발명의 특히 바람직한 또 다른 양태로는, 벤조트리아졸 실리콘은

r = 0

s = 1

D =

인 화학식 5에 대응한다.

화학식 1 및 2의 실리콘 차단제를 제조하기 위하여, 절차는 예컨대, 모든 A 라디칼은 수소원자인 대응하는 실리콘으로 출발하는 히드로실릴화반응 (즉)을 이용하여 통상적으로 행할 수 있다. 상기 출발 실리콘은 이후 SiH-함유 유도체로 칭한다. 이 SiH-함유 유도체는 실리콘산업에서 공지된 제품이며 시판되고 있다. 이는 예컨대 미국 특허 US-A-3,220,972, US-A-3,697,473 및 US-A-4,340,709호에 기재되어 있다. 상기 SiH-함유 유도체는 하기의 화학식 1a 또는 2a 로 나타낼 수 있다 :

[화학식 1a]

[식중 R, r 및 s는 화학식 1에서와 동일하다],

[화학식 2a]

[식중 R, t 및 u 는 화학식 2에서와 동일하다].

화학식 1a 또는 2a의 SiH-함유 유도체에 대하여, 통상의 히드로실릴화반응을 행하고, 하기의 화학식 3a의 유기 벤조트리아졸 유도체에 대해서는, 촉매 유효량의 플라티늄 촉매의 존재하 행한다 :

[화학식 3a]

[Y, X, Z, n, m 및 p 는 화학식 3에서와 동일하다].

상기 화학식 3a의 생성물의 제조에 적합한 방법이 특히 특허 US-4,316,033 US-4,328,346 호에 기재되어 있다.

또한, 상기 화학식 1a 또는 2a의 화합물과 상기 화학식 3a 의 화합물사이의 히드로실릴화반응을 행하기위한 후속 절차의 상세한 설명이 특허 출원 EP-0,392,883에 기재되어 있으며, 이 점에 있어서는 본 발명의 상세한 설명에서는 완전히 참조로 포함되어 있다.

화합물 (I) 는 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 8중량 %의 농도로 본 발명에 따른 조성물내에 존재하고, 화합물 (II)로만은 또한 조성물의 총중량에 대해, 0.1 내지 10 중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 8 중량% 의 양으로 존재하며 ; 바람직하게는, 화합물 (I) 및 (II) 사이의 혼합물의 총 함량은 최종 조성물의 총중량의 15%를 넘지않는다.

실제적인 면에서, 상기의 두 화합물 (I) 및 (II)는 물론 바람직하게는 생성된 배합물에 의해 부여되는 태양광 보호 인자의 수준에서 상승효과가 최적이 되는 정도로 각각의 비율로 최종 조성물내에 존재한다. 상기 최적 상승효과가 효과적으로 달성되는 중량비의 범위 [화합물 (I)/화합물 (II)] 은 사용하는 차단제 (I) 및 (II)의 총량에 따라 약간 변할 수 있다.

또한, 일반적으로, 화합물 (I) 및 (II)의 농도 및 비율은 최종 조성물의 태양광 보호 인자가 바람직하게는 2이상이 되도록 선택됨을 알게 될 것이다.

최종적으로, 본 발명의 바람직한 양태로, 각종 화합물 (I) 및 (II)가 존재 하는 화장품적으로 허용가능한 담체는 수중유형 에멀션이다.

본 발명에 따른 항-태양광 화장 조성물은 물론 전술한 2개의 차단제이외의 UVA 및/또는 UVB (흡수제)에서 활성을 보이는 하나이상의 추가 친수성 또는 친유성 차단제를 함유할 수 있다. 이 추가 차단제는 출원 WO-93/04665 에 기재되어 있는 신남산 유도체, 살리실산 유도체, 캄파 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, β,β-디페닐아크릴산염 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 차단 중합제 및 차단 실리콘으로부터 특히 선택할 수 있다. 유기 차단제의 기타의 예는 특허 출원 EP-A-0,487,404에 기재되어 있다.

또한 본 발명에 따른 조성물은, 예컨대 디히드록시아세톤 (DHA) 와 같은 인공 피부태닝 (tanning)제 및 브라우닝 (browning)제 (자가-태닝제)를 함유할 수 있다.

또한 본 발명에 따른 화장 조성물은 모두 UV광보호제로 그자체로 공지된, 티타늄 (루틸 및/또는 아나타아제의 형태의 비정질 또는 결정질화된), 철, 아연, 지르코늄 또는 세륨의 산화물의 나노피그먼트와 같은 코팅된 또는 비코팅된 금속산화물의 피그먼트(pigment) 또는 이와는 달리 나노피그먼트 (평균 1차 입자크기 : 일반적으로 5㎚내지 100㎚, 바람직하게는 10㎚내지 50㎚)를 함유할 수 있다. 더욱이, 통상의 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 이러한 코팅된 또는 비코팅된, 금속산화물의 나노피그먼트는 특히 특허 출원 EP-A-0,518,772 및 EP-A-0,518,773에 기재되어 있다.

또한 본 발명의 조성물은 지방성 물질, 유기 용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 완화제, 산화방지제, 불투명제, 안정화제, 연화제, 실리콘, α-히드록시산, 소포제, 보습제, 비타민, 향료, 방부제, 계면활성제, 충진제, 금속이온봉쇄제, 중합체, 추진제, 알칼리화 또는 산성화제, 착색제 또는 화장품에서 통상적으로 사용되는, 특히 에멀션 형태로 항-태양광 조성물의 제조시에 사용되는 임의의 기타성분으로부터 특별히 선택된 통상의화장 보조제를 함유할 수 있다.

지방성 물질은 오일, 왁스 똔는 이의 혼합물로 구성될 수 있고, 또한 지방산, 지방 알코올 및 지방산의 에스테르를 함유한다. 오일은 동물, 식물, 광물 또는 합성 오일 및 특히 석유젤리, 파라핀오일, 실리콘오일, 휘발성 또는 비휘발성의 이소파라핀, 폴리-α-올레핀, 불소화 또는 과불소화 오일부터 선택할 수 있다. 마찬가지로, 왁스도 동물, 화석, 식물, 광물 또는 그자체로 공지된 합성왁스로부터 선택할 수 있다.

유기 용매들중, 저급 폴리올 및 알코올을 언급할 수 있다.

증점제는 교차결합 폴리아크릴산, 구아 고무 및 히드록시프로필화 구아 고무, 메틸히드록시에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필메틸셀룰로오스 또는 히드록시에틸셀룰로오스와 같은, 개질된 또는 비개질된 다른 구아 고무 및 셀로로오스로부터 특별히 선택한 수 있다.

물론, 당업자는 본 발명에 따른 2성분 배합물에 본질적으로 부여된, 유익한 특성, 특히 상승효과가 구상된 첨가게로 변경되지 않거나 실질적으로 변경되지않는 정도로 상기의 임의 추가 화합물 및/또는 이의 양을 조심스럽게 선택할 것이다.

본 발명의 조성물은 당업자에게 공지된 기술, 특히 수중유 또는 유중수 에멀션의 제조용 기술에 따라 제조할 수 있다.

상기 조성물은 특히 크림, 밀크, 겔 또는 젤 크림과 같은 단순한 또는 복잡한 에멀션 (O/W, W/O, O/W/O 및 W/O/W), 분말, 고형 스틱의 형태로 제공될 수 있고, 에어로졸로 임의로 충전될 수 있으며 발포물 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다.

에멀션의 경우에서, 이의 수성상은 공지된 방법에 따라 제조된 비이온성 소포 분산물을 함유할 수 있다 (Bangham, Standish & Watkins. J. Mol. Biol, 13, 238 (1965), FR 2,315,991 & FR 2,416,008).

본 발명의 화장 조성물은 항-태양광 조성물 또는 메이크업 제품과 같은, 자외선으로부터 사람의 표피 또는 모발을 보호하기위한 조성물로 사용될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물을 UV 광으로부터 사람의 표피를 보호하기 위하여, 또는 항-태양광 조성물로 사용하는 경우, 이는 용매 또는 지방성 물질중의 현탁액 또는 분산액의 형태, 또는 비이온성 소포 분산액의 형태 또는 이와는 달리 바람직하게는 크림 또는 밀크와 같은, 수중유형의 에멀션의 형태, 연고, 겔, 겔크림, 고형스틱, 스틱, 에어로졸 발포물 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물을 모발의 보호를 위해 사용하는 경우, 이는 샴푸, 로숀, 겔, 에멀션, 비이온성 소포 분산액, 모발용 락커의 형태로 제공될 수 있고 예컨대 샴푸링 전후, 염색 또는 표백전후, 파마 웨이빙 또는 모발 스트레이트닝 전중후에 사용할 수 있는 헹굼 조성물, 헤어 스타일링 또는 트리트먼트 로숀 또는 겔, 송취 건조 또는 헤어 세팅용 로숀 또는 겔, 파마 웨이빙 또는 헤어 스트레이트닝용, 모발 염색 또는 표백용 조성물을 구성한다.

조성물을 표피용 트리트먼트 크림과 같은, 아이래쉬, 아이브로우 또는 스킨용 메이크업 제품, 파운데이션, 립스틱, 아이새도우, 불루숴, 마스카라 또는 "아이라이너"로 불리는 라이너로 사용하는 경우, 이는 고형 또는 페이스트성, 무수 또는 수성 형태, 예컨대 수중유 또는 유중수 에멀션, 비온성 소포 분산액 또는 이와는 달리 현탁액으로 제공될 수 있다.

수중유 에멀션형의 담체를 갖는 본 발명에 따른 항-태양광 제제용 가이드로, 수성상(특히 친수성 차단제를 함유) 은 일반적으로 총제제에 대해 50내지 95중량%, 바람직하게는 70 내지 90중량 % 이고, 유성상(친유성 차단제 함유) 은 총제제에 대해 5내지 50중량%, 바람직하게는 10내지 30중량%이며, (공)유화제(들)은 총제제에 대해 0.5내지 20중량%, 바람직하게는 2내지 10중량%이다.

명세서의 초기에서 지적한 바와 같이, 본 발명의 또 다른 주제는 전술한 바와 같은 화장 조성물을 유효량으로 피부 또는 모발에 적용하는 하는 것으로 구성되는 UV광의 영향으로부터 피부 또는 모발을 보호하기위한 피부 또는 모발의 화장 처리방법이다.

본 발명을 설명하는 구체적인 실시예, 그러나 전혀 제한되지는 않는 실시예를 하기에 기술하였다.

수중유형 에멀션의 형태로 제공되고 하기의 것들을 함유하는 각종 항-태양광 제제를 제조한다(양은 조성물의 총중량에 대해 중량%로 나타낸다) :

상 A :

a) 벤조트리아졸 실리콘 (⁺) 인 차단제 (II) y%

b) 글리세릴 스테아레이트 및 PEG-100 스테아레이트 (“Arlacel 165”ICI 사제)의 혼합물 (유화제) 1.5%

c) 스테아르산 ("Stearine TP" 스테아린에리에 두보이스사제) 2.75%

d) 세틸 알코올 ("Lorol C16" 헨켈사제) (공유화제) 0.5%

e) 폴리디메틸실록산 ("Silbione 70 047 V 300" 롱-쁠랑사제) 0.5%

f) C₁₂-C₁₅알킬 벤조에이트 ("Finsolv TN 파인텍스사제) 13%

상 B :

g) 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산인 A 차단제 (I) x%

h) 순수 글리세린 코텍스 4%

i) 칼륨 세틸 포스페이트 ("Amphisol K" 기바우단-로우레사제) 1%

j) 교차결합 폴리아크릴산 ("Carbopol 980" 굳리치사제) 0.3%

k) 트리에탄올아민 적당량 pH 6.5-7

l) 물 적당량 100%

상 C :

m) 시클로펜타디메틸실록산 ("DC 245 Fluid" 다우코닝사제) 5%

n) 방부제 적당량

(^*) 하기 화학식의 벤조트리아졸 실리콘 :

[식중 r=0

s=1 및

D=

각각의 상기 에멀션을 하기의 방법으로 제조한다 : 상 A 및 상 B를 80℃에서 미리 가열 및 균질화시킨다. 이어서 상 A를 상 B 중에 빠르게 교반하면서 분산시킨다. 이어서 혼합물을 부드럽게 교반하면서 냉각시킨다. 40℃에서 상 C를 가한다.

이렇게 제조된 각각의 제제에 대해서, 여기에 부가된 태양광 보호 인자(SPF)를 측정한다. 태양광 보호 인자의 측정은 하기의 방법에 따라 행한다 (생체내) : 상기 제제를 2㎎의 제품/㎠의 피부의 양으로 10명의 피실험자의 등에 도포한후, 피부의 보호 영역 및 비보호 영역을 동시에 상표명 "Xenon Multiport WG 320-UG 11" 로 시판되는 태양광 시뮬레이터로 처리하고 ; 이어서 태양광 보호 인자 (SPF)를 UV-차단제 (보호 영역)로 홍반유발성 역치에 도달하는데 필요한 조사시간 대 UV-차단제 (비보호 영역) 없이 홍반유발성 역치에 도달하는데 필요한 조사시간의 비를 수학적으로 계산한다.

조사된 각종 제제의 조성 및 평균 태양광 보호 인자 (10명의 피실험자에 대한 평균) 로, 수득한 결과를 하기 표 (1)에 나타내었다 :

[표 1]

상기 경과는 본 발명에 따른 조성물 3으로 수득한 상승 효과, 후자에 부여된 태양광 보호 인자가 단지 하나의 차단제를 함유하는 대응하는 비교 조성물의 태양광 보호 인자의 단순한 산술 총량보다 확실히 더 큼을 명확히 보여준다.

[실시예 2]

수중유형 에멀션의 형태로 제공되는 본 발명에 따른 항-태양광 조성물의 구체적인 실시예를 하기에 기술하였다 (양은 조성물의 총중량에 대한 중량%로 나타내었다) :

-1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-캄포술폰)]산 1%

-벤조트리아졸 실리콘(^*) 3%

-세틸 스테아릴 알코올 및 33 몰의 EO (80/20)을 함유하는 옥시에틸렌화세틸 스테아릴 알코올의 혼합물 ("Sinnovax AO" 헨켈사제) 7%

-글리세롤 모노스테아레이트 ("Geleol Copeaux" 가테포스사제) 2%

-세틸 알코올 ("Lorol C 16" 헨켈사제) 1.5%

-석유 젤리 15%

-폴리디메틸실록산 ("Silbione 70 047 V 300" 롱-쁠랑사제) 1.5%

-클리세린 20%

-트리에탄올아민 적당량 pH = 6.5

-방부제 적당량

-물 적당량 100%

(^*) 하기 화학식의 벤조트리아졸 실리콘 :

[식중 r=0

s=1 및

D=

Claims

화장품적으로 허용가능한 담체 내에, (i) 제1차단제로서, 유리 형태 또는 부분적 또는 완전히 중화된 형태인 1,4-벤젠[디(3-메틸리덴-10-캄포술폰)]산 및 (ii) 제2차단제로서, 하기의 화학식들중의 하나에 대응하는 벤조트리아졸 실리콘으로부터 선택한 벤조트리아졸 실리콘을 함유하며, 상기 제1 및 제2차단제가 조성물내에 수득된 태양광 보호인자의 관점에서 상승활성도를 생성하는 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는, 피부, 모발 또는 이둘 모두를 광보호시키기 위한 국부용 화장 조성물 ;

[화학식 1]

또는

[화학식 2]

[상기 화학식 1 및 2에서, -R 은 동일하거나 상이하고, C₁-C₁₀알킬, 페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼(R 라디칼의 80% 이상은 메틸이다),

-r 은 정수 0내지 50이고 s는 정수 1내지 20이며;

-u 는 정수 1내지 6이고, t는 정수 1내지 10이며, t + u 은 3이거나 그 이상이고,

-부호 A는 규소원자에 직접 결합되어 1가 라디칼을 나타내고, 이는 하기 화학식 3에 대응한다 :

[화학식 3]

(식중, -Y는 동일하거나 상이하고, C₁-C₈알킬 라디칼, 할로겐원자 및 C₁-C₄알콕시 라디칼로부터 선택하며, 후자의 경우 동일한 방향족 핵의 2개의 인접 Y는 함께 알킬리텐기가 1또는 2개의 탄소원자를 포함하는 알킬리덴디옥시기를 형성하며, -X 는 0또는 NH를 나타내고, -Z 는 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내며, -n 은 정수 0내지 3이고, -m 은 0또는 1이며, -p 는 정수 1내지 10을 나타낸다)].
제1항에 있어서, 벤조트리아졸 실리콘은 하기 특성들 중의 하나이상을 갖는 화학식 1의 화합물로부터 선택하는 것을 특징으로 하는 조성물 : -R은 알킬이고, -r은 0내지 50이며; s는 1내지 5이고, -n은 0이 아니며, Y는, 이 경우에서, 메틸, tert-부틸 또는 C₁-C₄알콕시이고, -Z는 수소 또는 메틸이며, -m=0, 또는 [m=1이고 X=0]. -p는 1이다.
제2항에 있어서, 화학식 1의 화합물이 하기의 특성을 모두 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 -R 은 알킬이고, -r 은 0내지 50이며 : s는 1내지 5이고, -n 은 0이 아니며, Y는, 이 경우에서, 메틸, tert-부틸 또는 C₁-C₄알콕시이고, -Z 는 수소 또는 메틸이며, -m=0, 또는 [m=1이고 X=0]. -p 는 1이다.
제3항에 있어서, 벤조트리아졸 실리콘은 화학식 5의 화합물들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :

[화학식 5]

[0≤r≤15 이고, 1≤s≤5 이고, D는 하기의 2가 라디칼을 나타낸다 :

또는.
제4항에 있어서, 제2차단제는 r=0, s=1 및 D=인 화학식 5에 대응하는 벤조트리아졸 실리콘인 것을 특징으로 하는 조성물.
제4항에 있어서, 제2차단제는 r=0, s=1 및 D=-[CH₂]₃-인 화학식 5에 대응하는 벤조트리아졸 실리콘인 것은 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 제1차단제는 하기의 화학식 4인 것을 특징으로 하는 조성물:

[화학식 4]

[식중, B는 수소원자, 알칼리금속, 라디칼 NH(R)₃ ⁺(식중, R 라디칼은 동일 하거나 상이하고, 수소원자, C₁-C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타냄), 또는 기 Mⁿ⁺/n (식중, Mⁿ⁺는 n 이 2 또는 3또는 4인 다가 금속 양이온을 나타냄)을 나타낸다].
제1항에 있어서, 제1차단제의 농도는 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 10중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제8항에 있어서, 제1차단제의 농도는 조성물의 총중량에 대해 0.2 내지 8중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 제2차단제의 농도는 조성물의 총중량에 대해 0.2 내지 8중량% 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제10항에 있어서, 제2차단제의 농도는 조성물의 총중량에 대해 0.2 내지 8중량%인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 화장품적으로 허용가능한 담체는 수중유형 에멀션의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 추가로 제1 및 제2차단제와는 상이한, UV-A, UV-B 또는 이둘 모두에서 활성인 하나 이상의 추가 친수성 또는 친유성 유기 차단제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제13항에 있어서, 추가 유기 차단제는 신남산 유도체, 살리실산 유도체, 캄포르 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, β, β-디페닐아크릴산염 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 차단 중합체 및 차단 실리콘으로부터 선택하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 추가로, 코팅된 또는 이와는 다른 금속 산화물의 안료 또는 나노피그먼트를 추가 UV 광보호제로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제15항에 있어서, 코팅된 또는 비코팅된, 안료 또는 나노피그먼트를 티타늄, 아연, 철, 지르코늄 및 세륨 산화물 및 이의 혼합물로부터 선택하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 추가로, 하나이상의 인공 피부 태닝제, 브라운제, 또는 이둘 모두를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 추가로 지방성 물질, 유기 용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 완화제, 산화방지제, 불투명제, 안정화제, 연화제, 실리콘, α-히드록시산, 소포제, 보습제, 비타민, 향료, 방부제, 계면활성제, 충진제, 금속이온봉쇄제, 중합체, 추진제, 알칼리화 또는 산성화제, 착색제로부터 선택된 하나이상의 보조제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 인체 표피보호용 조성물 또는 항-태양광 조성물이고 비이온성 소포 분산액, 에멀션, 특히 수중유형 에멀션, 크림, 밀크, 겔, 겔크림, 현탁액, 분산액, 고형 스틱, 발포물 또는 스프레이의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 아이래쉬, 아이브로우 또는 스킨용 메이크업 조성물이고 고형 또는 페이스트성, 무수 또는 수성 형태물, 에멀션, 현탁액 또는 분산액으로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 자외선으로부터 모발을 보호하기 위한 조성물이고, 샴푸, 로숀, 겔, 에멀션, 비이온성 소포 분산액 또는 모발용 락커의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 2이상의 피부에 대한 태양광 인자를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
자외선, 특히 태양광으로부터 피부, 모발 또는 피부 및 모발을 보호하기 위한 화장 조성물의 제조에 사용되는 제1내지 22항중 어느 한 항 기재의 조성물.
제2항에 있어서, 벤조트리아졸 실리콘은 하기 특성들 중의 하나이상을 갖는 화학식 1의 화합물로부터 선택하는 것을 특징으로 하는 조성물 : -R 은 메틸이고, -r 은 0내지 15이며; s는 1내지 5이고, -n 은 1이며, Y는, 이 경우에서, 메틸, tert-부틸 또는 C₁-C₄알콕시이고, -Z 는 수소 또는 메틸이며, -m=0, 또는 [m=1 이고 X=0], -p 는 1이다.
제7항에 있어서, 화학식 4의 화합물에서, Mⁿ⁺은 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺으로부터 선택한 금속 양이온임을 특징으로 하는 조성물.