KR0149497B1 - 패턴의 수정방법 - Google Patents

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도시아끼 기꾸지
히도시 고오노
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후꾸오까 고로오
쿄오도오 인사쓰 가부시기가이샤
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Abstract

본 발명은, 기판의 한쪽 면에 형성한 일부에 결함을 갖는 패텬을 수정하는 기술에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 패턴수정기술은, 패턴(20)을 포함하는 기판(12)의 한쪽 면을 수정용보호막(60)으로 덮는 공정, 결함(30,40,50)이 있는 부분에 대하여, 기관(12)의 한쪽 면을 노출하는 공정, 노출한 기판(12)의 한쪽 면의 부분을 수정용재료(70)로 메우는 공정, 그리고 수정용보호막(60)을 제거하는 공정을 포함한다.
수정용보호막(60) 및 수정용재료(70)의 어느 한 쪽은 물에 용해되는 재료로 이루어지고, 다른 쪽은 기름에 용해되는 재료로 이루어진다.

Description

[발명의 명칭]
패턴의 수정방법
[발명의 상세한 설명]
[기술분야]
본 발명은, 기판의 한쪽 면에 형성한, 일부에 결함을 갖는 패턴(pattern)을 수정하는 기술에 관하며 특히, 패턴의 두께가 예를들면, 0.5~1.5㎛정도, 혹은 그 이상의 비교적 두꺼운 것의 수정에 유효하게 이용할 수 있는 기술에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은, 반도체장치등의 제조에 사용되는 포토마스크보다도 예를들면, 컬러액정표시패널에 있어서 컬러필터등의 수정에 보다 적합한 기술이다.
[배경기술]
일반적으로, 포토마스크 상의 결함을 수정한다고 하는 생각은 주지의 사실이다. 그 수정의 필요성은, 포토마스크가 대면적으로 됨에 따라 높아지고 있다.
이 포토마스크 상의 패턴을 수정한다고 하는 생각은, 관련된 다른분야, 예를들면 컬러액정표시패널에 있어서 컬러필터등의 수정에도 적용되고 있다.
그러나, 이들 각 기술은 기판의 한쪽 면에 형성한, 일부에 결함을 갖는 패턴의 수정이라는 점에서 모두 공통되어 있다.
예를들면 특개소 54-32978호의 공보에서는, 주로 포토마스크의 패턴결함을 수정할 때에, 레이저광의 조사(照射)에 앞서서 기판표면의 적어도 패턴표면상에 보호막을 형성하고, 기판표면을 보호한 상태에서 레이저광의 조사를 행함으로서, 레이저광에 의하여 제거한 것이 다른 부분에 비산(飛散)하여 부착하여, 새로운 결함을 방지하는 기술을 나타내고 있다.
또, 특개소 62-191804호의 공보에서는 컬러필터에 부착되어 있는 이물질을, 파장 1㎛이하의 레이저광을 조사함으로서, 이물질에 가까이 있는 컬러필터의 구성물질과 더불어 제거하는 기술을 표시하고 있다.
그런데, 이물질을 제거한 부분을 그대로 방치한 상태에서는 이것이 공백상태로 되어 별도의 결함으로 되어 버린다.
이 때문에 공백부분을 패턴재료 또는 기타 수정용 재료로 메우는 것이 필요하다.
특히, 컬러필터의 수정에 있어서는 메운 수정용 재료의 막 두께를, 원래 패턴 즉, 본래의 패턴의 두께와 같게 하는 것을 고려해야 한다.
이점, 특개소 61-122605호의 공보는, 컬러필터 색소의 누락부(漏落部)를 수정 또는 수복하는 기술로서 우선 색소층을 포함하는 기판의 전체 면에 포토레지스트를를 도포하고, 계속하여 레이저의 조사에 의하여 색소의 누락부를 포함하는 색소층의 일부를 포토레지스트와 같이 제거하여 기판을 노출시키고, 기판에 색소층을 증착에 의하여 형성하고, 그후 잔류 포토레지스트를 용해 제거하는 방법을 표시하고 있다.
이 방법에 의하면, 수정을 위한 색소층을 수정할 원래의 색소층과 같은 조건으로 증착 형성함으로서, 수정한 부분의 색소층의 두께를, 처음 패턴의 두께와 거의 같게 할 수 있다.
그러나, 이렇게 한 컬러필터의 수정기술은 색소 누락부의 수정을 각 색마다, 즉, 1색조의 패턴을 형성하고, 그후 그 1색조의 패턴의 수정, 계속하여 2색조의 패턴을 형성하고 그후 그 2색조의 패턴의 수정,… 이와 같은, 수정 또는 색의 수만큼 행하여야 한다.
본 발명자등은, 컬러필터와 같이 복수종류의 패턴을 갖는 것에 대한 수정을 보다 간편하게 실시하는 방법에 대하여 여러 가지 검토하였다.
그 결과, 복수종류의 패턴을 모두 형성한 후, 그들 각 패턴에 대하여 한번에 수정하는 방법에 착안하였다.
이 한번에 수정하는 방법은, 수정할 복수의 부분, 그것도 장소에 따라서는 서로 다른 종류의 패턴부분에, 각각 부분적으로 수정용 재료를 메우는 방법을 채택한다.
제2도는 다른 물질들을 제거하고 기판(1)의 한쪽 면이 노출한 수정할 부분에, 수정용재료(2)를 도포한 상태를 표시하고 있다.
수정용재료(2)는 패턴(3)의 결함부분을 메우는 것과 동시에 일부는 수정용보호막(4)의 내주 및 수정용보호막(4)의 윗면에도 부착한다.
수정용보호막(4)상의 재료(2a)는, 보호막(4)을 제거함으로써 제거할 수 있지만, 보호막(4) 내주 부분의 재료(2b)는 제거하는 것이 곤란하다.
그 결과, 내주부분의 재료(2b)가 결함부분을 메운재료(2c)이 가장자리부분에 돌기 상태로 남고 새로운 결함으로 될 염려가 있다.
이 점은 수정용보호막(4)을 두껍게, 구체적으로는 1.5㎛이상으로 형성한 경우, 내주(內周)부분에 남는 재료(2b)의 높이가 높아지므로, 컬러필터와 같이 패턴(3)의 두께자체가 포토마스크의 경우에 비하여 두꺼운 것은 이렇게 문제가 보다 현저하다.
또, 컬러필터의 경우에는, 이와 같은 돌기에 의하여 표시품질의 저하를 초래하고 그 영향은 크다.
[발명의 개시]
본 발명은, 이상의 점을 고려하여 이루어진 것으로, 수정을 위하여 패턴의 결함부분에 부분적으로 메워넣는 잉크등의 수정용재료의 가장자리부분에 돌기 상태의 것이 생기기 어렵게 하고, 수정을 유효하게 행할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서는, 일부에 결함을 갖는 패턴을 수정하는 방법으로서,
(a) 패턴을 포함하는 기판의 한쪽 면을 수정용보호막으로 덮는 제1공정.
(b) 결함이 있는 부분에 대하여, 기판의 한쪽 면을 노출하는 제2공정.
(c) 노출한 기판의 한쪽 면 부분을 수정용재료로 메우는 제3공정.
(d) 수정용 보호막을 제거하는 제4공정.
을 각각 포함하여, 그리고 수정용보호막 및 수정용재료 중 하나의 재료가 물에 용해되는 재료이고, 다른 하나가 기름에 용해되는 재료로 형성되는 기술을 채용한다.
그리고, 수정용보호막 및 수정용재료가, 예를들면 전자를 친유성(親油性)물질과 융합하지 않는 성질인 발유성(撥油性)으로, 후자를 기름에 용해되는 성질인 유용성으로 하였을 때 수정용재료를 도포하면, 그 재료가 보호막의 내주에 부착하기 어렵고, 따라서 상기한 돌기상태의 것이 남기 어려워진다.
이 경우, 수정용보호막은 될 수 있는 대로 얇게 형성하는 것이 바람직하다.
예를 들면 컬러필터의 수정에 있어서, 보호막이 패턴 위의 전체 면을 덮으므로, 그 막두께를 0.5~2.0㎛, 특히 바람직하기로는 0.5~1.5㎛의 범위로 하는 것이 좋다.
이 범위에 있으면 돌기부분의 높이를 1.0㎛이하로 억제하는 것이 가능하다.
[도면의 간단한 설명]
제1a도 내지 제1e도는 그 발명의 일 실시예를 표시하는 프로세스도.
제2도는 본 발명이 해결하는 문제점을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
[발명을 실시하기 위한 최량의 형태]
공정순으로 표시하는 제1a도 내지 제1e도를 참조하면서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
[제1a도]
수정할 대상은, 컬러필터(10)이다.
컬러필터(10)는, 투명한 유리판으로 지지기판(12)의 평탄한 한쪽 면에, 3원색인 적(R), 녹(G), 청(B)의 3색의 색화소(20)(경우에 따라서 각 색화소의 경계부분에 흑색등의 채광패턴을 포함하는 경우가 있다)를 갖는다.
색화소(20)에는 3종류의 결함이 발견된다.
하나는 다른 물질에 의한 결함(30)이고, 또 하나는, 혼색에 의한 결함(40), 나머지 하나는 공백의 결함(50)이다.
제1의 결함(30)의 원인은 이물질(22)이고, 이 이물질(22)은 컬러필터(10)의 제조도중에 들어가는 먼지 또는 수지의 단편 등으로 그 크기는 수㎛ 내지 수십㎛이다.
이로 인한 결함(30)이 있으면, 액정표시패널의 표시품질이 저하하거나, 높이가 액정셀의 갭 이상 되면 쇼트의 원인이 된다.
또, 제2의 결함(40)은 컬러필터의 제조를 위한 포토마스크, 혹은 인쇄판의 더러워짐에 의하여, 필요로 하는 부분이외에 다른 색이 전사되어 생기는 결함이다.
예를 들면, 적(R)의 색화소(20)위에 청(B)의 색화소(20)가 일부 실린 상태이다.
이와 같은 결함(40)이, 예를 들면 지름 20㎛이상 되면 눈으로 보아 확인할 수 있고 그것이 크면 클수록 표시품질은 저하한다.
더욱, 제3의 공백의 결함(50)은, 컬러필터용수지 혹은 포토레지스트등의 전사불량에 의하여 생기는 결함이고 이것도 표시품질의 저하를 초래한다.
따라서, 이와 같은 결함(30),(40),(50)은 컬러필터(10)의 양질의 제품을 얻는 비율이 저하한다.
따라서, 양질의 제품을 얻는 비율을 향상시키기 위해서는, 또는 고품질의 제품을 얻기 위하여 수정의 기술이 사용된다.
더욱, 컬러필터(10)는, 고분자물질로 되는 재료를, 염료 또는 안료로 착색하여 만들어진 것으로 공지의 각 수법, 예를 들면 염색법, 인쇄법 또는 착색층을 패턴화 하는 방법등 어느 방법으로 만들어져도 좋다.
[제1b도]
수정할 때에 우선, 상기한 각 결함(30),(40),(50)을 포함하는 컬러필터(10)의 표면을 수정보호막(60)으로 덮는다.
보호막(60)의 재료로서, 후술하는 수정용재료(잉크)에 침해되지 않는 것을 사용한다.
수정용재료로서, 기름에 용해되는 성질의 수정용잉크를 사용하는 경우는, 보호막(60)에는 수용성 수지를 사용한다.
예를 들면, 착색 폴리이미드계의 수정용 잉크를 사용하는 경우, 보호막(60)에는 젤라틴, 카제인, PVA, 아라비아고무등이 좋다.
용재형식의 포토레지스트는 부정당하다.
그리고, 이 보호막(60)을 형성하기 위한 재료 중에는, 발유제를 첨가하는 것도 효과적이다.
레이저광의 감도 또는 흡수성을 증가시키기 위하여, 경우에 따라 염료, 또는 화합물을 첨가한다.
또, 수용성의 수정용 잉크를 사용하는 경우에는, 보호막(60)에는 기름에 용해되는 성질의 수지를 사용한다.
예를 들면 젤라틴계의 염색 컬러필터를 염료를 혼입한 젤라틴으로 수정하는 경우, 보호막(60)에는, OBC (東京應化社, 상품명), 또는 SILITECT(Trylaner Technologies Inc., 상품명)등이 좋다.
기름에 용해되는 성질의 보호막 중, 특히 친수성(親水性)물질과 융합하지 않는 성질인 발수성의 높은 재료로서 SILITECT가 좋다.
이 경우에도, 보호막(60)을 형성하는 재료 중에 발수제(撥水劑)를 첨가하는 것도 효과적이다.
수정용보호막(60)은 도포에 의하여 형성할 수 있고, 도포방법으로서, 스핀코팅(spin coating),로울코팅(roll coating), 브러시코팅(brush coating), 인쇄 또는 스프레이코팅(spray coating)등 여러 가지 방법을 이용할 수가 있다.
또, 보호막(60)은 전체면을 덮도록 하여도 좋고, 결함 주위를 부분적으로 덮도록 하여도 좋다.
[제1c도]
계속해서, 수정용보호막(60)으로 피복한 컬러필터(10)의 상부에서 레이저광을 조사함으로서, 각 결함(30),(40),(50)부분의 지지기판(12)의 표면, 결국 유리를 노출시킨다.
여기에 사용되는 레이저로서, 탄산가스레이저(파장10.6㎛) 또는, YAG:Nd레이저의 제2고주파(파장 0.53㎛) 혹은 퀴세논레이저등의 가시역(可視域)의 레이저, 엑시마 레이저등의 자외역(紫外域)의 레이저가 있다.
이들 중에서도 가시역 및 자외역의 레이저가 바람직하다.
탄산가스레이저의 경우는 컬러필터(10) 지지기판(12)의 표면부분에서 에너지가 흡수되어 열을 갖고 색화소(20) 및 수정용보호막(60)이 부분적으로 박리된다.
이에 대하여, 가시역 및 자외역의 레이저의 경우에는, 각 색화소(20)가 레이저광의 에너지를 흡수하기 쉽고, 색화소(20) 및 보호막(60)의 제거효율이 좋다.
따라서 수정용보호막(60)으로서도, 사용하는 레이저광의 파장부분에 흡수성을 갖도록 하는 것이 좋다.
또한, 이물질(22)에 의한 결함(30) 부분은 표면이 이물질(22)를 중심으로 산모양으로 되어 있으므로, 주변을 포함하는 상당히 대 면적을 제거하도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 레이저광을 사용하는 방법 만큼 고정도(高精度)는 아니지만 바늘등으로 물리적으로 제거하는 방법도 간편한 수법으로 이용할 수가 있다.
[제1d도]
지지기판(12)의 표면이 노출한 수정할 부분에 적.녹.청등의 수정용잉크를 도포하고 그 부분을 메운다.
이때, 수정할 부분은 상당히 작은 면적으므로, 필연적으로 수정용보호막(60)상에도 수정용잉크의 층(70)은 형성된다.
그러나, 수정용보호막(60)을 얇게 형성하거나, 또는 수정용보호막(60)의 재료가 수정용잉크 층(70)을 겉돌게 하는 성질을 갖게 하여, 보호막(60)의 내주부분의 잉크부착량을 상당히 적게 할 수 있다.
또, 지지기판(12)으로서 유리판이 일반적이지만, 레이저광으로 구멍을 뚫은 부분에 단지 수정용잉크를 메운 경우, 구멍 밑의 유리면과 수정용보호막(60)의 위에서의 수정용잉크의 젖는 성질이 다르기 때문에 수정용잉크가 수정할 부분에 균일한 두께로 부착하지 않는 경우도 있다.
이러한 경우에는, 수정용잉크의 도포에 앞서서, 수정용잉크의 희석액, 또는 수정용 잉크의 수지분(樹脂分)을 희석한 액, 또는 지지기판(12)과 수정용잉크과의 접착성을 향상시키는 수지의 희석액으로 전처리하면 좋다.
수정용재료인 잉크로서는, 기본적으로 수정할 각 색화소(20)와 같은 재질의 것을 선택하는 것이 좋다.
그러나, 재질은 반드시 같은 것으로 한정하지 않는다.
색도 가급적 동일하게 하는 것이 바람직하지만, 거의 같게 하면 문제는 없다.
복수개소 수정부분을, 예를 들면 검은계통 일색의 잉크, 또는 크롬등의 금속으로 메우므로서 수정공정을 간략화할 수가 있다.
수정용잉크의 메우는 법으로서는, 브러시코딩(brush coating), 인쇄, 스프레이 또는 스핀코팅등 여러 가지 방법을 사용할 수 있다.
그 중에서도 스핀코팅법은 메운 부분의 막의 두께를 색화소(20)의 두께와 같게 할 수 있는 점에서 가장 적합하다.
이 스핀코팅법은, 예를 들면 주사바늘을 사용하여 메운 부분에 소정량의 수정용잉크를 떨어뜨린 후, 지지기판(12)을 회전시킴으로서, 메운 부분의 수정용잉크의 두게를 색화소(20)의 두께와 같게 할 수 있다.
수정부분은 극히 작은 영역이므로, 수정용잉크는 부분적으로 도포할 수 있고 따라서 여러 색을 한번에 처리할 수도 있다.
물론, 색화소(20)의 크기에 비하여 면적이 작고, 품질상 문제로 되지 않는 부분은 수정을 필요로 하지 않느다.
[제1e도]
그리고, 수정용보호막(60)을 제거함으로써, 수정할 부분에만 수정용잉크(70)을 남긴다.
보호막(60)을 제거하는 방법으로서는, 용재 또는 물로 씻어내는 방법, 또는 물리적인 수단으로 표면에서 박리하는 방법을 사용할 수 있다.
또, 레이저광의 조사에 의하여 지지기판(12)의 표면을 노출시킬 때 가장자리부분이 부풀어오르고, 경우에 따라서 수정부분의 가장자리 높이가 액정패널의 셀 겝(cell gap), 예를들면 5㎛를 초과하게 되는 경우가 있다.
이와 같은 경우에는 가장자리의 높은 부분에 다시 레이저광을 조사하고, 높은 부분을 제거하도록 하는 것이 좋다.
수정용재료로서 피염색성의 감광성수지(感光性樹脂)를 사용할 수 있다.
이 경우 수정할 개소에 메운 감광수지를 스폿노광(spot露光)으로서 결함부분에만 감광성수지를 남길 수 있다.
그후, 남은 감광성수지를 염색하고, 계속하여 수정용보호막을 제거함으로서 수정을 완료한다.
더욱, 폴리이미드등의 수지 내에 염료, 안료등의 착색재를 혼입한 것을 패턴재료 및 수정용재료로서 사용하는 경우, 수정용보호막의 재료로서, 유기-무기계의 투명코오팅재, 예를들면 JHR(일본합성고무주식회사. 상품명)을 사용할 수 있다.
이 JHR는, 기판의 유리에 대하여 밀착성이 좋은데 비하여, 착색폴리이미드등에 대하여는 밀착성이 나쁘다.
그래서, 수정용재료를 메운 후, 점착테이프등을 사용하여 수정용보호막을 깨끗하게 제거할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명에 의하면 수정용보호막(60) 및 수정용재료(70)의 어느 한쪽이 물에 용해되는 재료로, 다른 한편이 기름에 용해되는 재료로 형성되어 있으므로 수정부분에 메운 잉크등의 수정용재료의 가장자리부분에 키가큰 돌기 모양을 남기는 일없이 수정부분의 피막두께를 자유롭게 조정하여 패턴을 유효하게 수정할 수 있다.
특히, 본 발명은 패턴의 막두께가 큰 것, 컬러액정표시패널에 사용하는 컬리필터에 적용함으로써, 보다 현저한 효과를 얻을 수 있다.
그리고, 또, 본 발명은, 컬러필터와 같이 복수종류의 패턴을 갖는 수정을 적용한 경우, 복수의 패턴을 한번의 수정처리에 의하여 동시에 수정할 수 있는 효과도 얻을 수 있다.
[실시예 1]
[착색 폴리이미드를 사용한 컬러필터의 수정]
컬러필터 상에, 소량의 아싯드로오다민(B)를 용해시킨 PVA(폴리비닐알콜)의 10%수용액을 스핀코오팅에 의하여 도포하고, 이를 120℃에서 5분간 가열하여 1.5㎛ 두께의 수정용보호막을 형성하였다.
그후 결함이 있는 수정부분에, YAG:Nd레이저의 제2고주파를 펄스조사하고, 수정용보호막 및 컬러필터에 구멍을 뚫어 유리면을 노출시켰다.
그 부분에 붉은용의 용폴리이미드계 기름에 용해되는 수정용잉크를 한방울 떨어뜨려 스핀코오팅에 의하여 평활하게 하였다.
계속하여, 150℃에서 가열하여 수정용잉크를 경화시킨 후 물로 세척하였다.
그렇게 하면, 수정개소에만 평활한 붉은 잉크층이 남고, 다른 부분은 보호막과 더불어 씻어흘러 버렸다.
이를 250℃에서 가열하여, 폴리이미드 수정부분을 완전히 경화시켜 수정작업을 종료하였다.
[실시예 2]
[젤라틴계의 염색컬러필터의 수정]
컬러필터 상에 SILITECT를 스프레이로 도포하였다.
그후 결함이 있는 수정부분에, 쿠세논레이저를 조사하여 구멍을 뚫고 유리면을 노출시켰다.
그 부분에, 젤라틴수용액에 청(靑)의 염료를 더한 청용(靑用)의 수정용잉크층을 스핀코오팅에 의하여 형성하였다.
바람으로 건조 후, SILITECT층을 점착테이프를 사용하여 컬러필터의 층상에서 박리하였다.
박리시 여분의 잉크층도 같이 제거되었다.
그리고 160℃에서 가열하여 수정용잉크를 경화시켜 수정작업을 종료하였다.
이때, SILITECT는 스플레이법으로 도포하였기 때문에 막의 두께가 상당히 두껍게 되었지만, SILITECT자체가 친수성(親水性)물질과 융합하지 않는 성질의 발수성을 갖기 때문에, 수정패턴의 주변부분에서 돌기 문제는 생기지 않았다.
[산업상의 이용가능성]
이상과 같이, 본 발명은 포토마스크나 컬러필터등에 있어서, 패턴의 수정기술로서 유용하고, 특히 컬러필터와 같이 패턴의 막두께가 비교적 두껍고, 그리고 복수종의 패턴을 갖는 수정에 적합하다.

Claims (12)

  1. 기판의 한쪽 면에 형성한, 일부에 결함을 갖는 패턴의 수정방법에 있어서, (a) 패턴을 포함하는 기판의 한쪽 면을 수정용보호막으로 덮는 제1공정, (b) 결함이 있는 부분에 대하여, 기판의 한쪽 면을 노출하는 제2공정, (c) 노출한 기판의 한쪽 면의 부분을 수정용재료로 메우는 제3공정, (d) 수정용 보호막을 제거하는 제4공정을 각각 포함하고, 수정용보호막 및 수정용재료 중 하나의 재료가 물에 용해되는 재료이고, 다른 하나가 기름에 용해되는 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  2. 제1항에 있어서, 수정용보호막을 형성하는 물에 용해되는 재료가 친유성(親油性)물질과 융합하지 않는 성질인 발유성을 갖는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  3. 제1항에 있어서, 수정용보호막을 형성하는 기름에 용해되는 재료가 친수성(親水性)물질과 융합하지 않는 성질인 발수성을 갖는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  4. 제1항에 있어서, 수정용보호막을 형성하는 물에 용해된 재료를, 발유제를 포함하는 재료에 의하여 형성하고, 수정용재료로서 기름에 용해되는 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  5. 제1항에 있어서, 수정용보호막을 형성하는 기름에 용해되는 재료를, 발수제를 포함하는 재료에 의하여 형성하는 재료를 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  6. 제1항에 있어서, 제3공정을, 수정용재료를 부분적으로 도포하여 실시하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  7. 제6항에 있어서, 수정용재료를 도포하는 경우, 우선 수정용재료를 기판의 소정부분에 부착시키고, 기판을 회전시킴으로서 부착시킨 수정용재료의 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  8. 제6항에 있어서, 수정용재료를 도포하기 전에, 노출한 기판의 한쪽 면의 부분에 대하여, 수정용재료와 기판의 접착성을 증가하는 전처리를 실시하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  9. 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에 있어서, 수정용보호막의 막두께가 0.5-2.0㎛의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  10. 제1항에 있어서, 제2공정을, 수정용보호막의 상부에서 그 수정용보호막이 흡수하는 파장을 갖는 레이저광을 조사하는 것으로 인하여 실시하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  11. 제1항에 있어서, 기판이 컬러필터의 지지기판이고, 수정할 패턴이 컬러필터의 색화소인 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
  12. 제11항에 있어서, 노출한 기판의 한쪽 면의 부분을 수정용재료로 메우는 제3공정시(時), 복수의 색화소에 대하여 동시에 처리하는 것을 특징으로 하는 패턴의 수정방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101536767B1 (ko) * 2014-05-29 2015-07-15 주식회사 루미스탈 반도체 기판의 표면 상에 존재하는 결함의 선택적 커버링 방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08114711A (ja) * 1994-10-13 1996-05-07 Shinto Paint Co Ltd 平坦性が損なわれたカラーフィルターの修正方法、修正されたカラーフィルターおよびそのカラーフィルターを有する多色表示装置
JP4930740B2 (ja) * 2001-02-26 2012-05-16 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの欠陥修正方法
JP4118082B2 (ja) * 2002-05-08 2008-07-16 株式会社きもと フォトマスク用保護膜修正方法
JP2006258873A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの修正方法およびカラーフィルター
JP4617236B2 (ja) * 2005-10-03 2011-01-19 シャープ株式会社 カラーフィルターの修正方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4200668A (en) * 1978-09-05 1980-04-29 Western Electric Company, Inc. Method of repairing a defective photomask
JPS61122605A (ja) * 1984-11-20 1986-06-10 Canon Inc カラ−フイルタ−の修復方法
JPS63313158A (ja) * 1987-06-16 1988-12-21 Nec Corp レチクルの修正方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101536767B1 (ko) * 2014-05-29 2015-07-15 주식회사 루미스탈 반도체 기판의 표면 상에 존재하는 결함의 선택적 커버링 방법

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