KR0171166B1 - 대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지 - Google Patents

대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지 Download PDF

Info

Publication number
KR0171166B1
KR0171166B1 KR1019950035757A KR19950035757A KR0171166B1 KR 0171166 B1 KR0171166 B1 KR 0171166B1 KR 1019950035757 A KR1019950035757 A KR 1019950035757A KR 19950035757 A KR19950035757 A KR 19950035757A KR 0171166 B1 KR0171166 B1 KR 0171166B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
charging member
layer
fine particles
tubing
charging
Prior art date
Application number
KR1019950035757A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960015111A (ko
Inventor
히로시 이노우에
요시꼬 후지무라
나오끼 후에이
Original Assignee
미따라이 후지오
캐논 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=17580778&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR0171166(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 미따라이 후지오, 캐논 가부시끼가이샤 filed Critical 미따라이 후지오
Publication of KR960015111A publication Critical patent/KR960015111A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0171166B1 publication Critical patent/KR0171166B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/02—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices
    • G03G15/0208—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus
    • G03G15/0216—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus by bringing a charging member into contact with the member to be charged, e.g. roller, brush chargers
    • G03G15/0233—Structure, details of the charging member, e.g. chemical composition, surface properties
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/02—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31681—Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31707—Next to natural rubber

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Abstract

대전 부재는 도전 지지체, 상기 도전 지지체 상에 형성된 탄성층, 및 상기 탄성층 상에 형성된 튜빙층을 갖고 있다. 미립자는 상기 튜빙층과 상기 튜빙층 아래에 제공된 층간에 서로 접촉하여 존재한다.

Description

대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재로 갖고 있는 프로세스 카트리지
제1도는 본 발명에 따른 대전 부재의 층 구조의 예를 도시하는 도면.
제2도는 본 발명에 따른 대전 부재의 층 구조의 다른 예를 도시하는 도면.
제3도는 본 발명에 따른 대전 부재의 층 구조의 또다른 예를 도시하는 도면.
제4도는 본 발명의 대전 부재를 갖는 프로세스 카트리지를 갖고 있는 전자 사진 장치의 구성예를 개략적으로 도시하는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 대전 부재 2 : 감광 부재
5 : 현상 수단 6 : 전사 수단
7 : 전사 매체 8 : 화상 고정 수단
9 : 세척 수단 11 : 프로세스 카트리지
본 발명은 대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 이러한 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지에 관한 것이다.
최근, 접촉 대전은 전압을 롤러 모양을 갖는 대전 부재에 적용시킴으로써 화상 베어링 부재의 표면을 정전기적으로 대전시키는 방법이 널리 사용되고, 화상 베어링 부재와 접촉하여 제공된다. 접촉 대전 부재는 구조가 단순하고, 소형이며 오존 발생을 매우 줄일 수 있는 장점을 갖고 있다. 이러한 대전 부재는 일반적으로 다음방식으로 제조된다.
(1) 금속으로 제조된 도전 지지체(맨드릴)의 주변을 따라, 도전 탄성층은 압출, 캐스팅, 주입 몰딩, 프레스 몰딩 또는 전사 몰딩과 같은 프로세스로 형성되고, 저항 제어층 또는 표면층은 딥 코팅 또는 롤 코팅에 의해 도전 탄성층 상에 형성된다.
(2) 도전 탄성층을 갖고 있는 롤러보다 내부 직경이 더 작은 시임레스 피복(seamless tubing)은 합성 수지 등을 사용하여 준비되고, 도전 탄성층을 갖고 있는 롤러는 그 내부에 프레스 피트되며, 시임레스 튜빙은 도전 탄성층을 갖고 있는 롤러 보다 내부 직경이 약간 더 큰 싱크 튜빙(shrink tubing : 열 수축가능)으로서 형성된 다음, 도전 탄성층과 밀접하게 접촉하도록 열 처리로 수축되어 튜빙층을 형성한다.
동시에, 복사기, 레이저 빔 프린터 및 팩시밀리와 같은 전자 사진 화상 형성 장치에서, 다양한 대전 부재, 예를 들면 현상 대전 부재용 롤러, 전사 대전용 롤러 및 일차 대전용 롤러가 사용되어 왔다 이들 모든 대전용 롤러는 다 소모되고 재생되지 않는다. 또, 이들 제조시 발생된 임의의 불량품은 제품으로서 사용될 수 없으므로, 수선없이 폐기되었다.
이것은 이들 대전 부재 롤러가 전자 사진 프로세스에 반복적으로 적용될 때 이들의 전기적 특성이 저하되고 초기 단계와 동일 레벨의 전기특성을 더 이상 나타내지 못한다는 문제점을 갖고 있다. 다양한 대전 부재의 전기 특성의 저하는, 예를 들면 대전시 방전으로 발생된 오존 등의 영향으로 인한 대전 부재의 표면 불량 및 대전 부재에 의해 대전되는 재료 또는 부재와 접촉하여 발생된 대전 부재의 표면 마멸로 인해 발생될 수 있다.
다른 문제점은 대전되는 재료 또는 부재를 접촉시킴으로써 발생된 대전 부재의 표면 마멸이 윤활도 및 평활도와 같은 표면 특성을 손상시킬 수 있다는 점이다.
또, 대전용 롤러를 반복적으로 사용하는 동안, 파우더형 디벨롭퍼(토너) 및 종이 가루는 이들 최외층의 전체 표면 또는 주변에 접착될 수 있다.
이러한 대전용 롤러가 세척과 같은 수단없이 재생될 경우, 이들 표면의 오염은 저습 및 저온의 환경에서 특히 불균일한 대전용 롤러의 표면 저항을 형성하여, 불균일한 대전을 발생시킨다. 대전 성능이 낮은 대전용 롤러는 표면의 이러한 오염에 영향을 받는다.
또, 상기 전자 사진 장치에 제공된 대전 부재는 단일층 구조를 갖는 것에 한정되지 않고, 서로 중복된 다수의 층을 포함하는 다중층 구조를 갖는 대전 부재가 널리 사용된다. 대전 부재가 다중층 구조로 형성될 때, 일반적으로 코팅과 같은 수단이 사용된다. 층이 코팅으로 형성될 때, 불균일한 코팅, 불균일한 코팅 두께, 및 스피팅(spltting)과 같은 결함 코팅은 몇몇 경우에 발생될 수 있다. 대전 부재에 이러한 결함 코팅의 존재는 대전이 불균일한 부분에 미세하게 불균일한 표면 저항을 형성하여 불량 화상을 발생시킨다.
그런, 롤러의 제조 방법 (1)은 다음과 같은 문제점을 갖고 있다.
(A) 각층의 재료는 코팅 혼합물을 준비하기 위해 유기 용제애 용해되므로, 재료는 한정된다(각 층의 용해 계수가 변경되지 않는 한, 층은 코팅될 때 용제로 서로 용해되어 각 층의 기능이 손실된다).
(B) 각층의 수지가 용해 계수가 다르기 때문에, 층간의 접착력은 나빠져 리프팅 또는 주름이 발생된다. 또, 프리머(primer)는 접착력을 향상시키기 위해 사용될 수 있는데, 이것이 비용을 증가시킨다.
(C) 불균일한 코팅 또는 불균일한 코팅 두께가 각 층에서 발생될 수 있다.
(D) 코팅 혼합물이 코팅되어 층을 형성한 후 건조 단계가 필요하기 때문에, 생산성이 나빠질수 있다.
(E) 유기 용제가 코팅 혼합물을 준비시키는데 사용되기 때문에, 안정한 측정 및 장치가 필요하여 비용이 증가된다.
또, 롤러의 제조 방법 (2)는 다음과 같은 문제점을 갖고 있다.
(A) 표면층 등이 튜빙을 사용하여 형성될 때, 튜빙의 내부 직경과 약간 다른 외부 직경을 갖는 도전 탄성층을 갖고 있는 롤러는 튜빙에 삽입시키는데 어려움이 따른다.
(B) 도전 탄성층을 갖고 있는 롤러가 롤러보다 내부 직경이 약간 작게 형성된 튜빙에 프레스 피트되기 때문에, 튜빙의 내부 직경이 연장되는 동안 큰 힘이 튜브에 적용되어 탄성적으로 변형된다. 그러므로, 튜빙이 파손되거나 불균일한 부분이 형성될 가능성이 있다.
최근에, 이콜러지(ecology : 지구 환경의 양호한 공존을 위해 파괴 및 오염으로부터 지구 환경 보호를 옹호)가 세계적으로 퍼져 있다. 지구 자원의 절약 및 환경 보호 면에서 전자 사진 장치용 대전 부재에 대해 연구되어, 몇몇 방법으로 재생산 및 재생될 수 있다.
대전 부재를 재생산하는 방법으로서, 부재의 표면이 용제로 세척되어 오염을 제거하는 방법이 공지되어 있다.
그런, 대전 부재의 표면층이 대부분 합성 수지, 합성 루머 등을 포함하기 때문에, 상기 종래 세척 방법은 다음의 이유(A) 및 (B)에 대해 양호하지 않다.
(A) 합성 수지 및 합성 루버는 세척 용제와 접촉하여 용해되거나 크랙을 발생 시키고, 전기 저항, 경도, 표면 거칠기, 진원도(roundness), 진직도(straighteness) 및 윤활성(마찰 특성)과 같은 이 모양의 대전 부재에 필요한 다양한 특성을 손상시킬 수 있다.
(B) 이 모양의 대전 부재는 단일층 구조를 갖도록 제한되지 않고, 다중층 구조를 갖고 있는 대전 부재가 널리 사용된다. 다중층 롤러의 경우에, 세척 용제는 롤러의 에지로부터 층을 통해 스며들 수 있어, 표면층 재료의 용제 저항 뿐만 아니라 내부 재료의 용제 저항에도 주의해야 한다. 이것은 사용된 세척 용제의 모양의 제한을 제한을 제시하는 것 뿐만 아니라 층간의 접착력을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 목적은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로, 성능이 우수한 대전부재를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 대전 부재를 제조하는 프로세스를 제공하는 것으로, 대전 부재를 재생산하는데 적합한 대전 부재 제조 프로세스이다.
본 발명의 또 다른 목적은 이러한 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지를 제공하는 것이다.
본 발명은 도전 지지체, 도전 지지체 상에 형성된 탄성층, 및 탄성층 상에 형성된 튜빙층을 포함하는 대전 부재를 제공하고,
미립자는 튜빙층과 튜빙층 아래에 제공된 층간에 서로 접촉하여 존재한다.
또, 본 발명은 도전 지지체, 도전 지지체 상에 형성된 탄성층 및 탄성층 상에 형성된 튜빙층을 포함하는 대전 부재를 형성하는 프로세스를 제공하고, 이 프로세스는 튜빙층이 형성된 표면 또는 튜빙의 내부면 중 적어도 하나에 접착시키도록 미립자가 형성되거나 남겨진 후, 적어도 탄성층을 갖고 있는 피복 지지체의 내측에 삽입시킴으로써 탄성층 상에 튜빙층을 형성하는 단계를 포함한다.
또, 본 발명은 이러한 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지를 제공한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하고자 한다.
본 발명의 대전 부재는 적어도 튜빙층을 갖고 있고, 미립자는 튜빙층과 튜빙층 아래에 제공된 층간에 서로 접촉하여 존재한다.
본 발명의 대전 부재를 제고하는 프로세스는 튜빙층이 형성된 표면 및 튜빙의 내부면 중 적어도 하나에 접착시키기 위해 미립자를 형성되거나 남겨진 후, 적어도 탄성층을 갖고 있는 롤러로서 피복 지지체의 내측에 삽입시킴으로써 탄성층 상에 튜빙층을 형성하는 단계를 갖고 있다.
본 발명의 대전 부재는 코팅층이 딥 코팅 또는 롤 코팅으로 제공될 때 발생될 수 있는 문제점과 관계없이, 표면 특성 등의 우수한 특징을 갖고 있다.
본 발명의 제조 프로세스에서, 탄성층 또는 탄성층 상에 코팅층을 갖고 있는 탄성층의 표면에 튜빙으로 피복될 때, 미립자는 탄성층을 갖고 있는 롤러 등이 튜빙의 내측에 쉽게 삽입될 수 있게 둘 사이에 존재하도록 형성되거나 남겨진다. 따라서, 튜빙이 손상되거나 불균일한 부분에 형성될 가능성이 감소된다.
미립자는 탄성층(이들 상에 코팅층을 가질 수 있다)과 튜빙 사이에 존재하도록 형성 또는 남겨질 수 있는데, 즉 피복 단계에서 미립자를 예정된 표면에 추가하거나 예정된 표면에 접착시키기 위해 토너와 같은 파우더형 디벨롭퍼의 입자를 제거시킴으로써, 튜빙층이 형성된 표면 및 튜빙의 내부면 중 적어도 하나에 접착시키도록 형성 또는 남겨질 수 있다.
본 발명의 제조 프로세스는 전자 사진 장치에 사용된 대전 부재를 재생산하는 프로세스로서 효과적이다. 대부분의 경우에, 제품의 수명이 끝나가는 전자 사진 장치의 대전용 롤러는 전기 특성 및 표면 특성(평활도 또는 윤활도)이 더 이상 나타나지 않거나 이들 외부층의 전체 표면 또는 주변에 접착하는 파우더형 디벨롭퍼(토너)가 대전 부재의 표면 저항의 불규칙성이 불균일 대전을 발생시킨다는 문제점을 갖고 있다. 이것은 대전 부재의 표면에 접착된 토너 등을 완전히 제거하기 어렵다.
그러나, 본 발명은 이러한 문제점을 갖고 있는 대전 부재를 튜빙을 갖고 있는 대전 부재의 주변에 피복하고, 이들 표면에 접착하도록 제조된 미립자를 활용하거나 표면에 접촉하도록 제거된 토너를 미립자로서 활용함으로써 재생할 수 있으므로, 대전 부재의 표면 특성을 복원함과 동시에 대전 부재용으로 필요한 전기 특징이 충분한 조건으로 복원하기 위해 표면 저항 균일성을 형성된다.
본 발명의 대전 부재의 구성에 대해 후술하겠다.
제1도에 도시된 바와 같이, 본 발명의 대전 부재(1)는 롤러의 모양을 갖고 있고 도전 지지체(1a), 이들 주위에 이레로 형성된 탄성층(1b) 및 탄성층의 주위에 형성된 튜빙층(1d)를 포함한다. 탄성층과 튜빙층간(1e)에는 미립자가 존재한다(도시하지 않음).
다른 실시예로서는, 본 발명의 대전 부재는 제2도 또는 제3도에 도시된 바와 같이 구성될 수 있다. 제2도에 도시된 바와 같이, 대전 부재는 대전 부재의 표면 저항을 조정하기 위해 탄성층(1b)의 주위에 형성된 저항 제어층(1c) 및 저항 제어층(1c)의 주변에 형성된 튜빙층(1d)를 포함한다. 이 경우, 미립자는 저항 제어층(1c)와 튜빙층(1d)간 (1e)에 존재한다. 제3도에 도시된 바와 같이, 대전 부재는 2이상의 층으로 제공된 저항 제어층을 포함할 수 있다. 이러한 저항 제어층은 제1 저항 제어층(1c)와 제2 저항 제어층(1c)로 구성될 수 있다.
본 발명에 사용된 지지체(1)는 임의로 사용될 수 있는 철, 구리, 스테인레스 스틸, 알루미늄 또는 니켈로 제조될 수 있다. 이들의 금속 표면은 녹 가공을 위한 플레이팅하거나 스크래치 저항을 제공함으로써 처리될 수 있지만, 도전성을 손상시키지 않는다.
대전용 롤러(1)에서, 탄성층(1b)는 감광 부재(2)(제4도)를 갖고 있는 대전용 롤러(1)의 우수하고 균일한 밀접 접촉을 보장하기에 적합한 탄성력이 부여된다.
탄성층(1b)의 도전성은 카본 블랙과 같은 도전제를 고무와 같은 탄성 재료에 추가시킴으로써 조정된다. 이 탄성력은 프로세스 오일, 가소제 등을 추가시킴으로써 조정된다. 탄성층(1b)용 탄성 재료는 특히 예를 들면 천연 고무, 에틸렌 프로필렌 디엔 메틸렌 루버(ethylene propylene diene methyele rubber : EPDM), 스티렌부타디엔 루버(styrene- butadiene rubber : SBR), 실리콘 루버(Silicone rubber), 우레탄루버, 에피클로로하이드린 루버(epichlorohydrin rubber), 이소프렌 루버(isoprene rubber : IR), 부타디엔 루버(butadiene rubber : BR), 니트릴-부타디엔 루버(nitrile-butadiene rubber : NBR) 및 클로로프렌 루버(chloroprene rubber : CR)과 같은 합성루버, 및 폴리아미드 수지, 폴리 우레탄 수진, 실리콘 수지 및 플로린 수지와 같은 수지롤 포함할 수 있다. 상기 탄성 재료의 발포제(foam)은 탄성층(1b)에 사용될 수도 있다.
튜빙층(1d)는 상술한 바와 같이 튜빙 내로 롤러의 프레스 피팅 또는 튜빙의 열수축으로 형성된 층이고, 대전 부재의 표면 특성(평활도 또는 윤활도)을 조정하거나 새로나온 탄성층(1b)에서 가소제 등을 대전 부재의 표면에 방지하기 위해 종종 제공된다. 특히 그 때문에 재료는 카본 백 및 카본 그라파이트와 같은 도전 입자를 포함하는 합성수지, 및 알칼리 금속염 및 암모늄염 뿐만 아니라 도전 티타늄 산화물, 도전 아연 산화물 및 도전 주석 산화물과 같은 도전 금속 산화물을 포함할 수 있다. 튜빙층(1d)에서 사용된 합성 수지는 나이론 12, PFA (tertrafluoroethylene-perfiuoroalkylviny) ether copolymer resin), PVDF(polyvinylidene fluoride), FEP(tertrafluoroethylene-hexafluoropropylene copoly mer srsin) 및 폴리스텐렌형, 폴리올레핀형, 폴리비닐 클로라이드형, 폴리우레탄형, 폴리에스테르형 또는 폴리아미드형의 열가소성 엘라스토머(thermoplastic elastomer)과 같은 수지를 포함할 수 있다.
튜빙층(1d)는 열 수축가능 튜빙 또는 비열 수축가능 튜빙 중 하나로 형성될 수 있다.
양호하게, 튜빙층(1d)는 웰 두께가 5,000㎛ 이하일 수 있다. 탄성층 또는 저항 제어층과 같이 튜빙층 아래에 있는 층 기능을 양호하게 발휘하기 위해서는 두께가 매우 작은 튜빙이 더 양호한다. 이것을 목적으로 1 내지 1,000㎛ 범위 내의 웰 두께를 가질 수 있다.
저항 제어층(1c)는 종종 대전 부재의 표면 저항을 조정하기 위해 조정된다.
특히, 저항 제어층(1c)용 재료는 폴리아미스 수지, 폴리우레탄 수지, 플로린 수진 및 실리콘 수지와 같은 수지, 및 에필클로로하이드린 루머, 우레탄 루버, 클로로프렌 루버 및 아크릴로니트릴 루버를 포함할 수 있다. 저항 조정을 위해, 도전제는 저항제어층(1c)에 분산될 수 있고, 카본 블랙 및 카본 그라피이트와 같은 도전 입자, 알칼리 금속염 밀 암모늄염 뿐만 아니라 도전 티타늄 산화물, 도전 아연 산화물, 및 도전 주석 산화물과 같은 도전 금속 산화물을 포함한다.
본 발명에 사용된 미립자는 윤활도를 튜빙층(1d)와 이것의 하부층간의 경계에 전할 수 있다. 양호한 실시예로서, 이것은 미세 수지 입자, 고체 윤활제, 자기 물질, 금속 산화물, 미세 실리카 입자, 카본, 칼슘 카보네이트 클레이(clay), 그라스 벌브 파우더(glass buib power) 및 토너를 포함할 수 있다. 본 발명에 영향을 미칠 수 있는 양이 추가될 수 있고, 입자 제한은 없다
특히, 미세 수지 입자는 폴리스티렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀 수지, 우레탄 수지 또는 루버, 폴리아미드 수지, 실리콘 수지 또는 루버, 플로린 수지 또는 루버, 퍼널 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지 등의 미립자를 포함할 수 있다.
고체 윤활제로서, 그라파이트, 탤크, 미카 등이 사용될 수 있다.
자기 물질은 마그네타이트, 헤마타이트 및 페라이트와 같은 철 산화물, 철, 코발트 및 니켈과 같은 금속, 또는 알루미늄, 코발트 쿠퍼, 리드 마그네슘, 주석, 아연, 안티몬, 베릴륨, 비스무트, 카드뮴, 칼슘, 망간, 셀레늄, 티타늄, 텅스턴 또는 바나디움(vanadium)과 같은 금속을 갖고 있는 임의의 금속 합금 또는 혼합물을 포함할 수 있다.
금속 산화물은 마그네슘 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물, 알루미늄 산화물, 아연 산화물, 안티몬 산화물 및 주석 산화물을 포함할 수 있다.
실리카로서, 처리되지 않은 미세 실리카 파우더가 사용될 수 있다. 또, 이것은 실리콘 니스, 다양한 모양의 변형된 실리콘 니스, 실리콘 오일, 다양한 모양의 변형된 실리콘 니스, 실리콘 오일, 다양한 모양의 변형된 실리콘 오일, 실란 커플링제, 기능별 그룹을 갖고 있는 실란 커플링제, 기능별 그룹을 갖고 있는 실란 커플링제, 및 다른 실리콘 화합물을 포함하는 처리제, 또는 다른 다양한 처리제를 포함할 수도 있다
본 발명에 사용된 미립자의 평균 입자 크기는 50㎛ 이하이고, 양호하게는 0.01 에서 50㎛ 까지이다. 이러한 평균 입경은 전자 마이크로스코프를 사용하여 무작위로 선택된 100개의 입자의 입경을 측정하고, 100개의 입자 수로 이들의 총 합을 나눔으로써 얻어진 단순 평균값이다. 그러나, 모든 입자가 항상 구형이 아니기 때문에, 큰 축 직경 및 작은 축 직경을 종합하고 합을 2로 나눔으로써 얻어진 값은 개별 입자의 입경으로서 간주된다. 입자가 50㎛를 초과하는 평균 입경을 갖고 있을 경우, 대전 부재의 표면은 튜빙으로 덮혀있더라도 이러한 입자로 인해 불균일하거나 기복이 있게 되어, 소정의 경우 평활도가 손실된다. 결과적으로, 대전 부재 및 감광 부재가 접촉되는 접촉 대전 시스템에서, 대전 부재와 감광 부재간의 접촉은 불균일한 상태로 되고, 갭은 이들 사이에 부분적으로 형성되어 대전을 악화시킨다.
본 발명의 대전용 롤러가 사용될 때, 이것의 표면 불규칙성은 대전용 롤러와 감광 부재간의 관계가 접촉이거나 비접촉인 것에 관계없이 대전용 롤러가 거친 표면을 가지고 있을 경우 정교한 전하 불균일성이 발생될 수 있어, 결과적으로 결함이 있는 화상을 발생시킬 수 있다. 그러므로, 대전용 롤러는 표면 거칠기의 JIS B0601 기준에 따라 양호하게 평활한 표면을 갖고 있고, 100㎛ 이하, 더 양호하게는 15㎛ 이하의 10개의 평균 표면 거칠기 RZ를 가질 수 있다.
대전 부재는 양호하게 104에서 104Ω.cm까지의 범위 내의 체적 저항을 가질수도 있다. 이것이 104Ω.cm이하이고, 핀홀이 몇몇 이유로 감광 부재에 발생되고, 핀홀이 존재하는 부분이 감광 부재 및 대전 부재가 납을 형성하는 대전 존(charging zone)일 경우, 누설 전류는 대전 부재 및 감광 부재의 핀홀을 가로질러 발생되어 전원시 전압의 큰 강하를 발생시킨다. 그러므로, 누설 동안, 전체 길이 방향으로 대전 부재와 감광 부재간의 닙에서 대전 불량이 되기 때문에, 실제 화상에서, 반전 현상이 블랙 스트라이프가 나타나고, 정규 현상시 화이트 스트라이프가 나타나는 불균일한 화상이 감광 부재의 회전 주기마다 나타나 불량 화질이 된다. 한편, 1014Ω.cm을 초과한 경우, 대전 부재의 저항은 원하는 전위에서 감광 부재를 대전시키기에 저항이 너무 높기 때문에 대전 불량이 된다. 이 문제점은 공급되는 전압을 대응적으로 증가시킴으로써 해결될 수 있지만, 효율이 매우 나빠져 실용적이지 못하다.
본 발명에서, 체적 저항은 JIS K6911에 따라 측정된다.
제4도는 일차 대전 수단으로서 본 발명의 대전 부재를 갖는 프로세스 카트리지를 갖고 있는 전자 사진 장치의 구성을 개략적으로 도시한 것이다.
제4도에서, 참조 번호(2)는 전자 사진 감광 부재를 표시하고, 제공된 주변 속도로 화살표 방향으로 축(3) 주위를 회전한다. 감광 부재(2)는 본 발명의 대전 부재(1)을 통해 주어진 포지티브 또는 네가티브 전위로 주변에 균일하게 대전되어, 일차 대전 수단으로서 작용한다. 따라서, 대전된 감광부재는 슬릿 노출 또는 레이저 빔 스캐닝 노출의 화상 노출 수단(도시하지 않음)으로부터 방출된 광(4)에 광 화상으로 노출된다. 따라서, 정전 잠상은 감광 부재(2)의 주위에 연속적으로 형성된다.
따라서, 형성된 정점 잠상은 현상 수단(5)의 동작으로 토너에 의해 연속적으로 현상된다. 그 다음, 최종 토너 현상 화상은 감광 부재(2)의 회전과 동기화 방식으로, 종이 공급부(도시하지 않음)에서 감광 부재(2)와 전사 수단(6) 간의 부분까지 공급된 전사 매체(7)의 표면에 전사 수단(6)의 동작으로 연속적으로 전사된다.
화상이 전사된 전사 매체(7)은 감광 부재의 표면으로부터 분리되고, 화상이 고정되는 화상 고정 수단(8)을 통해 옮겨진 다음, 복사기(카피)와 같은 장치로 인쇄된다.
화상의 전사 후의 감광 부재(2)의 표면은 세척 수단(9)를 통해 전사후에 남아 있는 토너가 제거된다. 따라서, 감광 부재는 이들 표면에서 세척되고, 예비 노출수단(도시하지 않음)으로부터 방출된 예비 노출 광(10)에 의해 대전을 제거한 다음, 화상 형성용으로 반복적으로 사용된다. 본 발명에서, 대번 부재(1)의 접촉 대전 부재이기 때문에, 예비 노출은 반드시 필요하지 않다.
본 발명에서, 장치는 상기 전자 사진 감광 부재(2), 대전 수단(1), 현상 수단(5) 및 세척 수단(9)와 같은 구성으로 프로세스 카트리지와 일체로 결합된 다수의 부품결합으로 구성될 수 있기 때문에, 프로세스 카트리지는 복사기 또는 레이저 빔 프린터와 같은 전자 사진 장치의 본체로부터 분리가능하다. 예를 들면, 전자 사진 감광 부재(2), 현상 수단(5) 및 세척 수단(9) 중 적어도 하나는 장치의 본체로부터 분리가능한 프로세스 카트리지(11)을 형성하기 위해 카트리지에 일체로 지지될 수 있다.
전자 사진 장치가 복사기 또는 프린터로서 사용할 때의 경우에, 화상 노출 광(4)는 원고 또는 원고를 센서로 판독하고 정보를 신호로 전환시킴으로써 얻어진 신호에 따라 레이저 빔의 스캐닝, LED 어레이의 구동 또는 액정 셔터 어레이의 구동에 의해 조사된 광으로부터 반사되거나, 상기 광을 통해 투과된 광이다.
본 발명은 주어진 예로 상세히 기술하겠다.
[실시예 1]
본 발명의 대전 부재와 같은 대전용 롤러는 다음의 절차에 따라 형성된다.
상기 재료는 20℃ 로 냉각된 밀폐 혼합기를 사용하여 20분 동안 혼합하여 재료 화합물을 준비하기 위해, 60℃로 제어된 밀폐 혼합기를 사용하여 10분 동안 혼합된 다음 30 중량부의 나프탈렌 오일이 100 중량부의 SBR에 기초하여 추가된다. 재료 화합물에 대해 0.5 중량부의 유황 가황제 및 1 중량부의 티아졸형 가황 악셀레이터 및 1 중량부의 시우륨형(thiurum type) 가황 악셀레이터가 20℃ 로 냉각된 트윈 롤 밀을 사용하여 10분동안 혼합되어 재료 루버 SBR의 100 중량부에 기초하여 모두 추가된다. 이에 따라 얻어진 화합물은 외부 직경이 12mm의 모양을 갖도록 탄성층을 형성하기 위해 프레스 몰딩기를 사용하여 6mm 직경이 스테인레스 스틸 맨드릴 둘레로 강황 몰드된다.
탄성층 상에는 후술하는 바와 같은 튜빙층이 형성된다.
먼저, 상기 재료는 열 수축 전에 내부 직경이 14mm이고 웰 두께가 100 ㎛인 튜빙을 얻기 위해 스크래취되도록 용해 혼합된 튜브로 분출된다. 탄성층을 갖고 있는 롤러를 이 튜빙에 쉽게 삽입시키기 위해, 미립자로서 작용하는 실리콘 수지 파우더는 탄성층의 표면에 접착되게 제조된 다음, 튜빙층을 형성하기 위해 튜빙을 카트리지 롤러의 열 수축시키도록 2분동안 100℃로 가열시켜 탄성층을 갖고 있는 롤러는 튜빙의 내측에 삽입된다. 따라서, 본 발명의 대전용 롤러가 얻어진다. 미립자로서 사용된 실리콘 수지 파우더의 평균 입경은 5㎛이다.
이에 따라 얻어진 대전용 롤러의 주위에 따라, 폭이 10mm 인 알루미늄 호일은 밀접 접촉으로 감겨져 있고, 직류 전압(250V)는 저항 메터 HIOKI 3119 DEGITAL MΩ HITESTER(Hioki Denki K. K.사 제품)를 사용하여 23.5℃의 온도 및 50%의 습도(실시예 1)의 환경에서 대전용 롤러의 저항을 측정하기 위해 지지체 및 알루미늄 호일 양단에 적용된다. 얻어진 결과가 표1에 도시되어 있다.
또, 얻어진 대전 롤러의 표면 거칠기 (Rz)는 이미 기술된 방법으로 측정된다.
얻어진 결과는 표 1에 도시되어 있다.
대전용 롤러는 버진 프로세스 카트리지(vergin process cartridge : 상푸명 : EP-E 토너 카트리지)로 설정되고, 레이저 빔 프린터(상품명 : LBP-8 Mark IV : 캐논 코포레이션사 제품)의 일차 대전 어셈블리에 위치된 대전용 롤러로서 사용되어 6,000장 화상 재생 러닝 테스트를 행한다. 초기 단계시 및 6,000장 러닝 후에 얻어진 화상은 화질을 평가하는데 사용된다. 얻어진 결과는 표2에 도시되어 있다. 표2에서 A는 얻어진 화상이 우수하다는 것을 표시하고, B는 실제로 사용가능하다는 것을 표시하며, C는 실제로 사용 불가능함을 표시한다.
상기 화상 재생 러닝 테스트는 23.5 ℃의 온도 및 50 %의 습도제(실시예 1), 15 ℃의 온도 및 10%의 습도(실시예 2) 및 30℃의 온도 및 80%의 습도(실시예 3)에서 행해진다
[실시예 2]
대전 부재는 다음 절차를 따라 본 발명의 프로세스로 재순환하여 재생산된다.
레이저 빔 프린터(상품명 : LBP-8 Mark IV : 캐논 코포레이션제)에 사용된 프로세스 카트리지(모델명 : EP-E 토너 카트리지 : 토너의 평균 입경 : 6 ㎛)는 화상이 6,000장 재생된 후 분리된다. 이것의 대전용 롤러는 프로세스 카트리지로부터 꺼내져서 본 발명의 대전용 롤러의 베이스로서 사용된다. 재생산전의 대전용 롤러는 도전지지체, 탄성층 제1 저항 제어층 및 제2 저항 제어층을 포함한다. 대전용 롤러의 표면을 얻기 위해, 파우더형 디벨롭퍼(토너)가 접착된다. 대전용 롤러의 외부 직경은 12mm이다.
공기는 상기 대전용 롤러의 표면에 약간 불어, 그 후 후술하는 바와 같이 피복층은 이들 사이에 형성된다.
먼저, 상기 재료는 열 수축 전에 내부 직경이 15mm이고 웰 두께가 40 ㎛인 튜빙을 얻기 위해 스크래취되도록 용해 혼합된 튜브로 분출된다. 상기 대전용 롤러는 100℃로 2분 동안 가열되어 이들 상에 튜빙층을 형성하도록 튜빙의 내측에 삽입된다. 따라서 본 발명의 대전용 롤러가 얻어진다. 본 실시예에서, 이것이 사용된 후 대전 부재의 표면에 접착된 파우더 디벨롭퍼는 미립자로서 작용한다.
이에 따라 얻어진 대전용 롤러는 평가는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 도시되어 있다.
[실시예 3]
탄성층을 갖고 있는 롤러는 실시예 1과 동일 방식으로 준비되고, 후술한 바와 같은 수지 제어층은 대전 부재의 표면 저항을 조정하기 위해 탄성층 상에 형성된다.
저항 제어층용 재료로서, 상기 재료는 메틸 에텔 케톤(methyl ethyl ketone : MEK) 용액 내에 분산 용해되어 코팅 혼합을 준비한다. 이 코팅 혼합물은 딥핑함으로써 탄성층 상에 피복되어, 100㎛의 층 두께의 저항 제어층을 형성한다.
다음에, 저항 제어층 상에 후술한 바와 같은 튜빙층이 더 형성된다.
먼저, 상기 재료는 열 수축 전에 내부 직경이 1.45mm이고 웰 두께거 70㎛인 튜빙을 얻기 위해 스크래취도도록 용해 혼합되어 튜브로 분출된다. 미립자로서, 미세 주석 산화 입자는 저항 제어층의 표면에 접착하도록 형성된 다음, 탄성층 및 저항 제어층을 갖고 있는 롤러는 이들 상에 튜빙층을 형성하기 위해 튜빙을 대전용 롤러에서 열 수축시키기 위해 2분동안 100℃로 가열하여 튜빙의 내측에 삽입된다. 따라서 본 발명의 대전용 롤러가 얻어진다.
미립자로서 사용된 미세 주석 산화 입자의 평균 입경은 0.2㎛이다.
이에 따라 얻어진 대전용 롤러의 평가는 실시예 1과 동일 방식으로 행해진다. 얻어지는 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
[실시예 4]
대전용 롤러는 튜빙층으로 사용된 카본 블랙이 30 중량부의 도전 티나늄 산호물로 대체되는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다.
이에 따라 얻어진 대전용 롤러의 평가는 실시예 1과 동일 방식으로 행해진다. 어더지는 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
[실시예 5]
대전용 롤러는 미립자로서 사용된 실리콘 수지 파우더는 그라파이트로 대체되는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 평가는 유사하게 행해진다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다. 미립자로서 사용된 그라파이트의 평균 입경은 7㎛이다.
[실시예 6]
대전용 롤러는 미립자로서 사용된 나일론 12가 100 중량부의 폴리우레탄 수지로 대체되고, 미립자로서 사용된 실리콘 수지 파우더는 미세 실리칸 파우더로 대체되는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 평가는 유사하게 행해진다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
[실시예 7]
대전용 롤러는 튜빙층으로 사용된 카본 블랙이 2 중량부의 리듐 과염소산염으로 대체되는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 평가는 유사하게 행해진다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
[실시예 8]
대전용 롤러는 미립자가 탄성층의 표면이 아닌 튜빙층의 내부면에 접착되도록 제조되는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 평가는 유사하게 행해진다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
[실시예 9]
실시예 2의 절차는 공기 분출 대신에 대전 부재가 MEK(methyl ethyl ketone)로 습식된 세척 와이퍼로 와이퍼되는 것을 제외하고 반복된다. 평가는 유사하게 행해진다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다.
MEK로 습식된 세척 왕이퍼로 와이퍼되는 대전 부재의 표면은 적외선 흡수 분석 및 X선 마이크로스코프로 분석된다. 결과적으로, 폴리스틸렌 수지, 자기 물질, 실리카 등이 결정된다. 토너가 접착된 대전용 롤러가 MEK와 같은 용액으로 와이퍼될지라도, 이것에 접착되는 토너는 완전히 제거될 수 없다. 그러므로, 파우더 디벨롭퍼 또는 이들 부분은 튜빙층과 제2 저항 제어층간에 존재한다.
[비교예 1]
대전용 롤러는 미립자로서 사용된 주석 산화물 입자가 사용되지 않는 것을 제외하고는 실시예 3과 동일 방식으로 제조된다. 결과적으로, 튜빙은 저항 제어층에 스틱되는 경향이 있어, 롤러를 삽입하기 어렵게 제조된다. 또, 얻어진 대전용 롤러의 튜빙층은 주름이 형성되는 것을 알 수 있다. 그러므로, 코팅 혼합물의 물리적 특성은 계산되지 않고, 화상만이 실시예 1과 동일 방식으로 계산된다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 도시되어 있다.
[비교예 2]
레이저 빔 프린터(상품명 : LBP-8 Mark IV : 캐논 코포레이션제)에 사용된 프로세스 카트리지(모델명 : EP-E 토너 카트리지)는 화상이 5,000장 재생된 후 분리된다. 이것의 대전용 롤러는 프로세스 카트리지로 취해진다. 얻어진 대전용 롤러의 표면에는 파우더형 디벨롭퍼(토너)가 접착된다.
이 대전용 롤러는 이것과 같은 버진 프로세스 카트리지(모델명 : EP-E 토너 카트리지)로 세트되고, 레이저 빔 프린터(상품명 : LBP-8 Mark IV : 캐논 코포레이션제)에 사용된 프로세스 카트리지(모델명 : EP-E 토너 카트리지)로 사용된다. 평가는 실시예 1과 동일 방식으로 제조된다. 얻어진 결과는 표1 및 표2에 표시되어 있다. 여기에서, 저항의 측정 및 표면 거칠기의 측정은 화상 재생 러닝 테스트 전에 대전용 롤러에 제조되고, 파우더형 디벨롭퍼는 이것의 표면에 접착된다.
실시예 2에서, 대전용 롤러의 오염으로 인한 불균일 대전은 화상 재생 러닝 테스트의 후절반 단계(4,500장)시 하프론 화상 면적에 발생된다

Claims (23)

  1. 도전 지지체, 상기 도전 지지체 상에 형성된 탄성층, 및 상기 탄성층 상에 형성된 튜빙층을 포함하고, 미립자는 상기 튜빙층과 상기 튜빙층 아래에 제공된 층간에 서로 접촉되어 존재하는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 50㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  3. 제2항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 1㎛ 에서 50㎛까지인 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립자는 수진, 고체 윤활체, 자기물질, 금속 산화물, 실리칸 및 토너로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료의 미립자인 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어는 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 전자 사진에 사용되는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  6. 제5항에 있어서, 상기 대전 부재는 전자 사진 감광 부재와 접촉 상태로 제공되고, 전압의 인가에 따라 전자 사진 감광 부재를 정전기적으로 대전시키는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 로러 모양을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 재생산되는 대전 부재인 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  9. 도전 지지체, 상기 도전 지지체 상에 형성된 탄성층, 및 상기 탄성층 상에 형성된 튜빙층을 포함하는 대전 부재를 제조하는 프로세스에 있어서, 상기 튜빙층이 형성된 표면 또는 상기 튜빙의 내부면 중 적어도 하나에 접착되도록 미립자가 형성되거나 남겨진후, 적어도 상기 탄성층을 갖고 있는 지지체를 튜브 내측으로 삽입시킴으로써 상기 탄성층에 상기 튜빙층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  10. 제9항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 50㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  11. 제10항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 1㎛에서 50㎛까지인 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립자는 수지, 고체 윤활제, 자기 물질, 금속 산화물, 실리칸 및 토너로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료의 미립자인 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  13. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 전자 사진에 사용되는 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  14. 제13항에 있어서, 상기 대전 부재는 전자 사진 감광 부재와 접촉 상태로 제공되고, 전압의 인가에 따라 전자 사진 감광 부재를 정전기적으로 대전시키는 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  15. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 로럴 모양을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  16. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제조 프로세스는 대전 부재를 재생하는 프로세스인 것을 특징으로 하는 대전 부재 제조 프로세스.
  17. 대전 부재를 갖고 있는 대전 수단, 및 전자 사진 감광 부채, 현상 부재 및 세척 수단으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 추가 수단을 포함하고, 상기 대전 부재는 도전 지지체 상에 탄성층 및 상기 탄성층 상에 튜빙층을 갖고 있으며, 미립자는 상기 튜빙층과 상기 튜빙층 아래에 제공된 층간에 서로 접촉하여 존재하고, 상기 대전 부재 및 상기 추가 수단은 전자 사진 장치의 본체에 일체로 지지되고, 상기 본체로부터 분리가능한 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  18. 제17항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 50㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  19. 제18항에 있어서, 상기 미립자의 평균 입경이 1㎛에서 50㎛까지인 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  20. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립자는 수지, 고체 윤활제, 자기 물질, 금속 산화물, 실리카 및 토너로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료의 미립자인 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  21. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 전자 사진 감광 부재와 접촉 상태로 제공되는 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  22. 제17항에 내지 제19항에 있어서, 상기 대전 부재는 롤러 모양을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
  23. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전 부재는 재생산되는 대전 부재인 것을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.
KR1019950035757A 1994-10-18 1995-10-17 대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지 KR0171166B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27724094 1994-10-18
JP94-277240 1994-10-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960015111A KR960015111A (ko) 1996-05-22
KR0171166B1 true KR0171166B1 (ko) 1999-03-30

Family

ID=17580778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950035757A KR0171166B1 (ko) 1994-10-18 1995-10-17 대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5705274A (ko)
EP (1) EP0708381B1 (ko)
KR (1) KR0171166B1 (ko)
CN (1) CN1091890C (ko)
DE (1) DE69525213T2 (ko)
SG (1) SG52177A1 (ko)
TW (1) TW325532B (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6020054A (en) * 1995-09-19 2000-02-01 Bridgestone Corporation Charging member and device
JP3000944B2 (ja) * 1996-06-24 2000-01-17 富士ゼロックス株式会社 半導電性部材および半導電性クリーニング兼除電ブレード
KR100204554B1 (ko) * 1997-02-28 1999-06-15 백정호 대전 롤러의 제조방법
US6620476B2 (en) * 1999-08-13 2003-09-16 Xerox Corporation Nonbleeding fluorinated carbon and zinc oxide filled layer for bias charging member
JP4887902B2 (ja) * 2006-05-18 2012-02-29 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 現像ローラ、及び該現像ローラを用いた画像形成方法
JP5088565B2 (ja) * 2007-03-09 2012-12-05 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 現像ローラ、及び、該現像ローラを用いた画像形成方法
JP2009237463A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Konica Minolta Business Technologies Inc 現像ローラ
KR101264513B1 (ko) * 2008-10-31 2013-05-14 캐논 가부시끼가이샤 대전 부재, 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치
KR101216263B1 (ko) * 2008-10-31 2012-12-28 캐논 가부시끼가이샤 대전 롤러, 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치
KR101454135B1 (ko) * 2010-08-20 2014-10-22 캐논 가부시끼가이샤 대전 부재
JP6555526B2 (ja) * 2015-10-13 2019-08-07 住友ゴム工業株式会社 半導電性ローラ

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60136774A (ja) * 1983-12-26 1985-07-20 Ricoh Co Ltd 現像剤担持体とその製造方法
JPH0664393B2 (ja) * 1988-02-11 1994-08-22 キヤノン株式会社 帯電用部材、それを有する接触帯電装置、それを用いた接触帯電方法およびそれを有する電子写真装置
JP2860404B2 (ja) * 1989-03-03 1999-02-24 キヤノン株式会社 帯電部材および該帯電部材を有する電子写真装置
JPH0689051A (ja) * 1992-09-07 1994-03-29 Canon Inc 接触帯電装置及び画像形成装置
US6096395A (en) * 1992-12-16 2000-08-01 Tokai Rubber Industries, Ltd. Roll including foam body and method of producing the roll

Also Published As

Publication number Publication date
CN1091890C (zh) 2002-10-02
SG52177A1 (en) 1998-09-28
EP0708381B1 (en) 2002-01-30
TW325532B (en) 1998-01-21
CN1132951A (zh) 1996-10-09
US5705274A (en) 1998-01-06
KR960015111A (ko) 1996-05-22
EP0708381A2 (en) 1996-04-24
EP0708381A3 (en) 1996-12-27
DE69525213D1 (de) 2002-03-14
DE69525213T2 (de) 2002-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930002017B1 (ko) 충전부재
KR0171166B1 (ko) 대전 부재, 대전 부재 제조 프로세스 및 대전 부재를 갖고 있는 프로세스 카트리지
JP3729123B2 (ja) 帯電装置及びこれを用いた画像形成装置
JP4654727B2 (ja) 半導電性ベルト及びこれを用いた画像形成装置
EP0708382B1 (en) Process for remanufacturing a charging member
JP4114991B2 (ja) 画像形成装置
JP3605007B2 (ja) 画像形成装置
JP7499336B2 (ja) 導電性ロールの検査方法および導電性ロールの製造方法
JPH07134467A (ja) 帯電部材及び電子写真装置
JP2007225708A (ja) 導電性ロール及びその製造方法、帯電ロール、転写ロール、クリーニングロール並びに画像形成装置
JP6784079B2 (ja) 帯電部材、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JPH07152222A (ja) 帯電部材及び帯電装置
JP2003207966A (ja) 電子写真用部材及び画像形成装置
JP3278331B2 (ja) 帯電部材、該帯電部材の製造方法及び該帯電部材を有するプロセスカートリッジ
JPH1039647A (ja) 画像形成装置
JP2567101B2 (ja) 帯電用部材、帯電装置および電子写真装置
JP4765549B2 (ja) 転写ロール、及び画像形成装置
US20230288835A1 (en) Conductive roller
US11947272B2 (en) Conductive roller, image forming apparatus, and inspection method for conductive roller
JP2002132014A (ja) 帯電部材及び該帯電部材を有する画像形成装置
JP2003066693A (ja) 帯電ローラ及び該帯電ローラを備える画像形成装置
JPH11160960A (ja) 帯電部材及び電子写真装置
US20200341403A1 (en) Charging device, process cartridge, and image forming apparatus
JP4048355B2 (ja) クリーニング装置及びこれを用いた画像形成装置
JP3505951B2 (ja) 現像ロール

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120924

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130926

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee